JP2016189471A - 発光素子、発光装置、照明装置、および電子機器 - Google Patents
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Abstract
Description
光素子を用いた発光装置、電子機器、及び照明装置に関する。
利用した発光素子の研究開発が盛んに行われている。これら発光素子の基本的な構成は、
一対の電極間に発光性の物質を含む層を挟んだものである。この素子に電圧を印加するこ
とにより、発光性の物質からの発光を得ることができる。
、バックライトが不要である等の利点があり、フラットパネルディスプレイ素子として好
適であると考えられている。また、このような発光素子は、薄型軽量に作製できることも
大きな利点である。さらに非常に応答速度が速いことも特徴の一つである。
得ることができる。よって、面状に発光する大面積の素子を容易に形成することができる
。このことは、白熱電球やLEDに代表される点光源、あるいは蛍光灯に代表される線光
源では得難い特色であるため、照明等に応用できる面光源としての利用価値も高い。
無機化合物であるかによって大別できる。発光性の物質に有機化合物を用いる場合、発光
素子に電圧を印加することにより、一対の電極から電子およびホール(正孔)がそれぞれ
発光性の有機化合物を含む層に注入され、電流が流れる。そして、それらキャリア(電子
および正孔)が再結合することにより、発光性の有機化合物が励起状態を形成し、その励
起状態が基底状態に戻る際に発光する。なお、有機化合物が形成する励起状態の種類とし
ては、一重項励起状態(S*)と三重項励起状態(T*)が可能であり、一重項励起状態
からの発光が蛍光、三重項励起状態からの発光が燐光と呼ばれている。
いて、三重項励起状態からの発光(燐光)は観測されず、一重項励起状態からの発光(蛍
光)のみが観測される。したがって、蛍光性化合物を用いた発光素子における内部量子効
率(注入したキャリアに対して発生するフォトンの割合)の理論的限界は、S*:T*=
1:3であることを根拠に25%とされている。
、内部量子効率は理論上75〜100%まで可能となる。つまり、蛍光性化合物に比べて
3〜4倍の発光効率を得ることが可能となる。このような理由から、高効率な発光素子を
実現するために、燐光性化合物を用いた発光素子の開発が近年盛んに行われている。例え
ば特許文献1では、ベンゾオキサゾール骨格を有する燐光性化合物を用いた発光素子が開
示されている。
いる。
大きな物質として、新規のベンゾオキサゾール誘導体を提供することを目的とする。また
、本発明の一態様は、新規のベンゾオキサゾール誘導体を発光素子に適用することにより
、電流効率の高い発光素子を提供することを目的とする。また、本発明の一態様は、低消
費電力な発光装置、電子機器、および照明装置を提供することを目的とする。
素、炭素数1〜4のアルキル基、または炭素数6〜13の置換もしくは無置換のアリール
基のいずれかを表し、Arは炭素数6〜13の置換または無置換のアリーレン基のいずれ
かを表し、Zは硫黄原子または酸素原子のいずれかを表す。
または置換もしくは無置換のビフェニルジイル基のいずれかを表すベンゾオキサゾール誘
導体である。
素、炭素数1〜4のアルキル基、または炭素数6〜13の置換もしくは無置換のアリール
基のいずれかを表し、Zは硫黄原子または酸素原子のいずれかを表す。
−1)乃至(11−23)で表される構造のいずれか一であってもよい。
される構造のいずれか一であってもよい。
ベンゾオキサゾール誘導体をEL層に用いた発光素子である。
ため、EL層が発光性の高い材料(ゲスト材料)と、ゲスト材料を分散する材料(ホスト
材料)とを含む発光層を備える構成の場合の、ホスト材料として好適に用いることができ
る。したがって本発明の別の一態様は、一対の電極間にEL層を有する発光素子であって
、EL層に含まれる発光層は、本発明の一態様であるベンゾオキサゾール誘導体とゲスト
材料とを含むことを特徴とする発光素子である。
。また、パネルにコネクター、例えばFPC(Flexible Printed Ci
rcuit)もしくはTAB(Tape Automated Bonding)テープ
もしくはTCP(Tape Carrier Package)が取り付けられたモジュ
ール、TABテープやTCPの先にプリント配線板が設けられたモジュール、または発光
素子にCOG(Chip On Glass)方式によりIC(集積回路)が直接実装さ
れたモジュールも全て発光装置に含むものとする。
物質として、新規のベンゾオキサゾール誘導体を提供することができる。また、本発明の
一態様により、新規のベンゾオキサゾール誘導体を発光素子に適用することにより、電流
効率の高い発光素子を提供することができる。また、本発明の一態様により、低消費電力
な発光装置、電子機器、および照明装置を提供することができる。
説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を
様々に変更し得ることは、当業者であれば容易に理解される。したがって、本発明は以下
に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
本実施の形態では、本発明の一態様に係るベンゾオキサゾール誘導体について説明する。
ゾオキサゾール誘導体である。
素、炭素数1〜4のアルキル基、または炭素数6〜13の置換もしくは無置換のアリール
基のいずれかを表し、Arは炭素数6〜13の置換または無置換のアリーレン基のいずれ
かを表し、Zは硫黄原子または酸素原子のいずれかを表す。
Arが置換もしくは無置換のフェニレン基、または置換もしくは無置換のビフェニルジイ
ル基のいずれかを表すベンゾオキサゾール誘導体である。
されるベンゾオキサゾール誘導体である。
素、炭素数1〜4のアルキル基、または炭素数6〜13の置換もしくは無置換のアリール
基のいずれかを表し、Zは硫黄原子または酸素原子のいずれかを表す。
−1)乃至(11−23)で表される構造のいずれか一であってもよい。
される構造のいずれか一であってもよい。
)〜構造式(179)および構造式(200)〜構造式(279)で表されるベンゾオキ
サゾール誘導体を挙げることができる。但し、本発明はこれらに限定されない。
である。例えば、下記の合成法1に示す合成反応を行うことによって、下記一般式(G1
)で表される本発明のベンゾオキサゾール誘導体を合成することができる。
反応スキーム(A−1)に示すように、ベンゾオキサゾール誘導体のハロゲン化物(a1
)と、ジベンゾフラン誘導体もしくはジベンゾチオフェン誘導体の有機ホウ素化合物、ま
たはボロン酸(a2)を鈴木・宮浦反応によりカップリングさせることで、目的化合物で
あるベンゾオキサゾール誘導体(G1)を合成する。反応スキーム(A−1)において、
R30およびR31は水素、炭素数1〜6のアルキル基のいずれかを表す。R30とR3
1は互いに結合して環を形成していても良い。特に説明の無い符号(R11〜R14、R
21〜R27、Ar、Z)に関しては、先の一般式(G1)に関する説明を参酌すること
ができる。
ラジウム触媒を用いることができる。パラジウム触媒としてはパラジウム錯体とその配位
子の混合物を用いることができる。
ン)パラジウム(0)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロライ
ド等を用いることができる。ただし、用いることができるパラジウム触媒はこれらに限ら
れるものでは無い。
ェニルホスフィンや、トリシクロヘキシルホスフィン等を用いることができる。しかし、
用いることができるパラジウム触媒の配位子はこれらに限られるものでは無い。
炭酸ナトリウム等の無機塩基等を用いることができる。ただし、用いることができる塩基
はこれらに限られるものでは無い。
、トルエンとエタノール等のアルコールと水の混合溶媒、キシレンと水の混合溶媒、キシ
レンとエタノール等のアルコールと水の混合溶媒、ベンゼンと水の混合溶媒、ベンゼンと
エタノール等のアルコールと水の混合溶媒、エチレングリコールジメチルエーテル等のエ
ーテル類と水の混合溶媒などを用いることができる。ただし、用いることができる溶媒は
これらに限られるものでは無い。また、トルエンと水、トルエンとエタノールと水の混合
溶媒、またはエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類と水の混合溶媒がより
好ましい。
)で示されるハロゲン以外にもトリフラート基等を用いても良い。ただし、これらに限定
されるものではない。また、反応スキーム(A−1)に示すカップリング反応としては、
(a2)で示される有機ホウ素化合物またはボロン酸を用いる鈴木・宮浦反応の代わりに
、有機アルミニウムや、有機ジルコニウム、有機亜鉛、有機スズ化合物等を用いるクロス
カップリング反応を用いてもよい。ただし、これらに限定されるものではない。
置換体と、化合物(a2)の有機ホウ素化合物またはボロン酸とを反応させる場合を示し
た。しかし、化合物(a1)を有機ホウ素化合物またはボロン酸、化合物(a2)をハロ
ゲン化物またはトリフラート置換体として(ハロゲン化物またはトリフラート置換体と、
有機ホウ素化合物またはボロン酸とを逆にして)カップリングさせても、上記一般式(G
1)で表されるベンゾオキサゾール誘導体を得ることができる。
。このため、赤〜緑の燐光ゲスト材料および赤〜青の蛍光ゲスト材料を分散するホスト材
