JP2016187793A - ハニカム構造体及びその製造方法 - Google Patents

ハニカム構造体及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2016187793A
JP2016187793A JP2015069421A JP2015069421A JP2016187793A JP 2016187793 A JP2016187793 A JP 2016187793A JP 2015069421 A JP2015069421 A JP 2015069421A JP 2015069421 A JP2015069421 A JP 2015069421A JP 2016187793 A JP2016187793 A JP 2016187793A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
honeycomb structure
mass
raw material
catalyst
partition wall
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015069421A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6426044B2 (ja
Inventor
廣瀬　正悟
Shogo Hirose
正悟 廣瀬
博隆 山本
Hirotaka Yamamoto
博隆 山本
詩織 中尾
Shiori Nakao
詩織 中尾
修司 植田
Shuji Ueda
修司 植田
光遥 小野
Mitsuharu Ono
光遥 小野
俊 坂下
Takashi Sakashita
俊 坂下
宏幸 長岡
Hiroyuki Nagaoka
宏幸 長岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NGK Insulators Ltd
Original Assignee
NGK Insulators Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Insulators Ltd filed Critical NGK Insulators Ltd
Priority to JP2015069421A priority Critical patent/JP6426044B2/ja
Priority to US15/080,907 priority patent/US10232361B2/en
Priority to CN201610187325.4A priority patent/CN105999908B/zh
Priority to DE102016003787.3A priority patent/DE102016003787B4/de
Publication of JP2016187793A publication Critical patent/JP2016187793A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6426044B2 publication Critical patent/JP6426044B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
    • B01D46/24—Particle separators, e.g. dust precipitators, using rigid hollow filter bodies
    • B01D46/2403—Particle separators, e.g. dust precipitators, using rigid hollow filter bodies characterised by the physical shape or structure of the filtering element
    • B01D46/2418—Honeycomb filters
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/92—Chemical or biological purification of waste gases of engine exhaust gases
    • B01D53/94—Chemical or biological purification of waste gases of engine exhaust gases by catalytic processes
    • B01D53/9404—Removing only nitrogen compounds
    • B01D53/9409—Nitrogen oxides
    • B01D53/9413—Processes characterised by a specific catalyst
    • B01D53/9418—Processes characterised by a specific catalyst for removing nitrogen oxides by selective catalytic reduction [SCR] using a reducing agent in a lean exhaust gas
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
    • B01D46/24—Particle separators, e.g. dust precipitators, using rigid hollow filter bodies
    • B01D46/2403—Particle separators, e.g. dust precipitators, using rigid hollow filter bodies characterised by the physical shape or structure of the filtering element
    • B01D46/2418—Honeycomb filters
    • B01D46/2425—Honeycomb filters characterized by parameters related to the physical properties of the honeycomb structure material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
    • B01D46/24—Particle separators, e.g. dust precipitators, using rigid hollow filter bodies
    • B01D46/2403—Particle separators, e.g. dust precipitators, using rigid hollow filter bodies characterised by the physical shape or structure of the filtering element
    • B01D46/2418—Honeycomb filters
    • B01D46/2425—Honeycomb filters characterized by parameters related to the physical properties of the honeycomb structure material
    • B01D46/24491—Porosity
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
    • B01D46/24—Particle separators, e.g. dust precipitators, using rigid hollow filter bodies
    • B01D46/2403—Particle separators, e.g. dust precipitators, using rigid hollow filter bodies characterised by the physical shape or structure of the filtering element
    • B01D46/2418—Honeycomb filters
    • B01D46/2425—Honeycomb filters characterized by parameters related to the physical properties of the honeycomb structure material
    • B01D46/24492—Pore diameter
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/86—Catalytic processes
    • B01D53/8621—Removing nitrogen compounds
    • B01D53/8625—Nitrogen oxides
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
    • B01J35/50—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their shape or configuration
    • B01J35/56—Foraminous structures having flow-through passages or channels, e.g. grids or three-dimensional [3D] monoliths
    • B01J35/57—Honeycombs
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
    • B01J35/60—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their surface properties or porosity
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
    • B01J37/0009—Use of binding agents; Moulding; Pressing; Powdering; Granulating; Addition of materials ameliorating the mechanical properties of the product catalyst
    • B01J37/0018—Addition of a binding agent or of material, later completely removed among others as result of heat treatment, leaching or washing,(e.g. forming of pores; protective layer, desintegrating by heat)
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
    • B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
    • B01J37/024—Multiple impregnation or coating
    • B01J37/0246—Coatings comprising a zeolite
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
    • B32B3/10—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a discontinuous layer, i.e. formed of separate pieces of material
    • B32B3/12—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a discontinuous layer, i.e. formed of separate pieces of material characterised by a layer of regularly- arranged cells, e.g. a honeycomb structure
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/14—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
    • B32B37/146—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers whereby one or more of the layers is a honeycomb structure
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B14/00—Use of inorganic materials as fillers, e.g. pigments, for mortars, concrete or artificial stone; Treatment of inorganic materials specially adapted to enhance their filling properties in mortars, concrete or artificial stone
    • C04B14/02—Granular materials, e.g. microballoons
    • C04B14/04—Silica-rich materials; Silicates
    • C04B14/06—Quartz; Sand
    • C04B14/062—Microsilica, e.g. colloïdal silica
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/16—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on silicates other than clay
    • C04B35/18—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on silicates other than clay rich in aluminium oxide
    • C04B35/195—Alkaline earth aluminosilicates, e.g. cordierite or anorthite
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
    • C04B35/62625—Wet mixtures
    • C04B35/6263—Wet mixtures characterised by their solids loadings, i.e. the percentage of solids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • C04B35/63—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B using additives specially adapted for forming the products, e.g.. binder binders
    • C04B35/632—Organic additives
    • C04B35/634—Polymers
    • C04B35/63404—Polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C04B35/63424—Polyacrylates; Polymethacrylates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B38/00—Porous mortars, concrete, artificial stone or ceramic ware; Preparation thereof
    • C04B38/0006—Honeycomb structures
    • C04B38/0009—Honeycomb structures characterised by features relating to the cell walls, e.g. wall thickness or distribution of pores in the walls
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2255/00—Catalysts
    • B01D2255/10—Noble metals or compounds thereof
    • B01D2255/102—Platinum group metals
    • B01D2255/1021—Platinum
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2255/00—Catalysts
    • B01D2255/10—Noble metals or compounds thereof
    • B01D2255/102—Platinum group metals
    • B01D2255/1023—Palladium
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2255/00—Catalysts
    • B01D2255/10—Noble metals or compounds thereof
    • B01D2255/102—Platinum group metals
    • B01D2255/1025—Rhodium
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2255/00—Catalysts
    • B01D2255/20—Metals or compounds thereof
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2255/00—Catalysts
    • B01D2255/20—Metals or compounds thereof
    • B01D2255/206—Rare earth metals
    • B01D2255/2065—Cerium
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2255/00—Catalysts
    • B01D2255/20—Metals or compounds thereof
    • B01D2255/207—Transition metals
    • B01D2255/20715—Zirconium
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2255/00—Catalysts
    • B01D2255/20—Metals or compounds thereof
    • B01D2255/207—Transition metals
    • B01D2255/20723—Vanadium
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2255/00—Catalysts
    • B01D2255/30—Silica
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2255/00—Catalysts
    • B01D2255/50—Zeolites
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2255/00—Catalysts
    • B01D2255/90—Physical characteristics of catalysts
    • B01D2255/92—Dimensions
    • B01D2255/9205—Porosity
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2279/00—Filters adapted for separating dispersed particles from gases or vapours specially modified for specific uses
    • B01D2279/30—Filters adapted for separating dispersed particles from gases or vapours specially modified for specific uses for treatment of exhaust gases from IC Engines
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2305/00—Condition, form or state of the layers or laminate
    • B32B2305/02—Cellular or porous
    • B32B2305/024—Honeycomb
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2103/00—Function or property of ingredients for mortars, concrete or artificial stone
    • C04B2103/0045—Polymers chosen for their physico-chemical characteristics
    • C04B2103/0051—Water-absorbing polymers, hydrophilic polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2103/00—Function or property of ingredients for mortars, concrete or artificial stone
    • C04B2103/0099—Aspecific ingredients, i.e. high number of alternative specific compounds mentioned for the same function or property
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
    • C04B2111/00474—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00
    • C04B2111/0081—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00 as catalysts or catalyst carriers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3217—Aluminum oxide or oxide forming salts thereof, e.g. bauxite, alpha-alumina
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3217—Aluminum oxide or oxide forming salts thereof, e.g. bauxite, alpha-alumina
    • C04B2235/3218—Aluminium (oxy)hydroxides, e.g. boehmite, gibbsite, alumina sol
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3231—Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3244—Zirconium oxides, zirconates, hafnium oxides, hafnates, or oxide-forming salts thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/34—Non-metal oxides, non-metal mixed oxides, or salts thereof that form the non-metal oxides upon heating, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3418—Silicon oxide, silicic acids or oxide forming salts thereof, e.g. silica sol, fused silica, silica fume, cristobalite, quartz or flint
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/34—Non-metal oxides, non-metal mixed oxides, or salts thereof that form the non-metal oxides upon heating, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/349—Clays, e.g. bentonites, smectites such as montmorillonite, vermiculites or kaolines, e.g. illite, talc or sepiolite
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
    • C04B2235/54—Particle size related information
    • C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
    • C04B2235/5436—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof micrometer sized, i.e. from 1 to 100 micron
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/60—Aspects relating to the preparation, properties or mechanical treatment of green bodies or pre-forms
    • C04B2235/606—Drying
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
    • C04B2235/656—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes characterised by specific heating conditions during heat treatment
    • C04B2235/6567—Treatment time

