JP2017001348A - Static preventing structure, method for producing the same, and static preventing antifouling structure - Google Patents
Static preventing structure, method for producing the same, and static preventing antifouling structure Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017001348A JP2017001348A JP2015120326A JP2015120326A JP2017001348A JP 2017001348 A JP2017001348 A JP 2017001348A JP 2015120326 A JP2015120326 A JP 2015120326A JP 2015120326 A JP2015120326 A JP 2015120326A JP 2017001348 A JP2017001348 A JP 2017001348A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- antistatic
- conductive
- layer
- particles
- surface layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
【課題】優れた帯電防止性を有する帯電防止構造体、その製造方法及び帯電防止防汚構造体を提供する。【解決手段】帯電防止構造体は、微細凹凸構造体及び微細多孔質構造体の少なくとも一方により形成される表面層を備え、表面層が、導電性針状粒子を含有する導電層を有する。帯電防止防汚構造体は、微細凹凸構造体及び微細多孔質構造体の少なくとも一方により形成される表面層を備え、表面層が、導電性針状粒子を含有する導電層を有する帯電防止構造体と、その表面層に含浸されたフッ素含有液体と、を具備する。【選択図】図1An antistatic structure having excellent antistatic properties, a production method thereof, and an antistatic antifouling structure are provided. An antistatic structure includes a surface layer formed of at least one of a fine concavo-convex structure and a fine porous structure, and the surface layer has a conductive layer containing conductive acicular particles. The antistatic antifouling structure comprises a surface layer formed of at least one of a fine concavo-convex structure and a fine porous structure, and the surface layer has a conductive layer containing conductive acicular particles. And a fluorine-containing liquid impregnated in the surface layer. [Selection] Figure 1
Description
本発明は、帯電防止構造体、その製造方法及び帯電防止防汚構造体に関する。さらに詳細には、本発明は、優れた帯電防止性を有する帯電防止構造体、帯電防止構造体の製造方法及び帯電防止構造体を適用した帯電防止防汚構造体に関する。 The present invention relates to an antistatic structure, a method for producing the same, and an antistatic antifouling structure. More particularly, the present invention relates to an antistatic structure having excellent antistatic properties, a method for producing the antistatic structure, and an antistatic antifouling structure to which the antistatic structure is applied.
従来、異物を撥ねることが可能である易滑性表面を有する物品が提案されている。この物品は、撥水面を有する物品であって、粗面を備える基質と、安定化液体被覆層を形成するように粗面を湿潤させかつそれに付着する潤滑液であって、液体は粗面より上側に液体上面を形成するように十分な厚さで粗面を覆う潤滑液と、を備える。そして、粗面及び潤滑液は、潤滑液が基質上で実質的に固定化されて撥水面を形成するように、相互に対する親和性を有する。また、物品が異物を撥ねることが可能であることや、粗面が化学官能化層を備えること、さらに、粗面が1よりも大きい粗度係数を有することが記載されている(特許文献1参照。)。 Conventionally, articles having an easy-to-slip surface capable of repelling foreign matter have been proposed. This article is an article having a water repellent surface, a substrate having a rough surface, and a lubricating liquid that wets and adheres to the rough surface so as to form a stabilized liquid coating layer. And a lubricating liquid covering the rough surface with a sufficient thickness so as to form the upper surface of the liquid on the upper side. The rough surface and the lubricating liquid have an affinity for each other so that the lubricating liquid is substantially immobilized on the substrate to form a water repellent surface. Further, it is described that the article can repel foreign matters, that the rough surface has a chemical functionalized layer, and that the rough surface has a roughness coefficient larger than 1 (patent document). 1).
しかしながら、特許文献1に記載された物品においては、フッ素オイルが帯電し易く、埃や砂などの固体汚れが静電気により付着しやすいという問題点があった。
However, the article described in
本発明は、このような従来技術の有する課題に鑑みてなされたものである。そして、本発明は、優れた帯電防止性を有する帯電防止構造体、これを適用した帯電防止防汚構造体及びこれを適用した自動車部品並びに帯電防止構造体の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such problems of the prior art. An object of the present invention is to provide an antistatic structure having excellent antistatic properties, an antistatic antifouling structure to which the antistatic structure is applied, an automobile part to which the antistatic antifouling structure is applied, and a method for producing the antistatic structure. To do.
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた。その結果、微細凹凸構造体及び微細多孔質構造体の少なくとも一方により形成される表面層を備え、表面層が、導電性針状粒子を含有する導電層を有する構成とすることなどにより、上記目的が達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。 The inventors of the present invention have made extensive studies in order to achieve the above object. As a result, the above object is achieved by including a surface layer formed of at least one of a fine concavo-convex structure and a fine porous structure, and the surface layer has a conductive layer containing conductive acicular particles. Has been found to be achieved, and the present invention has been completed.
すなわち、本発明の帯電防止構造体は、微細凹凸構造体及び微細多孔質構造体の少なくとも一方により形成される表面層を備え、表面層が、導電性針状粒子を含有する導電層を有する。 That is, the antistatic structure of the present invention includes a surface layer formed of at least one of a fine concavo-convex structure and a fine porous structure, and the surface layer has a conductive layer containing conductive acicular particles.
また、本発明の帯電防止防汚構造体は、上記本発明の帯電防止構造体と、その表面層に含浸されたフッ素含有液体と、を具備する。 Moreover, the antistatic antifouling structure of the present invention comprises the antistatic structure of the present invention and a fluorine-containing liquid impregnated in the surface layer thereof.
さらに、本発明の帯電防止構造体の製造方法は、微細凹凸構造体及び微細多孔質構造体の少なくとも一方により形成される表面層を備え、表面層が、導電性針状粒子を含有する導電層を有する帯電防止構造体を製造する方法であって、下記の工程(1)〜(3)を含む。 Furthermore, the method for producing an antistatic structure of the present invention comprises a surface layer formed of at least one of a fine concavo-convex structure and a fine porous structure, and the surface layer contains conductive acicular particles. A method for producing an antistatic structure having the following steps (1) to (3).
工程(1):表面層の構成材の原料(但し、表面処理剤を除く。)と、原料を分散させる分散液と、を含有し、導電性針状粒子の比重(G1)と、原料のうち導電性針状粒子以外のもの及び分散液を含有する溶液の比重(G2)との比重差(G1−G2)を2以上とした塗工液により基材上にコート層を形成する。
工程(2):工程(1)より後に実施される、コート層を加熱して、コート層中の分散媒を除去する。
工程(3):工程(2)より後に実施される、コート層を加熱し、コート層中の原料を反応させて、表面層を形成する。
Step (1): A raw material for the constituent material of the surface layer (excluding the surface treating agent) and a dispersion for dispersing the raw material, the specific gravity (G 1 ) of the conductive needle-like particles, and the raw material The coating layer is formed on the substrate with a coating liquid having a specific gravity difference (G 1 -G 2 ) of 2 or more with respect to the specific gravity (G 2 ) of the solution containing the dispersion liquid other than the conductive needle-like particles. Form.
Step (2): The coating layer, which is implemented after Step (1), is heated to remove the dispersion medium in the coating layer.
Step (3): The coating layer, which is implemented after the step (2), is heated to react the raw materials in the coating layer to form a surface layer.
本発明によれば、微細凹凸構造体及び微細多孔質構造体の少なくとも一方により形成される表面層を備え、表面層が、導電性針状粒子を含有する導電層を有する構成とした。そのため、優れた帯電防止性を有する帯電防止構造体、帯電防止構造体の製造方法及び帯電防止構造体を適用した帯電防止防汚構造体を提供することができる。 According to the present invention, a surface layer formed of at least one of a fine concavo-convex structure and a fine porous structure is provided, and the surface layer has a conductive layer containing conductive acicular particles. Therefore, it is possible to provide an antistatic structure having excellent antistatic properties, a method for producing the antistatic structure, and an antistatic antifouling structure to which the antistatic structure is applied.
以下、本発明の一実施形態に係る帯電防止構造体、帯電防止構造体の製造方法及び帯電防止構造体を適用した帯電防止防汚構造体について詳細に説明する。 Hereinafter, an antistatic structure according to an embodiment of the present invention, a method for manufacturing the antistatic structure, and an antistatic antifouling structure to which the antistatic structure is applied will be described in detail.
(第1の実施形態)
まず、本発明の第1の実施形態に係る帯電防止構造体について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下の実施形態で引用する図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。図1(A)は、本発明の第1の実施形態に係る帯電防止構造体を示す模式的な断面図であり、また、図1(B)は、図1(A)に示した帯電防止構造体の上面側から見た導電層における導電性針状粒子の配置を示す説明図である。なお、図1(B)においては、場合によって導電層に含まれる導電性針状粒子以外の表面層の構成材の記載が省略されている。
(First embodiment)
First, the antistatic structure according to the first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, the dimension ratio of drawing quoted by the following embodiment is exaggerated on account of description, and may differ from an actual ratio. FIG. 1A is a schematic cross-sectional view showing an antistatic structure according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 1B is an antistatic structure shown in FIG. It is explanatory drawing which shows arrangement | positioning of the conductive acicular particle | grains in the conductive layer seen from the upper surface side of the structure. In FIG. 1B, the description of the constituent material of the surface layer other than the conductive acicular particles contained in the conductive layer is omitted in some cases.
図1に示すように、本実施形態の帯電防止構造体10は、基材上13に、微細凹凸構造体及び微細多孔質構造体の少なくとも一方により形成される表面層11を備え、表面層11が、導電性針状粒子12Aを分散した状態で含有する導電層12を有するものである。また、本実施形態においては、導電層12が、表面層11の最下層に配設されている。なお、図1(A)中の符号11Aは、表面層11の構成材(導電性針状粒子を除く。)を示す。
As shown in FIG. 1, the
ここで、本発明において「微細凹凸構造体」とは、例えば、複数の微細な凸部から構成され、形成された表面の凹部(開口部)が層厚み方向に対して垂直な層内方向に連続して配設された構造体をいう。なお、このような構造体においては、開口部の平均直径を規定することができない。 Here, in the present invention, the “fine concavo-convex structure” is composed of, for example, a plurality of fine convex portions, and the concave portions (openings) on the formed surface are in the in-layer direction perpendicular to the layer thickness direction. A structure arranged continuously. In such a structure, the average diameter of the openings cannot be defined.
また、本発明において「微細多孔質構造体」とは、例えば、複数の微細孔を有する多孔質体から構成され、形成された表面の凹部(開口部)が層厚み方向に対して垂直な層内方向に不連続に配設された構造体をいう。なお、このような構造体においては、開口部の平均直径を規定することができる。また、このような構成体においては、内部に形成された微細孔は連続であることが好ましいが、不連続でもよい。 Further, in the present invention, the “microporous structure” is composed of, for example, a porous body having a plurality of micropores, and the formed surface recesses (openings) are perpendicular to the layer thickness direction. A structure that is discontinuously arranged in the inward direction. In such a structure, the average diameter of the openings can be defined. Moreover, in such a structure, it is preferable that the micropore formed inside is continuous, but it may be discontinuous.
上述のように、微細凹凸構造体及び微細多孔質構造体の少なくとも一方により形成される表面層を備え、表面層が、導電性針状粒子を含有する導電層を有する構成とすることにより、優れた帯電防止性を有する帯電防止構造体となる。 As described above, the surface layer formed by at least one of the fine concavo-convex structure and the fine porous structure is provided, and the surface layer is excellent by having a conductive layer containing conductive acicular particles. Thus, an antistatic structure having antistatic properties is obtained.
そして、表面層に詳しくは後述するフッ素オイルのようなフッ素含有液体を含浸させて帯電防止防汚構造体とした場合には、電荷を拡散させる導電層の作用により、フッ素含有液体が帯電し難くなるため、埃や砂などの固体汚れの付着を抑制することが可能である。もちろん、フッ素含有液体を含浸させることにより、液体汚れを容易に滑落させることも可能である。 When the surface layer is impregnated with a fluorine-containing liquid such as fluorine oil, which will be described in detail later, to form an antistatic antifouling structure, the fluorine-containing liquid is difficult to be charged due to the action of the conductive layer that diffuses the charge. Therefore, it is possible to suppress adhesion of solid dirt such as dust and sand. Of course, the liquid dirt can be easily slid down by impregnating with the fluorine-containing liquid.
ここで、各構成について更に詳細に説明する。 Here, each configuration will be described in more detail.
