JP2017014302A - Insulating resin composition and article provided with the same - Google Patents

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Abstract

【課題】高い熱伝導性を有しつつも接着性に優れた絶縁樹脂組成物を提供する。【解決手段】本発明の絶縁樹脂組成物は、第1樹脂により形成される第1樹脂相と、第1樹脂相と相違し、第2樹脂により形成される第2樹脂相とを有する相分離構造体を備える。さらに絶縁樹脂組成物は、相分離構造体の内部に分散する無機フィラーを備える。そして相分離構造体は、第1樹脂又は第2樹脂を主成分とし、かつ、厚みが0.1〜5μmの接着層を表面に備える。【選択図】図1An insulating resin composition having high thermal conductivity and excellent adhesiveness is provided. An insulating resin composition according to the present invention includes a phase separation having a first resin phase formed of a first resin and a second resin phase different from the first resin phase and formed of a second resin. A structure is provided. The insulating resin composition further includes an inorganic filler that is dispersed inside the phase separation structure. And a phase-separation structure has a 1st resin or 2nd resin as a main component, and equips the surface with the contact bonding layer whose thickness is 0.1-5 micrometers. [Selection] Figure 1

Description

本発明は、絶縁樹脂組成物及びこれを備えた物品に関する。詳細には本発明は、電子部品等を冷却する熱伝導部品、例えば放熱体に使用される絶縁樹脂組成物及び当該絶縁樹脂組成物を備えた物品に関する。   The present invention relates to an insulating resin composition and an article provided with the same. Specifically, the present invention relates to a heat conductive component that cools an electronic component or the like, for example, an insulating resin composition used for a radiator and an article provided with the insulating resin composition.

コンピュータ(中央処理装置:CPU)、トランジスタ、発光ダイオード(LED)等の半導体は使用中に発熱し、その熱のために電子部品の性能が低下することがある。そのため、通常、発熱するような電子部品には放熱体が取り付けられる。   Semiconductors such as computers (central processing units: CPUs), transistors, and light emitting diodes (LEDs) generate heat during use, and the performance of electronic components may deteriorate due to the heat. Therefore, a heat radiator is usually attached to an electronic component that generates heat.

従来、そのような放熱体には、熱伝導率の高い金属が用いられてきた。ただ、近年、形状選択の自由度が高く、軽量化及び小型化の容易な絶縁樹脂組成物が用いられつつある(例えば、特許文献1参照)。絶縁樹脂組成物は、熱伝導率を向上させるために、バインダー樹脂に熱伝導性無機フィラーを大量に含有させなければならない。そのため、絶縁樹脂組成物を基材に接着する際、基材と接着する表面部分の樹脂成分が少なくなり、接着強度が低下してしまう。その結果、リフローやヒートサイクルなどの熱衝撃時に、絶縁樹脂組成物の剥離が生じるなどの問題が発生する。   Conventionally, metals having high thermal conductivity have been used for such heat radiators. However, in recent years, insulating resin compositions that have a high degree of freedom in shape selection and are easy to be reduced in weight and size are being used (for example, see Patent Document 1). In order to improve thermal conductivity, the insulating resin composition must contain a large amount of thermally conductive inorganic filler in the binder resin. Therefore, when the insulating resin composition is bonded to the base material, the resin component on the surface portion to be bonded to the base material is reduced, and the adhesive strength is reduced. As a result, problems such as peeling of the insulating resin composition occur during thermal shock such as reflow or heat cycle.

そこで、従来、高熱伝導性を有する樹脂シートの片面又は両面に、当該樹脂シートとは異なる樹脂からなる絶縁接着剤層を設けることで、基材に対する接着性を向上させることが提案されている(例えば、特許文献2参照)。   Therefore, conventionally, it has been proposed to improve the adhesion to the substrate by providing an insulating adhesive layer made of a resin different from the resin sheet on one or both sides of the resin sheet having high thermal conductivity ( For example, see Patent Document 2).

特開2008−13759号公報JP 2008-13759 A 特開2011−251491号公報JP 2011-251491 A

しかしながら、特許文献2のように樹脂シートに別途接着剤層を設ける場合、十分な接着性を確保するために接着剤層を分厚くする必要がある。この場合、接着剤層の熱伝導率が低下するため、樹脂シートの放熱性が不十分となる恐れがあった。   However, when a separate adhesive layer is provided on the resin sheet as in Patent Document 2, it is necessary to increase the thickness of the adhesive layer in order to ensure sufficient adhesion. In this case, since the thermal conductivity of the adhesive layer is lowered, there is a possibility that the heat dissipation of the resin sheet becomes insufficient.

本発明は、このような従来技術の有する課題に鑑みてなされたものである。そして、本発明の目的は、高い熱伝導性を有しつつも接着性に優れた絶縁樹脂組成物及び当該絶縁樹脂組成物を備えた物品を提供することにある。   The present invention has been made in view of such problems of the prior art. And the objective of this invention is providing the articles | goods provided with the insulating resin composition which was excellent in adhesiveness while having high heat conductivity, and the said insulating resin composition.

本発明の第1の態様に係る絶縁樹脂組成物は、第1樹脂により形成される第1樹脂相と、第1樹脂相と相違し、第2樹脂により形成される第2樹脂相とを有する相分離構造体を備える。さらに絶縁樹脂組成物は、相分離構造体の内部に分散する無機フィラーを備える。そして、相分離構造体は、第1樹脂又は第2樹脂を主成分とし、かつ、厚みが0.1〜5μmの接着層を表面に備える。   The insulating resin composition according to the first aspect of the present invention has a first resin phase formed by the first resin and a second resin phase that is different from the first resin phase and formed by the second resin. A phase separation structure is provided. The insulating resin composition further includes an inorganic filler that is dispersed inside the phase separation structure. And a phase-separation structure equips the surface with the adhesive layer which has 1st resin or 2nd resin as a main component, and thickness is 0.1-5 micrometers.

本発明の第2の態様に係る絶縁樹脂組成物は、第1の態様に係る絶縁樹脂組成物において、接着層は無機フィラーを含む。   The insulating resin composition according to the second aspect of the present invention is the insulating resin composition according to the first aspect, wherein the adhesive layer contains an inorganic filler.

本発明の第3の態様に係る絶縁樹脂組成物は、第1又は第2の態様に係る絶縁樹脂組成物において、無機フィラーは第1樹脂相に偏在し、接着層は第2樹脂を主成分とする。   The insulating resin composition according to the third aspect of the present invention is the insulating resin composition according to the first or second aspect, wherein the inorganic filler is unevenly distributed in the first resin phase, and the adhesive layer is mainly composed of the second resin. And

本発明の第4の態様に係る絶縁樹脂組成物は、第1乃至第3のいずれか一つの態様の絶縁樹脂組成物において、第1樹脂相は第1樹脂が三次元的に連続する相であり、無機フィラーは第1樹脂相に偏在する。   The insulating resin composition according to the fourth aspect of the present invention is the insulating resin composition according to any one of the first to third aspects, wherein the first resin phase is a phase in which the first resin is three-dimensionally continuous. Yes, the inorganic filler is unevenly distributed in the first resin phase.

本発明の第5の態様に係る物品は、第1乃至第4のいずれか一つの態様の絶縁樹脂組成物を備える。   An article according to a fifth aspect of the present invention includes the insulating resin composition according to any one of the first to fourth aspects.

本発明の絶縁樹脂組成物は、相分離構造体の表面に、第1樹脂又は第2樹脂を主成分とし、かつ、厚みが0.1〜5μmの接着層を備える。そのため、従来のように接着層を別途作製した後に貼り付ける必要がなく、高い接着力を確保しつつも製造工程の簡略化を図ることが可能となる。また、相分離構造体の内部に無機フィラーが分散しているため、高い熱伝導性を得ることができる。   The insulating resin composition of the present invention includes an adhesive layer having a first resin or a second resin as a main component and a thickness of 0.1 to 5 μm on the surface of the phase separation structure. For this reason, it is not necessary to attach an adhesive layer after separately preparing it as in the prior art, and the manufacturing process can be simplified while ensuring a high adhesive force. Moreover, since the inorganic filler is dispersed inside the phase separation structure, high thermal conductivity can be obtained.