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Civil Engineering (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
  • Porous Artificial Stone Or Porous Ceramic Products (AREA)
  • Press-Shaping Or Shaping Using Conveyers (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Composite Materials (AREA)

Abstract

【課題】圧力損失の増大を抑制しつつ排ガス浄化性能を高めることのできるハニカム構造体を提供する。【解決手段】ハニカム構造体２０は、流体の流路となる複数のセルを形成する多孔質の隔壁部２２、を備え、隔壁部２２は、平均細孔径が１０μｍ〜２０μｍであり、隔壁部２２の体積Ｖと気孔の濡れ面積Ｓとの比である濡れ面積割合Ｒ（＝Ｓ／Ｖ）が０．０００２３９μｍ-1以上である。ハニカム構造体２０は、隔壁部２２の気孔率が５０％〜６５％であってもよい。ハニカム構造体２０は、原料混合工程において、成形原料に、セラミック原料１００質量％と、吸水後の平均粒径が２０μｍ以上且つ吸水前で２質量％以上の吸水性ポリマーと、０．５質量％以上のジルコニアと、を含有させて製造してもよい。【選択図】図１

Description

本発明は、ハニカム構造体及びその製造方法に関する。
従来、ハニカム構造体としては、流体の流路となる複数のセルを形成する多孔質の隔壁部を備えたものが知られている（例えば、特許文献１）。このハニカム構造体は、隔壁に触媒を担持させて、自動車の排ガスを浄化する浄化装置などに利用される。
特開２０１４−１９８３１５号公報
ところで、ハニカム構造体を排ガスの浄化装置に用いる場合、排ガスの浄化性能は高いほど好ましい。しかし、例えばハニカム構造体に担持させる触媒量を増やすことで浄化性能を向上させようとすると、例えば触媒が流路を狭めることなどにより、圧力損失が増大してしまうという問題があった。
本発明はこのような課題を解決するためになされたものであり、圧力損失の増大を抑制しつつ排ガス浄化性能を高めることのできるハニカム構造体を提供することを主目的とする。
本発明は、上述した主目的を達成するために以下の手段を採った。
本発明のハニカム構造体は、
流体の流路となる複数のセルを形成する多孔質の隔壁部、
を備え、
前記隔壁部は、平均細孔径が１０μｍ〜２０μｍであり、該隔壁部の体積Ｖと気孔の濡れ面積Ｓとの比である濡れ面積割合Ｒ（＝Ｓ／Ｖ）が０．０００２３９μｍ-1以上である、
ものである。
このハニカム構造体は、流体の流路となる複数のセルを形成する多孔質の隔壁部の平均細孔径が１０μｍ〜２０μｍ、濡れ面積割合Ｒが０．０００２３９μｍ-1以上であることで、その後に隔壁部に触媒を担持させた状態において、圧力損失の増大を抑制でき且つ排ガス浄化性能が高いものとなる。上記の数値範囲を満たした隔壁部は、適度な大きさの気孔が多数形成されて連通した状態になっていると考えられる。その結果、触媒が気孔内に充填されやすく、且つ流路を流通するガスが触媒や隔壁部内に拡散しやすくなり、圧力損失の増大の抑制と高い排ガス浄化性能とが両立できていると考えられる。なお、このような本発明のハニカム構造体は、例えば後述する本発明の第１，第２のハニカム構造体の製造方法によって得ることができる。
本発明のハニカム構造体において、前記隔壁部は、気孔率が５０％〜６５％であってもよい。
本発明のハニカム構造体は、上述したいずれかの態様の前記隔壁部に排ガスを浄化する触媒を担持させたものであってもよい。このハニカム構造体は、圧力損失の増大を抑制でき且つ排ガス浄化性能が高い。この場合において、前記隔壁部の気孔のうち前記触媒が存在する部分の割合である触媒充填率が７０％以上であってもよい。触媒充填率が７０％以上であれば、圧力損失の増大を抑制する効果や排ガス浄化性能が高くなりやすい。また、前記触媒は、少なくともＮＯｘを浄化するための触媒成分を含んでいてもよい。
本発明の第１のハニカム構造体の製造方法は、
セラミック原料１００質量％と、吸水後の平均粒径が２０μｍ以上且つ吸水前で２質量％以上の吸水性ポリマーと、０．５質量％以上のジルコニアと、を含有する成形原料を混合して坏土とする原料混合工程と、
前記坏土をハニカム形状に成形してハニカム成形体を得る成形工程と、
前記ハニカム成形体を焼成して、流体の流路となる複数のセルを形成する多孔質の隔壁部を有するハニカム構造体を得る焼成工程と、
を含むものである。
この第１のハニカム構造体の製造方法では、原料混合工程において、成形原料に吸水後の平均粒径が２０μｍ以上且つ吸水前で２質量％以上の吸水性ポリマーと、０．５質量％以上のジルコニアと、を含有させている。このような成形原料を用いて製造されたハニカム構造体は、その後に隔壁部に触媒を担持させた状態において、圧力損失の増大を抑制でき且つ排ガス浄化性能が高いものとなる。
本発明の第２のハニカム構造体の製造方法は、
１４質量％以上のシリカゲルを含むセラミック原料１００質量％と、吸水後の平均粒径が２０μｍ以上且つ吸水前で２質量％以上の吸水性ポリマーと、を含有する成形原料を混合して坏土とする原料混合工程と、
前記坏土をハニカム形状に成形してハニカム成形体を得る成形工程と、
前記ハニカム成形体を焼成して、流体の流路となる複数のセルを形成する多孔質の隔壁部を有するハニカム構造体を得る焼成工程と、
を含むものである。
この第２のハニカム構造体の製造方法では、原料混合工程において、成形原料に、１４質量％以上のシリカゲルを含むセラミック原料１００質量％と、吸水後の平均粒径が２０μｍ以上且つ吸水前で２質量％以上の吸水性ポリマーと、を含有させている。このような成形原料を用いて製造されたハニカム構造体は、その後に隔壁部に触媒を担持させた状態において、圧力損失の増大を抑制でき且つ排ガス浄化性能が高いものとなる。
本発明の第１，第２のハニカム構造体の製造方法は、前記焼成工程のあと、前記ハニカム構造体の前記隔壁部に触媒を担持させる触媒担持工程、を含んでいてもよい。これにより製造されたハニカム構造体は、圧力損失の増大を抑制でき且つ排ガス浄化性能が高い。
ハニカム構造体２０の概略斜視図。 図１のＡ−Ａ断面図。 ボクセルデータ６０の概念図。
次に、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。図１は、本発明の一実施形態であるハニカム構造体２０の概略斜視図である。図２は、図１のＡ−Ａ断面図である。本発明のハニカム構造体２０は、例えば、自動車のエンジンの排気を浄化する触媒を担持する触媒担体としてエンジンの排気管に配設される。なお、本実施形態において、上下方向，前後方向，及び左右方向は、図１，２に示した通りとする。
このハニカム構造体２０は、流体の流路となる複数のセル２３を形成する多孔質の隔壁部２２と、隔壁部２２の外周に形成された外周部２４と、を備えている。このハニカム構造体２０は、図２に示すように、セル２３の両端が開放している構造を有している。
このハニカム構造体２０の外形は、特に限定されないが、円柱状、四角柱状、楕円柱状、六角柱状などの形状とすることができる。また、セル２３は、その断面の形状として四角形、三角形、六角形、八角形、円形、楕円形などの形状とすることができる。本実施形態では、ハニカム構造体２０の外形が円柱状に形成され、セル２３の形状が断面四角形に形成されている。
隔壁部２２は、特に限定しないが、例えば隔壁厚さが０．０６３５ｍｍ以上０．４６ｍｍ以下としてもよい。隔壁部２２が形成するセル２３のセル密度は、特に限定しないが、例えば５セル／ｃｍ2以上１８７セル／ｃｍ2未満としてもよい。隔壁部２２は、多孔質のセラミックスであり、例えば、コージェライト、Ｓｉ結合ＳｉＣ、再結晶ＳｉＣ、チタン酸アルミニウム、ムライト、窒化珪素、サイアロン、リン酸ジルコニウム、ジルコニア、チタニア、アルミナ、Ｃｄ結合ＳｉＣ及びシリカから選択される１以上の無機材料を含んで形成されているものとしてもよい。このうち、コージェライトやＳｉ結合ＳｉＣ、再結晶ＳｉＣなどが好ましい。