上記構成材11Aとしては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ハフニウムなどの単純酸化物やチタン酸バリウムなどの複合酸化物、さらにガラスなどを適用することができる。しかしながら、これらに限定されるものではなく、例えば、窒化ケイ素やフッ素マグネシウムなど非酸化物を適用することもできる。その中でも、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化ジルコニウムなどが光透過性が優れるという観点から好ましい。
Examples of the
また、上記導電性針状粒子12Aとしては、例えば、スズドープ酸化インジウム(ITO)、フッ素ドープ酸化スズ(FTO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)などの無機物を適用することができる。しかしながら、これらに限定されるものではなく、例えば、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン等からなる導電性樹脂ファイバーなどの有機物を適用することもできる。無機物を適用する場合、有機物を適用する場合と比較して、優れた耐久性を有する帯電防止構造体とすることが可能である。
Examples of the conductive
さらに、上記基材13としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化ハフニウムなどの単純酸化物やチタン酸バリウムなどの複合酸化物、さらには、ガラスなどを適用することができる。しかしながら、これらに限定されるものではなく、例えば、窒化ケイ素やフッ素マグネシウムなどの非酸化物を適用することもできる。また、これらの無機物に限定されるものではなく、例えば、非架橋アクリル、架橋アクリル、架橋アクリル−ウレタン共重合体、架橋アクリル−エラストマー共重合体、シリコーンエラストマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、架橋ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルエーテルケトン、液晶性ポリマー、フッ素樹脂、ポリアレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、熱可塑性ポリイミド、ポリスチレン、ウレタン系エラストマーなどの有機物を適用することもできる。なお、基材は、表面層と別体又は一体に形成することが可能であるが、省略することも可能である。
Furthermore, as the
また、本実施形態においては、上述のように、導電層が、表面層の最下層に配設されていることが好適である。このような構成とすると、より優れた帯電防止性を有する帯電防止構造体とすることが可能である。換言すれば、導電性針状粒子の添加量を抑制しながら、優れた帯電防止性を有する帯電防止構造体とすることが可能である。また、導電層に含まれる導電性針状粒子が一定方向に配向するので、光散乱防止性を有し、優れた透明性を有する帯電防止構造体とすることが可能である。さらに、導電層が、表面層の最下層に配設されている場合には、例えば、表面層の最上層に配設されている場合と比較して、詳しくは後述するフッ素オイルのようなフッ素含有液体との親和性を確保し易く、優れた水滴滑落性を確保することが可能であるという利点がある。しかしながら、このような構成に何ら限定されるものではなく、本発明の作用効果を発現できるものであれば、本発明の範囲に含まれることは言うまでもない。 In the present embodiment, as described above, it is preferable that the conductive layer is disposed in the lowermost layer of the surface layer. With such a configuration, an antistatic structure having better antistatic properties can be obtained. In other words, it is possible to obtain an antistatic structure having excellent antistatic properties while suppressing the amount of conductive needle-like particles added. In addition, since the conductive acicular particles contained in the conductive layer are oriented in a certain direction, it is possible to obtain an antistatic structure having light scattering prevention properties and excellent transparency. Further, when the conductive layer is disposed in the lowermost layer of the surface layer, for example, as compared with the case where it is disposed in the uppermost layer of the surface layer, fluorine such as fluorine oil to be described later in detail. There is an advantage that it is easy to ensure the affinity with the contained liquid and it is possible to ensure excellent water droplet sliding properties. However, it is not limited to such a configuration, and it goes without saying that it is included in the scope of the present invention as long as the effects of the present invention can be expressed.
さらに、本実施形態においては、導電層が、下記の式(1)
d[nm]≦380[nm]/n1・・・(1)
(式(1)中、dは導電層の厚み、n1は導電性針状粒子の屈折率を示す。)に示す関係を満足することが好適である。
Furthermore, in this embodiment, the conductive layer has the following formula (1):
d [nm] ≦ 380 [nm] / n 1 (1)
(In formula (1), it is preferable that d represents the thickness of the conductive layer, and n 1 represents the refractive index of the conductive needle particles).
ここで、本発明において「導電層の厚み(d)」としては、例えば、帯電防止構造体の上面に対して垂直な断面において、透過型電子顕微鏡(TEM)により導電性針状粒子を観察し、計測される導電性針状粒子が含まれる範囲の厚みを適用することができる。 Here, as the “thickness (d) of the conductive layer” in the present invention, for example, conductive needle-like particles are observed with a transmission electron microscope (TEM) in a cross section perpendicular to the upper surface of the antistatic structure. The thickness within a range including the conductive needle-like particles to be measured can be applied.
また、本発明において「導電性針状粒子の屈折率(n1)」としては、例えば、アッベ屈折計により計測される同一組成の導電膜の屈折率を適用することができる。 In the present invention, as the “refractive index (n 1 ) of conductive needle-like particles”, for example, the refractive index of a conductive film having the same composition measured by an Abbe refractometer can be applied.
さらに、本実施形態においては、導電性針状粒子が、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)のような透明無機化合物からなることが好適である。具体例としては、石原産業株式会社製の針状透明導電材(FS−10P)を挙げることができる。このような構成とすると、優れた透明性を有するとともに、有機物を適用する場合と比較して、優れた耐久性を有する帯電防止構造体とすることが可能である。 Furthermore, in this embodiment, it is preferable that the conductive acicular particles are made of a transparent inorganic compound such as antimony-doped tin oxide (ATO). As a specific example, a needle-shaped transparent conductive material (FS-10P) manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. can be mentioned. With such a configuration, it is possible to obtain an antistatic structure having excellent transparency and superior durability as compared with the case where an organic substance is applied.
上述のような構成とすると、好ましくは導電層の厚みを100nm以下、より好ましくは10〜90nmとすることも可能であり、導電性針状粒子が層厚み方向に対して垂直な方向に配向し、光透過性及び光散乱防止性を両立し易く、より優れた透明性を有する帯電防止構造体とすることが可能である。一方、導電層の厚みが厚く、380/n1[nm]超である場合には、導電性針状粒子の添加量が限定されるなどの理由により、優れた透明性を有する帯電防止構造体とならないことがある。ただし、このような範囲に何ら制限されるものではなく、本発明の作用効果を発現できるものであれば、この範囲を外れていてもよいことは言うまでもない。 With the configuration as described above, the thickness of the conductive layer is preferably 100 nm or less, more preferably 10 to 90 nm, and the conductive acicular particles are oriented in a direction perpendicular to the layer thickness direction. Therefore, it is easy to achieve both light transmission and light scattering prevention, and an antistatic structure having more excellent transparency can be obtained. On the other hand, when the thickness of the conductive layer is thick and exceeds 380 / n 1 [nm], the antistatic structure having excellent transparency due to the reason that the amount of conductive needle-like particles added is limited. It may not be. However, it is not limited to such a range at all, and it goes without saying that it may be outside this range as long as the effects of the present invention can be expressed.
さらに、本実施形態においては、導電性針状粒子が、下記の式(2)及び式(3)
10≦B[nm]/A[nm]≦100・・・(2)
A[nm]<380[nm]/n1・・・(3)
(式(2)及び式(3)中、Aは導電性針状粒子の短径、Bは導電性針状粒子の長径、n1は導電性針状粒子の屈折率を示す。)に示す関係を満足することが好適である。
Further, in the present embodiment, the conductive acicular particles are represented by the following formulas (2) and (3).
10 ≦ B [nm] / A [nm] ≦ 100 (2)
A [nm] <380 [nm] / n 1 (3)
(In the formulas (2) and (3), A represents the short diameter of the conductive needle-shaped particles, B represents the long diameter of the conductive needle-shaped particles, and n 1 represents the refractive index of the conductive needle-shaped particles). It is preferable to satisfy the relationship.
ここで、本発明において「導電性針状粒子の短径(A)」とは、例えば、帯電防止構造体の上面から導電性針状粒子を走査型電子顕微鏡(SEM)又は透過型電子顕微鏡(TEM)により観察し、観察される複数の導電性針状粒子を二つの平行線で挟み、2つの平行線の間隔が最小となるときの距離の平均値をいう。また、本発明において「導電性針状粒子の長径(B)」とは、短径を規定するときの二つの平行線に直角な方向の二つの平行線で粒子を挟むときの距離の平均値をいう。 Here, in the present invention, the “short diameter (A) of the conductive needle-like particles” means, for example, the conductive needle-like particles from the upper surface of the antistatic structure by scanning electron microscope (SEM) or transmission electron microscope ( The average value of the distance when a plurality of conductive needle-like particles to be observed are sandwiched between two parallel lines and the interval between the two parallel lines is minimized. In the present invention, the “major diameter (B) of the conductive needle-like particles” means the average value of the distance when the particles are sandwiched by two parallel lines in a direction perpendicular to the two parallel lines when the minor axis is defined. Say.
上述のような構成とすると、導電性針状粒子がミー散乱を起こさないため、優れた透明性を有する帯電防止構造体とすることが可能である。また、優れた透明性を確保することができるため、導電性針状粒子の添加量を増やすことも可能であり、より優れた帯電防止性を有する帯電防止構造体とすることも可能である。ただし、このような範囲に何ら制限されるものではなく、本発明の作用効果を発現できるものであれば、この範囲を外れていてもよいことは言うまでもない。 With the above-described configuration, since the conductive needle-like particles do not cause Mie scattering, an antistatic structure having excellent transparency can be obtained. In addition, since excellent transparency can be ensured, the amount of conductive needle-like particles added can be increased, and an antistatic structure having better antistatic properties can be obtained. However, it is not limited to such a range at all, and it goes without saying that it may be outside this range as long as the effects of the present invention can be expressed.
また、本実施形態においては、表面層が、導電性針状粒子を1〜10質量%含有することが好適であり、2〜9.5質量%含有することがより好適である。このような構成とすると、導電性針状粒子間の隙間が大きく、光透過性を確保し易く、優れた透明性を有する帯電防止構造体とすることが可能である。また、導電層が、表面層の最下層に配設されており、表面層が、導電性針状粒子を1〜10質量%含有する構成とすると、導電性針状粒子間の隙間が大きく、導電層に含まれる導電性針状粒子が一定方向に配向するので、光透過性及び光散乱防止性を両立し易く、より優れた透明性を有する帯電防止構造体とすることが可能である。一方、導電性針状粒子の含有量が少なく、1質量%未満である場合には、適用する導電性針状粒子が限定されるなどの理由により、優れた透明性を有する帯電防止構造体とならないことがある。他方、導電性針状粒子の含有量が多く、10質量%超である場合には、適用する導電性針状粒子が限定されるなどの理由により、優れた透明性を有する帯電防止構造体とならないことがある。ただし、このような範囲に何ら制限されるものではなく、本発明の作用効果を発現できるものであれば、この範囲を外れていてもよいことは言うまでもない。 Moreover, in this embodiment, it is suitable that a surface layer contains 1-10 mass% of conductive acicular particles, and it is more suitable that 2-9.5 mass% is contained. With such a configuration, it is possible to provide an antistatic structure having a large gap between the conductive needle-like particles, easily ensuring light transmittance, and excellent transparency. Moreover, when the conductive layer is disposed in the lowermost layer of the surface layer, and the surface layer contains 1 to 10% by mass of the conductive acicular particles, the gap between the conductive acicular particles is large, Since the conductive acicular particles contained in the conductive layer are oriented in a certain direction, it is easy to achieve both light transmission and light scattering prevention, and an antistatic structure having better transparency can be obtained. On the other hand, when the content of the conductive acicular particles is small and less than 1% by mass, the antistatic structure having excellent transparency due to the reason that the applied conductive acicular particles are limited and the like. It may not be. On the other hand, when the content of the conductive needle-shaped particles is large and exceeds 10% by mass, the antistatic structure having excellent transparency due to the reason that the applied conductive needle-shaped particles are limited, It may not be. However, it is not limited to such a range at all, and it goes without saying that it may be outside this range as long as the effects of the present invention can be expressed.
さらに、本実施形態においては、表面層が、微細多孔質構造体により形成されており、微細多孔質構造体が、下記の式(4)
10[nm]≦D[nm]≦400[nm]/n2・・・(4)
(式(4)中、Dは微細多孔質構造体の表面開口部の平均直径、n2は表面層の構成材(但し、導電性針状粒子を除く。)の屈折率を示す。)に示す関係を満足することが好適である。
Furthermore, in this embodiment, the surface layer is formed of a fine porous structure, and the fine porous structure is represented by the following formula (4).