本発明の実施形態に係る絶縁樹脂組成物を示す概略図である。It is the schematic which shows the insulating resin composition which concerns on embodiment of this invention. 相分離構造を説明するための概略図であり、(a)は海島構造を示し、(b)は連続球状構造を示し、(c)は複合分散構造を示し、(d)は共連続構造を示す。It is the schematic for demonstrating a phase-separation structure, (a) shows a sea island structure, (b) shows a continuous spherical structure, (c) shows a composite dispersion structure, (d) shows a co-continuous structure. Show. 実施例1の絶縁樹脂組成物の断面を示す走査型電子顕微鏡写真である。2 is a scanning electron micrograph showing a cross section of the insulating resin composition of Example 1. FIG.

以下、本発明の実施形態に係る絶縁樹脂組成物について詳細に説明する。なお、図面の寸法比率は説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。   Hereinafter, the insulating resin composition according to the embodiment of the present invention will be described in detail. In addition, the dimension ratio of drawing is exaggerated on account of description, and may differ from an actual ratio.

本発明の実施形態に係る絶縁樹脂組成物10は、図1に示すように、第1樹脂により形成される第1樹脂相2と、第1樹脂相2と相違し、第2樹脂により形成される第2樹脂相3とを有する相分離構造体1を備える。さらに絶縁樹脂組成物10は、相分離構造体1の内部に分散する無機フィラー4を備える。   As shown in FIG. 1, the insulating resin composition 10 according to the embodiment of the present invention is different from the first resin phase 2 formed by the first resin and the first resin phase 2, and is formed by the second resin. A phase separation structure 1 having a second resin phase 3. Furthermore, the insulating resin composition 10 includes an inorganic filler 4 dispersed inside the phase separation structure 1.

具体的には、本実施形態の絶縁樹脂組成物10は、第1樹脂相2と第2樹脂相3とを有し、さらにこれらの樹脂相が混合し、相分離した構造を有している。さらに、相分離構造体1の中に分散する無機フィラー4同士が連続的に接触している。このため、相分離構造体1の内部に、無機フィラー4同士が接触してなる熱伝導パスが形成されることから、絶縁樹脂組成物10の熱伝導性を向上させることができる。   Specifically, the insulating resin composition 10 of the present embodiment has a first resin phase 2 and a second resin phase 3, and further has a structure in which these resin phases are mixed and phase-separated. . Furthermore, the inorganic fillers 4 dispersed in the phase separation structure 1 are in continuous contact. For this reason, since the heat conduction path formed by contacting the inorganic fillers 4 is formed inside the phase separation structure 1, the heat conductivity of the insulating resin composition 10 can be improved.

絶縁樹脂組成物10において、相分離構造体1は、第1樹脂相2を形成する第1樹脂又は第2樹脂相3を形成する第2樹脂を主成分とする接着層5を表面に備えている。このように、相分離構造体1を構成する樹脂を含有する接着層5を備えているため、高い接着力を得ることが可能となる。つまり、接着層5は第1樹脂又は第2樹脂を主成分としており、無機フィラー4の含有量が相対的に少ない。そのため、絶縁樹脂組成物10とこれを接着する基材との界面における無機フィラー4が減少し、接着層5を構成する第1樹脂又は第2樹脂が増加するため、基材との接着力を向上させることが可能となる。   In the insulating resin composition 10, the phase separation structure 1 includes an adhesive layer 5 mainly composed of the first resin that forms the first resin phase 2 or the second resin that forms the second resin phase 3. Yes. Thus, since the adhesive layer 5 containing the resin constituting the phase separation structure 1 is provided, a high adhesive force can be obtained. That is, the adhesive layer 5 is mainly composed of the first resin or the second resin, and the content of the inorganic filler 4 is relatively small. Therefore, since the inorganic filler 4 at the interface between the insulating resin composition 10 and the base material to which the insulating resin composition 10 is bonded decreases and the first resin or the second resin constituting the adhesive layer 5 increases, the adhesive strength with the base material is increased. It becomes possible to improve.

ここで、接着層5は、特許文献2の絶縁接着剤層のように、別途作製した後に相分離構造体1に貼り付けるものではなく、第1樹脂相2と第2樹脂相3の相分離構造と共に相分離構造体1の表面に形成される層である。つまり接着層5は、相分離構造体1の表面に、第1樹脂相2及び第2樹脂相3と共に一体的に形成された層である。このように接着層5は、第1樹脂相2と第2樹脂相3の相分離構造と共に形成されることから、製造工程の簡略化を図ることが可能となる。   Here, unlike the insulating adhesive layer of Patent Document 2, the adhesive layer 5 is not separately attached to the phase-separated structure 1 after being separately manufactured, but the phase separation between the first resin phase 2 and the second resin phase 3 is performed. It is a layer formed on the surface of the phase separation structure 1 together with the structure. That is, the adhesive layer 5 is a layer formed integrally with the first resin phase 2 and the second resin phase 3 on the surface of the phase separation structure 1. Thus, since the adhesive layer 5 is formed together with the phase separation structure of the first resin phase 2 and the second resin phase 3, it is possible to simplify the manufacturing process.

相分離構造体1の表面に接着層5が形成されるメカニズムは、次のように考えられる。後述するように、本実施形態の絶縁樹脂組成物10は、まず、第1樹脂相2を構成する第1樹脂、第2樹脂相3を構成する第2樹脂、無機フィラー及び硬化剤を添加して混練し、未硬化状態の樹脂組成物を調製する。そして、未硬化状態の樹脂組成物を基材に接触させた後に硬化させることにより、絶縁樹脂組成物10を得ることができる。この際、相分離構造を形成する複数の樹脂のうち、接触する基材との親和性の高い樹脂が接着層を形成する。例えば、相分離樹脂としてエポキシ樹脂とポリエーテルスルホンとを用い、基材としてアルミニウムを用いた場合、エポキシ樹脂が接着層を形成する。つまり、アルミニウムの表面には水酸基がありエポキシ樹脂との親和性が高いため、相分離構造を形成する際にエポキシ樹脂は自己組織化して接着層を形成する。このように、樹脂と基材の親和性を考慮した上でこれらの材料を選択することにより、相分離構造体1の表面に所望の樹脂からなる接着層5を形成することが可能となる。しかし、本発明の接着層5が他のメカニズムにより形成されていたとしても、本発明の技術的範囲は何ら影響を受けることはない。   The mechanism by which the adhesive layer 5 is formed on the surface of the phase separation structure 1 is considered as follows. As will be described later, the insulating resin composition 10 of the present embodiment first adds the first resin constituting the first resin phase 2, the second resin constituting the second resin phase 3, an inorganic filler, and a curing agent. And kneading to prepare an uncured resin composition. And the insulating resin composition 10 can be obtained by making it harden | cure after making an uncured resin composition contact a base material. At this time, among the plurality of resins forming the phase separation structure, a resin having a high affinity with the contacting base material forms the adhesive layer. For example, when an epoxy resin and polyethersulfone are used as the phase separation resin and aluminum is used as the base material, the epoxy resin forms an adhesive layer. That is, since the surface of aluminum has a hydroxyl group and has high affinity with the epoxy resin, the epoxy resin self-assembles to form an adhesive layer when forming the phase separation structure. Thus, by selecting these materials in consideration of the affinity between the resin and the substrate, it is possible to form the adhesive layer 5 made of a desired resin on the surface of the phase separation structure 1. However, even if the adhesive layer 5 of the present invention is formed by another mechanism, the technical scope of the present invention is not affected at all.

図1に示すように、接着層5の厚みtは0.1μm〜5μmであることが好ましい。接着層5の厚みtが0.1μm以上であることにより、基材との接着力を高めることが可能となる。また、接着層5の厚みtが5μm以下であることにより、接着層5が介在することによる熱伝導性の低下を抑制することができる。なお、接着層5の厚みtは0.3μm〜4μmであることがより好ましい。この範囲内であることにより、高い接着力と熱伝導性とを両立することが可能となる。接着層5の厚みtは、絶縁樹脂組成物10の断面を走査型電子顕微鏡により観察することにより測定することができる。   As shown in FIG. 1, the thickness t of the adhesive layer 5 is preferably 0.1 μm to 5 μm. When the thickness t of the adhesive layer 5 is 0.1 μm or more, it is possible to increase the adhesive force with the base material. Moreover, when the thickness t of the adhesive layer 5 is 5 μm or less, a decrease in thermal conductivity due to the presence of the adhesive layer 5 can be suppressed. The thickness t of the adhesive layer 5 is more preferably 0.3 μm to 4 μm. By being in this range, it is possible to achieve both high adhesive strength and thermal conductivity. The thickness t of the adhesive layer 5 can be measured by observing the cross section of the insulating resin composition 10 with a scanning electron microscope.