料として、好適に用いることができる。
本実施の形態では、本発明の一態様として、実施の形態1で説明したベンゾオキサゾール
誘導体を用いた発光素子について図1を用いて説明する。
て形成される。EL層は、発光層の他に複数の層を有してもよい。当該複数の層は、電極
から離れたところに発光領域が形成されるように、つまり電極から離れた部位でキャリア
の再結合が行われるように、キャリア注入性の高い物質やキャリア輸送性の高い物質から
なる層を組み合わせて積層されたものである。当該複数の層としては、例えば、正孔注入
層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層など有していても良い。
03の一対の電極間に、EL層102が設けられている。また、EL層102は、正孔注
入層111、正孔輸送層112、発光層113、電子輸送層114、電子注入層115を
有している。なお、本実施の形態に示す発光素子において、基板100上に設けられた第
1の電極101は陽極として機能し、第2の電極103は陰極として機能する。
石英、またはプラスチックなどを用いることができる。また可撓性基板を用いてもよい。
可撓性基板とは、曲げることができる(フレキシブル)基板のことであり、例えば、ポリ
カーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルスルフォンからなるプラスチック基板等が
挙げられる。また、フィルム(ポリプロピレン、ポリエステル、ポリフッ化ビニル、ポリ
塩化ビニル等からなる)、無機蒸着フィルムなどを用いることもできる。なお、発光素子
の作製工程において支持体として機能するものであれば、これら以外のものでもよい。
、導電性化合物、及びこれらの混合物などを用いることが好ましい。具体的には、例えば
、インジウム錫酸化物(ITO:Indium Tin Oxide)、珪素若しくは酸
化珪素を含有したインジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物(IZO:Indium
Zinc Oxide)、酸化タングステン及び酸化亜鉛を含有した酸化インジウム(I
WZO)等が挙げられる。これらの導電性金属酸化物膜は、通常スパッタリング法により
成膜されるが、ゾル−ゲル法などを応用して作製しても構わない。例えば、インジウム亜
鉛酸化物(IZO)は、酸化インジウムに対し1〜20wt%の酸化亜鉛を加えたターゲ
ットを用いてスパッタリング法により形成することができる。また、酸化タングステン及
び酸化亜鉛を含有した酸化インジウム(IWZO)は、酸化インジウムに対し酸化タング
ステンを0.5〜5wt%、酸化亜鉛を0.1〜1.5wt%含有したターゲットを用い
てスパッタリング法により形成することができる。この他、金、白金、ニッケル、タング
ステン、クロム、モリブデン、鉄、コバルト、銅、パラジウム、または金属材料の窒化物
(例えば、窒化チタン)等が挙げられる。
合物と電子受容体(アクセプター)とを混合してなる複合材料を用いて形成される場合に
は、第1の電極101に用いる物質は、仕事関数の大小に関わらず、様々な金属、合金、
導電性化合物、及びこれらの混合物などを用いることができる。例えば、アルミニウム、
銀、アルミニウムを含む合金(例えば、Al−Si)等も用いることもできる。
ール誘導体を含んで形成される。EL層102の一部には公知の物質を用いることもでき
、低分子系化合物及び高分子系化合物のいずれを用いることもできる。なお、EL層10
2を形成する物質には、有機化合物のみから成るものだけでなく、無機化合物を一部に含
む構成も含めるものとする。
ては、例えば、モリブデン酸化物、チタン酸化物、バナジウム酸化物、レニウム酸化物、
ルテニウム酸化物、クロム酸化物、ジルコニウム酸化物、ハフニウム酸化物、タンタル酸
化物、銀酸化物、タングステン酸化物、マンガン酸化物等の金属酸化物を用いることがで
きる。また、フタロシアニン(略称:H2Pc)、銅(II)フタロシアニン(略称:C
uPc)等のフタロシアニン系の化合物を用いることができる。
)トリフェニルアミン(略称:TDATA)、4,4’,4’’−トリス[N−(3−メ
チルフェニル)−N−フェニルアミノ]トリフェニルアミン(略称:MTDATA)、4
,4’−ビス[N−(4−ジフェニルアミノフェニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニ
ル(略称:DPAB)、4,4’−ビス(N−{4−[N’−(3−メチルフェニル)−
N’−フェニルアミノ]フェニル}−N−フェニルアミノ)ビフェニル(略称:DNTP
D)、1,3,5−トリス[N−(4−ジフェニルアミノフェニル)−N−フェニルアミ
ノ]ベンゼン(略称:DPA3B)、3−[N−(9−フェニルカルバゾール−3−イル
)−N−フェニルアミノ]−9−フェニルカルバゾール(略称:PCzPCA1)、3,
6−ビス[N−(9−フェニルカルバゾール−3−イル)−N−フェニルアミノ]−9−
フェニルカルバゾール(略称:PCzPCA2)、3−[N−(1−ナフチル)−N−(
9−フェニルカルバゾール−3−イル)アミノ]−9−フェニルカルバゾール(略称:P
CzPCN1)等の芳香族アミン化合物等を用いることができる。
。例えば、ポリ(N−ビニルカルバゾール)(略称:PVK)、ポリ(4−ビニルトリフ
ェニルアミン)(略称:PVTPA)、ポリ[N−(4−{N’−[4−(4−ジフェニ
ルアミノ)フェニル]フェニル−N’−フェニルアミノ}フェニル)メタクリルアミド]
(略称:PTPDMA)、ポリ[N,N’−ビス(4−ブチルフェニル)−N,N’−ビ
ス(フェニル)ベンジジン](略称:Poly−TPD)などの高分子化合物が挙げられ
る。また、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(スチレンスルホン酸)
(略称:PEDOT/PSS)、ポリアニリン/ポリ(スチレンスルホン酸)(略称:P
Ani/PSS)等の酸を添加した高分子化合物を用いることができる。
なる複合材料を用いてもよい。このような複合材料は、電子受容体によって有機化合物に
正孔が発生するため、正孔注入性及び正孔輸送性に優れている。この場合、有機化合物は
、発生した正孔の輸送に優れた材料(正孔輸送性の高い物質)であることが好ましい。
族炭化水素、高分子化合物(オリゴマー、デンドリマー、ポリマー等)など、種々の化合
物を用いることができる。なお、複合材料に用いる有機化合物としては、正孔輸送性の高
い有機化合物であることが好ましい。具体的には、10−6cm2/Vs以上の正孔移動
度を有する物質であることが好ましい。但し、電子よりも正孔の輸送性の高い物質であれ
ば、これら以外のものを用いてもよい。以下では、複合材料に用いることのできる有機化
合物を具体的に列挙する。
、DPAB、DNTPD、DPA3B、PCzPCA1、PCzPCA2、PCzPCN
1、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:
NPB)、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニル−[1,1’
−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(略称:TPD)、4−フェニル−4’−(9−フ
ェニルフルオレン−9−イル)トリフェニルアミン(略称:BPAFLP)等の芳香族ア
ミン化合物や、4,4’−ジ(N−カルバゾリル)ビフェニル(略称:CBP)、1,3
,5−トリス[4−(N−カルバゾリル)フェニル]ベンゼン(略称:TCPB)、9−
[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:C
zPA)、9−フェニル−3−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−
9H−カルバゾール(略称:PCzPA)、1,4−ビス[4−(N−カルバゾリル)フ
ェニル]−2,3,5,6−テトラフェニルベンゼン等のカルバゾール誘導体を用いるこ
とができる。
BuDNA)、2−tert−ブチル−9,10−ジ(1−ナフチル)アントラセン、9
,10−ビス(3,5−ジフェニルフェニル)アントラセン(略称:DPPA)、2−t
ert−ブチル−9,10−ビス(4−フェニルフェニル)アントラセン(略称:t−B
uDBA)、9,10−ジ(2−ナフチル)アントラセン(略称:DNA)、9,10−
ジフェニルアントラセン(略称:DPAnth)、2−tert−ブチルアントラセン(
略称:t−BuAnth)、9,10−ビス(4−メチル−1−ナフチル)アントラセン
(略称:DMNA)、9,10−ビス[2−(1−ナフチル)フェニル]−2−tert
−ブチルアントラセン、9,10−ビス[2−(1−ナフチル)フェニル]アントラセン
、2,3,6,7−テトラメチル−9,10−ジ(1−ナフチル)アントラセン等の芳香
族炭化水素化合物を用いることができる。
9,9’−ビアントリル、10,10’−ジフェニル−9,9’−ビアントリル、10,
10’−ビス(2−フェニルフェニル)−9,9’−ビアントリル、10,10’−ビス
[(2,3,4,5,6−ペンタフェニル)フェニル]−9,9’−ビアントリル、アン
トラセン、テトラセン、ルブレン、ペリレン、2,5,8,11−テトラ(tert−ブ