隔壁部２２は、平均細孔径が１０μｍ〜２０μｍであり、隔壁部２２の体積Ｖと気孔の濡れ面積Ｓとの比である濡れ面積割合Ｒ（＝Ｓ／Ｖ）が０．０００２３９μｍ-1以上である。また、隔壁部２２は、気孔率が５０％〜６５％であることが好ましい。隔壁部２２の平均細孔径は、１５μｍ以上としてもよいし、１８μｍ以下としてもよい。なお、平均細孔径及び気孔率は、水銀圧入法で測定した値とする。隔壁部２２の平均細孔径，濡れ面積割合Ｒ，及び気孔率は、触媒担持前の状態における値とする。
隔壁部２２における濡れ面積割合Ｒを算出する方法について説明する。濡れ面積割合Ｒは、隔壁部２２に対してＣＴスキャンを行うことによって得た３次元のボクセルデータ６０を用いて算出する。図３は、ボクセルデータ６０の概念図である。まず、隔壁部２２の隔壁厚さ方向をＸ方向とし、セル２３の軸方向（図１，２の前後方向）をＹ方向として、ＸＹ平面を撮影断面とする。次に、撮影断面をＸＹ方向に垂直なＺ方向にずらして複数撮影するように隔壁部２２のＣＴスキャンを行って複数の画像データを取得し、この画像データに基づいて図３の上段のようなボクセルデータ６０を得る。Ｘ，Ｙ，Ｚの各方向の解像度はそれぞれ１．２μｍとし、これにより得られる１辺が１．２μｍの立方体が３次元のボクセルデータ６０の最小単位すなわちボクセルとなる。なお、ＣＴスキャンで得られる撮影断面の画像データはＺ方向の厚みのない平面のデータであるが、各撮影断面は撮影断面のＺ方向の間隔分（１．２μｍ）の厚みがあるものとして扱う。すなわち画像データの二次元の各画素を１辺が１．２μｍの立方体（ボクセル）として扱う。ボクセルデータ６０の大きさは、図３の上段に示すように、Ｘ方向が３００μｍ（＝１．２μｍ×２５０ボクセル），Ｙ方向が４８０μｍ（＝１．２μｍ×４００ボクセル），Ｚ方向が４８０μｍ（＝１．２μｍ×４００ボクセル）の直方体とする。各ボクセルはＸ，Ｙ，Ｚ座標（座標の値１がボクセルの一辺の長さである１．２μｍに対応する）により位置が表されるとともに、空間（気孔）を表す空間ボクセルであるか物体を表す物体ボクセルであるかが区別されている。空間ボクセルと物体ボクセルとの区別は、モード法を用いた２値化処理によって以下のように行う。ＣＴスキャンによって実際に得られる複数の画像データは、Ｘ，Ｙ，Ｚ座標毎の輝度データである。この輝度データに基づき、全ての座標（複数の画像データの全画素）について輝度のヒストグラムを作成する。そして、ヒストグラムに現れる２つの山の間（谷）の部分の輝度値を閾値に設定し、各座標について輝度が閾値より大きいか小さいかで各座標の輝度を２値化する。これにより、各座標のボクセルが空間ボクセルであるか物体ボクセルであるかを区別する。図３の中段に、空間ボクセルと物体ボクセルとを区別した状態の一例を２次元的に示した。図３の下段には、その一部の拡大図６４を２次元的に示した。なお、このようなＣＴスキャンは、例えば株式会社島津製作所製のＳＭＸ−１６０ＣＴ−ＳＶ３を用いて行うことができる。
次に、このボクセルデータ６０を用いて、隔壁部２２の体積Ｖ及び気孔の濡れ面積Ｓを算出する。体積Ｖは、ボクセルデータ６０の全ボクセルの体積とする。すなわち、体積Ｖ＝６９１２００００μｍ3（＝３００μｍ×４８０μｍ×４８０μｍ）とする。濡れ面積Ｓは、ボクセルデータ６０における空間ボクセルと物体ボクセルとの境界面の面積の合計として算出する。より具体的には、濡れ面積Ｓ＝（ボクセルデータ６０中の境界面の数）×（１つの境界面の面積）として導出する。１つの境界面の面積は１．４４μｍ2（＝１．２μｍ×１．２μｍ） である。例えば、図３の下段に示す拡大図６４には、空間ボクセルと物体ボクセルとの境界面が６面存在するため、拡大図６４における境界面の面積の合計は、６×１．４４＝８．６４μｍ2となる。このようにして、濡れ面積Ｓを算出する。そして、算出した体積Ｖと濡れ面積Ｓとにより濡れ面積割合Ｒ（＝Ｓ／Ｖ）［μｍ-1］を算出する。なお、体積Ｖが一定値であるため、「濡れ面積割合Ｒが０．０００２３９μｍ-1以上」は、「ボクセルデータ６０における濡れ面積Ｓが１６５００μｍ2以上」と言い換えることができる。
なお、濡れ面積割合Ｒを算出するためのボクセルデータ６０は、上述したようにＸ方向が３００μｍ，Ｙ方向が４８０μｍ，Ｚ方向が４８０μｍのデータとするが、隔壁部２２の隔壁厚さが３００μｍに満たない場合は、同じ体積Ｖのボクセルデータを用いて濡れ面積割合Ｒを算出する。例えば、隔壁厚さが図３のボクセルデータ６０の半分の１５０μｍである場合には、Ｙ方向を２倍の９６０μｍとしたボクセルデータを用いて濡れ面積割合Ｒを算出する。
隔壁部２２の濡れ面積割合Ｒは、０．０００２６４μｍ-1以上（＝濡れ面積Ｓが１７０００μｍ2以上）が好ましく、０．０００２５３μｍ-1以上（＝濡れ面積Ｓが１７５００μｍ2以上）がより好ましい。なお、濡れ面積割合Ｒの上限は特に定める必要はない。上述した平均細孔径の数値範囲を満たしたり、平均細孔径及び気孔率の数値範囲を満たしたりすることで、必然的に濡れ面積割合Ｒの上限は定まってくる。特に限定しないが、濡れ面積割合Ｒは例えば０．０００３００μｍ-1以下としてもよい。
外周部２４は、ハニカム構造体２０の外周を囲む壁である。外周部２４は、隔壁部２２と同じ材質であってもよいし、異なる材質であってもよい。例えば、外周部２４は、コージェライト、炭化珪素、酸化アルミニウム、チタン酸アルミニウム、ムライト、窒化アルミからなる群より選択される少なくとも一種を主成分として含む材料からなることが好ましい。このような材料を用いることにより、耐熱性に優れたハニカム構造体となる。
ここで、ハニカム構造体２０の隔壁部２２には、さらに触媒が担持されていてもよい。触媒の種類については、排ガスを浄化するためのものであれば特に限定されない。触媒は、例えば、少なくとも炭化水素（ＨＣ）、一酸化炭素（ＣＯ）、窒素酸化物（ＮＯｘ）のいずれか１以上を浄化するための触媒成分を含んでいてもよい。このような触媒としては、例えば、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｐｄ等の貴金属からなる群より選択される少なくとも一種と、アルミナ、セリア、ジルコニアからなる群より選択される少なくとも一種を含む触媒、又は、ゼオライト、バナジウムからなる群より選択される少なくとも一種を含む触媒を挙げることができる。隔壁部２２に担持される触媒量は、特に限定しないが、例えば５０ｇ／Ｌ〜４００ｇ／Ｌ以下である。触媒量は、１００ｇ／Ｌ以上が好ましく、１５０ｇ／Ｌ以上がより好ましい。なお、触媒量（ｇ／Ｌ）は、ハニカム構造体の単位体積（１Ｌ）あたりに担持される触媒の量（ｇ）を意味する。
隔壁部２２に担持される触媒は、隔壁部２２の気孔のうち触媒が存在する部分の割合である触媒充填率が７０％以上であることが好ましい。触媒充填率は１００％以下であればよい。特に限定しないが、触媒充填率は９０％以下としてもよい。触媒充填率は、ハニカム構造体２０の隔壁部２２を樹脂埋めした後に研磨した観察用試料を用意し、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察を行い得た画像を解析することによって算出する。まず、流体の流通方向（セル２３の軸方向）に垂直な断面を観察面とするように切断・研磨した観察用試料を用意する。次に、ＳＥＭの倍率を１００倍〜５００倍に設定し、視野をおよそ５００μｍ×５００μｍの範囲として用意した観察用試料の観察面を撮影する。次に得られた画像の各画素の輝度データに基づき、全ての画素について輝度のヒストグラムを作成する。そして、ヒストグラムに現れる３つの山の間（谷）の部分の輝度値を閾値に設定し、各画素の輝度と閾値とを比較することで、各画素の輝度を３値化する。これにより、各画素が隔壁部２２の構造材，触媒，気孔のいずれであるかを区別する。そして、触媒充填率＝（触媒の画素数）／（触媒の画素数＋気孔の画素数）×１００として、触媒充填率を算出する。なお、このようなＳＥＭ観察は、例えば日立ハイテクノロジーズ社製Ｓ−３２００Ｎを用いて行うことができる。