上述のように、接着層5は第1樹脂又は第2樹脂を主成分としている。そのため、接着層5における第1樹脂又は第2樹脂の含有量は50mol%以上である必要があるが、80mol%以上が好ましく、95mol%以上がより好ましく、99mol%以上が特に好ましい。また、接着層5は樹脂成分だけでなく、無機フィラー4を含有してもよい。無機フィラー4を含有することにより接着層5の熱伝導性が向上するため、絶縁樹脂組成物10全体の熱伝導性をさらに向上させることが可能となる。ただ、無機フィラー4を含有した場合、接着層5の樹脂成分量が減少し、基材との接着力が低下するため、無機フィラー4の含有量は少ない方が好ましい。   As described above, the adhesive layer 5 is mainly composed of the first resin or the second resin. Therefore, the content of the first resin or the second resin in the adhesive layer 5 needs to be 50 mol% or more, preferably 80 mol% or more, more preferably 95 mol% or more, and particularly preferably 99 mol% or more. The adhesive layer 5 may contain not only the resin component but also the inorganic filler 4. Since the thermal conductivity of the adhesive layer 5 is improved by containing the inorganic filler 4, the thermal conductivity of the insulating resin composition 10 as a whole can be further improved. However, when the inorganic filler 4 is contained, the amount of the resin component of the adhesive layer 5 is decreased, and the adhesive strength with the base material is decreased. Therefore, it is preferable that the content of the inorganic filler 4 is small.

上述のように、絶縁樹脂組成物10は、第1樹脂相2と第2樹脂相3とを有し、さらにこれらの樹脂相が混合し相分離した構造を有している。そして、無機フィラー4は、相分離構造体1の内部に分散している。しかし、相分離構造体1の内部において、無機フィラー4は第1樹脂相2に偏在していることが好ましい。この場合、第1樹脂相2の内部で、無機フィラー4同士が接触してなる熱伝導パスが形成されやすくなることから、絶縁樹脂組成物10の熱伝導性をより向上させることが可能となる。なお、無機フィラー4が第1樹脂相2に偏在している場合でも、無機フィラー4は全てが第1樹脂相2の内部に配置されている必要はなく、一部が第2樹脂相3に存在していても構わない。   As described above, the insulating resin composition 10 has the first resin phase 2 and the second resin phase 3, and further has a structure in which these resin phases are mixed and phase separated. The inorganic filler 4 is dispersed inside the phase separation structure 1. However, the inorganic filler 4 is preferably unevenly distributed in the first resin phase 2 inside the phase separation structure 1. In this case, since it becomes easy to form a heat conduction path formed by the inorganic fillers 4 in contact with each other inside the first resin phase 2, the heat conductivity of the insulating resin composition 10 can be further improved. . Even when the inorganic filler 4 is unevenly distributed in the first resin phase 2, it is not necessary that all of the inorganic filler 4 is disposed inside the first resin phase 2, and a part thereof is in the second resin phase 3. It does not matter if it exists.

相分離構造体1の内部において、無機フィラー4が第1樹脂相2に偏在している場合、接着層5は第2樹脂相3を構成する第2樹脂を主成分とすることが好ましい。無機フィラー4が第1樹脂相2に偏在し、第2樹脂相3中の含有量が減少する場合、接着層5の内部における無機フィラー4の含有量も減少するため、接着層5の接着力を向上させることが可能となる。   When the inorganic filler 4 is unevenly distributed in the first resin phase 2 inside the phase separation structure 1, the adhesive layer 5 preferably contains the second resin constituting the second resin phase 3 as a main component. When the inorganic filler 4 is unevenly distributed in the first resin phase 2 and the content in the second resin phase 3 is decreased, the content of the inorganic filler 4 in the adhesive layer 5 is also decreased. Can be improved.

本実施形態では、相分離構造体1の内部において、第1樹脂相2が三次元的に連続することが好ましい。さらに、三次元的に連続した第1樹脂相2に無機フィラー4が偏在することが好ましい。これにより、相分離構造体1の内部に三次元の熱伝導パスを形成することができるため、無機フィラー4の含有量が少ない場合でも絶縁樹脂組成物全体の熱伝導性を向上させることが可能となる。   In the present embodiment, the first resin phase 2 is preferably three-dimensionally continuous inside the phase separation structure 1. Furthermore, it is preferable that the inorganic filler 4 is unevenly distributed in the first resin phase 2 that is three-dimensionally continuous. Thereby, since a three-dimensional heat conduction path can be formed inside the phase separation structure 1, it is possible to improve the heat conductivity of the entire insulating resin composition even when the content of the inorganic filler 4 is small. It becomes.

ここで、本実施形態における相分離構造とは、海島構造、連続球状構造、複合分散構造、共連続構造のいずれかをいう。海島構造は、図2(a)に示すように、体積の小さい分散相3Aが連続相2Aに分散された構造をいい、微粒子状や球状の分散相3Aが連続相2Aの中に散在する構造である。連続球状構造は、図2(b)に示すように、略球状の分散相3Aが連結し、連続相2A中に分散した構造である。複合分散構造は、図2(c)に示すように、分散相3Aが連続相2Aの中に散在し、さらに分散相3A中に連続相を構成する樹脂が散在している構造である。共連続構造は、図2(d)に示すように、連続相2Aと分散相3Aとが複雑な三次元の網目状を形成している構造である。   Here, the phase separation structure in the present embodiment refers to any of a sea-island structure, a continuous spherical structure, a composite dispersion structure, and a bicontinuous structure. As shown in FIG. 2 (a), the sea-island structure is a structure in which a small volume of dispersed phase 3A is dispersed in continuous phase 2A, and a structure in which fine particles or spherical dispersed phase 3A is scattered in continuous phase 2A. It is. As shown in FIG. 2B, the continuous spherical structure is a structure in which approximately spherical dispersed phases 3A are connected and dispersed in the continuous phase 2A. As shown in FIG. 2C, the composite dispersed structure is a structure in which the dispersed phase 3A is dispersed in the continuous phase 2A, and the resin constituting the continuous phase is further dispersed in the dispersed phase 3A. As shown in FIG. 2D, the co-continuous structure is a structure in which the continuous phase 2A and the dispersed phase 3A form a complicated three-dimensional network.

そして、相分離構造体1における相分離構造が上記海島構造、連続球状構造及び複合分散構造の場合には、連続相2Aが第1樹脂相2であることが好ましい。ただ、共連続構造の場合は、連続相2Aと分散相3Aの両方が三次元的に連続しているため、いずれか一方が第1樹脂相2を構成すればよい。なお、海島構造、連続球状構造、複合分散構造及び共連続構造のような相分離構造は、樹脂組成物の硬化速度や反応温度等の硬化条件、樹脂の相溶性、配合比を制御することにより得ることができる。   And when the phase-separation structure in the phase-separation structure 1 is the said sea-island structure, a continuous spherical structure, and a composite dispersion structure, it is preferable that the continuous phase 2A is the 1st resin phase 2. However, in the case of the co-continuous structure, since both the continuous phase 2A and the dispersed phase 3A are three-dimensionally continuous, one of them may constitute the first resin phase 2. In addition, the phase separation structure such as the sea-island structure, continuous spherical structure, composite dispersion structure, and co-continuous structure is achieved by controlling the curing conditions such as the curing speed and reaction temperature of the resin composition, the compatibility of the resin, and the blending ratio. Can be obtained.