チル)ペリレン、ペンタセン、コロネン、4,4’−ビス(2,2−ジフェニルビニル)
ビフェニル(略称:DPVBi)、9,10−ビス[4−(2,2−ジフェニルビニル)
フェニル]アントラセン(略称:DPVPA)等の芳香族炭化水素化合物を用いることが
できる。
ルオロキノジメタン(略称:F4−TCNQ)、クロラニル等の有機化合物や、遷移金属
酸化物を挙げることができる。また、元素周期表における第4族乃至第8族に属する金属
の酸化物を挙げることができる。具体的には、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタ
ル、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化マンガン、酸化レニウムは電
子受容性が高いため好ましい。中でも特に、酸化モリブデンは大気中でも安定であり、吸
湿性が低く、扱いやすいため好ましい。
と、上述した電子受容体を用いて複合材料を形成し、正孔注入層111に用いてもよい。
ては、低分子の有機化合物としては、NPB、TPD、4,4’−ビス[N−(9,9−
ジメチルフルオレン−2−イル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:DFLDP
Bi)、4,4’−ビス[N−(スピロ−9,9’−ビフルオレン−2−イル)−N―フ
ェニルアミノ]ビフェニル(略称:BSPB)などの芳香族アミン化合物を用いることが
できる。ここに述べた物質は、主に10−6cm2/Vs以上の正孔移動度を有する物質
である。但し、電子よりも正孔の輸送性の高い物質であれば、これら以外のものを用いて
もよい。なお、正孔輸送性の高い物質を含む層は、単層のものだけでなく、上記物質から
なる層が二層以上積層したものとしてもよい。
12に用いても良い。
などの高分子化合物を用いることもできる。
蛍光性化合物や、燐光を発光する燐光性化合物を用いることができる。したがって、本実
施の形態では、本発明の一態様であるベンゾオキサゾール誘導体を発光層に用いる場合に
ついて説明する。なお、本発明の一態様であるベンゾオキサゾール誘導体は、発光性の高
い物質(ゲスト材料)を他の物質(ホスト材料)に分散させた構成の発光層において、ホ
スト材料として用いることができる。なお、本発明の一態様であるベンゾオキサゾール誘
導体は、三重項励起エネルギーの大きな物質であるため、ホスト材料として好適に用いる
ことができる。
、蛍光を発光する物質をゲスト材料として用いる場合には、ベンゾオキサゾール誘導体よ
りも最低空軌道準位(LUMO準位)が低く、最高被占有軌道準位(HOMO準位)が高
い物質をゲスト材料として用いることが好ましい。例えば、青色系の発光材料として、N
,N’−ビス[4−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]−N,N’−ジフェニ
ルスチルベン−4,4’−ジアミン(略称:YGA2S)、4−(9H−カルバゾール−
9−イル)−4’−(10−フェニル−9−アントリル)トリフェニルアミン(略称:Y
GAPA)、4−(10−フェニル−9−アントリル)−4’−(9−フェニル−9H−
カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン(略称:PCBAPA)などが挙げられる
。また、緑色系の発光材料として、N−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)−N
,9−ジフェニル−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:2PCAPA)、N−[9
,10−ビス(1,1’−ビフェニル−2−イル)−2−アントリル]−N,9−ジフェ
ニル−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:2PCABPhA)、N−(9,10−
ジフェニル−2−アントリル)−N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジ
アミン(略称:2DPAPA)、N−[9,10−ビス(1,1’−ビフェニル−2−イ
ル)−2−アントリル]−N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン
(略称:2DPABPhA)、N−[9,10−ビス(1,1’−ビフェニル−2−イル
)]−N−[4−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]−N−フェニルアントラ
セン−2−アミン(略称:2YGABPhA)、N,N,9−トリフェニルアントラセン
−9−アミン(略称:DPhAPhA)などが挙げられる。また、黄色系の発光材料とし
て、ルブレン、5,12−ビス(1,1’−ビフェニル−4−イル)−6,11−ジフェ
ニルテトラセン(略称:BPT)などが挙げられる。また、赤色系の発光材料として、N
,N,N’,N’−テトラキス(4−メチルフェニル)テトラセン−5,11−ジアミン
(略称:p−mPhTD)、7,14−ジフェニル−N,N,N’,N’−テトラキス(
4−メチルフェニル)アセナフト[1,2−a]フルオランテン−3,10−ジアミン(
略称:p−mPhAFD)などが挙げられる。
材料として、トリス(2−フェニルピリジナト−N,C2’)イリジウム(III)(略
称:Ir(ppy)3)、ビス(2−フェニルピリジナト−N,C2’)イリジウム(I
II)アセチルアセトナート(略称:Ir(ppy)2(acac))、ビス(1,2−
ジフェニル−1H−ベンゾイミダゾラト)イリジウム(III)アセチルアセトナート(
略称:Ir(pbi)2(acac))、ビス(ベンゾ[h]キノリナト)イリジウム(
III)アセチルアセトナート(略称:Ir(bzq)2(acac))、トリス(ベン
ゾ[h]キノリナト)イリジウム(III)(略称:Ir(bzq)3)などが挙げられ
る。また、黄色系の発光材料として、ビス(2,4−ジフェニル−1,3−オキサゾラト
−N,C2’)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:Ir(dpo)2(
acac))、ビス[2−(4’−パーフルオロフェニルフェニル)ピリジナト]イリジ
ウム(III)アセチルアセトナート(略称:Ir(p−PF−ph)2(acac))
、ビス(2−フェニルベンゾチアゾラト−N,C2’)イリジウム(III)アセチルア
セトナート(略称:Ir(bt)2(acac))、(アセチルアセトナト)ビス[2,
3−ビス(4−フルオロフェニル)−5−メチルピラジナト]イリジウム(III)(略
称:Ir(Fdppr−Me)2(acac))、(アセチルアセトナト)ビス{2−(
4−メトキシフェニル)−3,5−ジメチルピラジナト}イリジウム(III)(略称:
Ir(dmmoppr)2(acac))などが挙げられる。また、橙色系の発光材料と
して、トリス(2−フェニルキノリナト−N,C2’)イリジウム(III)(略称:I
r(pq)3)、ビス(2−フェニルキノリナト−N,C2’)イリジウム(III)ア
セチルアセトナート(略称:Ir(pq)2(acac))、(アセチルアセトナト)ビ
ス(3,5−ジメチル−2−フェニルピラジナト)イリジウム(III)(略称:Ir(
mppr−Me)2(acac))、(アセチルアセトナト)ビス(5−イソプロピル−
3−メチル−2−フェニルピラジナト)イリジウム(III)(略称:Ir(mppr−
iPr)2(acac))などが挙げられる。また、赤色系の発光材料として、ビス[2
−(2’−ベンゾ[4,5−α]チエニル)ピリジナト−N,C3’]イリジウム(II
I)アセチルアセトナート(略称:Ir(btp)2(acac))、ビス(1−フェニ
ルイソキノリナト−N,C2’)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:I
r(piq)2(acac))、(アセチルアセトナト)ビス[2,3−ビス(4−フル
オロフェニル)キノキサリナト]イリジウム(III)(略称:Ir(Fdpq)2(a
cac))、(アセチルアセトナト)ビス(2,3,5−トリフェニルピラジナト)イリ
ジウム(III)(略称:Ir(tppr)2(acac))、(ジピバロイルメタナト
)ビス(2,3,5−トリフェニルピラジナト)イリジウム(III)(略称:Ir(t
ppr)2(dpm))、2,3,7,8,12,13,17,18−オクタエチル−2
1H,23H−ポルフィリン白金(II)(略称:PtOEP)等の有機金属錯体が挙げ
られる。また、トリス(アセチルアセトナト)(モノフェナントロリン)テルビウム(I
II)(略称:Tb(acac)3(Phen))、トリス(1,3−ジフェニル−1,
3−プロパンジオナト)(モノフェナントロリン)ユーロピウム(III)(略称:Eu
(DBM)3(Phen))、トリス[1−(2−テノイル)−3,3,3−トリフルオ
ロアセトナト](モノフェナントロリン)ユーロピウム(III)(略称:Eu(TTA
)3(Phen))等の希土類金属錯体は、希土類金属イオンからの発光(異なる多重度
間の電子遷移)であるため、燐光性化合物として用いることができる。
料として、ポリ(9,9−ジオクチルフルオレン−2,7−ジイル)(略称:PFO)、
ポリ[(9,9−ジオクチルフルオレン−2,7−ジイル)−co−(2,5−ジメトキ