10 [nm] ≦ D [nm] ≦ 400 [nm] / n 2 (4)
(In the formula (4), D represents the average diameter of the surface opening of the fine porous structure, and n 2 represents the refractive index of the constituent material of the surface layer (excluding the conductive needle particles)). It is preferable to satisfy the relationship shown.
ここで、本発明において「微細多孔質構造体の表面開口部の平均直径(D)」としては、例えば、帯電防止構造体の上面から表面開口部を走査型電子顕微鏡(SEM)により観察し、画像解析によって、各開口部を同面積の円に換算し、さらにその円の直径を平均したものを適用することができる。 Here, in the present invention, as the “average diameter (D) of the surface opening of the microporous structure”, for example, the surface opening is observed from the upper surface of the antistatic structure by a scanning electron microscope (SEM), By image analysis, each opening can be converted into a circle with the same area, and the average of the diameters of the circles can be applied.
また、本発明において「表面層の構成材の屈折率(n2)」としては、例えば、アッベ屈折計により計測される同一組成の構成材(導電性針状粒子を除く。)からなる膜の屈折率を適用することができる。なお、表面層の構成材に対して単分子層を形成する表面処理がなされている場合には、例えば、アッベ屈折計により計測される同一組成の構成材(導電性針状粒子を除く。)の膜に表面処理をしてなる膜の屈折率を適用することができる。 In the present invention, the “refractive index (n 2 ) of the constituent material of the surface layer” is, for example, a film made of a constituent material (excluding conductive acicular particles) having the same composition measured by an Abbe refractometer. A refractive index can be applied. In addition, when the surface treatment which forms a monomolecular layer is made | formed with respect to the structural material of a surface layer, the structural material (except electroconductive needle-like particle | grains) of the same composition measured with an Abbe refractometer, for example. The refractive index of a film obtained by subjecting the film to surface treatment can be applied.
上述のような構成とすると、優れたフッ素含有液体の保持性を有するとともに、優れた透明性を有する帯電防止構造体とすることが可能である。つまり、微細多孔質構造体は、微細凹凸構造体と比較して、フッ素含有液体の保持性に優れる。そして、開口部の平均直径が10[nm]以上の場合には、特に優れたフッ素含有液体の保持性を有する帯電防止構造体とすることが可能である。また、開口部の平均直径が400/n2[nm]以下の場合には、特にヘイズ値が小さく、優れた透明性を有する帯電防止構造体とすることが可能である。ヘイズ値は、自動車部品においては、1%未満であることが要求され、好ましくは0.1%〜0.8%である。ただし、このような範囲に何ら制限されるものではなく、本発明の作用効果を発現できるものであれば、この範囲を外れていてもよいことは言うまでもない。 With the above-described configuration, it is possible to obtain an antistatic structure having excellent retention of fluorine-containing liquid and excellent transparency. That is, the fine porous structure is excellent in retention of the fluorine-containing liquid as compared with the fine concavo-convex structure. And when the average diameter of an opening part is 10 [nm] or more, it can be set as the antistatic structure which has the outstanding holding | maintenance of the fluorine-containing liquid. In addition, when the average diameter of the openings is 400 / n 2 [nm] or less, an antistatic structure having a particularly small haze value and excellent transparency can be obtained. The haze value is required to be less than 1% in automobile parts, and is preferably 0.1% to 0.8%. However, it is not limited to such a range at all, and it goes without saying that it may be outside this range as long as the effects of the present invention can be expressed.
また、本実施形態においては、表面層が、微細多孔質構造体により形成されており、表面層における導電層が、下記の式(5)
40[nm]≦d[nm]≦380[nm]/n1・・・(5)
(式(5)中、dは上記導電層の厚み、n1は上記導電性針状粒子の屈折率を示す。)に示す関係を満足することが好適である。
In the present embodiment, the surface layer is formed of a fine porous structure, and the conductive layer in the surface layer is represented by the following formula (5).
40 [nm] ≦ d [nm] ≦ 380 [nm] / n 1 (5)
(In the formula (5), d is the thickness of the conductive layer, n 1 is. Showing the refractive index of the conductive acicular particles) it is preferred to satisfy the relationship shown in.
上述のような構成とすると、微細多孔質構造体により形成された表面層における導電層の導電性針状粒子が層厚み方向に対して垂直な方向に配向し、光透過性及び光散乱防止性を両立し易く、より優れた透明性を有する帯電防止構造体とすることが可能である。一方、導電層の厚みが厚く、40[nm]未満又は380/n1[nm]超である場合には、導電性針状粒子の添加量が限定されるなどの理由により、優れた透明性を有する帯電防止構造体とならないことがある。ただし、このような範囲に何ら制限されるものではなく、本発明の作用効果を発現できるものであれば、この範囲を外れていてもよいことは言うまでもない。 With the configuration as described above, the conductive needle-like particles of the conductive layer in the surface layer formed by the fine porous structure are oriented in a direction perpendicular to the layer thickness direction, and light transmittance and light scattering prevention Therefore, it is possible to obtain an antistatic structure having more excellent transparency. On the other hand, when the thickness of the conductive layer is large and less than 40 [nm] or exceeds 380 / n 1 [nm], excellent transparency is achieved because the amount of conductive needle-shaped particles added is limited. In some cases, the antistatic structure may not be formed. However, it is not limited to such a range at all, and it goes without saying that it may be outside this range as long as the effects of the present invention can be expressed.
さらに、本実施形態においては、表面層が、微細多孔質構造体により形成されており、導電性針状粒子を5〜10質量%含有することが好適である。このような構成とすると、微細多孔質構造体により形成された表面層における導電層の導電性針状粒子間の隙間が大きく、光透過性を確保し易く、優れた透明性を有する帯電防止構造体とすることが可能である。また、導電層が、微細多孔質構造体により形成された表面層の最下層に配設されており、表面層が、導電性針状粒子を5〜10質量%含有する構成とすると、導電性針状粒子間の隙間が大きく、導電層に含まれる導電性針状粒子が一定方向に配向するので、光透過性及び光散乱防止性を両立し易く、より優れた透明性を有する帯電防止構造体とすることが可能である。一方、導電性針状粒子の含有量が少なく、5質量%未満である場合には、適用する導電性針状粒子が限定されるなどの理由により、優れた透明性を有する帯電防止構造体とならないことがある。他方、導電性針状粒子の含有量が多く、10質量%超である場合には、適用する導電性針状粒子が限定されるなどの理由により、優れた透明性を有する帯電防止構造体とならないことがある。ただし、このような範囲に何ら制限されるものではなく、本発明の作用効果を発現できるものであれば、この範囲を外れていてもよいことは言うまでもない。 Furthermore, in this embodiment, it is preferable that the surface layer is formed of a fine porous structure and contains 5 to 10% by mass of conductive acicular particles. With such a structure, the surface layer formed by the fine porous structure has a large gap between the conductive needle-like particles of the conductive layer, and it is easy to ensure light transmission and has an excellent antistatic structure. It can be a body. Further, when the conductive layer is disposed in the lowermost layer of the surface layer formed of the fine porous structure, and the surface layer contains 5 to 10% by mass of conductive needle-like particles, the conductive layer Since the gap between the acicular particles is large and the conductive acicular particles contained in the conductive layer are oriented in a certain direction, it is easy to achieve both light transmission and light scattering prevention properties, and an antistatic structure with better transparency. It can be a body. On the other hand, when the content of the conductive acicular particles is small and less than 5% by mass, the antistatic structure having excellent transparency due to the reason that the applied conductive acicular particles are limited and the like. It may not be. On the other hand, when the content of the conductive needle-shaped particles is large and exceeds 10% by mass, the antistatic structure having excellent transparency due to the reason that the applied conductive needle-shaped particles are limited, It may not be. However, it is not limited to such a range at all, and it goes without saying that it may be outside this range as long as the effects of the present invention can be expressed.
また、本実施形態においては、表面層が、微細多孔質構造体により形成されており、微細多孔質構造体が、下記の式(6)
10[nm]≦D[nm]≦200[nm]・・・(6)
(式(6)中、Dは微細多孔質構造体の表面開口部の平均直径を示す。)に示す関係を満足することが好適であり、式(6)の上限は、150[nm]以下であることがより好適であり、100[nm]以下であることがさらに好適であり、50[nm]以下であることが特に好適である。
In the present embodiment, the surface layer is formed of a fine porous structure, and the fine porous structure is represented by the following formula (6).
10 [nm] ≦ D [nm] ≦ 200 [nm] (6)
(In formula (6), it is preferable that D represents the average diameter of the surface openings of the microporous structure.) The upper limit of formula (6) is 150 [nm] or less. Is more preferably 100 [nm] or less, and particularly preferably 50 [nm] or less.
上述のような構成とすると、優れたフッ素含有液体の保持性を有するとともに、優れた透明性を有する帯電防止構造体とすることが可能である。つまり、微細多孔質構造体は、微細凹凸構造体と比較して、フッ素含有液体の保持性に優れる。そして、開口部の平均直径が10[nm]以上の場合には、特に優れたフッ素含有液体の保持性を有する帯電防止構造体とすることが可能である。また、開口部の平均直径が200[nm]以下、より好ましくは、150[nm]以下、さらに好ましくは100[nm]以下、特に好ましくは50[nm]の場合には、特にヘイズ値が小さく、優れた透明性を有する帯電防止構造体とすることが可能である。ヘイズ値は、自動車部品においては、1%未満であることが要求され、好ましくは0.1%〜0.8%である。ただし、このような範囲に何ら制限されるものではなく、本発明の作用効果を発現できるものであれば、この範囲を外れていてもよいことは言うまでもない。 With the above-described configuration, it is possible to obtain an antistatic structure having excellent retention of fluorine-containing liquid and excellent transparency. That is, the fine porous structure is excellent in retention of the fluorine-containing liquid as compared with the fine concavo-convex structure. And when the average diameter of an opening part is 10 [nm] or more, it can be set as the antistatic structure which has the outstanding holding | maintenance of the fluorine-containing liquid. In addition, when the average diameter of the openings is 200 [nm] or less, more preferably 150 [nm] or less, further preferably 100 [nm] or less, particularly preferably 50 [nm], the haze value is particularly small. Thus, an antistatic structure having excellent transparency can be obtained. The haze value is required to be less than 1% in automobile parts, and is preferably 0.1% to 0.8%. However, it is not limited to such a range at all, and it goes without saying that it may be outside this range as long as the effects of the present invention can be expressed.
(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態に係る帯電防止構造体の製造方法について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本発明の帯電防止構造体は、本発明の帯電防止構造体の製造方法により得られたものである必要はないが、本発明の帯電防止構造体の製造方法によって帯電防止構造体を製造することにより、容易に作製することができる。また、上記の実施形態において説明したものと同等のものについては、それらと同一の符号を付して説明を省略する。図2は、本発明の第2の実施形態に係る帯電防止構造体の製造方法を示すフロー図である。
(Second Embodiment)
Next, the manufacturing method of the antistatic structure according to the second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The antistatic structure of the present invention does not have to be obtained by the method of manufacturing the antistatic structure of the present invention, but the antistatic structure is manufactured by the method of manufacturing the antistatic structure of the present invention. By doing so, it can be easily manufactured. Moreover, about the thing equivalent to what was demonstrated in said embodiment, the code | symbol same as them is attached | subjected and description is abbreviate | omitted. FIG. 2 is a flowchart showing a method for manufacturing an antistatic structure according to the second embodiment of the present invention.
図2に示すように、本実施形態の帯電防止構造体の製造方法は、上記本発明の一実施形態に係る帯電防止構造体を製造する方法であって、下記の工程(1)〜(4)を含む。 As shown in FIG. 2, the manufacturing method of the antistatic structure of this embodiment is a method of manufacturing the antistatic structure according to one embodiment of the present invention, and includes the following steps (1) to (4). )including.