こうして構成されたハニカム構造体２０の製造方法を以下に説明する。ハニカム構造体２０は、例えば以下に説明する第１，第２のハニカム構造体２０の製造方法によって製造することができる。
まず、第１のハニカム構造体２０の製造方法について説明する。第１のハニカム構造体２０の製造方法は、セラミック原料１００質量％と、吸水後の平均粒径２０μｍ以上且つ吸水前で２質量％以上の吸水性ポリマーと、０．５質量％以上のジルコニアと、を含有する成形原料を混合して坏土とする原料混合工程と、坏土をハニカム形状に成形してハニカム成形体を得る成形工程と、ハニカム成形体を焼成して、流体の流路となる複数のセル２３を形成する多孔質の隔壁部２２を有するハニカム構造体を得る焼成工程と、を含む。
原料混合工程に用いるセラミック原料としては、コージェライト化原料、Ｓｉ結合ＳｉＣ、再結晶ＳｉＣ、チタン酸アルミニウム、ムライト、窒化珪素、サイアロン、リン酸ジルコニウム、ジルコニア、チタニアから選択される１以上の無機材料を含むものが挙げられる。コージェライト化原料としては、例えばカオリン、タルク、焼カオリン、アルミナ、水酸化アルミニウム、シリカを挙げることができる。コージェライト化原料としては、特に、タルク、カオリン、焼カオリン、アルミナ、水酸化アルミニウム、シリカからなる群より選択される少なくとも二以上の無機原料を、コージェライトの化学組成となるような割合で含むものが好ましい。また、シリカとしては、例えば石英，シリカゲル，溶融シリカのうち少なくとも１以上を用いることができる。第１のハニカム構造体２０の製造方法では、コージェライト化原料として、タルク、カオリン、焼カオリン、アルミナ、水酸化アルミニウム、石英を少なくとも含むことが好ましい。
原料混合工程では、造孔材として少なくとも吸水性ポリマーを用い、焼結助剤として少なくともジルコニアを用いる。吸水性ポリマーは、吸水後の平均粒径が、２０μｍ以上である。吸水性ポリマーの吸水後の平均粒径は、４０μｍ以下としてもよいし、３０μｍ以下としてもよい。吸水性ポリマーの配合量は吸水前でセラミック原料１００質量％に対して２質量％以上である。吸水性ポリマーの配合量は、吸水前で１０質量％以下としてもよいし、吸水前で６質量％以下としてもよい。吸水性ポリマーとしては、例えば国際公開第２００５／０６３３６０号パンフレットに記載された吸水性樹脂を好適に用いることができる。なお、吸水性ポリマーの吸水後の平均粒径は、吸水性ポリマーに水のみを吸水させた状態で、レーザー回折散乱式粒度分布計（堀場製作所ＬＡ−９２０）により測定した値とする。
原料混合工程に用いるジルコニアの配合量は、セラミック原料１００質量％に対して０．５質量％以上である。配合量は、２質量％以下としてもよいし、１．５質量％以下としてもよい。ジルコニアの平均粒径は、例えば０．５μｍ〜４μｍである。平均粒径は、１．５μｍ以下とすることが好ましい。
原料混合工程では、メチルセルロース，ヒドロキシプロポキシルメチルセルロース等のバインダー、及び水等を添加して、さらに分散剤を混合するものとしてもよい。分散剤としては、エチレングリコールなどの界面活性剤を用いることができる。成形原料を混合して坏土を調製する手段には、特に制限はなく、例えば、ニーダー、真空土練機等を用いる方法を挙げることができる。
成形工程では、原料混合工程で得られた坏土を成形して、焼成後にハニカム構造体２０の形状となるハニカム成形体を形成する。ハニカム成形体を形成する方法としては特に制限はなく、押出成形、射出成形等の公知の成形方法を用いることができる。例えば、所望のセル形状、隔壁厚さ、セル密度を有する押出成形用口金を用いて押出成形してもよい。
焼成工程では、電気炉，ガス炉などを用いて、ハニカム成形体を焼成して、ハニカム構造体２０を得る。焼成の条件は、成形原料の種類に応じて適宜決定すればよい。例えば、コージェライト化原料を使用している場合には、焼成温度は、１３５０〜１４４０℃が好ましい。また、焼成時間は、最高温度でのキープ時間として、３〜１５時間が好ましい。なお、焼成工程の前に、乾燥処理，仮焼処理を行うことが好ましい。乾燥処理は、熱風乾燥、マイクロ波乾燥などの公知の方法を用いることができる。仮焼処理は、焼成温度よりも低い温度でハニカム成形体に含まれる有機物成分を燃焼除去する処理である。このような工程を経て、上述したハニカム構造体２０を得ることができる。
次に、第２のハニカム構造体２０の製造方法について説明する。第２のハニカム構造体２０の製造方法は、１４質量％以上のシリカゲルを含むセラミック原料１００質量％と、吸水後の平均粒径が２０μｍ以上且つ吸水前で２質量％以上の吸水性ポリマーと、を含有する成形原料を混合して坏土とする原料混合工程と、坏土をハニカム形状に成形してハニカム成形体を得る成形工程と、ハニカム成形体を焼成して、流体の流路となる複数のセル２２を形成する多孔質の隔壁部２２を有するハニカム構造体２０を得る焼成工程と、を含む。
ここで、第１のハニカム構造体２０の製造方法においては、原料混合工程において、成形原料に０．５質量％以上のジルコニアを含有させた。これに対し、第２のハニカム構造体２０の製造方法においては、成形原料にジルコニアを含有させなくてもよい代わりに、セラミック原料１００質量％中に１４質量％以上のシリカゲルを含有させる。それ以外は、上述した第１のハニカム構造体２０の製造方法と同様にして行うことができる。なお、第２のハニカム構造体２０の製造方法では、コージェライト化原料として、タルク、カオリン、アルミナ、水酸化アルミニウム、シリカゲルを少なくとも含むことが好ましい。セラミック原料１００質量％中のシリカゲルの配合量は、２３質量％以下としてもよいし、１５質量％以下としてもよい。シリカゲルの平均粒径は、例えば８μｍ〜２０μｍである。平均粒径は、１０μｍ以上とすることが好ましい。平均粒径は、１８μｍ以下とすることが好ましい。この第２のハニカム構造体２０の製造方法でも、上述したハニカム構造体２０を得ることができる。なお、シリカゲルの平均粒径は、レーザー回折散乱式粒度分布計（堀場製作所ＬＡ−９２０）により測定した値とする。
このように第１又は第２のハニカム構造体２０の製造方法で製造したハニカム構造体２０に対して、焼成工程のあと、ハニカム構造体２０の隔壁部２２に触媒を担持させる触媒担持工程を行ってもよい。触媒を担持する方法は、特に限定されず、公知の方法で担持することができる。例えば、まず、所定の触媒を含有する触媒スラリーを調製する。次いで、この触媒スラリーを、ハニカム構造体２０の一方の端面側からセル２３内に流入させる。触媒スラリーをセル内に流入させるときには、ディッピングや吸引の方法をとることが好ましい。触媒としては、上述した材料を用いることができる。
以上詳述した本実施形態のハニカム構造体２０によれば、流体の流路となる複数のセル２３を形成する多孔質の隔壁部２２の平均細孔径が１０μｍ〜２０μｍ、濡れ面積割合Ｒが０．０００２３９μｍ-1以上であることで、その後に隔壁部２２に触媒を担持させた状態において、圧力損失の増大を抑制でき且つ排ガス浄化性能が高いものとなる。上記の数値範囲を満たした隔壁部２２は、適度な大きさの気孔が多数形成されて連通した状態になっていると考えられる。その結果、触媒が気孔内に充填されやすく、且つ流路を流通するガスが触媒や隔壁部２２内に拡散しやすくなり、圧力損失の増大の抑制と高い排ガス浄化性能とが両立できていると考えられる。
また、隔壁部２２に触媒を担持させた状態において、隔壁部２２の気孔のうち触媒が存在する部分の割合である触媒充填率が７０％以上であることで、圧力損失の増大を抑制する効果や排ガス浄化性能が高くなりやすい。