シベンゼン−1,4−ジイル)](略称:PF−DMOP)、ポリ{(9,9−ジオクチ
ルフルオレン−2,7−ジイル)−co−[N,N’−ジ−(p−ブチルフェニル)−1
,4−ジアミノベンゼン]}(略称:TAB−PFH)などが挙げられる。また、緑色系
の発光材料として、ポリ(p−フェニレンビニレン)(略称:PPV)、ポリ[(9,9
−ジヘキシルフルオレン−2,7−ジイル)−alt−co−(ベンゾ[2,1,3]チ
アジアゾール−4,7−ジイル)](略称:PFBT)、ポリ[(9,9−ジオクチル−
2,7−ジビニレンフルオレニレン)−alt−co−(2−メトキシ−5−(2−エチ
ルヘキシロキシ)−1,4−フェニレン)]などが挙げられる。また、橙色〜赤色系の発
光材料として、ポリ[2−メトキシ−5−(2’−エチルヘキソキシ)−1,4−フェニ
レンビニレン](略称:MEH−PPV)、ポリ(3−ブチルチオフェン−2,5−ジイ
ル)(略称:R4−PAT)、ポリ{[9,9−ジヘキシル−2,7−ビス(1−シアノ
ビニレン)フルオレニレン]−alt−co−[2,5−ビス(N,N’−ジフェニルア
ミノ)−1,4−フェニレン]}、ポリ{[2−メトキシ−5−(2−エチルヘキシロキ
シ)−1,4−ビス(1−シアノビニレンフェニレン)]−alt−co−[2,5−ビ
ス(N,N’−ジフェニルアミノ)−1,4−フェニレン]}(略称:CN−PPV−D
PD)などが挙げられる。
用いることができる。しかし、ホスト材料は本発明の一態様のベンゾオキサゾール誘導体
のみに限られず、ホスト材料は複数種用いることができる。すなわち本発明の一態様のベ
ンゾオキサゾール誘導体と他のホスト材料とを混合して用いてもよいし、積層して用いて
もよい。例えば、結晶化を抑制するためにルブレン等の結晶化を抑制する物質をさらに添
加してもよい。また、ゲスト材料へのエネルギー移動をより効率良く行うために、NPB
、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(III)(略称:Alq)、あるいは4−
フェニル−4’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン
(略称:PCBA1BP)をさらに添加してもよい。
制することができる。また、ゲスト材料の濃度が増大することによる濃度消光を抑制する
ことができる。
ては、例えば、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Alq)、トリス(4
−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Almq3)、ビス(10−ヒドロ
キシベンゾ[h]キノリナト)ベリリウム(略称:BeBq2)、ビス(2−メチル−8
−キノリノラト)(4−フェニルフェノラト)アルミニウム(略称:BAlq)など、キ
ノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体等が挙げられる。また、この他ビ
ス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾラト]亜鉛(略称:Zn(BOX)
2)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾチアゾラト]亜鉛(略称:Zn(B
TZ)2)などのオキサゾール系、チアゾール系配位子を有する金属錯体なども用いるこ
とができる。さらに、金属錯体以外にも、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−ter
t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(略称:PBD)や、1,3−ビ
ス[5−(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル
]ベンゼン(略称:OXD−7)、3−(4−ビフェニリル)−4−フェニル−5−(4
−tert−ブチルフェニル)−1,2,4−トリアゾール(略称:TAZ)、バソフェ
ナントロリン(略称:BPhen)、バソキュプロイン(略称:BCP)なども用いるこ
とができる。ここに述べた物質は、主に10−6cm2/Vs以上の電子移動度を有する
物質である。また、電子輸送層は、単層のものだけでなく、上記物質からなる層が二層以
上積層したものとしてもよい。
送層にも用いることができる。
チウム、セシウム、カルシウム、フッ化リチウム、フッ化セシウム、フッ化カルシウム、
リチウム酸化物等のような元素周期表の第1族または第2族に属する元素、またはそれら
の化合物を用いることができる。また、フッ化エルビウムのような希土類金属化合物を用
いることができる。また、上述した電子輸送層114を構成する物質を用いることもでき
る。
合材料を用いてもよい。このような複合材料は、電子供与体によって有機化合物に電子が
発生するため、電子注入性及び電子輸送性に優れている。この場合、有機化合物としては
、発生した電子の輸送に優れた材料であることが好ましく、具体的には、例えば上述した
電子輸送層114を構成する物質(金属錯体や複素芳香族化合物等)を用いることができ
る。電子供与体としては、有機化合物に対し電子供与性を示す物質であればよい。具体的
には、元素周期表の第1族または第2族に属する元素や希土類金属が好ましく、リチウム
、セシウム、マグネシウム、カルシウム等が挙げられる。また、元素周期表の第1族また
は第2族に属する元素の酸化物が好ましく、リチウム酸化物、カルシウム酸化物、バリウ
ム酸化物等が挙げられる。また、エルビウム、イッテルビウム等の金属や、酸化マグネシ
ウムのようなルイス塩基を用いることもできる。また、テトラチアフルバレン(略称:T
TF)等の有機化合物を用いることもできる。
、電子注入層115は、それぞれ、蒸着法(真空蒸着法を含む)、インクジェット法、塗
布法等の方法で形成することができる。
ましくは3.8eV以下)金属、合金、導電性化合物、及びこれらの混合物などを用いて
形成することが好ましい。具体的には、元素周期表の第1族または第2族に属する元素、
すなわちリチウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム等、及びこれ
らを含む合金(例えば、Mg−Ag、Al−Li)、ユーロピウム、イッテルビウム等の
希土類金属及びこれらを含む合金の他、アルミニウムや銀などを用いることができる。
合物と電子供与体(ドナー)とを混合してなる複合材料を用いる場合には、仕事関数の大
小に関わらず、アルミニウム、銀、ITO、珪素若しくは酸化珪素を含有したインジウム
錫酸化物等様々な導電性材料を用いることができる。
とができる。また、銀ペーストなどを用いる場合には、塗布法やインクジェット法などを
用いることができる。
電流が流れ、EL層102において正孔と電子とが再結合することにより発光する。そし
て、この発光は、第1の電極101または第2の電極103のいずれか一方または両方を
通って外部に取り出される。従って、第1の電極101または第2の電極103のいずれ
か一方、または両方が可視光に対する透光性を有する電極となる。
に限定されない。発光領域と金属とが近接することによって生じる消光を防ぐように、第
1の電極101及び第2の電極103から離れた部位に正孔と電子とが再結合する発光領
域を設けた構成であれば上記以外のものでもよい。
高い物質、電子注入性の高い物質、正孔注入性の高い物質、バイポーラ性(電子及び正孔
の輸送性の高い物質)の物質、または正孔ブロック材料等から成る層を、発光層と自由に
組み合わせて構成すればよい。
103の一対の電極間に、EL層102が設けられている。EL層102は、正孔注入層
111、正孔輸送層112、発光層113、電子輸送層114、電子注入層115を有し
ている。図1(B)における発光素子は、基板100上に、陰極として機能する第2の電
極103と、第2の電極103上に順に積層した電子注入層115、電子輸送層114、
発光層113、正孔輸送層112、正孔注入層111と、さらにその上に設けられた陽極
として機能する第1の電極101から構成されている。
第1の電極及び第2の電極)、及びEL層は液滴吐出法(インクジェット法)、スピンコ
ート法、印刷法などの湿式法を用いて形成してもよく、真空蒸着法、CVD法、スパッタ
リング法などの乾式法を用いて形成してもよい。湿式法を用いれば、大気圧下で形成する
ことができるため、簡易な装置及び工程で形成することができ、工程が簡略化し、生産性
が向上するという効果がある。一方乾式法は、材料を溶解させる必要がないために溶液に
難溶の材料も用いることができ、材料の選択の幅が広い。
要な設備のみで発光素子を作製することができる。また、発光層を形成するまでの積層を
湿式法で行い、発光層上に積層する電子輸送層などの機能層や第1の電極などを乾式法に
より形成してもよい。さらに、発光層を形成する前の第2の電極や機能層を乾式法により
形成し、発光層、及び発光層上に積層する機能層や第1の電極を湿式法によって形成して
もよい。もちろん、本実施の形態はこれに限定されず、用いる材料や必要とされる膜厚、
界面状態によって適宜湿式法と乾式法を選択し、組み合わせて発光素子を作製することが
できる。
る。本発明の一態様では、電流効率の高い発光素子を実現することができる。
バイス)は低消費電力を実現できる。