まず、図2(A)に示すように、工程(1)において、塗工液20により基材13上にコート層21を形成する。塗工液20は、表面層の構成材の原料(但し、表面処理剤を除く。)と、原料を分散させる分散液と、を含有し、導電性針状粒子12Aの比重(G1)と、原料のうち導電性針状粒子12A以外のもの及び分散液を含有する溶液の比重(G2)との比重差(G1−G2)を2以上としたもの、好ましくは3〜10としたものである。このとき、導電性針状粒子の比重は、4〜8程度であり、溶液の比重は、0.9〜1.2程度である。なお、上記溶液にはコロイド溶液も含まれる。
First, as shown in FIG. 2A, in step (1), a
次に、図2(B)に示すように、工程1(1)より後に、かつ、工程(2)より前に実施される工程(4)において、コート層21を静置して、コート層21中の導電性針状粒子12Aを沈降させる。このとき、例えば、室温で1〜10分間、好ましくは3〜7分間静置することにより、導電性針状粒子を確実に沈降させて、表面層の最下層に導電層を配設することができる。
Next, as shown in FIG. 2B, in the step (4) performed after the step 1 (1) and before the step (2), the
さらに、図2(C)に示すように、工程(1)より後に実施される工程(2)において、コート層21を加熱して、コート層21中の分散媒を除去する。これにより、構成材の原料(表面処理剤及び導電性針状粒子を除く。)21Aと導電性針状粒子12Aとを含有するコート層21が形成される。このとき、例えば、100〜200℃で、30分間〜2時間加熱処理することにより、コート層中の分散媒を除去することができる。
Further, as shown in FIG. 2C, in the step (2) performed after the step (1), the
しかる後、図2(D)に示すように、工程(2)より後に実施される工程(3)において、コート層21を加熱し、コート層21中の原料を重合反応させて、微細凹凸構造体及び微細多孔質構造体の少なくとも一方により形成され、導電性針状粒子12Aを含有する導電層12を有する表面層11を形成する。なお、図2(D)中の符号11Aは、表面層11の構成材(導電性針状粒子を除く。)を示す。これにより、帯電防止構造体10が得られる。このとき、例えば、400〜600℃で、30分間〜2時間加熱処理することにより、焼成して、所定の表面層を形成することができる。
Thereafter, as shown in FIG. 2D, in the step (3) performed after the step (2), the
上述のように、工程(1)〜工程(3)、好ましくは工程(1)〜工程(4)を含むゾルゲル法を適用した製造方法によって帯電防止構造体を製造することにより、容易に作製することができる。つまり、工程(1)〜工程(3)を経ることにより、分散媒を除去する仮硬化のときまでに、殆どの導電性針状粒子が沈降し、基材表面に平行に配向させることができ、光透過性及び光散乱防止性を両立し易い構成とすることが可能となる。また、さらに工程(4)を経ることにより、分散媒を除去する仮硬化のときまでに、より確実に導電性針状粒子が沈降し、基材表面に平行に配向させることができ、光透過性及び光散乱防止性を両立し易い構成とすることが可能となる。 As described above, the antistatic structure is easily produced by the production method to which the sol-gel method including the steps (1) to (3), preferably the steps (1) to (4) is applied. be able to. In other words, through the steps (1) to (3), most of the conductive needle-like particles settle and can be oriented in parallel to the substrate surface by the time of temporary curing to remove the dispersion medium. It becomes possible to make it easy to achieve both light transmission and light scattering prevention. Further, by passing through the step (4), the conductive acicular particles settle more reliably and can be oriented parallel to the substrate surface by the time of temporary curing to remove the dispersion medium, and light transmission It becomes possible to make it the structure which is easy to make compatibility and light scattering prevention compatible.
ここで、表面処理剤及び導電性針状粒子以外の表面層の構成材の原料等について詳細に説明する。 Here, the raw material of the constituent material of the surface layer other than the surface treatment agent and the conductive acicular particles will be described in detail.
表面層の構成材の原料としては、上述した表面層の構成材の成分を含有し、後述する分散液に分散して、ゾル液を調製し得るものを挙げることができる。構成材が酸化ケイ素である場合には、例えば、メチルシリケート、エチルシリケート、プロピルシリケート、ブチルシリケートなどのシリケートを適用することができる。しかしながら、これらに限定されるものではない。 Examples of the raw material of the constituent material for the surface layer include those that contain the components of the constituent material for the surface layer described above and can be dispersed in a dispersion described later to prepare a sol solution. When the constituent material is silicon oxide, for example, silicates such as methyl silicate, ethyl silicate, propyl silicate, and butyl silicate can be applied. However, it is not limited to these.
また、分散液としては、例えば、トリエチレングリコール、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、n−ヘキサンなどと水と混合物を挙げることができる。しかしながら、これらに限定されるものではない。また、反応触媒として塩酸や硫酸を添加することができる。 Examples of the dispersion include a mixture of water and triethylene glycol, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, n-hexane, and the like. However, it is not limited to these. Further, hydrochloric acid or sulfuric acid can be added as a reaction catalyst.
なお、表面層の微細な凸部や微細孔の表面の表面自由エネルギーと、含浸ないし保持させる詳しくは後述するフッ素オイルのようなフッ素含有液体の表面自由エネルギーとの関係を調整することが好ましい。この調整方法としては、物理蒸着法(PVD)や化学蒸着法(CVD)によるドライ製膜法と、フッ素系シランカップリング剤などの反応性がある試薬を塗布して表面処理するウェット法とがある。その中でも、より簡便かつ均一に調整できる好適な方法として、フッ素系溶剤に希釈したフッ素系シランカップリング剤など表面処理剤を塗布するウェット法を挙げることができる。 In addition, it is preferable to adjust the relationship between the surface free energy of the surface of the fine protrusions and the fine pores of the surface layer and the surface free energy of a fluorine-containing liquid such as fluorine oil to be impregnated or retained in detail. As this adjustment method, there are a dry film forming method by physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD), and a wet method in which a reactive reagent such as a fluorine-based silane coupling agent is applied and surface-treated. is there. Among them, a preferable method that can be more easily and uniformly adjusted is a wet method in which a surface treatment agent such as a fluorine-based silane coupling agent diluted in a fluorine-based solvent is applied.
上記の場合、シランカップリング剤のフッ素系主鎖としては、パーフルオロポリエーテルやパーフルオロアルキルなどからなるものが好適であり、酸素の存在によりフッ素系主鎖の間で相互作用が強くなるパーフルオロポリエーテルからなるフッ素系主鎖がより好適である。これらを適用することにより、表面層におけるフッ素含有液体の保持性を向上させることができる。 In the above case, the fluorinated main chain of the silane coupling agent is preferably a perfluoropolyether, perfluoroalkyl, or the like, and the presence of oxygen increases the interaction between the fluorinated main chains. A fluorine-based main chain made of fluoropolyether is more preferable. By applying these, the retention of the fluorine-containing liquid in the surface layer can be improved.
なお、フッ素系シランカップリング剤以外の表面処理材としては、例えば、CH3−(Si(CH3)2−O)n−Si(CH3)2OCH3(n>13;接触角95〜105°)、CH3−(Si(CH3)2−O)n−SiCH3(OCH3)2(n>13;接触角95〜105°)、CH3−(Si(CH3)2−O)n−Si(OCH3)3(n>13;接触角95〜105°)、CH3−(Si(CH3)2−O)n−Si(OC2H5)3(n>13;接触角95〜105°)、CH3−(Si(CH3)2−O)n−Si(CH2)2(CH2)3OCH2CH(OH)CH2NH(CH2)3Si(OCH3)3(n>13;接触角95〜105°)、(CH3−(Si(CH3)2−O)n−Si(CH3)2(CH2)3OCH2CH(OH)CH2)2N(CH2)3Si(OCH3)3(n>13;接触角95〜105°)、CH3−(Si(CH3)2−O)n−Si(OH)3(n>13;接触角95〜105°)、CH3−(Si(CH3)2−O)nSi(CH3)2Cl(n>13;接触角95〜105°)、CH3−(Si(CH3)2−O)n−Si(CH3)2(CH2)2SiCH3Cl2(n>13;接触角95〜105°)、CH3−(Si(CH3)2−O)n−SiCl3(n>13;接触角95〜105°)、CH3−(Si(CH3)2−O)n−Si(OCOCH3)3(n>13;接触角95〜105°)、CH3−(Si(CH3)2−O)n−Si(NCO)3(n>13;接触角95〜105°)、CH3−(Si(CH3)2−O)n−Si(CH3)2(CH2)3O(CH2)3OCONHSi(NCO)3(n>13;接触角95〜105°)、Rf−(CH2)2−(Si(CH3)2−O)n−Si(CH3)2(CH2)3OCH2CH(OH)CH2NHSi(OCH3)3(n>13;接触角95〜115°)、(Rf−(CH2)2−(Si(CH3)2−O)n−Si(CH3)2(CH2)3OCH2CH(OH)CH2)2N(CH2)3Si(OCH3)3(n>13;接触角95〜115°)等のシリコーン化合物を挙げることができる。また、上記シラン化合物の置換基をイソシアネートに変更したものも用いることが可能である。 In addition, as a surface treatment material other than the fluorine-based silane coupling agent, for example, CH 3 — (Si (CH 3 ) 2 —O) n—Si (CH 3 ) 2 OCH 3 (n>13; contact angle 95 to 95) 105 °), CH 3 — (Si (CH 3 ) 2 —O) n —SiCH 3 (OCH 3 ) 2 (n>13; contact angle 95 to 105 °), CH 3 — (Si (CH 3 ) 2 — O) n-Si (OCH 3 ) 3 (n>13; contact angle 95~105 °), CH 3 - ( Si (CH 3) 2 -O) n -Si (OC 2 H 5) 3 (n> 13 Contact angle 95-105 °), CH 3 — (Si (CH 3 ) 2 —O) n —Si (CH 2 ) 2 (CH 2 ) 3 OCH 2 CH (OH) CH 2 NH (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 (n>13; contact angle 95-105 °), (CH 3- (Si (CH 3) 2 -O) n -Si (CH 3) 2 (CH 2) 3 OCH 2 CH (OH) CH 2) 2 N (CH 2) 3 Si (OCH 3) 3 (n>13; contact angle 95 to 105 °), CH 3 — (Si (CH 3 ) 2 —O) n —Si (OH) 3 (n>13; contact angle 95 to 105 °), CH 3 — (Si (CH 3 ) 2 — O) n Si (CH 3) 2 Cl (n>13; contact angle 95~105 °), CH 3 - ( Si (CH3) 2 -O) n-Si (CH 3) 2 (CH 2) 2 SiCH 3 Cl 2 (n>13; contact angle 95 to 105 °), CH 3 — (Si (CH 3 ) 2 —O) n —SiCl 3 (n>13; contact angle 95 to 105 °), CH 3 — (Si (CH 3) 2 -O) n -Si (OCOCH 3) 3 (n>13; contact angle 95 to 105 ° , CH 3 - (Si (CH 3) 2 -O) n -Si (NCO) 3 (n>13; contact angle 95~105 °), CH 3 - ( Si (CH 3) 2 -O) n -Si (CH 3 ) 2 (CH 2 ) 3 O (CH 2 ) 3 OCONHSi (NCO) 3 (n>13; contact angle 95-105 °), Rf— (CH 2 ) 2 — (Si (CH 3 ) 2 — O) n -Si (CH 3) 2 (CH 2) 3 OCH 2 CH (OH) CH 2 NHSi (OCH 3) 3 (n>13; contact angle 95~115 °), (Rf- (CH 2) 2 - (Si (CH 3) 2 -O) n-Si (CH 3) 2 (CH 2) 3 OCH 2 CH (OH) CH 2) 2 n (CH 2) 3 Si (OCH 3) 3 (n> 13 A contact angle of 95 to 115 °). Moreover, what changed the substituent of the said silane compound into isocyanate can also be used.
(第3の実施形態)
次に、本発明の第3の実施形態に係る帯電防止防汚構造体について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、上記の実施形態において説明したものと同等のものについては、それらと同一の符号を付して説明を省略する。図3は、本発明の第3の実施形態に係る帯電防止防汚構造体を示す模式的な断面図である。
(Third embodiment)
Next, an antistatic antifouling structure according to a third embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, about the thing equivalent to what was demonstrated in said embodiment, the code | symbol same as them is attached | subjected and description is abbreviate | omitted. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an antistatic antifouling structure according to the third embodiment of the present invention.