本実施形態において、第1樹脂相2は熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂のいずれか一方により形成され、第2樹脂相3は熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂の他方により形成されることが好ましい。つまり、第1樹脂相2が熱硬化性樹脂からなる場合には、第2樹脂相3は熱可塑性樹脂からなることが好ましい。また、第1樹脂相2が熱可塑性樹脂からなる場合には、第2樹脂相3は熱硬化性樹脂からなることが好ましい。これにより、上記相分離構造を形成し易くなる。なお、この場合、接着層5は、当該熱硬化性樹脂又は熱可塑性樹脂が主成分となる。   In the present embodiment, the first resin phase 2 is preferably formed of one of a thermosetting resin and a thermoplastic resin, and the second resin phase 3 is preferably formed of the other of the thermosetting resin and the thermoplastic resin. . That is, when the first resin phase 2 is made of a thermosetting resin, the second resin phase 3 is preferably made of a thermoplastic resin. When the first resin phase 2 is made of a thermoplastic resin, the second resin phase 3 is preferably made of a thermosetting resin. Thereby, it becomes easy to form the phase separation structure. In this case, the adhesive layer 5 is mainly composed of the thermosetting resin or the thermoplastic resin.

熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエステル樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、マレイミド樹脂、シアン酸エステル樹脂、アルキド樹脂、付加硬化型ポリイミド樹脂などが挙げられる。熱硬化性樹脂は、これらのうちの一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。なかでも、エポキシ樹脂は、耐熱性、電気絶縁性及び機械特性に優れるため好ましい。   Examples of thermosetting resins include epoxy resins, unsaturated polyester resins, vinyl ester resins, phenol resins, urethane resins, urea resins, melamine resins, maleimide resins, cyanate ester resins, alkyd resins, and addition curable polyimide resins. It is done. One of these thermosetting resins may be used alone, or two or more may be used in combination. Among these, an epoxy resin is preferable because it is excellent in heat resistance, electrical insulation, and mechanical properties.

熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を用いる場合は、公知のものを用いることができる。例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレンジオール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂を用いることができる。また、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂(トリグリシジルイソシアヌレート、ジグリシジルヒダントイン等)を用いることもできる。さらに、これらのエポキシ樹脂を種々の材料で変性させた変性エポキシ樹脂等も使用することができる。また、これらのエポキシ樹脂の臭素化物、塩素化物等のハロゲン化物も用いることができる。エポキシ樹脂は、これらのうちの一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。   When using an epoxy resin as a thermosetting resin, a well-known thing can be used. For example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, naphthalenediol type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin can be used. Further, a cresol novolac type epoxy resin, a bisphenol A novolac type epoxy resin, a cyclic aliphatic epoxy resin, a heterocyclic epoxy resin (triglycidyl isocyanurate, diglycidyl hydantoin, etc.) can also be used. Furthermore, modified epoxy resins obtained by modifying these epoxy resins with various materials can also be used. Moreover, halides such as bromides and chlorides of these epoxy resins can also be used. One of these epoxy resins may be used alone, or two or more of them may be used in combination.

エポキシ樹脂を硬化させるための硬化剤としては、エポキシ基と反応し得る活性基を有する化合物であれば、如何なる化合物を用いることができる。公知のエポキシ硬化剤を適宜用いることができるが、特にアミノ基、酸無水物基、ヒドロキシフェニル基を有する化合物が適している。例えば、ジシアンジアミド及びその誘導体、有機酸ヒドラジット、アミンイミド、脂肪族アミン、芳香族アミン、3級アミン、ポリアミンの塩、マイクロカプセル型硬化剤、イミダゾール型硬化剤、酸無水物、フェノールノボラック等が挙げられる。硬化剤は、これらのうちの一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。   As a curing agent for curing the epoxy resin, any compound can be used as long as it has an active group capable of reacting with an epoxy group. Known epoxy curing agents can be used as appropriate, but compounds having an amino group, an acid anhydride group, or a hydroxyphenyl group are particularly suitable. For example, dicyandiamide and its derivatives, organic acid hydrazine, amine imide, aliphatic amine, aromatic amine, tertiary amine, polyamine salt, microcapsule type curing agent, imidazole type curing agent, acid anhydride, phenol novolac, etc. . A hardening | curing agent may be used individually by 1 type of these, and may be used in combination of 2 or more type.

また、上記の硬化剤と併用して各種の硬化促進剤を用いることができる。例えば熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を用いる場合、硬化促進剤としては、第3級アミン系硬化促進剤、尿素誘導体系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤、ジアザビシクロウンデセン(DBU)系硬化促進剤を挙げることができる。また、有機りん系硬化促進剤(例えば、ホスフィン系硬化促進剤等)、オニウム塩系硬化促進剤(例えば、ホスホニウム塩系硬化促進剤、スルホニウム塩系硬化促進剤、アンモニウム塩系硬化促進剤等)を挙げることができる。さらに金属キレート系硬化促進剤、酸及び金属塩系硬化促進剤等も挙げることができる。   Various curing accelerators can be used in combination with the above-described curing agent. For example, when an epoxy resin is used as the thermosetting resin, the tertiary accelerator is a tertiary amine curing accelerator, a urea derivative curing accelerator, an imidazole curing accelerator, or a diazabicycloundecene (DBU) curing. Accelerators can be mentioned. Also, organophosphorus curing accelerators (for example, phosphine curing accelerators), onium salt curing accelerators (for example, phosphonium salt curing accelerators, sulfonium salt curing accelerators, ammonium salt curing accelerators, etc.) Can be mentioned. Furthermore, a metal chelate type | system | group hardening accelerator, an acid, and a metal salt type hardening accelerator etc. can be mentioned.

熱可塑性樹脂は、一般に、炭素−炭素結合、アミド結合、イミド結合、エステル結合、エーテル結合からなる群より選ばれる少なくとも一つの結合を主鎖に有するものである。また、熱可塑性樹脂は、カーボネート結合、ウレタン結合、尿素結合、チオエーテル結合、スルホン結合、イミダゾール結合、カルボニル結合からなる群より選ばれる少なくとも一つの結合を主鎖に有していてもよい。   The thermoplastic resin generally has at least one bond selected from the group consisting of a carbon-carbon bond, an amide bond, an imide bond, an ester bond, and an ether bond in the main chain. Further, the thermoplastic resin may have at least one bond selected from the group consisting of a carbonate bond, a urethane bond, a urea bond, a thioether bond, a sulfone bond, an imidazole bond, and a carbonyl bond in the main chain.

熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、エラストマー系(スチレン系、オレフィン系、ポリ塩化ビニル(PVC)系、ウレタン系、エステル系、アミド系)樹脂、ポリエステル系樹脂等が挙げられる。また、エンジニアリングプラスチック、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン(ABS)樹脂、アクリル樹脂、エチレンアクリレート樹脂、エチレン酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂が挙げられる。さらに、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステルエラストマー樹脂、ポリアミドエラストマー樹脂、液晶ポリマー、ポリブチレンテレフタレート樹脂等も挙げられる。熱可塑性樹脂は、これらのうちの一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。   Examples of the thermoplastic resin include polyolefin resins, polyamide resins, elastomeric (styrene, olefin, polyvinyl chloride (PVC), urethane, ester, amide) resins, polyester resins, and the like. It is done. Further, engineering plastics, polyethylene, polypropylene, nylon resin, acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS) resin, acrylic resin, ethylene acrylate resin, ethylene vinyl acetate resin, and polystyrene resin can be used. Furthermore, polyphenylene sulfide resin, polycarbonate resin, polyester elastomer resin, polyamide elastomer resin, liquid crystal polymer, polybutylene terephthalate resin, and the like are also included. A thermoplastic resin may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

なかでも耐熱性の観点から、熱可塑性樹脂としては、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリイミド、ポリエーテルイミドなどのエンジニアリングプラスチックが好ましい。さらに、力学的特性、絶縁性、溶媒への溶解性など、種々の点で優れたポリエーテルスルホンより好ましい。   Among these, from the viewpoint of heat resistance, engineering plastics such as polyethersulfone, polysulfone, polyimide, and polyetherimide are preferable as the thermoplastic resin. Furthermore, it is preferable to polyethersulfone which is excellent in various points such as mechanical properties, insulating properties and solubility in a solvent.