型の発光装置や、薄膜トランジスタ(TFT)によって発光素子の駆動が制御されたアク
ティブマトリクス型の発光装置を作製することができる。
本実施の形態は、EL層を複数有する発光素子(以下、積層型素子という)について、図
2を参照して説明する。この発光素子は、第1の電極201と第2の電極203との間に
、複数のEL層を有する積層型発光素子である。なお、本実施の形態では、EL層が2層
および3層の場合について示すが、4層以上としても良い。
11と第2のEL層212が積層されている。本実施の形態において、第1の電極201
は陽極として機能する電極であり、第2の電極203は陰極として機能する電極である。
なお、第1の電極201と第2の電極203は実施の形態2と同様なものを適用すること
ができる。また、第1のEL層211と第2のEL層212は同じ構成であっても異なる
構成であっても良い。また、第1のEL層211と、第2のEL層212は、その構成と
して、実施の形態2と同様なものを適用しても良いし、いずれかが異なる構成であっても
良い。
ている。電荷発生層213は、第1の電極201と第2の電極203に電圧を印加したと
きに、一方のEL層に電子を注入し、他方のEL層に正孔を注入する機能を有する。本実
施の形態の場合には、第1の電極201に第2の電極203よりも電位が高くなるように
電圧を印加すると、電荷発生層213から第1のEL層211に電子が注入され、第2の
EL層212に正孔が注入される。
ことが好ましい。また、電荷発生層213は、第1の電極201や第2の電極203より
も低い導電率であっても機能する。
む構成であっても、電子輸送性の高い有機化合物と電子供与体(ドナー)とを含む構成で
あってもよい。また、これらの両方の構成が積層されていても良い。なお、電子受容体や
電子供与体は、少なくとも電界のアシストにより電子を授受するものであればよい。
の高い有機化合物としては、NPBやTPD、TDATA、MTDATA、4,4’−ビ
ス[N−(スピロ−9,9’−ビフルオレン−2−イル)−N―フェニルアミノ]ビフェ
ニル(略称:BSPB)などの芳香族アミン化合物等を用いることができる。ここに述べ
た物質は、主に10−6cm2/Vs以上の正孔移動度を有する物質である。但し、電子
よりも正孔の輸送性の高い有機化合物であれば、上記以外の物質を用いても構わない。
ルオロキノジメタン(略称:F4−TCNQ)、クロラニル等を挙げることができる。ま
た、遷移金属酸化物を挙げることができる。また元素周期表における第4族乃至第8族に
属する金属の酸化物を挙げることができる。具体的には、酸化バナジウム、酸化ニオブ、
酸化タンタル、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化マンガン、酸化レ
ニウムは電子受容性が高いため好ましい。中でも特に、酸化モリブデンは大気中でも安定
であり、吸湿性が低く、扱いやすいため好ましい。
輸送性の高い有機化合物としては、例えば、Alq、Almq3、BeBq2、BAlq
など、キノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体等を用いることができる
。また、Zn(BOX)2、Zn(BTZ)2などのオキサゾール系、チアゾール系配位
子を有する金属錯体なども用いることができる。さらに、金属錯体以外にも、PBDやO
XD−7、TAZ、BPhen、BCPなども用いることができる。ここに述べた物質は
、主に10−6cm2/Vs以上の電子移動度を有する物質である。なお、正孔よりも電
子の輸送性の高い有機化合物であれば、上記以外の物質を用いても構わない。
、または元素周期表における第13族に属する金属及びその酸化物、炭酸塩などを用いる
ことができる。具体的には、リチウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、イッテル
ビウム、インジウム、酸化リチウム、炭酸セシウムなどを用いることが好ましい。また、
テトラチアナフタセンのような有機化合物を電子供与体として用いてもよい。
た場合における、余分な駆動電圧の上昇を抑制することができる。
)に示すように、3つ以上のEL層を積層した発光素子も適用することが可能である。本
実施の形態に係る発光素子のように、一対の電極間に複数のEL層(第1から第nのEL
層212)を電荷発生層213で仕切って配置することで、電流密度を低く保ったまま、
高輝度で発光する長寿命素子を実現できる。
の色の発光を得ることができる。例えば、2つのEL層を有する発光素子において、第1
のEL層の発光色と第2のEL層の発光色を補色の関係になるようにすることで、発光素
子全体として白色発光する発光素子を得ることも可能である。なお、補色とは、混合する
と無彩色になる色同士の関係をいう。つまり、補色の関係にある色を発光する物質から得
られた光を混合すると、白色発光を得ることができる。また、3つのEL層を有する発光
素子の場合でも同様であり、例えば、第1のEL層の発光色が赤色であり、第2のEL層
の発光色が緑色であり、第3のEL層の発光色が青色である場合、発光素子全体としては
、白色発光を得ることができる。
本実施の形態では、本発明の一態様である発光素子を有する発光装置であって、主に照明
装置に用いることができる発光装置について、図3を用いて説明する。なお、図3(A)
は、発光装置300を示す上面図、図3(B)は図3(A)をA−Bで切断した断面図で
ある。
05、EL層306、および第2の電極307を含む発光素子308を有する。発光素子
308には、本発明の一態様である発光素子を用いる。
気的に接続されている。また、第2の端子304は第2の電極307と電気的に接続され
ている。また第1の電極305の端部、および補助配線310上に積層した第1の電極3
05の凸部上には、絶縁層309が形成されている。なお、図3(B)においては、補助
配線310の上に第1の電極305が形成されているが、第1の電極305の上に補助配
線310が形成されていてもよい。
また、第1の基板301と第2の基板302との間には、乾燥剤311を有する。
に微細な凹凸構造をもつ光取り出し構造313aを設け、第1の基板301と大気との間
に光取り出し構造313aよりも大きな凹凸構造をもつ光取り出し構造313bを設ける
。なお、このような光取り出し構造は、図3(B)のように第1の基板301の上部およ
び下部の両方に設けてもよいし、片方のみでもよい。
305側から取り出す、いわゆるボトムエミッション型の発光装置であるが、図3(C)
に示すように、発光素子308の第2の電極307側から光を取り出すトップエミッショ
ン型の発光装置としてもよい。
EL層306、および第2の電極307を含む発光素子308を有する。
の端子304は第2の電極307と電気的に接続されている。また、第1の電極305の
端部には、絶縁層309が形成されている。また、第2の電極307上に補助配線310
が形成されている。
また、第1の基板301と第2の基板302との間には、乾燥剤311を有する。なお、
乾燥剤311は、EL層306が第1の電極305と第2の電極307の両方と同時に接
触する領域として定義される発光エリアと重なり合わないように配置するか、透明なもの
を用いることが好ましい。
曲線をもつ形状としてもよく、特に、三角形、四角形、六角形などが好ましい。三角形、
四角形、六角形の発光装置300の場合、限られた面積に複数の発光装置300を隙間無
く設けることができるためである。
。なお、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用
いることができる。
本実施の形態では、本発明の一態様の、発光素子を有する発光装置について図4を用いて
説明する。なお、図4(A)は、発光装置を示す上面図、図4(B)は図4(A)をA−
B及びC−Dで切断した断面図である。
は画素部、403は駆動回路部(ゲート側駆動回路)である。また、404は封止基板、
405はシール材であり、シール材405で囲まれた内側は、空間になっている。
動回路403に入力される信号を伝送するための配線であり、外部入力端子となるFPC
(フレキシブルプリントサーキット)409からビデオ信号、クロック信号、スタート信
号、リセット信号等を受け取る。なお、ここではFPCしか図示されていないが、このF
PCにはプリント配線基板(PWB)が取り付けられていても良い。本明細書における発
光装置には、発光装置本体だけでなく、それにFPCまたはPWBが取り付けられた状態
をも含むものとする。
及び画素部が形成されているが、ここでは、駆動回路部であるソース側駆動回路401と
、画素部402中の一つの画素が示されている。
4とを組み合わせたCMOS回路が形成される。また、駆動回路は、TFTで形成される
種々のCMOS回路、PMOS回路またはNMOS回路で形成しても良い。また、本実施
の形態では、基板上に駆動回路を形成したドライバ一体型を示すが、駆動回路を基板上で
はなく外部に形成することもできる。
レインに電気的に接続された第1の電極413とを含む複数の画素により形成される。な
お、第1の電極413の端部を覆って絶縁物414が形成されている。ここでは、ポジ型
の感光性アクリル樹脂膜を用いることにより形成する。
部に曲率を有する曲面が形成されるようにする。例えば、絶縁物414の材料としてポジ
型の感光性アクリルを用いた場合、絶縁物414の上端部のみに曲率半径0.2μm〜3
μmを有する曲面を持たせることが好ましい。また、絶縁物414として、光の照射によ