図3に示すように、本実施形態の帯電防止防汚構造体1は、基材上13に、微細凹凸構造体及び微細多孔質構造体の少なくとも一方により形成される表面層11を備え、表面層11が、導電性針状粒子12Aを分散した状態で含有する導電層12を有する帯電防止構造体10と、表面層11に含浸されることにより、表面層11に保持されるとともに、表面層11の表面を被覆するフッ素含有液体30と、を具備したものである。
As shown in FIG. 3, the
上述のように、微細凹凸構造体及び微細多孔質構造体の少なくとも一方により形成される表面層を備え、表面層が、導電性針状粒子を含有する導電層を有する帯電防止構造体と、表面層に含浸されたフッ素含有液体と、を具備した構成とすることにより、電荷を拡散させる導電層の作用により、フッ素含有液体が帯電し難くなるため、埃や砂などの固体汚れの付着を抑制することが可能な帯電防止防汚構造体となる。もちろん、液体汚れを容易に滑落させることも可能である。 As described above, an antistatic structure comprising a surface layer formed of at least one of a fine concavo-convex structure and a fine porous structure, the surface layer having a conductive layer containing conductive acicular particles, and a surface And the fluorine-containing liquid impregnated in the layer makes it difficult for the fluorine-containing liquid to be charged by the action of the conductive layer for diffusing the charge, thereby suppressing the adhesion of solid dirt such as dust and sand. It becomes the antistatic antifouling structure which can do. Of course, it is also possible to easily slide down liquid dirt.
また、本実施形態においては、上述した第1の実施形態における好適形態を適用することが好ましく、これにより、透明性や耐久性、水滴滑落性を上述したように優れたものとすることができる。また、フッ素含有液体の保持性を向上させることもできる。 Moreover, in this embodiment, it is preferable to apply the suitable form in 1st Embodiment mentioned above, By this, transparency, durability, and a water drop sliding property can be made excellent as mentioned above. . In addition, the retention of the fluorine-containing liquid can be improved.
ここで、フッ素含有液体について詳細に説明する。 Here, the fluorine-containing liquid will be described in detail.
フッ素含有液体としては、フッ素系主鎖又は側鎖を有するものであれば、特に限定されるものではないが、具体的には、フルオロエーテル系やフルオロアルキル系のフッ素オイルを挙げることができる。Dupont社製のKrytox(パーフルオロポリエーテル系)などは蒸気圧が低く(0.01Pa以下)、揮発性が低いので保持し易い。 The fluorine-containing liquid is not particularly limited as long as it has a fluorine-based main chain or side chain, and specific examples include fluoroether-based and fluoroalkyl-based fluorine oils. Krytox (perfluoropolyether type) manufactured by Dupont has a low vapor pressure (0.01 Pa or less) and low volatility, so it is easy to hold.
その他には、3M社製のフロリナート(パーフルオロアルキル系)やノベック(パーフルオロポリエーテル系)、ダイキン工業株式会社製のデムナム(パーフルオロアルキル系)などがあるが、揮発性が高いので短期的な使用に適用することが好ましい。これらのフッ素オイルの粘度や蒸気圧を調整するため、側鎖にフッ素以外のハロゲン元素又はフッ素以外のハロゲンを有する官能基を付与する場合もある。 Others include 3M Fluorinert (perfluoroalkyl), Novec (perfluoropolyether) and Daikin Industries' demnum (perfluoroalkyl), but they are short-term because of their high volatility. It is preferable to apply to various uses. In order to adjust the viscosity and vapor pressure of these fluorine oils, a functional group having a halogen element other than fluorine or a halogen other than fluorine may be added to the side chain.
また、本実施形態においては、フッ素含有液体の120℃で24時間保持後の蒸発減量が、35質量%未満であることが好適である。このような構成とすることにより、優れた耐久性を有する帯電防止防汚構造体とすることが可能である。例えば、自動車用途に適用した場合においても、フッ素含有液体が自然蒸発して性能劣化し難くなり、常温(5〜35℃)付近において、長期間防汚性を発揮することができる。ただし、このような範囲に何ら制限されるものではなく、本発明の作用効果を発現できるものであれば、この範囲を外れていてもよいことは言うまでもない。 Moreover, in this embodiment, it is suitable that the evaporation loss after hold | maintaining at 120 degreeC for 24 hours of a fluorine-containing liquid is less than 35 mass%. By adopting such a configuration, an antistatic antifouling structure having excellent durability can be obtained. For example, even when applied to automobile applications, the fluorine-containing liquid spontaneously evaporates and the performance is hardly deteriorated, and the antifouling property can be exhibited for a long period of time near normal temperature (5-35 ° C.). However, it is not limited to such a range at all, and it goes without saying that it may be outside this range as long as the effects of the present invention can be expressed.
さらに、本実施形態においては、フッ素含有液体の0℃における粘度が、160mm2/s以下であることが好適であり、3〜100mm2/sであることがより好適であり、8〜80mm2/sであることがさらに好適である。このような構成とすることにより、優れた水滴滑落性を有する帯電防止防汚構造体とすることが可能である。これにより、汚れの滑落性を維持することができる。ただし、このような範囲に何ら制限されるものではなく、本発明の作用効果を発現できるものであれば、この範囲を外れていてもよいことは言うまでもない。 Further, in the present embodiment, a viscosity at 0 ℃ fluorine-containing liquid is preferably not more than 160 mm 2 / s, is more suitably a 3~100mm 2 / s, 8~80mm 2 More preferably, it is / s. By setting it as such a structure, it can be set as the antistatic antifouling | stain-proof structure which has the outstanding water drop sliding property. Thereby, the slidability of dirt can be maintained. However, it is not limited to such a range at all, and it goes without saying that it may be outside this range as long as the effects of the present invention can be expressed.
(第4の実施形態)
次に、本発明の第4の実施形態に係る自動車部品について詳細に説明する。
本実施形態の自動車部品は、本発明の帯電防止構造体又は帯電防止防汚構造体を有するものである。
(Fourth embodiment)
Next, the automotive component according to the fourth embodiment of the present invention will be described in detail.
The automobile part of this embodiment has the antistatic structure or antistatic antifouling structure of the present invention.
ここで、自動車部品としては、例えば、カメラレンズ、ミラー、ガラスウィンドウ、ボディーなどの塗装面、各種ライトのカバー、ドアノブ、メーターパネル、ウィンドウパネル、ラジエーターフィン、エバポレーターなどを挙げることができる。しかしながら、これらに限定されるものではない。 Here, examples of automobile parts include camera lenses, mirrors, glass windows, painted surfaces such as bodies, covers for various lights, door knobs, meter panels, window panels, radiator fins, evaporators, and the like. However, it is not limited to these.
上述のような構成とすることにより、自動車部品における帯電防止性を優れたものとすることができるので、自動車の洗車や清掃の回数を減らすことができる。また、上述した第1又は第2の実施形態における好適形態を適用することにより、透明性や耐久性、水滴滑落性を上述したように優れたものとすることができる。また、フッ素含有液体の保持性を向上させることもできる。これにより、例えば、車載カメラやミラー、ウィンドウなどに適用すれば、雨天や悪路においてもクリアな視界を確保することができる。 By adopting the configuration as described above, the antistatic property of the automobile parts can be made excellent, so that the number of times of washing and cleaning the automobile can be reduced. Further, by applying the preferred embodiment in the first or second embodiment described above, the transparency, durability, and water drop sliding properties can be improved as described above. In addition, the retention of the fluorine-containing liquid can be improved. Thereby, for example, if it is applied to a vehicle-mounted camera, a mirror, a window, etc., a clear field of view can be secured even in rainy weather or on a rough road.
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
(実施例1)
まず、水0.93gと、トリエチレングリコール1.5gと、イソプロパノール0.78gとを均一に混合し、得られた混合物に32N硫酸0.3gを添加して、溶液A1を調製した。また、エチルシリケート(コルコート株式会社製、エチルシリケート40)8.04gと、イソプロパノール0.78gとを均一に混合して、溶液B1を調製した。
Example 1
First, water 0.93 g, triethylene glycol 1.5g, and isopropanol 0.78g uniformly mixed, with the addition of 32N sulfuric acid 0.3g To the resulting mixture, a solution A 1 was prepared. Further, ethyl silicate (Colcoat Co., Ltd., Ethyl Silicate 40) 8.04 g and, by uniformly mixing the isopropanol 0.78 g, the solution B 1 was prepared.
次いで、得られた溶液A1及び溶液B1を混合し、スターラーで15分間撹拌して、ゾル液を調製した。 Next, the obtained solution A 1 and solution B 1 were mixed and stirred with a stirrer for 15 minutes to prepare a sol solution.
さらに、得られたゾル液をイソプロパノールで5倍希釈して、溶液C1(比重G2:0.83)を調製した。 Further, the obtained sol solution was diluted 5-fold with isopropanol to prepare a solution C 1 (specific gravity G 2 : 0.83).
さらに、得られた溶液C1にエチルシリケートが重合反応した後の表面層における導電性針状粒子の含有量が9.5質量%となるように導電性針状粒子(組成:アンチモンドープ酸化スズ、長径B/短径A:200nm/10nm、屈折率n1:2.1、比重G1:6.6)を添加して、本例で用いる塗工液を調製した。 Further, the conductive needle-like particles (composition: antimony-doped tin oxide) were prepared so that the content of the conductive needle-like particles in the surface layer after the ethyl silicate polymerized in the solution C 1 was 9.5% by mass. , Major axis B / minor axis A: 200 nm / 10 nm, refractive index n 1 : 2.1, specific gravity G 1 : 6.6) were added to prepare a coating solution used in this example.
さらに、ガラス製の基材上に、得られた塗工液を用いたスピンコート(回転速度:1500rpm、回転時間:20秒間、湿度60%)によってコート層を形成した。 Furthermore, a coat layer was formed on a glass substrate by spin coating (rotation speed: 1500 rpm, rotation time: 20 seconds, humidity 60%) using the obtained coating solution.
さらに、形成されたコート層を湿度60%、室温(25℃)で5分間静置した。 Further, the formed coating layer was allowed to stand for 5 minutes at a humidity of 60% and at room temperature (25 ° C.).
さらに、静置されたコート層をオーブン(加熱温度:150℃、加熱時間:1時間)によって加熱し、分散媒を除去して、コート層を仮硬化させた。 Furthermore, the coating layer which was left still was heated by an oven (heating temperature: 150 ° C., heating time: 1 hour), the dispersion medium was removed, and the coating layer was temporarily cured.
しかる後、仮硬化されたコート層を500℃で1時間焼成して、本例の帯電防止構造体を得た。 Thereafter, the pre-cured coat layer was baked at 500 ° C. for 1 hour to obtain the antistatic structure of this example.
(実施例2)
実施例1で得られた溶液C1に導電性針状粒子(組成:アンチモンドープ酸化スズ、長径B/短径A:500nm/20nm、屈折率n1:2.1、比重G1:6.6)をエチルシリケートが重合反応した後の表面層における導電性針状粒子の含有量が8質量%となるように添加して、本例で用いる塗工液を調製した。しかる後、得られた塗工液を用いたこと以外は、実施例1と同様の操作を繰り返して、本例の帯電防止構造体を得た。
(Example 2)
In the solution C 1 obtained in Example 1, conductive acicular particles (composition: antimony-doped tin oxide, major axis B / minor axis A: 500 nm / 20 nm, refractive index n 1 : 2.1, specific gravity G 1 : 6. 6) was added so that the content of the conductive needle-like particles in the surface layer after the ethyl silicate had undergone the polymerization reaction was 8% by mass to prepare a coating solution used in this example. Thereafter, the same operation as in Example 1 was repeated except that the obtained coating solution was used to obtain an antistatic structure of this example.
(実施例3)
実施例1で得られた溶液C1に導電性針状粒子(組成:アンチモンドープ酸化スズ、長径B/短径A:200nm/20nm、屈折率n1:2.1、比重G1:6.6)をエチルシリケートが重合反応した後の表面層における導電性針状粒子の含有量が5質量%となるように添加して、本例で用いる塗工液を調製した。しかる後、得られた塗工液を用いたこと以外は、実施例1と同様の操作を繰り返して、本例の帯電防止構造体を得た。
(Example 3)
In the solution C 1 obtained in Example 1, conductive acicular particles (composition: antimony-doped tin oxide, major axis B / minor axis A: 200 nm / 20 nm, refractive index n 1 : 2.1, specific gravity G 1 : 6. 6) was added so that the content of the conductive needle-like particles in the surface layer after the ethyl silicate had undergone the polymerization reaction was 5% by mass to prepare a coating solution used in this example. Thereafter, the same operation as in Example 1 was repeated except that the obtained coating solution was used to obtain an antistatic structure of this example.