さらに、これら熱可塑性樹脂は、エポキシ樹脂と反応し得る官能基を有していてもよい。このような官能基としては、例えば、アミノ基や水酸基、塩素原子、アルコキシ基などが挙げられる。   Furthermore, these thermoplastic resins may have a functional group capable of reacting with an epoxy resin. Examples of such functional groups include amino groups, hydroxyl groups, chlorine atoms, and alkoxy groups.

なお、絶縁樹脂組成物10において、相分離構造を形成する熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂の組み合わせとしては、次のようなものが挙げられる。例えば、熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を用いた場合、熱可塑性樹脂としてポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミドを用いることができる。また、熱硬化性樹脂として不飽和ポリエステル樹脂を用いた場合、熱可塑性樹脂としてポリスチレンを用いることができる。   In addition, in the insulating resin composition 10, the following are mentioned as a combination of the thermosetting resin and thermoplastic resin which form a phase-separation structure. For example, when an epoxy resin is used as the thermosetting resin, polyethersulfone or polyetherimide can be used as the thermoplastic resin. Further, when an unsaturated polyester resin is used as the thermosetting resin, polystyrene can be used as the thermoplastic resin.

絶縁樹脂組成物10において、無機フィラー4は平均粒子径が0.1μm〜15μmであることが好ましい。無機フィラー4の平均粒子径が0.1μm〜15μmであることにより、相分離構造体1の内部に分散させやすくなり、さらに作業性及び成形性が良好な絶縁樹脂組成物を得ることができる。つまり、平均粒子径が0.1μm以上であることにより、樹脂の粘度が過度に高くなることを抑制でき、樹脂の流動性が確保されるため、作業性及び成形性が良好となる。また、平均粒子径が15μm以下であることにより、無機フィラー4を相分離構造体1の内部に分散させやすくなるため、熱伝導パスが形成でき、高熱伝導化が可能となる。なお、より好ましくは、無機フィラー4の平均粒子径は3〜10μmである。   In the insulating resin composition 10, the inorganic filler 4 preferably has an average particle size of 0.1 μm to 15 μm. When the average particle diameter of the inorganic filler 4 is 0.1 μm to 15 μm, it is easy to disperse inside the phase-separated structure 1, and an insulating resin composition with good workability and moldability can be obtained. That is, when the average particle size is 0.1 μm or more, the viscosity of the resin can be prevented from becoming excessively high, and the fluidity of the resin is ensured, so that workability and moldability are improved. Moreover, since it becomes easy to disperse | distribute the inorganic filler 4 in the inside of the phase-separation structure 1 because an average particle diameter is 15 micrometers or less, a heat conduction path can be formed and high heat conduction is attained. In addition, More preferably, the average particle diameter of the inorganic filler 4 is 3-10 micrometers.

なお、本明細書において、「平均粒子径」はメジアン径を意味する。また、メジアン径は、積算(累積)重量百分率が50%となる粒子径(d50)を意味する。メジアン径は、例えば、レーザー回折式粒度分布測定装置「SALD2000」(株式会社島津製作所製)を用いて測定することができる。なお、絶縁樹脂組成物10の内部に含まれている無機フィラー4の平均粒子径は、絶縁樹脂組成物10を焼成して無機フィラー4を単離することにより、測定することができる。   In the present specification, “average particle diameter” means a median diameter. The median diameter means a particle diameter (d50) at which an integrated (cumulative) weight percentage is 50%. The median diameter can be measured using, for example, a laser diffraction particle size distribution measuring apparatus “SALD2000” (manufactured by Shimadzu Corporation). The average particle diameter of the inorganic filler 4 contained in the insulating resin composition 10 can be measured by baking the insulating resin composition 10 and isolating the inorganic filler 4.

また、絶縁樹脂組成物10における無機フィラー4の割合は、15〜70体積%であることがより好ましく、30〜60体積%であることが特に好ましい。このような範囲であることにより、高い熱伝導率と成形性を両立することが可能となる。   Moreover, as for the ratio of the inorganic filler 4 in the insulating resin composition 10, it is more preferable that it is 15-70 volume%, and it is especially preferable that it is 30-60 volume%. By being in such a range, it becomes possible to achieve both high thermal conductivity and moldability.

ここで、本実施形態の絶縁樹脂組成物10は、電気絶縁性を示す材料を用いることで、電気絶縁性を有する樹脂組成物を提供することができる。そして、絶縁樹脂組成物10において、無機フィラー4の構成材料は、熱伝導性と電気絶縁性を兼ね備える無機化合物を使用することが好ましい。   Here, the insulating resin composition 10 of this embodiment can provide the resin composition which has electrical insulation by using the material which shows electrical insulation. In the insulating resin composition 10, the constituent material of the inorganic filler 4 is preferably an inorganic compound that has both thermal conductivity and electrical insulation.

熱伝導性を備える無機化合物としては、例えば熱伝導率が1W/m・K以上の無機化合物を使用することができる。なお、熱伝導性を備える無機化合物の熱伝導率は、好ましくは10W/m・K以上であり、より好ましくは30W/m・K以上である。また、電気絶縁性を備える無機化合物としては、室温(25℃)での体積抵抗率が10Ω・cm以上の無機化合物を使用することができる。なお、電気絶縁性を備える無機化合物の体積抵抗率は、好ましくは10Ω・cm以上であり、より好ましくは10Ω・cm以上であり、特に好ましくは1013Ω・cm以上である。 As the inorganic compound having thermal conductivity, for example, an inorganic compound having a thermal conductivity of 1 W / m · K or more can be used. The thermal conductivity of an inorganic compound having thermal conductivity is preferably 10 W / m · K or more, more preferably 30 W / m · K or more. In addition, as the inorganic compound having electrical insulation, an inorganic compound having a volume resistivity of 10 Ω · cm or more at room temperature (25 ° C.) can be used. The volume resistivity of the inorganic compound having electrical insulation is preferably 10 5 Ω · cm or more, more preferably 10 8 Ω · cm or more, and particularly preferably 10 13 Ω · cm or more.

放熱性と電気絶縁性を兼ね備える無機化合物としては、例えば、ホウ化物、炭化物、窒化物、酸化物、ケイ化物、水酸化物、炭酸塩などを挙げることができる。具体的には、例えば、酸化マグネシウム(MgO)、酸化アルミニウム(Al)、窒化ホウ素(BN)、窒化アルミニウム(AlN)、水酸化アルミニウム(Al(OH))などが挙げられる。また、二酸化ケイ素(SiO)、炭酸マグネシウム(MgCO)、水酸化マグネシウム(Mg(OH))、炭酸カルシウム(CaCO)、クレー、タルク、マイカ、酸化チタン(TiO)、酸化亜鉛(ZnO)なども挙げられる。熱伝導性と充填のし易さ等の観点から、無機フィラー4は、MgO、Al、BN及びAlNからなる群より選ばれる少なくとも一種が含まれることが好ましい。 Examples of inorganic compounds having both heat dissipation and electrical insulation include borides, carbides, nitrides, oxides, silicides, hydroxides, carbonates, and the like. Specific examples include magnesium oxide (MgO), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), boron nitride (BN), aluminum nitride (AlN), and aluminum hydroxide (Al (OH) 3 ). Moreover, silicon dioxide (SiO 2 ), magnesium carbonate (MgCO 3 ), magnesium hydroxide (Mg (OH) 2 ), calcium carbonate (CaCO 3 ), clay, talc, mica, titanium oxide (TiO 2 ), zinc oxide ( ZnO). From the viewpoint of thermal conductivity and ease of filling, the inorganic filler 4 preferably contains at least one selected from the group consisting of MgO, Al 2 O 3 , BN, and AlN.

無機フィラー4は、樹脂との相溶性を向上させるために、カップリング処理などの表面処理を行ったり分散剤などを添加して、絶縁樹脂組成物10中への分散性を向上させてもよい。また、表面処理剤を適宜選択することにより、相分離構造において、効果的に無機フィラー4を偏在させることができる。   In order to improve the compatibility with the resin, the inorganic filler 4 may be improved in dispersibility in the insulating resin composition 10 by performing a surface treatment such as a coupling treatment or adding a dispersant. . Moreover, the inorganic filler 4 can be effectively unevenly distributed in the phase separation structure by appropriately selecting the surface treatment agent.