さらに、本実施形態の第１のハニカム構造体２０の製造方法では、原料混合工程において、成形原料に、セラミック原料１００質量％と、吸水後の平均粒径２０μｍが以上且つ吸水前で２質量％以上の吸水性ポリマーと、０．５質量％以上のジルコニアと、を含有させている。このような成形原料を用いて製造されたハニカム構造体２０は、その後に触媒担持工程を行って隔壁部２２に触媒を担持させた状態において、圧力損失の増大を抑制でき且つ排ガス浄化性能が高いものとなる。
さらにまた、本実施形態の第２のハニカム構造体２０の製造方法では、原料混合工程において、成形原料に、１４質量％以上のシリカゲルを含むセラミック原料１００質量％と、吸水後の平均粒径が２０μｍ以上且つ吸水前で２質量％以上の吸水性ポリマーと、を含有させている。このような成形原料を用いて製造されたハニカム構造体２０は、その後に触媒担持工程を行って隔壁部２２に触媒を担持させた状態において、圧力損失の増大を抑制でき且つ排ガス浄化性能が高いものとなる。
なお、本発明は上述した実施形態に何ら限定されることはなく、本発明の技術的範囲に属する限り種々の態様で実施し得ることはいうまでもない。
例えば、上述した実施形態では、第１のハニカム構造体２０の製造方法では成形原料に０．５質量％以上のジルコニアを含有させたが、第２のハニカム構造体２０の製造方法においてさらにジルコニアを含有させてもよい。また、第１の対象物情報２０の製造方法においても、セラミック原料１００質量％中に１４質量％以上のシリカゲルを含ませてもよい。
以下には、ハニカム構造体を具体的に作製した例を実施例として説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
［実施例１］
実施例１のハニカム構造体を、以下のように作製した。原料混合工程では、まず、セラミック原料として、コージェライト化原料を調整した。具体的には、平均粒径が１０μｍのタルク４０質量％、平均粒径が５μｍのカオリン８質量％、平均粒径が２μｍの焼カオリン８質量％、平均粒径が５μｍのアルミナ２０質量％、平均粒径が１μｍの水酸化アルミニウム９質量％、平均粒径が４μｍの石英１５質量％を混合してコージェライト化原料を調整した。このコージェライト化原料１００質量％に対して、吸水後の平均粒径が２０μｍの吸水性ポリマーを吸水前で６．０質量％、平均粒径１．０μｍのジルコニア１．５質量％、バインダーとしてのメチルセルロース及びヒドロキシプロポキシルメチルセルロースを５．６質量％、界面活性剤０．５質量％、水８１質量％を添加して成形原料とし、これを混合して混合して杯土を得た。なお、吸水性ポリマーは、粒子状のポリアクリル系アンモニウム塩であり、吸水倍率が１５〜２５倍で、吸水後の平均粒径が上記の値（２０μｍ）となるものを使用した。
次に、成形工程では、所定の金型を用いてこの坏土を押出成形し、図１，２に示したような四角形状のセルを形成する隔壁部の形状のハニカム成形体を成形した。なお、外周部となる部分も一体成形した。そして、得られたハニカム成形体を乾燥し、その後に焼成工程で焼成した。乾燥はマイクロ波乾燥機にて１０〜３０分間乾燥させ、焼成は最高温度１４３０℃で５〜１５時間保持し、全体で４０〜６０時間焼成して、実施例１のハニカム構造体を得た。ハニカム構造体は、端面の直径が２２９ｍｍ、長さが２０３ｍｍの形状とし、セル構造は４ｍｉｌ／６００ｃｐｓｉとした。
［実施例２〜１３，比較例１〜１３］
成形原料の平均粒径や配合割合，及びセル構造を表１に示すように変更した以外は実施例１と同様にして、実施例２〜１３，比較例１〜１３のハニカム構造体を作製した。なお、表１中の［−］は、その材料を成形原料に添加していないことを意味する。また、実施例９〜１１，１３及び比較例１２では、石英の代わりに平均粒径１２μｍのシリカゲルを、表１に示す割合で添加した。比較例４では、石英の代わりに平均粒径１５μｍの溶融シリカを添加した。
［気孔率、平均細孔径、濡れ面積割合Ｒの測定］
実施例１〜１３，比較例１〜１３について、気孔率、平均細孔径、濡れ面積割合Ｒを測定した。気孔率及び平均細孔径は、水銀ポロシメーター（マイクロメトリックス社製オートポアＩＶ９５２０）で測定した。濡れ面積割合Ｒは、上述した方法により測定した。結果を表１に示す。なお、表１には、濡れ面積Ｓの値も合わせて示した。
［触媒担持工程］
実施例１〜１３，比較例１〜１３のハニカム構造体の隔壁部に、触媒を担持させる触媒担持工程を行った。触媒としては、ＺＳＭ−５ゼオライトを用いた。触媒量（ｇ／Ｌ）は、表１に示す値となった。
［触媒充填率の測定］
触媒担持後の実施例１〜１３，比較例１〜１３について、上述した方法で触媒充填率を測定した。測定箇所は、ハニカム構造体の径方向に中心と端、全長方向に入口端面から１ｃｍ、出口端面から１ｃｍの計６箇所とし、６箇所から各３試料ずつ取り出した。各試料についてＳＥＭにて撮影した写真を元に、上述した画像解析により触媒部、気孔部を求め、触媒充填率＝触媒部の画素数/（触媒部の画素数＋気孔部の画素数）として求め、全試料の平均値として触媒充填率を算出した。結果を表１に示す。なお、ＳＥＭ観察時の倍率は２００倍とした。
［圧力損失の評価］
触媒担持後の実施例１〜１３及び比較例１〜１３のハニカム構造体を、エンジンベンチにて２．２Ｌディーゼルエンジンの排気系に取り付け、エンジン回転数２２００ｒｐｍ、トルク４５Ｎｍの定常状態にて圧力損失（ｋＰａ）を求めた。圧力損失は、試料を取り付けエンジン始動後３０分間暖気後に差圧計にて測定し、試料前後の差圧が十分に安定したところで１０秒間測定し、その平均値として算出した。比較例１の圧力損失を基準（値１．０）として、比較例１の圧力損失に対する実施例１〜１３及び比較例２〜１３の圧力損失の比を圧損比として算出した。そして、圧損比が値１．２以下の場合を良好、１．２超過の場合を不良と判定した。結果を表１に示す。
［ＮＯｘ浄化率の評価］
ディーゼルエンジン（８Ｌ／６気筒）を備えた尿素ＳＣＲシステムを用いてＮＯｘ浄化率の評価を行った。実施例１〜１３及び比較例１〜１３のハニカム構造体へ排ガスとＮＯｘ浄化に必要な尿素を流通させ、ハニカム構造体の前段及び後段のＮＯｘ量を測定し、（後段のＮＯｘ量）／（前段のＮＯｘ量）×１００としてＮＯｘ浄化率（％）を算出した。ＮＯｘ浄化率測定は、測温位置をハニカム構造体の入口端面から２０ｍｍ手前としたときの排ガス温度を２５０℃とし、排ガス流量を３８０ｋｇ／ｈ、ＮＯｘ／ＮＨ3当量比が１．０となる条件で行った。そして、ＮＯｘ浄化率が９０％以上の場合を良好、９０％未満の場合を不良と判定した。結果を表１に示す。
Figure 2016187793
表１から分かるように、セラミック原料１００質量％と、吸水後の平均粒径２０μｍ以上且つ吸水前で２質量％以上の吸水性ポリマーと、０．５質量％以上のジルコニアと、を含有する成形原料を用いて作製した実施例１〜８，１２や、１４質量％以上のシリカゲルを含むセラミック原料１００質量％と、吸水後の平均粒径２０μｍ以上且つ吸水前で２質量％以上の吸水性ポリマーと、を含有する成形原料を用いた実施例９〜１１，１３では、隔壁部の平均細孔径が１０μｍ〜２０μｍであり、濡れ面積割合Ｒが０．０００２３９μｍ-1以上となっていた。また、実施例１〜１３は気孔率がいずれも５０％〜６５％であった。そして、実施例１〜１３は、いずれも圧力損失比が値１．２以下且つＮＯｘ浄化率が９０％以上であり、圧力損失の増大が抑制され且つ排ガス浄化性能が高かった。比較例１〜１３では、圧力損失比が値１．２以下且つＮＯｘ浄化率が９０％以上となるものは存在しなかった。また、触媒充填率が７０％未満である実施例１２，１３と比べて、触媒充填率が７０％以上である実施例１〜１１は、圧力損失の増大が抑制され且つ排ガス浄化性能が高くなる傾向が見られた。
２０ ハニカム構造体、２２ 隔壁部、２３ セル、２４ 外周部、６０ ボクセルデータ、６４ 拡大図。