(実施例4)
実施例1で得られた溶液C1に導電性針状粒子(組成:アンチモンドープ酸化スズ、長径B/短径A:200nm/10nm、屈折率n1:2.1、比重G1:6.6)をエチルシリケートが重合反応した後の表面層における導電性針状粒子の含有量が9質量%となるように添加して、本例で用いる塗工液を調製した。しかる後、得られた塗工液を用いたこと以外は、実施例1と同様の操作を繰り返して、本例の帯電防止構造体を得た。
Example 4
In the solution C 1 obtained in Example 1, conductive acicular particles (composition: antimony-doped tin oxide, major axis B / minor axis A: 200 nm / 10 nm, refractive index n 1 : 2.1, specific gravity G 1 : 6. 6) was added so that the content of conductive needle-like particles in the surface layer after the ethyl silicate had undergone a polymerization reaction was 9% by mass to prepare a coating solution used in this example. Thereafter, the same operation as in Example 1 was repeated except that the obtained coating solution was used to obtain an antistatic structure of this example.
(実施例5)
まず、水0.8gと、トリエチレングリコール1.5gと、イソプロパノール0.78gとを均一に混合し、32N硫酸0.3gを添加して、溶液A5を調製した。また、テトラエトキシシラン8.0gと、イソプロパノール0.78gとを均一に混合して、溶液B5を調製した。
(Example 5)
First, water 0.8 g, and triethylene glycol 1.5g, and evenly mixing the isopropanol 0.78 g, was added 32N sulfuric acid 0.3 g, the solution A 5 were prepared. Further, tetraethoxysilane 8.0 g, and isopropanol 0.78g were uniformly mixed, the solution B 5 was prepared.
次いで、得られた溶液A5及び溶液B5を混合し、スターラーで15分間撹拌し、ゾル液を調製した。 Then, mixed solution A 5 and solution B 5 obtained was stirred for 15 minutes with a stirrer to prepare a sol solution.
さらに、得られたゾル液をイソプロパノールで5倍希釈して、溶液C5(比重G2:0.81)を調製した。 Further, the obtained sol solution was diluted 5-fold with isopropanol to prepare a solution C 5 (specific gravity G 2 : 0.81).
さらに、得られた溶液C5に導電性針状粒子(組成:アンチモンドープ酸化スズ、長径B/短径A:600nm/10nm、屈折率n1:2.1、比重G1:6.6)をテトラエトキシシランが重合反応した後の表面層における導電性針状粒子の含有量が5質量%となるように添加して、本例で用いる塗工液を調製した。 Furthermore, conductive needle-like particles (composition: antimony-doped tin oxide, major axis B / minor axis A: 600 nm / 10 nm, refractive index n 1 : 2.1, specific gravity G 1 : 6.6) are obtained in the obtained solution C 5. Was added so that the content of conductive needle-like particles in the surface layer after the polymerization reaction of tetraethoxysilane was 5% by mass to prepare a coating solution used in this example.
しかる後、得られた塗工液を用いたこと以外は、実施例1と同様の操作を繰り返して、本例の帯電防止構造体を得た。 Thereafter, the same operation as in Example 1 was repeated except that the obtained coating solution was used to obtain an antistatic structure of this example.
(実施例6)
実施例5で得られた溶液C5に導電性針状粒子(組成:アンチモンドープ酸化スズ、長径B/短径A:200nm/10nm、屈折率n1:2.1、比重G1:6.6)をテトラエトキシシランが重合反応した後の表面層における導電性針状粒子の含有量が6質量%となるように添加して、本例で用いる塗工液を調製した。しかる後、得られた塗工液を用いたこと以外は、実施例1と同様の操作を繰り返して、本例の帯電防止構造体を得た。
(Example 6)
Example 5 In the resulting solution C 5 to conductive acicular particles (composition: antimony-doped tin oxide, major axis B / minor A: 200 nm / 10 nm, the refractive index n 1: 2.1, a specific gravity G 1: 6. 6) was added so that the content of conductive needle-like particles in the surface layer after the polymerization reaction of tetraethoxysilane was 6% by mass to prepare a coating solution used in this example. Thereafter, the same operation as in Example 1 was repeated except that the obtained coating solution was used to obtain an antistatic structure of this example.
(実施例7)
まず、水0.4gと、トリエチレングリコール1.5gと、イソプロパノール0.78gとを均一に混合し、32N硫酸0.3gを添加して、溶液A7を調製した。また、テトラエトキシシラン8.0gと、イソプロパノール0.78gとを均一に混合して、溶液B7を調製した。
(Example 7)
First, water 0.4 g, and triethylene glycol 1.5g, and evenly mixing the isopropanol 0.78 g, was added 32N sulfuric acid 0.3 g, the solution A 7 was prepared. Further, tetraethoxysilane 8.0 g, and isopropanol 0.78g were uniformly mixed, the solution B 7 was prepared.
次いで、得られた溶液A7及び溶液B7を混合し、スターラーで15分間撹拌し、ゾル液を調製した。 Next, the obtained solution A 7 and solution B 7 were mixed and stirred with a stirrer for 15 minutes to prepare a sol solution.
さらに、得られたゾル液をイソプロパノールで5倍希釈して、溶液C7(比重G2:0.81)を調製した。 Further, the obtained sol solution was diluted 5-fold with isopropanol to prepare a solution C 7 (specific gravity G 2 : 0.81).
さらに、得られた溶液C7に導電性針状粒子(組成:アンチモンドープ酸化スズ、長径B/短径A:2000nm/20nm、屈折率n1:2.1、比重G1:6.6)をテトラエトキシシランが重合反応した後の表面層における導電性針状粒子の含有量が2質量%となるように添加して、本例で用いる塗工液を調製した。 Further, conductive needle-like particles (composition: antimony-doped tin oxide, major axis B / minor axis A: 2000 nm / 20 nm, refractive index n 1 : 2.1, specific gravity G 1 : 6.6) were added to the obtained solution C 7. Was added so that the content of the conductive needle-like particles in the surface layer after the polymerization reaction of tetraethoxysilane was 2% by mass to prepare a coating solution used in this example.
しかる後、得られた塗工液を用いたこと以外は、実施例1と同様の操作を繰り返して、本例の帯電防止構造体を得た。 Thereafter, the same operation as in Example 1 was repeated except that the obtained coating solution was used to obtain an antistatic structure of this example.
(実施例8)
実施例7で得られた溶液C7に導電性針状粒子(組成:アンチモンドープ酸化スズ、長径B/短径A:2000nm/20nm、屈折率n1:2.1、比重G1:6.6)をテトラエトキシシランが重合反応した後の表面層における導電性針状粒子の含有量が3質量%となるように添加して、本例で用いる塗工液を調製した。しかる後、得られた塗工液を用いたこと以外は、実施例1と同様の操作を繰り返して、本例の帯電防止構造体を得た。
(Example 8)
In the solution C 7 obtained in Example 7, conductive acicular particles (composition: antimony-doped tin oxide, major axis B / minor axis A: 2000 nm / 20 nm, refractive index n 1 : 2.1, specific gravity G 1 : 6. 6) was added so that the content of the conductive needle-like particles in the surface layer after the polymerization reaction of tetraethoxysilane was 3% by mass to prepare a coating solution used in this example. Thereafter, the same operation as in Example 1 was repeated except that the obtained coating solution was used to obtain an antistatic structure of this example.
(実施例9)
実施例7で得られた溶液C7に導電性針状粒子(組成:アンチモンドープ酸化スズ、長径B/短径A:200nm/20nm、屈折率n1:2.1、比重G1:6.6)をテトラエトキシシランが重合反応した後の表面層における導電性針状粒子の含有量が3質量%となるように添加して、本例で用いる塗工液を調製した。しかる後、得られた塗工液を用いたこと以外は、実施例1と同様の操作を繰り返して、本例の帯電防止構造体を得た。
Example 9
In the solution C 7 obtained in Example 7, conductive needle-like particles (composition: antimony-doped tin oxide, major axis B / minor axis A: 200 nm / 20 nm, refractive index n 1 : 2.1, specific gravity G 1 : 6. 6) was added so that the content of the conductive needle-like particles in the surface layer after the polymerization reaction of tetraethoxysilane was 3% by mass to prepare a coating solution used in this example. Thereafter, the same operation as in Example 1 was repeated except that the obtained coating solution was used to obtain an antistatic structure of this example.
(実施例10)
まず、テトラエトキシシラン3.75gと、塩酸(pH2)1.15gとを混合して、溶液A10を調製した。また、メチルトリエトキシシラン9.62gと、塩酸(pH2)2.06gとを混合して、溶液B10を調製した。
(Example 10)
First, tetraethoxysilane 3.75 g, was mixed with hydrochloric acid (pH 2) 1.15 g, a solution A 10 was prepared. Further, a methyltriethoxysilane 9.62 g, was mixed with hydrochloric acid (pH 2) 2.06 g, a solution B 10 was prepared.
次いで、得られた溶液A10及び溶液B10をそれぞれ1時間撹拌した後、混合し、スラーラーで15分間撹拌して、ゾル液を調製した。 Next, the obtained solution A 10 and solution B 10 were each stirred for 1 hour, mixed, and stirred for 15 minutes with a slurler to prepare a sol solution.
さらに、得られたゾル液をイソプロパノールで10倍希釈して、溶液C10(比重G2:0.80)を調製した。 Furthermore, the obtained sol solution was diluted 10-fold with isopropanol to prepare a solution C 10 (specific gravity G 2 : 0.80).
さらに、得られた溶液C10に導電性針状粒子(組成:アンチモンドープ酸化スズ、長径B/短径A:200nm/20nm、屈折率n1:2.1、比重G1:6.6)を各シランが重合反応した後の表面層における導電性針状粒子の含有量が5質量%となるように添加して、本例で用いる塗工液を調製した。 Furthermore, conductive needle-like particles (composition: antimony-doped tin oxide, major axis B / minor axis A: 200 nm / 20 nm, refractive index n 1 : 2.1, specific gravity G 1 : 6.6) were added to the obtained solution C 10. Was added so that the content of conductive needle-like particles in the surface layer after the polymerization reaction of each silane was 5% by mass to prepare a coating solution used in this example.
しかる後、得られた塗工液を用いたこと以外は、実施例1と同様の操作を繰り返して、本例の帯電防止構造体を得た。 Thereafter, the same operation as in Example 1 was repeated except that the obtained coating solution was used to obtain an antistatic structure of this example.
(実施例11)
実施例7で得られた溶液C7に導電性針状粒子(組成:導電性樹脂ファイバー(東レ株式会社製SCIMAを粉砕し、長径B/短径A:200000nm/5000nmとなるように調整したものである。)、屈折率n1:1.6、比重G1:1.1)をテトラエトキシシランが重合反応した後の表面層における導電性針状粒子の含有量が90質量%となるように添加して、本例で用いる塗工液を調製した。しかる後、得られた塗工液を用いたこと以外は、実施例1と同様の操作を繰り返して、本例の帯電防止構造体を得た。
(Example 11)
Conductive needle-like particles (composition: conductive resin fiber (to which SCIMA manufactured by Toray Industries, Inc. was pulverized and adjusted so as to have a major axis B / minor axis A: 200000 nm / 5000 nm) were added to the solution C 7 obtained in Example 7 And the content of the conductive needle-like particles in the surface layer after the polymerization reaction of tetraethoxysilane with a refractive index n 1 : 1.6 and specific gravity G 1 : 1.1) is 90% by mass. To prepare a coating solution used in this example. Thereafter, the same operation as in Example 1 was repeated except that the obtained coating solution was used to obtain an antistatic structure of this example.
(比較例1)
実施例1で得られた溶液C1を本例で用いる塗工液とした。得られた塗工液を用いたこと以外は、実施例1と同様の操作を繰り返して、本例の帯電防止構造体を得た。各例の仕様の一部を表1に示す。なお、表1中の「表面粗さ」は、原子間力顕微鏡により計測した。また、「蒸発減量」は、シャーレに広げて120℃で24時間加熱して計測し、算出した。
(Comparative Example 1)
The solution C 1 obtained in Example 1 to prepare a coating solution used in this example. An antistatic structure of this example was obtained by repeating the same operation as in Example 1 except that the obtained coating solution was used. A part of the specification of each example is shown in Table 1. The “surface roughness” in Table 1 was measured with an atomic force microscope. Further, the “evaporation loss” was calculated by measuring it by spreading it on a petri dish and heating it at 120 ° C. for 24 hours.
<表面処理>
また、各例の帯電防止構造体に対して、各表面層を表1に示す表面処理剤に24時間浸漬し、150℃で1時間乾燥した。さらにこの操作を3回繰り返して、各例の表面処理した帯電防止構造体を得た。
<Surface treatment>
Moreover, with respect to the antistatic structure of each example, each surface layer was immersed in the surface treating agent shown in Table 1 for 24 hours, and dried at 150 ° C. for 1 hour. Further, this operation was repeated three times to obtain surface-treated antistatic structures of each example.