表面処理には、脂肪酸、脂肪酸エステル、高級アルコール、硬化油等の有機系表面処理剤を用いることができる。また、表面処理には、シリコーンオイル、シランカップリング剤、アルコキシシラン化合物、シリル化材等の無機系表面処理剤も用いることができる。これらの表面処理剤を用いることにより、耐水性が向上する場合があり、さらに樹脂中への分散性が向上する場合がある。処理方法としては特に限定されないが、(1)乾式法、(2)湿式法、(3)インテグラルブレンド法等がある。   For the surface treatment, organic surface treatment agents such as fatty acids, fatty acid esters, higher alcohols, and hardened oils can be used. In addition, an inorganic surface treatment agent such as a silicone oil, a silane coupling agent, an alkoxysilane compound, or a silylated material can also be used for the surface treatment. By using these surface treatment agents, water resistance may be improved, and dispersibility in the resin may be further improved. Although it does not specifically limit as a processing method, There exist (1) dry method, (2) wet method, (3) integral blend method etc.

(1)乾式法
乾式法とは、ヘンシェルミキサー、ナウターミキサー、振動ミルのような機械的な攪拌により無機フィラーを攪拌しながら、これに表面処理剤を滴下して表面処理を行う方法である。表面処理剤としてシランを用いる場合には、シランをアルコール溶剤で希釈した溶液や、シランをアルコール溶剤で希釈し、さらに水を添加した溶液、シランをアルコール溶剤で希釈し、さらに水及び酸を添加した溶液等が使用できる。表面処理剤の調製方法はシランカップリング剤の製造会社のカタログ等に記載されているが、シランの加水分解速度や無機フィラーの種類によって調製方法を適宜決定する。
(1) Dry method The dry method is a method in which a surface treatment agent is dropped onto a surface treatment agent while stirring the inorganic filler by mechanical stirring such as a Henschel mixer, a Nauter mixer, or a vibration mill. . When silane is used as the surface treatment agent, a solution obtained by diluting silane with an alcohol solvent, a solution obtained by diluting silane with an alcohol solvent, further adding water, diluting silane with an alcohol solvent, and further adding water and an acid. Can be used. Although the preparation method of a surface treating agent is described in the catalog of the manufacturer of a silane coupling agent, etc., a preparation method is suitably determined according to the hydrolysis rate of silane and the kind of inorganic filler.

(2)湿式法
湿式法とは、無機フィラーを表面処理剤に直接浸漬して行う方法である。使用できる表面処理剤は、上記乾式法と同様である。また、表面処理剤の調製方法も乾式法と同様である。
(2) Wet method The wet method is a method in which an inorganic filler is directly immersed in a surface treatment agent. The surface treatment agent that can be used is the same as in the dry method. The method for preparing the surface treatment agent is the same as the dry method.

(3)インテグラルブレンド法
インテグラルブレンド法は、樹脂とフィラーとを混合するときに、表面処理剤を原液又はアルコール等で希釈して混合機の中に直接添加し、攪拌する方法である。表面処理剤の調製方法は乾式法及び湿式法と同様であるが、インテグラルブレンド法で行う場合の表面処理剤の量は、乾式法及び湿式法に比べて多くすることが一般的である。
(3) Integral blend method The integral blend method is a method of diluting a surface treatment agent with a stock solution or alcohol, etc., and directly adding it into a mixer when stirring the resin and filler. The preparation method of the surface treatment agent is the same as that of the dry method and wet method, but the amount of the surface treatment agent in the case of the integral blend method is generally larger than that of the dry method and wet method.

乾式法及び湿式法においては、表面処理剤の乾燥を必要に応じて行う。アルコール等を使用した表面処理剤を添加した場合は、アルコールを揮発させる必要がある。アルコールが最終的に配合物に残ると、アルコールがガスとして発生しポリマー分に悪影響を及ぼす。したがって、乾燥温度は、使用した溶剤の沸点以上にすることが好ましい。さらに、表面処理剤としてシランを用いた場合には、無機フィラーと反応しなかったシランを迅速に除去するために、装置を用いて、高い温度(例えば、100℃〜150℃)に加熱することが好ましい。ただ、シランの耐熱性も考慮し、シランの分解点未満の温度に保つことが好ましい。処理温度は約80〜150℃、処理時間は0.5〜4時間が好ましい。乾燥温度と時間は処理量により適宜選択することによって、溶剤や未反応シランも除去することが可能となる。   In the dry method and the wet method, the surface treatment agent is dried as necessary. When a surface treatment agent using alcohol or the like is added, it is necessary to volatilize the alcohol. If alcohol eventually remains in the formulation, the alcohol is generated as a gas that adversely affects the polymer content. Therefore, it is preferable that the drying temperature be equal to or higher than the boiling point of the solvent used. Furthermore, when silane is used as the surface treatment agent, heating is performed at a high temperature (for example, 100 ° C. to 150 ° C.) using an apparatus in order to quickly remove silane that has not reacted with the inorganic filler. Is preferred. However, considering the heat resistance of the silane, it is preferable to keep the temperature below the decomposition point of the silane. The treatment temperature is preferably about 80 to 150 ° C., and the treatment time is preferably 0.5 to 4 hours. By appropriately selecting the drying temperature and time depending on the amount of treatment, it is possible to remove the solvent and unreacted silane.

表面処理剤としてシランを用いる場合、無機フィラーの表面を処理するのに必要なシラン量は次式で計算することができる。
[シラン量(g)]=[無機フィラーの量(g)]×[無機フィラーの比表面積(m/g)]/[シランの最小被覆面積(m/g)]
When silane is used as the surface treatment agent, the amount of silane required to treat the surface of the inorganic filler can be calculated by the following equation.
[Silane amount (g)] = [Amount of inorganic filler (g)] × [Specific surface area of inorganic filler (m 2 / g)] / [Minimum coverage area of silane (m 2 / g)]

「シランの最小被覆面積」は次の計算式で求めることができる。
[シランの最小被覆面積(m/g)]=(6.02×1023)×(13×10−20(m))/[シランの分子量]
式中、「6.02×1023」はアボガドロ定数であり、「13×10−20」は1分子のシランが覆う面積(0.13nm)である。
The “minimum coverage area of silane” can be obtained by the following calculation formula.
[Minimum coverage area of silane (m 2 /g)]=(6.02×10 23 ) × (13 × 10 −20 (m 2 )) / [Molecular weight of silane]
In the formula, “6.02 × 10 23 ” is an Avogadro constant, and “13 × 10 −20 ” is an area (0.13 nm 2 ) covered by one molecule of silane.

必要なシラン量は、この計算式で計算されるシラン量の0.5倍以上1.0倍未満であることが好ましい。シラン量が1.0倍以上であっても本発明の効果を発揮することができる。しかし、シラン量が1.0倍以上の場合には未反応分が残り、機械物性の低下や耐水性の低下などの物性低下を引き起こす恐れがあるため、上限は1.0倍未満が好ましい。また、下限値を上記計算式で計算される量の0.5倍としたのは、この量であっても樹脂へのフィラー充填性の向上には十分効果があるためである。   The necessary silane amount is preferably 0.5 times or more and less than 1.0 times the silane amount calculated by this calculation formula. Even if the amount of silane is 1.0 times or more, the effect of the present invention can be exhibited. However, when the amount of silane is 1.0 times or more, an unreacted component remains, which may cause deterioration of physical properties such as deterioration of mechanical properties and water resistance. Therefore, the upper limit is preferably less than 1.0 times. Moreover, the reason why the lower limit value is set to 0.5 times the amount calculated by the above formula is that even this amount is sufficiently effective in improving the filler filling property into the resin.

絶縁樹脂組成物10には、本発明の効果を阻害しない程度であれば、着色剤、難燃剤、難燃助剤、繊維強化材、製造上の粘度調整のための減粘剤、トナー(着色剤)の分散性向上のための分散調整剤、離型剤等が含まれていてもよい。これらは公知のものを使用することができるが、例えば、以下のようなものを挙げることができる。   The insulating resin composition 10 may have a colorant, a flame retardant, a flame retardant aid, a fiber reinforcement, a viscosity reducing agent for viscosity adjustment in production, a toner (coloring) as long as the effect of the present invention is not impaired. Dispersion modifiers, mold release agents, and the like for improving the dispersibility of the agent) may be included. These may be known ones, and examples thereof include the following.