ってエッチャントに不溶解性となるネガ型の感光性樹脂、或いは光の照射によってエッチ
ャントに溶解性となるポジ型の感光性樹脂のいずれも使用することができる。
光素子418が形成される。ここで、陽極として機能する第1の電極413に用いる材料
としては、仕事関数の大きい材料を用いることが望ましい。例えば、ITO膜、または珪
素を含有したインジウム錫酸化物膜、2〜20wt%の酸化亜鉛を含む酸化インジウム膜
、窒化チタン膜、クロム膜、タングステン膜、亜鉛膜、プラチナ膜などの単層膜の他、窒
化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主
成分とする膜と窒化チタン膜との3層構造等を用いることができる。なお、EL層416
とオーミックコンタクトを取れる材料を第1の電極413として用い、第1の電極413
と電流制御用TFT412とを低抵抗の材料を用いて接続することで、オーミックコンタ
クトを取りかつ配線の抵抗を低くすることができる。
、印刷法、スピンコート法等の種々の方法によって形成される。EL層416は、実施の
形態1で示したベンゾオキサゾール誘導体を含んでいる。また、EL層416を構成する
他の材料としては、低分子材料、オリゴマー、デンドリマー、または高分子材料であって
も良い。
としては、仕事関数の小さい材料(アルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)、リチ
ウム(Li)、カルシウム(Ca)、またはこれらの合金や化合物である、マグネシウム
−銀(Mg−Ag)、マグネシウム−インジウム(Mg−In)、アルミニウム−リチウ
ム(Al−Li)等)を用いることが好ましい。なお、EL層416で生じた光が第2の
電極417を透過するためには、第2の電極417として、膜厚を薄くした金属薄膜と、
透明導電膜(ITO、2〜20wt%の酸化亜鉛を含む酸化インジウム、珪素若しくは酸
化珪素を含有したインジウム錫酸化物、酸化亜鉛等)との積層を用いるのが良い。
子基板410、封止基板404、及びシール材405で囲まれた空間407が生じる。な
お、空間407には、充填材または不活性気体が充填されており、充填剤としてシール材
405を用いる場合もある。
に用いる材料としてガラス基板や石英基板の他、FRP(Fiberglass−Rei
nforced Plastics)、PVF(ポリビニルフロライド)、ポリエステル
またはアクリル樹脂等からなるプラスチック基板を用いることができる。また、これらの
材料はできるだけ水分や酸素を透過しない材料であることが望ましい。
置を得ることができる。
シブマトリクス型の発光装置に用いることもできる。図5に本発明の発光素子を用いたパ
ッシブマトリクス型の発光装置の斜視図及び断面図を示す。なお、図5(A)は、発光装
置を示す斜視図、図5(B)は図5(A)をX−Yで切断した断面図である。
04が設けられている。第1の電極502の端部は絶縁層505で覆われている。そして
、絶縁層505上には隔壁層506が設けられている。隔壁層506の側壁は、基板面に
近くなるに伴って、一方の側壁と他方の側壁との間隔が狭くなるような傾斜を有する。つ
まり、隔壁層506の短辺方向の断面は、台形状であり、底辺(絶縁層505の面と平行
で、かつ、絶縁層505と接する辺)の方が上辺(絶縁層505の面と平行で、かつ絶縁
層505と接しない辺)よりも短い。このように、隔壁層506を設けることで、クロス
トーク等に起因した発光素子の不良を防ぐことができる。
ことができる。
成されることから、低消費電力な発光装置とすることができる。
本実施の形態では、本発明の一態様である発光装置を用いて完成させた様々な電子機器及
び照明器具の一例について、図6乃至図8を用いて説明する。
ジョン受信機ともいう)、コンピュータ用などのモニタ、デジタルカメラ、デジタルビデ
オカメラ、デジタルフォトフレーム、携帯電話機(携帯電話、携帯電話装置ともいう)、
携帯型ゲーム機、携帯情報端末、音響再生装置、パチンコ機などの大型ゲーム機などが挙
げられる。これらの電子機器および照明器具の具体例を図6に示す。
体6101に表示部6103が組み込まれている。表示部6103により、映像を表示す
ることが可能であり、本発明の一態様の発光装置を表示部6103に用いることができる
。また、ここでは、スタンド6105により筐体6101を支持した構成を示している。
コン操作機6110により行うことができる。リモコン操作機6110が備える操作キー
6109により、チャンネルや音量の操作を行うことができ、表示部6103に表示され
る映像を操作することができる。また、リモコン操作機6110に、当該リモコン操作機
6110から出力する情報を表示する表示部6107を設ける構成としてもよい。
より一般のテレビ放送の受信を行うことができ、さらにモデムを介して有線または無線に
よる通信ネットワークに接続することにより、一方向(送信者から受信者)または双方向
(送信者と受信者間、あるいは受信者間同士など)の情報通信を行うことも可能である。
ボード6204、外部接続ポート6205、ポインティングデバイス6206等を含む。
なお、コンピュータは、本発明の一態様の発光装置をその表示部6203に用いることに
より作製される。
ており、連結部6303により、開閉可能に連結されている。筐体6301には表示部6
304が組み込まれ、筐体6302には表示部6305が組み込まれている。また、図6
(C)に示す携帯型遊技機は、その他、スピーカ部6306、記録媒体挿入部6307、
LEDランプ6308、入力手段(操作キー6309、接続端子6310、センサ631
1(力、変位、位置、速度、加速度、角速度、回転数、距離、光、液、磁気、温度、化学
物質、音声、時間、硬度、電場、電流、電圧、電力、放射線、流量、湿度、傾度、振動、
においまたは赤外線を測定する機能を含むもの)、マイクロフォン6312等を備えてい
る。もちろん、携帯型遊技機の構成は上述のものに限定されず、少なくとも表示部630
4および表示部6305の両方、または一方に本発明の一態様の発光装置を用いていれば
よく、その他付属設備が適宜設けられた構成とすることができる。図6(C)に示す携帯
型遊技機は、記録媒体に記録されているプログラムまたはデータを読み出して表示部に表
示する機能や、他の携帯型遊技機と無線通信を行って情報を共有する機能を有する。なお
、図6(C)に示す携帯型遊技機が有する機能はこれに限定されず、様々な機能を有する
ことができる。
組み込まれた表示部6402の他、操作ボタン6403、外部接続ポート6404、スピ
ーカ6405、マイク6406などを備えている。なお、携帯電話機6400は、本発明
の一態様の発光装置を表示部6402に用いることにより作製される。
を入力することができる。また、電話を掛ける、或いはメールを作成するなどの操作は、
表示部6402を指などで触れることにより行うことができる。
示モードであり、第2は、文字等の情報の入力を主とする入力モードである。第3は表示
モードと入力モードの2つのモードが混合した表示+入力モードである。
主とする文字入力モードとし、画面に表示させた文字の入力操作を行えばよい。この場合
、表示部6402の画面のほとんどにキーボードまたは番号ボタンを表示させることが好
ましい。
有する検出装置を設けることで、携帯電話機6400の向き(縦か横か)を判断して、表
示部6402の画面表示を自動的に切り替えるようにすることができる。
作ボタン6403の操作により行われる。また、表示部6402に表示される画像の種類
によって切り替えるようにすることもできる。例えば、表示部に表示する画像信号が動画
のデータであれば表示モード、テキストデータであれば入力モードに切り替える。
部6402のタッチ操作による入力が一定期間ない場合には、画面のモードを入力モード
から表示モードに切り替えるように制御してもよい。
02に掌や指で触れ、掌紋、指紋等を撮像することで、本人認証を行うことができる。ま
た、表示部に近赤外光を発光するバックライトまたは近赤外光を発光するセンシング用光
源を用いれば、指静脈、掌静脈などを撮像することもできる。
貼り付けることで、曲面を有する発光装置とすることができる。また、その発光装置を、
曲面を有する筐体に配置することで、曲面を有する電子機器または照明装置を実現するこ
とができる。
フロントガラスに表示装置702が設置された例を示している。図7に示す表示装置70
0は、曲面を有する筐体に表示部704が組み込まれており、表示部704により、映像
を表示することが可能である。表示装置700において、本発明の一態様の発光装置を表
示部704に用いることができる。
り、本発明の一態様の発光装置を表示部706に用いることができる。本発明の一態様に
係る発光装置は、発光装置に含まれる発光素子の一対の電極及びその支持体に、透光性を
有する材料を用いることで、発光装置の上面及び下面から外部に発光を取り出すことがで
きる。従って、この発光装置を表示部706に適用することで、表示部706からフロン
トガラスを通して外部を視認することができる。同様に、外部からフロントガラスを通し
て表示部706に表示される画像を視認することもできる。
装置を用いた照明装置を適用することができる。このような照明装置は薄くて軽いので車
両の軽量化、空間の有効活用、および燃費性能向上において有利である。
いた例である。発光装置は大面積化も可能であるため、大面積の照明装置として用いるこ