<フッ素含有液体の含浸>
上記各例の表面処理した帯電防止構造体に対して、各表面層に表1に示すフッ素含有液体を塗布し、表面の余剰分のオイルを拭き取って、各例の帯電防止防汚構造体を得た。
<Impregnation with fluorine-containing liquid>
Applying the fluorine-containing liquid shown in Table 1 to each surface layer on the surface-treated antistatic structure of each example above, wiping off excess oil on the surface, and antistatic antifouling structure of each example Obtained.
[性能評価]
上記各例の帯電防止防汚構造体を用いて、以下の性能を評価した。
[Performance evaluation]
The following performance was evaluated using the antistatic antifouling structures of the above examples.
(帯電防止性)
上記各例の帯電防止防汚構造体について、抵抗率計(株式会社三菱化学アナリテック製、ハイレスターUX MCP−HT800)を用いて、表面抵抗率を計測して、帯電防止性を評価した。得られた結果を表2に示す。表2中、帯電防止性における「◎」は表面抵抗率が1010Ω/□以下であることを示し、「○」は表面抵抗率が1010Ωを超え1012Ω/□以下であることを示し、「×」は表面抵抗率が1012Ω/□を超えることを示す。
(Antistatic property)
About the antistatic antifouling | stain-proof structure of each said example, the surface resistivity was measured using the resistivity meter (the Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd. make, High Lester UX MCP-HT800), and antistatic property was evaluated. The obtained results are shown in Table 2. In Table 2, “◎” in antistatic property indicates that the surface resistivity is 10 10 Ω / □ or less, and “◯” indicates that the surface resistivity exceeds 10 10 Ω and is 10 12 Ω / □ or less. “×” indicates that the surface resistivity exceeds 10 12 Ω / □.
(透明性)
上記各例の帯電防止防汚構造体について、ヘイズメーター(株式会社村上色彩技術研究所製)を用いて、ヘイズを計測して、透明性を評価した。得られた結果を表2に示す。表2中、透明性における「◎」はヘイズHが0.5%以下であることを示し、「○」はヘイズHが0.5%より大きく1%以下であることを示し、「△」はヘイズHが1%より大きく30%以下であることを示し、「×」はヘイズHが30%より大きいことを示す。
(transparency)
About the antistatic antifouling | stain-proof structure of said each example, haze was measured using the haze meter (made by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.), and transparency was evaluated. The obtained results are shown in Table 2. In Table 2, “◎” in transparency indicates that haze H is 0.5% or less, “◯” indicates that haze H is greater than 0.5% and 1% or less, and “△”. Indicates that haze H is greater than 1% and 30% or less, and “x” indicates that haze H is greater than 30%.
(耐久性)
上記各例の帯電防止防汚構造体について、キャンバス布で1000往復摺動した後において、水滴滑落性の評価と同様の操作により転落角を計測して、耐久性を評価した。得られた結果を表2に示す。表2中、耐久性における「◎」は転落角が10°以下であることを示し、「○」は転落角が10°より大きく20°以下であることを示し、「△」は転落角が20°より大きく40°以下であることを示し、「×」は転落角が40°より大きいことを示す。
(durability)
The antistatic antifouling structures of the above examples were slid 1000 reciprocally with a canvas cloth, and the tumbling angle was measured by the same operation as the evaluation of water slidability to evaluate the durability. The obtained results are shown in Table 2. In Table 2, “◎” in durability indicates that the falling angle is 10 ° or less, “◯” indicates that the falling angle is greater than 10 ° and 20 ° or less, and “△” indicates that the falling angle is It indicates that the angle is greater than 20 ° and equal to or less than 40 °, and “X” indicates that the sliding angle is larger than 40 °.
(水滴滑落性)
上記各例の帯電防止防汚構造体について、水20μLを滴下し、転落角を計測して、水滴滑落性を評価した。得られた結果を表2に示す。表2中、水滴滑落性における「◎」は転落角が10°以下であることを示し、「○」は転落角が10°より大きく15°以下であることを示し、「△」は転落角が15°より大きく30°以下であることを示し、「×」は転落角が30°より大きいことを示す。
(Water drop slidability)
About the antistatic antifouling structure of each of the above examples, 20 μL of water was dropped, the falling angle was measured, and the water drop sliding property was evaluated. The obtained results are shown in Table 2. In Table 2, “◎” in water drop sliding property indicates that the falling angle is 10 ° or less, “◯” indicates that the falling angle is greater than 10 ° and 15 ° or less, and “△” indicates the falling angle. Is greater than 15 ° and 30 ° or less, and “x” indicates that the sliding angle is greater than 30 °.
表1及び表2より、本発明の範囲に属する実施例1〜11の帯電防止構造体を用いた帯電防止防汚構造体は、本発明外の比較例1の帯電防止構造体を用いた帯電防止防汚構造体と比較して、帯電防止性が優れていることが分かる。 From Table 1 and Table 2, the antistatic antifouling structure using the antistatic structures of Examples 1 to 11 belonging to the scope of the present invention is the charging using the antistatic structure of Comparative Example 1 outside the present invention. It can be seen that the antistatic property is superior to the antifouling structure.
また、表1及び表2より、本発明の範囲に属する実施例1〜11の帯電防止構造体を用いた帯電防止防汚構造体は、優れた水滴滑落性を有することが分かる。 Moreover, it can be seen from Tables 1 and 2 that the antistatic antifouling structures using the antistatic structures of Examples 1 to 11 belonging to the scope of the present invention have excellent water droplet sliding properties.
さらに、表1、表2、図1及び図3より、本発明の範囲に属する実施例1〜11の帯電防止構造体を用いた帯電防止防汚構造体は、導電層が表面層の最下層に配設されているため、優れた帯電防止性や水滴滑落性、透明性、耐久性を有するものとなっているとも考えられる。 Furthermore, from Table 1, Table 2, FIG. 1 and FIG. 3, the antistatic antifouling structure using the antistatic structures of Examples 1 to 11 belonging to the scope of the present invention is the lowest layer of the surface layer of the conductive layer. Therefore, it is considered that they have excellent antistatic properties, water drop sliding properties, transparency, and durability.
また、表1及び表2より、本発明の範囲に属する実施例1〜10の帯電防止構造体を用いた帯電防止防汚構造体は、導電性針状粒子が透明無機化合物からなるため、優れた帯電防止性や水滴滑落性、透明性、耐久性を有するものとなっているとも考えられる。 Further, from Tables 1 and 2, the antistatic antifouling structure using the antistatic structures of Examples 1 to 10 belonging to the scope of the present invention is excellent because the conductive acicular particles are made of a transparent inorganic compound. It is also considered that they have antistatic properties, water drop sliding properties, transparency, and durability.
さらに、表1及び表2より、本発明の範囲に属する実施例1〜11の帯電防止構造体を用いた帯電防止防汚構造体は、上述した式(1)の関係を満足するため、優れた帯電防止性や水滴滑落性、透明性、耐久性を有するものとなっているとも考えられる。 Furthermore, from Table 1 and Table 2, since the antistatic antifouling structure using the antistatic structures of Examples 1 to 11 belonging to the scope of the present invention satisfies the relationship of the above formula (1), it is excellent. It is also considered that they have antistatic properties, water drop sliding properties, transparency, and durability.
また、表1及び表2より、本発明の範囲に属する実施例1〜10の帯電防止構造体を用いた帯電防止防汚構造体は、上述した式(2)及び式(3)の関係を満足するため、優れた帯電防止性や水滴滑落性、透明性、耐久性を有するものとなっているとも考えられる。 Further, from Tables 1 and 2, the antistatic antifouling structure using the antistatic structures of Examples 1 to 10 belonging to the scope of the present invention has the relationship of the above-described formulas (2) and (3). In order to satisfy, it is thought that it has the outstanding antistatic property, water drop sliding property, transparency, and durability.
さらに、表1及び表2より、本発明の範囲に属する実施例1〜10の帯電防止構造体を用いた帯電防止防汚構造体は、表面層が導電性針状粒子を1〜10質量%含有するため、優れた帯電防止性や水滴滑落性、透明性、耐久性を有するものとなっているとも考えられる。 Furthermore, from Table 1 and Table 2, the antistatic antifouling structure using the antistatic structures of Examples 1 to 10 belonging to the scope of the present invention has a surface layer of 1 to 10% by mass of conductive acicular particles. Since it contains, it is thought that it has the outstanding antistatic property, water-drop sliding property, transparency, and durability.
また、表1及び表2より、本発明の範囲に属する実施例1〜10の帯電防止構造体を用いた帯電防止防汚構造体は、表面層が微細多孔質構造体から形成され、上述した式(4)の関係を満足するため、優れた帯電防止性や水滴滑落性、透明性、耐久性を有するものとなっているとも考えられる。 Further, from Table 1 and Table 2, the antistatic antifouling structure using the antistatic structures of Examples 1 to 10 belonging to the scope of the present invention has a surface layer formed from a fine porous structure, as described above. In order to satisfy the relationship of Formula (4), it is thought that it has the outstanding antistatic property, water drop sliding property, transparency, and durability.
また、表1及び表2より、本発明の範囲に属する実施例1〜6の帯電防止構造体を用いた帯電防止防汚構造体は、表面層が微細多孔質構造体から形成され、上述した式(4)及び式(5)の関係を満足するため、優れた帯電防止性や水滴滑落性、透明性、耐久性を有するものとなっているとも考えられる。 Further, from Tables 1 and 2, the antistatic antifouling structure using the antistatic structures of Examples 1 to 6 belonging to the scope of the present invention has a surface layer formed from a fine porous structure, as described above. In order to satisfy the relationship of Formula (4) and Formula (5), it is thought that it has the outstanding antistatic property, water drop sliding property, transparency, and durability.
さらに、表1及び表2より、本発明の範囲に属する実施例1〜6の帯電防止構造体を用いた帯電防止防汚構造体は、表面層が微細多孔質構造体から形成され、上述した式(4)及び式(5)の関係を満足し、表面層が導電性針状粒子を5〜10質量%含有するため、優れた帯電防止性や水滴滑落性、透明性、耐久性を有するものとなっているとも考えられる。 Furthermore, from Table 1 and Table 2, the antistatic antifouling structure using the antistatic structures of Examples 1 to 6 belonging to the scope of the present invention has a surface layer formed from a fine porous structure, and is described above. Satisfying the relationship of formula (4) and formula (5), and the surface layer contains 5 to 10% by mass of conductive needle-like particles, and therefore has excellent antistatic properties, water droplet sliding properties, transparency and durability. It is thought to be a thing.
また、表1及び表2より、本発明の範囲に属する実施例1〜6の帯電防止構造体を用いた帯電防止防汚構造体は、表面層が微細多孔質構造体から形成され、上述した式(4)〜式(6)の関係を満足し、表面層が導電性針状粒子を5〜10質量%含有するため、優れた帯電防止性や水滴滑落性、透明性、耐久性を有するものとなっているとも考えられる。 Further, from Tables 1 and 2, the antistatic antifouling structure using the antistatic structures of Examples 1 to 6 belonging to the scope of the present invention has a surface layer formed from a fine porous structure, as described above. Satisfying the relationship of the formulas (4) to (6), and the surface layer contains 5 to 10% by mass of conductive needle-like particles, and therefore has excellent antistatic properties, water droplet sliding properties, transparency and durability. It is thought to be a thing.
さらに、表1及び表2より、本発明の範囲に属する実施例1〜10の帯電防止構造体を用いた帯電防止防汚構造体は、本発明の範囲に属する帯電防止構造体の製造方法より、具体的には、比重差(G1−G2)を2以上とした塗工液を用いたゾルゲル法により、表面層を形成したため、優れた帯電防止性や水滴滑落性、透明性、耐久性を有する帯電防止防汚構造体を容易に作製することができる。 Further, from Tables 1 and 2, the antistatic antifouling structure using the antistatic structures of Examples 1 to 10 belonging to the scope of the present invention is obtained from the method for producing an antistatic structure belonging to the scope of the present invention. Specifically, since the surface layer was formed by a sol-gel method using a coating liquid having a specific gravity difference (G 1 -G 2 ) of 2 or more, excellent antistatic property, water droplet sliding property, transparency, durability It is possible to easily produce an antistatic antifouling structure having a property.