Claims (7)

  1. 流体の流路となる複数のセルを形成する多孔質の隔壁部、
    を備え、
    前記隔壁部は、平均細孔径が１０μｍ〜２０μｍであり、該隔壁部の体積Ｖと気孔の濡れ面積Ｓとの比である濡れ面積割合Ｒ（＝Ｓ／Ｖ）が０．０００２３９μｍ-1以上である、
    ハニカム構造体。
  2. 前記隔壁部は、気孔率が５０％〜６５％である、
    請求項１に記載のハニカム構造体。
  3. 請求項１又は２に記載のハニカム構造体の前記隔壁部に排ガスを浄化する触媒を担持させた、
    ハニカム構造体。
  4. 前記隔壁部の気孔のうち前記触媒が存在する部分の割合である触媒充填率が７０％以上である、
    請求項３に記載のハニカム構造体。
  5. セラミック原料１００質量％と、吸水後の平均粒径が２０μｍ以上且つ吸水前で２質量％以上の吸水性ポリマーと、０．５質量％以上のジルコニアと、を含有する成形原料を混合して坏土とする原料混合工程と、
    前記坏土をハニカム形状に成形してハニカム成形体を得る成形工程と、
    前記ハニカム成形体を焼成して、流体の流路となる複数のセルを形成する多孔質の隔壁部を有するハニカム構造体を得る焼成工程と、
    を含むハニカム構造体の製造方法。
  6. １４質量％以上のシリカゲルを含むセラミック原料１００質量％と、吸水後の平均粒径が２０μｍ以上且つ吸水前で２質量％以上の吸水性ポリマーと、を含有する成形原料を混合して坏土とする原料混合工程と、
    前記坏土をハニカム形状に成形してハニカム成形体を得る成形工程と、
    前記ハニカム成形体を焼成して、流体の流路となる複数のセルを形成する多孔質の隔壁部を有するハニカム構造体を得る焼成工程と、
    を含むハニカム構造体の製造方法。
  7. 前記焼成工程のあと、前記ハニカム構造体の前記隔壁部に触媒を担持させる触媒担持工程、
    を含む、
    請求項５又は６に記載のハニカム構造体の製造方法。
JP2015069421A 2015-03-30 2015-03-30 ハニカム構造体及びその製造方法 Active JP6426044B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015069421A JP6426044B2 (ja) 2015-03-30 2015-03-30 ハニカム構造体及びその製造方法
US15/080,907 US10232361B2 (en) 2015-03-30 2016-03-25 Honeycomb structural body and method for manufacturing the same
CN201610187325.4A CN105999908B (zh) 2015-03-30 2016-03-29 蜂窝结构体及其制造方法
DE102016003787.3A DE102016003787B4 (de) 2015-03-30 2016-03-29 Wabenstrukturkörper und Vefahren zur Herstellung desselben