とができる。その他、曲面を有する筐体を用いることで、発光領域が曲面を有する照明装
置803とすることもできる。本実施の形態で示す照明装置に含まれる発光素子は薄膜状
であり、筐体のデザインの自由度が高い。したがって、様々な意匠を凝らした照明装置と
することができる。
うな、テレビジョン装置6100aを設置することも可能である。テレビジョン装置61
00aは、通常の2次元表示に加えて3次元表示機能を有していてもよい。図8において
は、3次元表示観賞用のメガネ805を用いて3次元表示された画像を鑑賞することがで
きる。
できる。発光素子および発光装置の適用範囲は極めて広く、あらゆる分野の電子機器や照
明器具に適用することが可能である。
み合わせて用いることができる。
オフェン−4−イル)フェニル]ベンゾオキサゾール(略称:DBTBOx−II)を合
成する合成例1を示す。
300mL三口フラスコにて、2−(4−ブロモフェニル)ベンゾオキサゾール1.1g
(4.0mmol)、ジベンゾチオフェン−4−ボロン酸1.0g(4.2mmol)、
トリ(オルト−トリル)ホスフィン0.14g(0.46mmol)、エチレングリコー
ルジメチルエーテル40mL、2Mの炭酸カリウム水溶液4.0mLの混合物を、減圧下
で攪拌しながら脱気した後、フラスコ内を窒素置換した。この混合物に、酢酸パラジウム
(II)28mg(0.13mmol)を加え、窒素雰囲気下、80℃で6時間攪拌した
。
合わせ、飽和食塩水により洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムにより乾燥した。この混合
物を自然ろ過し、得られたろ液を濃縮して固体を得た。得られた固体をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより精製した。このとき、クロマトグラフィーの展開溶媒として、
トルエンとヘキサンの混合溶媒(トルエン:ヘキサン=2:1)を用いた。得られたフラ
クションを濃縮し、さらにトルエンとヘキサンの混合溶媒を加えて結晶を析出させ、目的
物である白色粉末を収量1.4g、収率90%で得た。
は、圧力2.6Pa、アルゴン流量5mL/minの条件で、目的物を200℃で20時
間加熱して行った。昇華精製後、目的物の白色粉末を0.79g、収率58%で得た。上
記合成例1の反応スキームを下記(F1−1)に示す。
ータを示す。
2H)、7.46−7.51(m、2H)、7.54−7.65(m、3H)、7.81
−7.88(m、2H)、7.93(d、J=9.0Hz、2H)、8.19−8.23
(m、2H)、8.42(d、J=8.7Hz、2H)。
A)における7.0ppmから9.0ppmの範囲を拡大して表したチャートである。測
定結果から,上記合成例1で得られた化合物がDBTBOx−IIであることを確認した
。
TBOx−IIの薄膜の吸収スペクトルを図11に示す。測定には紫外可視分光光度計(
日本分光株式会社製、V550型)を用いた。溶液は石英セルに入れ、薄膜は石英基板に
蒸着してサンプルを作製し、溶液のスペクトルは石英セルにトルエンのみを入れて測定し
た吸収スペクトルを生データから差し引いた吸収スペクトル、薄膜のスペクトルは石英基
板の吸収スペクトルを生データから差し引いた吸収スペクトルを図10および図11に示
した。図10および図11において横軸は波長(nm)、縦軸は吸収強度(任意単位)を
表す。トルエン溶液の場合では、316、338nmに吸収極大が見られ、薄膜の場合で
は236、300、320、342nmに吸収極大が見られた。また、DBTBOx−I
Iのトルエン溶液の発光スペクトルを図12に示す。また、DBTBOx−IIの薄膜の
発光スペクトルを図13に示す。図12および図13において横軸は波長(nm)、縦軸
は発光強度(任意単位)を表す。最大発光波長はトルエン溶液の場合では386nm(励
起波長318nm)、薄膜の場合で409nm(励起波長321nm)であった。
研計器社製、AC−2を用いた。その結果、HOMO準位は−5.66eVであった。さ
らに、図11のDBTBOx−IIの薄膜の吸収スペクトルのデータを用い、直接遷移を
仮定したTaucプロットから吸収端を求め、その吸収端を光学的エネルギーギャップと
して見積もったところ、そのエネルギーギャップは3.33eVであった。HOMO準位
の値と、エネルギーギャップから、LUMO準位を見積もったところ−2.33eVであ
った。
物質であることがわかった。
ravimetry−Differential Thermal Analysis)
を行った。測定には高真空差動型示差熱天秤(ブルカー・エイエックスエス株式会社製、
TG−DTA2410SA)を用いた。常圧、昇温速度10℃/min、窒素気流下(流
速200mL/min)の条件で測定したところ、重量と温度の関係(熱重量測定)から
、5%重量減少温度は332℃であった。
フェニルジベンゾチオフェン−4−イル)フェニル]ベンゾオキサゾール(略称:DBT
BOx−III)を合成する合成例2を示す。
100mL三口フラスコにて、2−(4−ブロモフェニル)ベンゾオキサゾール0.82
g(3.0mmol)、2,8−ジフェニルジベンゾチオフェン−4−ボロン酸1.1g
(3.0mmol)、トリ(オルト−トリル)ホスフィン0.13g(0.43mmol
)、エチレングリコールジメチルエーテル30mL、2Mの炭酸カリウム水溶液3.0m
Lの混合物を、減圧下で攪拌しながら脱気した後、フラスコ内を窒素置換した。この混合
物に、酢酸パラジウム(II)26mg(0.12mmol)を加え、窒素雰囲気下、8
0℃で4時間攪拌した。
機層とを合わせ、飽和食塩水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた
混合物を自然濾過し、濾液を濃縮して油状物を得た。得られた油状物を、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより精製した。このとき、クロマトグラフィーの展開溶媒として
トルエンを用いた。得られたフラクションを濃縮し、残渣にトルエンを加えて結晶を析出
させ、目的物である白色粉末を収量1.2g、収率73%で得た。
は、圧力2.9Pa、アルゴン流量5mL/minの条件で、目的物を270℃で16時
間加熱して行った。昇華精製後目的物の白色粉末を1.0g、収率90%で得た。上記合
成例2の反応スキームを下記(F1−2)に示す。
ータを示す。
4H)、7.49−7.56(m、4H)、7.63−7.66(m、1H)、7.74
−7.84(m、7H)、7.93(d、J=8.1Hz、1H)、8.00(d、J=
8.4Hz、2H)、8.44−8.47(m、4H)。
14(A)における7.0ppmから9.0ppmの範囲を拡大して表したチャートであ
る。測定結果から,上記合成例2で得られた化合物がDBTBOx−IIIであることを
確認した。
BTBOx−IIIの薄膜の吸収スペクトルを図16に示す。測定には紫外可視分光光度
計(日本分光株式会社製、V550型)を用いた。溶液は石英セルに入れ、薄膜は石英基
板に蒸着してサンプルを作製し、溶液のスペクトルは石英セルにトルエンのみを入れて測
定した吸収スペクトルを生データから差し引いた吸収スペクトル、薄膜のスペクトルは石
英基板の吸収スペクトルを生データから差し引いた吸収スペクトルを図15および図16
に示した。図15および図16において横軸は波長(nm)、縦軸は吸収強度(任意単位
)を表す。トルエン溶液の場合では、299、320、351nmに吸収極大が見られ、
薄膜の場合では268、301、362nmに吸収極大が見られた。またDBTBOx−
IIIのトルエン溶液の発光スペクトルを図17に示す。また、DBTBOx−IIIの
薄膜の発光スペクトルを図18に示す。図17および図18において横軸は波長(nm)
、縦軸は発光強度(任意単位)を表す。最大発光波長はトルエン溶液の場合では393n
m(励起波長300nm)、薄膜の場合で429nm(励起波長364nm)であった。
理研計器社製、AC−2を用いた。その結果、HOMO準位は−5.88eVであった。
さらに、図16のDBTBOx−IIIの薄膜の吸収スペクトルのデータを用い、直接遷
移を仮定したTaucプロットから吸収端を求め、その吸収端を光学的エネルギーギャッ
プとして見積もったところ、そのエネルギーギャップは3.19eVであった。HOMO
準位の値と、エネルギーギャップから、LUMO準位を見積もったところ−2.69eV
であった。
な物質であることがわかった。
具体的には、実施例2で説明した2−[4−(2,8−ジフェニルジベンゾチオフェン−
4−イル)フェニル]ベンゾオキサゾール(略称:DBTBOx−III)を用いて形成
した発光素子1について示す。
で用いた有機化合物の構造式を以下に示す。
まず、基板1100上に、酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO)をスパッタリ
ング法にて成膜し、第1の電極1101を形成した。なお、その膜厚は110nmとし、
電極面積は2mm×2mmとした。本実施例において、第1の電極1101は、陽極とし
て用いた。
成された基板1100を真空蒸着装置内に設けられた基板ホルダーに固定し、10−4P
a程度まで減圧した後、第1の電極1101上に、4−フェニル−4’−(9−フェニル
フルオレン−9−イル)トリフェニルアミン(略称:BPAFLP)と酸化モリブデン(