以上、本発明を若干の実施形態及び実施例によって説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内で種々の変形が可能である。 As mentioned above, although this invention was demonstrated with some embodiment and an Example, this invention is not limited to these, A various deformation | transformation is possible within the range of the summary of this invention.
例えば、上述の実施形態において、帯電防止構造体や帯電防止防汚構造体を適用するものとして、自動車部品を例示したが、これに限定されるものではなく、例えば、バイク部品、携帯電話や電子手帳などのモバイル機器、看板、時計などに適用することも可能である。 For example, in the above-described embodiment, an automobile part is illustrated as an application of an antistatic structure or an antistatic antifouling structure, but the invention is not limited to this. For example, a motorcycle part, a mobile phone, an electronic device, etc. It can also be applied to mobile devices such as notebooks, signboards, and watches.
1 帯電防止防汚構造体
10 帯電防止構造体
11 表面層
11A 構成材(導電性針状粒子を除く。)
12 導電層
12A 導電性針状粒子
13 基材
20 塗工液
21 コート層
21A 構成材の原料(表面処理剤及び導電性針状粒子を除く。)
30 フッ素含有液体
1
12
30 Fluorine-containing liquid
Claims (13)
上記表面層が、導電性針状粒子を含有する導電層を有する
ことを特徴とする帯電防止構造体。 Comprising a surface layer formed by at least one of a fine relief structure and a fine porous structure;
The antistatic structure, wherein the surface layer has a conductive layer containing conductive acicular particles.
d[nm]≦380[nm]/n1・・・(1)
(式(1)中、dは上記導電層の厚み、n1は上記導電性針状粒子の屈折率を示す。)に示す関係を満足することを特徴とする請求項1又は2に記載の帯電防止構造体。 The conductive layer has the following formula (1)
d [nm] ≦ 380 [nm] / n 1 (1)
3. The relationship according to claim 1, wherein d satisfies the relationship shown in formula (1): d is the thickness of the conductive layer, and n 1 is the refractive index of the conductive needle-like particles. Antistatic structure.
10≦B[nm]/A[nm]≦100・・・(2)
A[nm]<380[nm]/n1・・・(3)
(式(2)及び式(3)中、Aは上記導電性針状粒子の短径、Bは上記導電性針状粒子の長径、n1は上記導電性針状粒子の屈折率を示す。)に示す関係を満足することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つの項に記載の帯電防止構造体。 The conductive acicular particles are represented by the following formulas (2) and (3).
10 ≦ B [nm] / A [nm] ≦ 100 (2)
A [nm] <380 [nm] / n 1 (3)
(In Formula (2) and Formula (3), A represents the short diameter of the conductive needle-shaped particles, B represents the long diameter of the conductive needle-shaped particles, and n 1 represents the refractive index of the conductive needle-shaped particles. The antistatic structure according to any one of claims 1 to 4, wherein the relationship shown in (1) is satisfied.
上記微細多孔質構造体が、下記の式(4)
10[nm]≦D[nm]≦400[nm]/n2・・・(4)
(式(4)中、Dは上記微細多孔質構造体の表面開口部の平均直径、n2は上記表面層の構成材(但し、上記導電性針状粒子を除く。)の屈折率を示す。)に示す関係を満足することを特徴とする請求項5又は6に記載の帯電防止構造体。 The surface layer is formed of the fine porous structure;
The fine porous structure has the following formula (4):
10 [nm] ≦ D [nm] ≦ 400 [nm] / n 2 (4)
(In the formula (4), D is the refractive index of the average diameter of the surface openings of the fine porous structure, n 2 is constituting material of the surface layer (except the conductive acicular particles.) The antistatic structure according to claim 5 or 6, wherein the relationship shown in FIG.
40[nm]≦d[nm]≦380[nm]/n1・・・(5)
(式(5)中、dは上記導電層の厚み、n1は上記導電性針状粒子の屈折率を示す。)に示す関係を満足することを特徴とする請求項7に記載の帯電防止構造体。 The conductive layer has the following formula (5)
40 [nm] ≦ d [nm] ≦ 380 [nm] / n 1 (5)
The antistatic material according to claim 7, wherein the relationship shown in (5) is satisfied, wherein d represents the thickness of the conductive layer, and n 1 represents the refractive index of the conductive needle particles. Structure.
10[nm]≦D[nm]≦200[nm]・・・(6)
(式(6)中、Dは上記微細多孔質構造体の表面開口部の平均直径を示す。)に示す関係を満足することを特徴とする請求項7〜9のいずれか1つの項に記載の帯電防止構造体。 The fine porous structure has the following formula (6):
10 [nm] ≦ D [nm] ≦ 200 [nm] (6)
10. In Formula (6), D satisfies the relationship shown to the average diameter of the surface opening part of the said microporous structure. The term as described in any one of Claims 7-9 characterized by the above-mentioned. Antistatic structure.
上記表面層に含浸されたフッ素含有液体と、を具備した
ことを特徴とする帯電防止防汚構造体。 An antistatic structure according to any one of claims 1 to 10,
An antistatic antifouling structure comprising a fluorine-containing liquid impregnated in the surface layer.
(1):上記表面層の構成材の原料(但し、表面処理剤を除く。)と、該原料を分散させる分散液と、を含有し、上記導電性針状粒子の比重(G1)と、該原料のうち該導電性針状粒子以外のもの及び該分散液を含有する溶液の比重(G2)との比重差(G1−G2)を2以上とした塗工液により基材上にコート層を形成する工程、
(2):上記工程(1)より後に実施される、上記コート層を加熱して、該コート層中の上記分散媒を除去する工程、
(3):上記工程(2)より後に実施される、上記コート層を加熱し、該コート層中の上記原料を反応させて、上記表面層を形成する工程、を含む
ことを特徴とする帯電防止構造体の製造方法。 A method for producing an antistatic structure comprising a surface layer formed of at least one of a fine concavo-convex structure and a fine porous structure, the surface layer having a conductive layer containing conductive acicular particles. The following steps (1) to (3)
(1): containing the raw material of the constituent material of the surface layer (excluding the surface treating agent) and a dispersion for dispersing the raw material, and the specific gravity (G 1 ) of the conductive needle-like particles The base material is coated with a coating liquid in which the specific gravity difference (G 1 -G 2 ) of the raw material other than the conductive acicular particles and the specific gravity (G 2 ) of the solution containing the dispersion is 2 or more. Forming a coat layer on the surface;
(2): a step of heating the coat layer performed after the step (1) to remove the dispersion medium in the coat layer;
(3): charging comprising: heating the coating layer after the step (2) and reacting the raw materials in the coating layer to form the surface layer. Method for manufacturing prevention structure.
ことを特徴とする請求項12に記載の帯電防止構造体の製造方法。 (4): A step of allowing the coating needle layer to settle and allowing the conductive needle-like particles in the coating layer to settle after the step (1) and before the step (2). The manufacturing method of the antistatic structure of Claim 12 characterized by the above-mentioned.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015120326A JP6504523B2 (en) | 2015-06-15 | 2015-06-15 | Antistatic structure, method for producing the same, and antistatic antifouling structure |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015120326A JP6504523B2 (en) | 2015-06-15 | 2015-06-15 | Antistatic structure, method for producing the same, and antistatic antifouling structure |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017001348A true JP2017001348A (en) | 2017-01-05 |
| JP6504523B2 JP6504523B2 (en) | 2019-04-24 |
Family
ID=57753363
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015120326A Active JP6504523B2 (en) | 2015-06-15 | 2015-06-15 | Antistatic structure, method for producing the same, and antistatic antifouling structure |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6504523B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110281054A (en) * | 2019-07-15 | 2019-09-27 | 江苏赛博宇华科技有限公司 | A kind of mobile phone processing anti-static device and anti-static method |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003205564A (en) * | 2002-01-15 | 2003-07-22 | Dainippon Printing Co Ltd | Antistatic transfer foil with antireflection function |
| JP2003294904A (en) * | 2002-03-29 | 2003-10-15 | Dainippon Printing Co Ltd | Anti-reflective layer and anti-reflective material |
| US20110039064A1 (en) * | 2007-02-08 | 2011-02-17 | Dow Global Technologies Inc. | Flexible conductive polymeric sheet |
| JP2014531989A (en) * | 2011-08-05 | 2014-12-04 | マサチューセッツ インスティテュート オブ テクノロジー | Liquid-impregnated surface, fabrication method, and device incorporating them |
| WO2015005030A1 (en) * | 2013-07-12 | 2015-01-15 | 日産自動車株式会社 | Antifouling film and automobile component using same |
| JP2015063061A (en) * | 2013-09-25 | 2015-04-09 | 日産自動車株式会社 | Antifouling body and method for producing the same |
| JP2015066849A (en) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | 日産自動車株式会社 | Antifouling body and method for producing the same |
-
2015
- 2015-06-15 JP JP2015120326A patent/JP6504523B2/en active Active
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003205564A (en) * | 2002-01-15 | 2003-07-22 | Dainippon Printing Co Ltd | Antistatic transfer foil with antireflection function |
| JP2003294904A (en) * | 2002-03-29 | 2003-10-15 | Dainippon Printing Co Ltd | Anti-reflective layer and anti-reflective material |
| US20110039064A1 (en) * | 2007-02-08 | 2011-02-17 | Dow Global Technologies Inc. | Flexible conductive polymeric sheet |
| JP2014531989A (en) * | 2011-08-05 | 2014-12-04 | マサチューセッツ インスティテュート オブ テクノロジー | Liquid-impregnated surface, fabrication method, and device incorporating them |
| WO2015005030A1 (en) * | 2013-07-12 | 2015-01-15 | 日産自動車株式会社 | Antifouling film and automobile component using same |
| JP2015063061A (en) * | 2013-09-25 | 2015-04-09 | 日産自動車株式会社 | Antifouling body and method for producing the same |
| JP2015066849A (en) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | 日産自動車株式会社 | Antifouling body and method for producing the same |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110281054A (en) * | 2019-07-15 | 2019-09-27 | 江苏赛博宇华科技有限公司 | A kind of mobile phone processing anti-static device and anti-static method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6504523B2 (en) | 2019-04-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6635115B2 (en) | Antifouling structure and method of manufacturing the same | |
| CN102317228B (en) | There is base material of automatically cleaning antireflection coatings and preparation method thereof | |
| JP4378972B2 (en) | Antireflection film, method of manufacturing antireflection film, antireflection member | |
| CN106526715B (en) | Optical component and method for manufacturing the same | |
| JP6515696B2 (en) | Method of manufacturing antifouling structure | |
| US20100165467A1 (en) | Anti-reflective coated glas plate | |
| Shahzadi et al. | Transparent, self-cleaning, scratch resistance and environment friendly coatings for glass substrate and their potential applications in outdoor and automobile industry | |
| JP6171788B2 (en) | Antifouling body and method for producing the same | |
| JP6706420B2 (en) | Laminated body and automobile part provided with the laminated body | |
| Guo et al. | Inorganic–organic silica/PDMS nanocomposite antiadhesive coating with ultrahigh hardness and thermal stability | |
| WO2015155830A1 (en) | High durability anti-fouling structure and car part using same | |
| CN111032337B (en) | Water-repellent member and method of manufacturing water-repellent member | |
| Eshaghi | Fabrication of transparent silica-silica nanotube/PFTS nano-composite thin films with superhydrophobic, oleophobic, self-cleaning and anti-icing properties | |
| JP4502112B2 (en) | Antifouling coating agent and coated article | |
| CN1235064C (en) | Optical element and its production method and method for producing film | |
| JP6504523B2 (en) | Antistatic structure, method for producing the same, and antistatic antifouling structure | |
| JPWO2016143297A1 (en) | Glass plate with coating film and method for producing the same | |
| Wang et al. | Nanoparticle diffusion and fixation for the preparation of durable transparent superhydrophobic coatings | |
| JP6206660B2 (en) | Transparent water repellent and method for producing | |
| JPH11172455A (en) | Substrate surface modification method | |
| CN110831757A (en) | Antifouling structure | |
| EP3459728A1 (en) | Soil-resistant structure and automobile component provided with said soil-resistant structure | |
| WO2013116134A1 (en) | Low reflectance finger print resistant film | |
| JPH11286784A (en) | Glass surface modification method | |
| CN106796307A (en) | The manufacture method of optics film composition, the base material with optical film, formed body and formed body |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180126 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180921 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181001 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181127 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190304 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6504523 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190317 |