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015069421A JP6426044B2 (ja) 2015-03-30 2015-03-30 ハニカム構造体及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016187793A true JP2016187793A (ja) 2016-11-04
JP6426044B2 JP6426044B2 (ja) 2018-11-21

Family

ID=56937110

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015069421A Active JP6426044B2 (ja) 2015-03-30 2015-03-30 ハニカム構造体及びその製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10232361B2 (ja)
JP (1) JP6426044B2 (ja)
CN (1) CN105999908B (ja)
DE (1) DE102016003787B4 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017170396A (ja) * 2016-03-25 2017-09-28 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
DE102016003787B4 (de) 2015-03-30 2018-07-26 Ngk Insulators, Ltd. Wabenstrukturkörper und Vefahren zur Herstellung desselben
JP2020146610A (ja) * 2019-03-12 2020-09-17 日揮触媒化成株式会社 脱硝触媒およびその製造方法
JP2021159867A (ja) * 2020-03-31 2021-10-11 日本碍子株式会社 セラミックス製のフィルタ
JP2022543637A (ja) * 2019-08-05 2022-10-13 ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト 多孔質コーティングを有する触媒体基材
JP2024155787A (ja) * 2023-04-21 2024-10-31 日本碍子株式会社 ハニカムフィルタ

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005090263A1 (ja) * 2004-03-24 2005-09-29 Ngk Insulators, Ltd. セラミック多孔質体及び成形体の製造方法
JP2006255574A (ja) * 2005-03-16 2006-09-28 Ibiden Co Ltd ハニカム構造体
WO2007102561A1 (ja) * 2006-03-07 2007-09-13 Ngk Insulators, Ltd. セラミック構造体及びその製造方法
JP2008156214A (ja) * 2006-11-28 2008-07-10 Ngk Insulators Ltd コーディエライトセラミックス、及びコーディエライトセラミックスの製造方法
JP2011177704A (ja) * 2010-02-08 2011-09-15 Denso Corp 排ガス浄化フィルタ及びその製造方法
JP2012201542A (ja) * 2011-03-24 2012-10-22 Ngk Insulators Ltd ハニカム構造体及びその製造方法
JP2012206057A (ja) * 2011-03-30 2012-10-25 Ngk Insulators Ltd ハニカム構造体及びその製造方法
WO2013146594A1 (ja) * 2012-03-29 2013-10-03 株式会社クボタ セラミックフィルタ
WO2013146498A1 (ja) * 2012-03-30 2013-10-03 日本碍子株式会社 微構造解析方法、そのプログラム及び微構造解析装置
JP2014104421A (ja) * 2012-11-27 2014-06-09 Ngk Insulators Ltd ハニカム触媒体
JP2014117662A (ja) * 2012-12-18 2014-06-30 Ngk Insulators Ltd 微粒子捕集フィルタ