VI)を共蒸着することで、正孔注入層1111を形成した。その膜厚は、50nmとし
、BPAFLPと酸化モリブデンの比率は、重量比で4:2(=BPAFLP:酸化モリ
ブデン)となるように調節した。なお、共蒸着法とは、一つの処理室内で、複数の蒸発源
から同時に蒸着を行う蒸着法である。
孔輸送層1112を形成した。
膜1113aと、第2の膜1113bを順に積層して形成した。
と、第2のホスト材料として第1のホスト材料と異なる物質である、4−フェニル−4’
−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン(略称:PCB
A1BP)と、ゲスト材料としてトリス(2−フェニルピリジナト−N,C2’)イリジ
ウム(III)(略称:Ir(ppy)3)とを共蒸着して形成した。ここで、DBTB
Ox−III、PCBA1BPおよびIr(ppy)3の重量比は、1:0.2:0.0
8(=DBTBOx−III:PCBA1BP:Ir(ppy)3)となるように調節し
た。また、第1の膜1113aの膜厚は20nmとした。
スト材料としてIr(ppy)3とを共蒸着して形成した。ここで、DBTBOx−II
IとIr(ppy)3の重量比は、1:0.08(=DBTBOx−III:Ir(pp
y)3)となるように調節した。また、第2の膜1113bの膜厚は20nmとした。
1の膜1114aと、第2の膜1114bを順に積層して形成した。
。第1の膜1114aの膜厚は15nmとした。
)を蒸着して形成した。第2の膜1114bの膜厚は15nmとした。
子注入層1115を形成した。
厚となるように蒸着することで、本実施例の発光素子1を作製した。
ように封止する作業を行った後、発光素子の動作特性について測定を行った。なお、測定
は室温(25℃に保たれた雰囲気)で行った。
m2)、CIE色度座標(x、y)、輝度、(cd/m2)、電流効率(cd/A)、パ
ワー効率(lm/W)を表2に示す。
性を図22、電圧−電流特性を図23にそれぞれ示す。図20では縦軸に輝度(cd/m
2)、横軸に電流密度(mA/cm2)を示す。図21では縦軸に輝度(cd/m2)、
横軸に電圧(V)を示す。図22では縦軸に電流効率(cd/A)、横軸に輝度(cd/
m2)を示す。図23では縦軸に電流(mA)、横軸に電圧(V)を示す。
って、本発明の一態様であるベンゾオキサゾール誘導体を用いた発光素子は、電流効率が
非常に高い素子であることが分かる。
流効率が高い発光素子であることがわかった。
位)、横軸に波長(nm)を示す。図24に示すように発光素子1では、ゲスト材料であ
るIr(ppy)3由来の発光波長が観測され、第1のホスト材料として用いた本発明の
一態様であるベンゾオキサゾール誘導体(DBTBOx−III)の他、第2のホスト材
料として用いたPCBA1BP由来の発光波長は観測されなかった。よって本発明の一態
様であるベンゾオキサゾール誘導体は、発光素子の発光層において、ホスト材料として機
能していることがわかった。さらに、DBTBOx−IIIは三重項励起エネルギーの大
きな物質であることがわかった。
本参考例では、発光素子1の材料に用いた4−フェニル−4’−(9−フェニルフルオレ
ン−9−イル)トリフェニルアミン(略称:BPAFLP)を合成する例を示す。
100mL三口フラスコにて、マグネシウムを1.2g(50mmol)減圧下で30分
加熱撹拌し、マグネシウムを活性化させた。これを室温に冷まして窒素雰囲気にした後、
ジブロモエタン数滴を加えて発泡、発熱するのを確認した。ここに脱水ジエチルエーテル
10mL中に溶かした2−ブロモビフェニルを12g(50mmol)ゆっくり滴下した
後、2.5時間加熱還流撹拌してグリニャール試薬とした。
L、を500mL三口フラスコに入れた。ここに先に合成したグリニャール試薬をゆっく
り滴下した後、9時間加熱還流撹拌した。
し、ここに1N−塩酸を、水層が酸性になるまで加えて2時間撹拌した。有機層を水で洗
浄し、硫酸マグネシウムを加えて水分を取り除いた。この懸濁液を濾過し、得られた濾液
を濃縮し粘性の高い液体を得た。続けて、500mLナスフラスコに、この粘性の高い液
体と、氷酢酸50mLと、塩酸1.0mLとを入れ、窒素雰囲気下、130℃で1.5時
間加熱撹拌し、反応させた。
溶液、水、メタノールの順で洗浄したのち乾燥させ、目的物の白色粉末を収量11g、収
率69%で得た。上述のステップ1の反応スキームを下記(J−1)に示す。
ルアミン(略称:BPAFLP)の合成法]
100mL三口フラスコへ、9−(4−ブロモフェニル)−9−フェニルフルオレンを3
.2g(8.0mmol)、4−フェニル−ジフェニルアミンを2.0g(8.0mmo
l)、ナトリウム tert−ブトキシドを1.0g(10mmol)、ビス(ジベンジ
リデンアセトン)パラジウム(0)を23mg(0.04mmol)加え、フラスコ内の
雰囲気を窒素置換した。この混合物へ、脱水キシレン20mLを加えた。この混合物を、
減圧下で攪拌しながら脱気した後、トリ(tert−ブチル)ホスフィン(10wt%ヘ
キサン溶液)0.2mL(0.1mmol)を加えた。この混合物を、窒素雰囲気下、1
10℃で2時間加熱撹拌し、反応させた。
純薬工業株式会社、カタログ番号:540−00135)、セライト(和光純薬工業株式
会社、カタログ番号:531−16855)を通して濾過した。得られた濾液を濃縮し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した。このとき、クロマトグラフィーの
展開溶媒として、トルエンとヘキサンの混合溶媒(トルエン:ヘキサン=1:4)を用い
た。得られたフラクションを濃縮し、アセトンとメタノールを加えて超音波をかけたのち
、結晶を析出させ、目的物の白色粉末を収量4.1g、収率92%で得た。上述のステッ
プ2の反応スキームを下記(J−2)に示す。
サン=1:10)は、目的物は0.41、9−(4−ブロモフェニル)−9−フェニルフ
ルオレンは0.51であり、4−フェニル−ジフェニルアミンは0.27であった。
−フェニルフルオレン−9−イル)トリフェニルアミン(略称:BPAFLP)であるこ
とを確認した。
1H NMR(CDCl3,300MHz):δ(ppm)=6.63−7.02(m、
3H)、7.06−7.11(m、6H)、7.19−7.45(m、18H)、7.5
3−7.55(m、2H)、7.75(d、J=6.9、2H)。
101 第1の電極
102 EL層
103 第2の電極
111 正孔注入層
112 正孔輸送層
113 発光層
114 電子輸送層
115 電子注入層
201 第1の電極
203 第2の電極
211 EL層
212 EL層
213 電荷発生層
300 発光装置
301 第1の基板
302 第2の基板
303 第1の端子
304 第2の端子
305 第1の電極
306 EL層
307 第2の電極
308 発光素子
309 絶縁層
310 補助配線
311 乾燥剤
312 シール材
313a 構造
313b 構造
401 ソース側駆動回路
402 画素部
403 ゲート側駆動回路
404 封止基板
405 シール材
407 空間
408 配線
409 FPC(フレキシブルプリントサーキット)
410 素子基板
411 スイッチング用TFT
412 電流制御用TFT
413 第1の電極
414 絶縁物
416 EL層
417 第2の電極
418 発光素子
423 nチャネル型TFT
424 pチャネル型TFT
501 基板
502 第1の電極
503 第2の電極
504 EL層
505 絶縁層
506 隔壁層
700 表示装置
702 表示装置
704 表示部
706 表示部
801 照明装置
803 照明装置
805 メガネ
1100 基板
1101 第1の電極
1103 第2の電極
1111 正孔注入層
1112 正孔輸送層
1113 発光層
1113a 第1の膜
1113b 第2の膜
1114 電子輸送層
1114a 第1の膜
1114b 第2の膜
1115 電子注入層
6100 テレビジョン装置
6100a テレビジョン装置
6101 筐体
6103 表示部
6105 スタンド
6107 表示部
6109 操作キー
6110 リモコン操作機
6201 本体
6202 筐体
6203 表示部
6204 キーボード
6205 外部接続ポート
6206 ポインティングデバイス
6301 筐体
6302 筐体
6303 連結部
6304 表示部
6305 表示部
6306 スピーカ部
6307 記録媒体挿入部
6308 LEDランプ
6309 操作キー
6310 接続端子
6311 センサ
6312 マイクロフォン
6400 携帯電話機
6401 筐体
6402 表示部
6403 操作ボタン
6404 外部接続ポート
6405 スピーカ
6406 マイク
Claims (4)
- 式(G1)で表されるベンゾオキサゾール誘導体を有する発光素子。
(但し、式(G1)中、R11〜R14およびR21〜R27は、それぞれ独立に、水素、炭素数1〜4のアルキル基、または炭素数6〜13のアリール基のいずれかを表し、Arは炭素数6〜13のアリーレン基のいずれかを表し、Zは硫黄原子または酸素原子のいずれかを表す。) - 請求項1に記載の発光素子を用いた発光装置。
- 請求項2に記載の発光装置を用いた照明装置。
- 請求項2に記載の発光装置を用いた電子機器。
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