着色剤としては、例えば、酸化チタン等の無機系顔料、有機系顔料等、あるいはそれらを主成分とするトナーを用いることができる。これらは一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。   As the colorant, for example, an inorganic pigment such as titanium oxide, an organic pigment, or a toner containing them as a main component can be used. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more types.

難燃剤としては、有機系難燃剤、無機系難燃剤、反応系難燃剤などが挙げられる。これらは一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、絶縁樹脂組成物10に難燃剤を含有させる場合は難燃助剤を併用することが好ましい。この難燃助剤としては、三酸化二アンチモン、四酸化二アンチモン、五酸化二アンチモン、アンチモン酸ナトリウム、酒石酸アンチモン等のアンチモン化合物、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウムなどが挙げられる。また、水和アルミナ、酸化ジルコニウム、ポリリン酸アンモニウム、酸化スズ、酸化鉄なども挙げられる。これらは一種を単独で使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。   Examples of the flame retardant include organic flame retardants, inorganic flame retardants, and reactive flame retardants. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more types. In addition, when making the insulating resin composition 10 contain a flame retardant, it is preferable to use a flame retardant aid together. Examples of the flame retardant aid include antimony trioxide, antimony tetroxide, antimony pentoxide, sodium antimonate, antimony compounds such as antimony tartrate, zinc borate, and barium metaborate. Moreover, hydrated alumina, zirconium oxide, ammonium polyphosphate, tin oxide, iron oxide, and the like are also included. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more types.

本実施形態の絶縁樹脂組成物10の熱伝導率は、3W/m・K以上であることが好ましい。熱伝導率3W/m・K未満であっても本発明の効果を発揮することができる。ただ、このような熱伝導率であることにより、絶縁樹脂組成物10を電子部品の放熱体として使用した場合には、小型化しても電子部品を効率的に冷却することができる。   The thermal conductivity of the insulating resin composition 10 of the present embodiment is preferably 3 W / m · K or more. Even if the thermal conductivity is less than 3 W / m · K, the effect of the present invention can be exhibited. However, with such a thermal conductivity, when the insulating resin composition 10 is used as a heat radiator for an electronic component, the electronic component can be efficiently cooled even if the size is reduced.

次に、本実施形態の絶縁樹脂組成物の製造方法について説明する。まず、第1樹脂、第2樹脂、無機フィラー、硬化剤を添加して混練し、未硬化状態の樹脂組成物を製造する。各成分の混練は一段で行ってもよく、各成分を逐次添加しても多段的に行ってもよい。各成分を逐次添加する場合は、任意の順序で添加することができる。   Next, the manufacturing method of the insulating resin composition of this embodiment is demonstrated. First, a first resin, a second resin, an inorganic filler, and a curing agent are added and kneaded to produce an uncured resin composition. The kneading of each component may be performed in one step, or each component may be added sequentially or in multiple steps. When adding each component sequentially, it can add in arbitrary orders.

各成分の混練及び添加方法としては、例えば、まず第1樹脂に、第2樹脂の一部又は全量を混練し粘度を調整する。次に、逐次的に残りの第2樹脂、無機フィラー、及び硬化剤を添加しながら混練する。添加順序は特に限定されないが、樹脂組成物の保存安定性の観点から、硬化剤は最後に添加することが好ましい。   As a method of kneading and adding each component, for example, first, a part or all of the second resin is kneaded with the first resin to adjust the viscosity. Next, it knead | mixes, adding the remaining 2nd resin, an inorganic filler, and a hardening | curing agent sequentially. The order of addition is not particularly limited, but the curing agent is preferably added last from the viewpoint of the storage stability of the resin composition.

なお、上述のように、樹脂組成物には、必要に応じて着色剤、難燃剤、難燃助剤、繊維強化材、減粘剤、分散調整剤、離型剤等の添加剤を添加してもよい。また、これらの添加剤の添加順序も特に制限されず、任意の段階で添加することができるが、上述のように硬化剤は最後に添加することが好ましい。   As described above, additives such as a colorant, a flame retardant, a flame retardant aid, a fiber reinforcement, a viscosity reducer, a dispersion regulator, and a release agent are added to the resin composition as necessary. May be. Also, the order of addition of these additives is not particularly limited and can be added at an arbitrary stage. However, as described above, the curing agent is preferably added last.

樹脂組成物の製造に用いる混練機械装置としては、従来公知のものを用いることができる。具体的には、ロールミル、プラネタリーミキサー、ニーダー、エクストルーダー、バンバリーミキサー、攪拌翼を供えた混合容器、横型混合槽などを挙げることができる。   A conventionally well-known thing can be used as a kneading machine apparatus used for manufacture of a resin composition. Specific examples include a roll mill, a planetary mixer, a kneader, an extruder, a Banbury mixer, a mixing vessel provided with a stirring blade, and a horizontal mixing vessel.

樹脂組成物を製造する際の混練温度は、混練できれば特に限定されないが、例えば10〜150℃の範囲が好ましい。150℃を超えると部分的な硬化反応が開始し、得られる樹脂組成物の保存安定性が低下する場合がある。10℃より低いと樹脂組成物の粘度が高く、実質的に混練が困難となる場合がある。好ましくは20〜120℃であり、さらに好ましくは30〜100℃の範囲である。   The kneading temperature at the time of producing the resin composition is not particularly limited as long as it can be kneaded, but for example, a range of 10 to 150 ° C is preferable. When it exceeds 150 degreeC, a partial hardening reaction will start and the storage stability of the resin composition obtained may fall. If it is lower than 10 ° C., the viscosity of the resin composition is high, and it may be difficult to knead substantially. Preferably it is 20-120 degreeC, More preferably, it is the range of 30-100 degreeC.

次に、未硬化状態の樹脂組成物を基材に接触させた状態で、樹脂組成物を硬化させる。硬化方法は、硬化剤の種類に応じて、加熱、光照射又は電子線照射などの方法を用いることができる。そして、上述のように、相分離構造を形成する複数の樹脂のうち、基材との親和性の高い樹脂が接着層を構成すると考えられるため、未硬化の樹脂組成物を基材に接触させた状態で硬化処理を行うことにより、接着層を形成することができる。なお、この未硬化の樹脂組成物は、任意の形状に成形することが可能である。そして、成形方法は任意の方法が可能であり、例えば、圧縮成形(直圧成形)、トランスファー成形、射出成形、押し出し成形、スクリーン印刷等の各種手段を用いることができる。   Next, the resin composition is cured while the uncured resin composition is in contact with the substrate. As the curing method, a method such as heating, light irradiation, or electron beam irradiation can be used depending on the type of the curing agent. And as above-mentioned, since it is thought that resin with high affinity with a base material among several resin which forms a phase-separation structure comprises an adhesive layer, an uncured resin composition is made to contact a base material. The adhesive layer can be formed by performing the curing process in the state. The uncured resin composition can be formed into an arbitrary shape. The molding method can be any method, and for example, various means such as compression molding (direct pressure molding), transfer molding, injection molding, extrusion molding, and screen printing can be used.

なお、基材の材質は特に限定されないが、セラミック、金属、ガラス、プラスチック、化粧合板又はそれらの複合物等基本的に何でもよい。基材の形状も特に限定されず、例えば板状物や球状物、円柱状物、円筒状物、棒状物、角柱状物、中空の角柱状物などの単純形状のものでも複雑形状のものでもよい。   The material of the substrate is not particularly limited, but may be basically anything such as ceramic, metal, glass, plastic, decorative plywood or a composite thereof. The shape of the substrate is not particularly limited. For example, it may be a simple or complex shape such as a plate-like object, a spherical object, a columnar object, a cylindrical object, a rod-like object, a prismatic object, or a hollow prismatic object. Good.