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003145523A (ja) * 2001-11-09 2003-05-20 Ngk Insulators Ltd セラミックスハニカム構造体の製造方法、隔壁強化用スラリー、及びセラミックスハニカム構造体
US20060192324A1 (en) 2003-12-26 2006-08-31 Ngk Insulators.Ltd. Method of producing honeycomb structure body
JP4610273B2 (ja) * 2004-03-22 2011-01-12 京セラ株式会社 ハニカム構造体とその製造方法およびハニカム構造体を用いたキャニスター
CN101687719A (zh) * 2007-03-20 2010-03-31 康宁股份有限公司 用于陶瓷过滤器的低收缩性堵塞混合物，堵塞的蜂窝体过滤器及其制造方法
JP4574693B2 (ja) * 2008-03-28 2010-11-04 日本碍子株式会社 ハニカム構造体の製造方法
KR101770654B1 (ko) * 2009-09-04 2017-08-23 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤 세라믹 허니컴 구조체 및 그 제조 방법
KR20130006621A (ko) * 2010-03-19 2013-01-17 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 허니컴 구조체의 제조 방법 및 허니컴 구조체, 그리고 파티큘레이트 필터
US8591820B2 (en) * 2011-03-11 2013-11-26 Corning Incorporated Honeycomb filters for reducing NOx and particulate matter in diesel engine exhaust
JP5859366B2 (ja) * 2011-09-06 2016-02-10 三井金属鉱業株式会社 排気ガス浄化用触媒及び排気ガス浄化用触媒構成体
JP6174353B2 (ja) 2013-03-29 2017-08-02 日本碍子株式会社 ハニカム構造体、及び排ガス浄化装置
JP6221581B2 (ja) 2013-09-30 2017-11-01 株式会社リコー 情報処理システム、情報処理装置、情報処理方法、及びプログラム
JP6426044B2 (ja) 2015-03-30 2018-11-21 日本碍子株式会社 ハニカム構造体及びその製造方法
JP6664248B2 (ja) * 2016-03-25 2020-03-13 日本碍子株式会社 ハニカム構造体

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005090263A1 (ja) * 2004-03-24 2005-09-29 Ngk Insulators, Ltd. セラミック多孔質体及び成形体の製造方法
JP2006255574A (ja) * 2005-03-16 2006-09-28 Ibiden Co Ltd ハニカム構造体
WO2007102561A1 (ja) * 2006-03-07 2007-09-13 Ngk Insulators, Ltd. セラミック構造体及びその製造方法
JP2008156214A (ja) * 2006-11-28 2008-07-10 Ngk Insulators Ltd コーディエライトセラミックス、及びコーディエライトセラミックスの製造方法
JP2011177704A (ja) * 2010-02-08 2011-09-15 Denso Corp 排ガス浄化フィルタ及びその製造方法
JP2012201542A (ja) * 2011-03-24 2012-10-22 Ngk Insulators Ltd ハニカム構造体及びその製造方法
JP2012206057A (ja) * 2011-03-30 2012-10-25 Ngk Insulators Ltd ハニカム構造体及びその製造方法
WO2013146594A1 (ja) * 2012-03-29 2013-10-03 株式会社クボタ セラミックフィルタ
WO2013146498A1 (ja) * 2012-03-30 2013-10-03 日本碍子株式会社 微構造解析方法、そのプログラム及び微構造解析装置
JP2014104421A (ja) * 2012-11-27 2014-06-09 Ngk Insulators Ltd ハニカム触媒体
JP2014117662A (ja) * 2012-12-18 2014-06-30 Ngk Insulators Ltd 微粒子捕集フィルタ

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102016003787B4 (de) 2015-03-30 2018-07-26 Ngk Insulators, Ltd. Wabenstrukturkörper und Vefahren zur Herstellung desselben
JP2017170396A (ja) * 2016-03-25 2017-09-28 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
JP2020146610A (ja) * 2019-03-12 2020-09-17 日揮触媒化成株式会社 脱硝触媒およびその製造方法
JP7183081B2 (ja) 2019-03-12 2022-12-05 日揮触媒化成株式会社 脱硝触媒およびその製造方法
JP2022543637A (ja) * 2019-08-05 2022-10-13 ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト 多孔質コーティングを有する触媒体基材
JP2021159867A (ja) * 2020-03-31 2021-10-11 日本碍子株式会社 セラミックス製のフィルタ
JP7234180B2 (ja) 2020-03-31 2023-03-07 日本碍子株式会社 セラミックス製のフィルタ
JP2024155787A (ja) * 2023-04-21 2024-10-31 日本碍子株式会社 ハニカムフィルタ
JP7808141B2 (ja) 2023-04-21 2026-01-28 日本碍子株式会社 ハニカムフィルタ

Also Published As

Publication number Publication date
CN105999908A (zh) 2016-10-12
US10232361B2 (en) 2019-03-19
DE102016003787A1 (de) 2016-10-06
CN105999908B (zh) 2020-08-18
DE102016003787B4 (de) 2018-07-26
US20160288113A1 (en) 2016-10-06
JP6426044B2 (ja) 2018-11-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6664248B2 (ja) ハニカム構造体
JP5864329B2 (ja) ハニカム構造体
JP4920752B2 (ja) ハニカム構造体
JP6200212B2 (ja) ハニカム触媒体
JP6426044B2 (ja) ハニカム構造体及びその製造方法
JP5919215B2 (ja) ハニカム触媒体
JP6620049B2 (ja) ハニカム構造体
JP6126416B2 (ja) ハニカム構造体及びハニカム触媒体
JPWO2018012566A1 (ja) ハニカム構造体及び該ハニカム構造体の製造方法
JP7227178B2 (ja) ハニカムフィルタ
JP5937381B2 (ja) ハニカム構造体
CN113332808B (zh) 蜂窝过滤器
JP5649836B2 (ja) ハニカム触媒体
JP7792286B2 (ja) ハニカムフィルタ
JP7754764B2 (ja) ハニカムフィルタ
JP2010188223A (ja) ハニカム構造体
JP5843802B2 (ja) ハニカム触媒担体
JP6993919B2 (ja) ハニカム構造体
JP6013243B2 (ja) ハニカム触媒体
CN220609583U (zh) 蜂窝过滤器
JP7808141B2 (ja) ハニカムフィルタ
CN113332810A (zh) 蜂窝过滤器的制造方法
JP2022152985A (ja) ハニカムフィルタ
CN118718583A (zh) 蜂窝过滤器
CN115138397A (zh) 蜂窝结构体

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20171115

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180618

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180717

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180911

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20181016

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20181024

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6426044

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150