本実施形態の絶縁樹脂組成物10は、第1樹脂により形成される第1樹脂相2と、第1樹脂相2と相違し、第2樹脂により形成される第2樹脂相3とを有する相分離構造体1を備える。さらに絶縁樹脂組成物10は、相分離構造体1の内部に分散する無機フィラー4を備える。そして相分離構造体1は、第1樹脂又は第2樹脂を主成分とし、かつ、厚みが0.1〜5μmの接着層5を表面に備える。そのため、従来のように接着層を別途形成した後に貼り付ける必要がなく、高い接着力を確保しつつも製造工程の簡略化を図ることが可能となる。また、絶縁樹脂組成物10は、相分離構造体1の内部に無機フィラー4が分散しているため、高い熱伝導性を確保することができる。さらに絶縁樹脂組成物10は、上述のように電気絶縁性を有する材料で構成されているため、樹脂組成物全体でも高い電気絶縁性を備えることができる。   The insulating resin composition 10 of the present embodiment is a phase having a first resin phase 2 formed of a first resin and a second resin phase 3 different from the first resin phase 2 and formed of a second resin. A separation structure 1 is provided. Furthermore, the insulating resin composition 10 includes an inorganic filler 4 dispersed inside the phase separation structure 1. And the phase-separation structure 1 equips the surface with the adhesive layer 5 which has 1st resin or 2nd resin as a main component, and thickness is 0.1-5 micrometers. Therefore, it is not necessary to attach the adhesive layer after forming it separately as in the prior art, and it is possible to simplify the manufacturing process while ensuring a high adhesive force. Moreover, since the inorganic filler 4 is disperse | distributing the inside of the phase-separation structure 1, the insulating resin composition 10 can ensure high thermal conductivity. Furthermore, since the insulating resin composition 10 is made of a material having electrical insulation as described above, even the entire resin composition can have high electrical insulation.

本実施形態の絶縁樹脂組成物10は、上述のように電気絶縁性を確保しつつも高い熱伝導性を有しているため、電子部品等を冷却する熱伝導部品として使用することができる。具体的には、半導体パッケージを構成する材料の一つである封止材のような物品に使用することができる。また、放熱性が必要とされる発光ダイオード照明(LED照明)、電子基板、ICチップ、モーター封止材、パワーデバイスなどの金属/樹脂ハイブリッド品のような物品にも使用することができる。   Since the insulating resin composition 10 of this embodiment has high thermal conductivity while ensuring electrical insulation as described above, it can be used as a thermal conductive component that cools electronic components and the like. Specifically, it can be used for an article such as a sealing material, which is one of materials constituting a semiconductor package. Moreover, it can also be used for articles such as metal / resin hybrid products such as light emitting diode lighting (LED lighting), electronic substrates, IC chips, motor sealing materials, and power devices that require heat dissipation.

以下、本発明を実施例及び比較例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.

[実施例1]
まず、ビスフェノールA型エポキシ樹脂100質量部に、平均粒子径が5μmになるように粉砕したポリエーテルスルホン(PES)を22.3質量部添加した。さらにこの混合物を120℃に温めたオイルバス中で攪拌することで、ポリエーテルスルホンをエポキシ樹脂に完全に溶解させ、エポキシ樹脂溶液を得た。
[Example 1]
First, 22.3 parts by mass of polyethersulfone (PES) pulverized so as to have an average particle diameter of 5 μm was added to 100 parts by mass of bisphenol A type epoxy resin. Furthermore, this mixture was stirred in an oil bath heated to 120 ° C. to completely dissolve the polyethersulfone in the epoxy resin, thereby obtaining an epoxy resin solution.

次に自転・公転ミキサーを用いて、80℃に加熱した上述のエポキシ樹脂溶液にアルミナフィラーを125質量部混練した。さらに、混練したエポキシ樹脂溶液に、4,4’−メチレンジアニリンを26質量部混練した。その後、得られた混練物を120℃に設定の真空乾燥機に入れ、5分間減圧脱泡を行うことにより、樹脂組成物を得た。   Next, 125 parts by mass of an alumina filler was kneaded with the above-described epoxy resin solution heated to 80 ° C. using a rotation / revolution mixer. Further, 26 parts by mass of 4,4'-methylenedianiline was kneaded into the kneaded epoxy resin solution. Then, the obtained kneaded material was put into a vacuum dryer set at 120 ° C., and degassed under reduced pressure for 5 minutes to obtain a resin composition.

そして、150℃に設定した金型に厚みが18μmの銅箔を入れ、さらに樹脂組成物を投入し、圧力3MPaの条件で120分加熱加圧成形を行った。これにより、厚みが1mmの本実施例の試験片を得た。なお、エポキシ樹脂は、三菱化学株式会社製「jER(登録商標)828」を使用した。ポリエーテルスルホンは、住友化学株式会社製「スミカエクセル(登録商標)5003P」を使用した。4,4’−メチレンジアニリンは、和光純薬工業株式会社製の試薬を使用した。アルミナフィラーは、平均粒子径が0.7μmの株式会社アドマテックス製「AO−502」を使用した。   Then, a copper foil having a thickness of 18 μm was put into a mold set at 150 ° C., a resin composition was further introduced, and heat pressing was performed for 120 minutes under the condition of a pressure of 3 MPa. Thereby, the test piece of the present Example whose thickness is 1 mm was obtained. In addition, Mitsubishi Chemical Corporation "jER (trademark) 828" was used for the epoxy resin. As the polyethersulfone, “Sumika Excel (registered trademark) 5003P” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. was used. For 4,4'-methylenedianiline, a reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. was used. As the alumina filler, “AO-502” manufactured by Admatechs Co., Ltd. having an average particle diameter of 0.7 μm was used.

[実施例2]
アルミナフィラーの配合量を表1のように変更したこと以外は実施例1と同様の方法で、本実施例の試験片を得た。
[Example 2]
A test piece of this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that the blending amount of the alumina filler was changed as shown in Table 1.

[比較例1]
まず、ビスフェノールA型エポキシ樹脂100質量部に、ジシアンジアミド5質量部とアルミナフィラー90質量部とを混練した。さらに溶剤としてメチルエチルケトンを12質量部加えて、プラネタリーミキサーで混練した。得られたスラリーを有機フィルムに塗布して120〜140℃で5〜10分加熱乾燥し、溶剤を除去すると共に樹脂成分を半硬化(Bステージ化)させ、Bステージ状の樹脂シートを作製した。
[Comparative Example 1]
First, 5 parts by mass of dicyandiamide and 90 parts by mass of alumina filler were kneaded with 100 parts by mass of bisphenol A type epoxy resin. Further, 12 parts by mass of methyl ethyl ketone was added as a solvent and kneaded with a planetary mixer. The obtained slurry was applied to an organic film, dried by heating at 120 to 140 ° C. for 5 to 10 minutes, the solvent was removed, and the resin component was semi-cured (B-stage) to prepare a B-stage resin sheet. .

そして、上記樹脂シートと厚みが18μmの銅箔とを重ね合わせ、温度170℃、圧力3MPaの条件で90分加熱加圧成形を行い、厚み1mmの本比較例の試験片を得た。なお、エポキシ樹脂は、DIC株式会社製「EPICLON(登録商標)840S」を使用した。アルミナフィラーは、平均粒子径が0.7μmの株式会社アドマテックス製「AO−502」を使用した。有機フィルムは、東レ株式会社製「ルミラー(登録商標)S10」を使用した。   And the said resin sheet and copper foil with a thickness of 18 micrometers were overlap | superposed, and it heat-press-molded for 90 minutes on the conditions of temperature 170 degreeC and pressure 3MPa, and obtained the test piece of this comparative example of thickness 1mm. The epoxy resin used was “EPICLON (registered trademark) 840S” manufactured by DIC Corporation. As the alumina filler, “AO-502” manufactured by Admatechs Co., Ltd. having an average particle diameter of 0.7 μm was used. As the organic film, “Lumirror (registered trademark) S10” manufactured by Toray Industries, Inc. was used.

[比較例2]
ビスフェノールA型エポキシ樹脂100質量部に、ジシアンジアミド5質量部と、平均粒子径が20μmの第一のアルミナフィラー1000質量部と、平均粒子径が5μmの第二のアルミナフィラー430質量部とを混練した。さらに溶剤としてメチルエチルケトンを230質量部加えて、プラネタリーミキサーで混練した。
[Comparative Example 2]
100 parts by mass of a bisphenol A type epoxy resin was kneaded with 5 parts by mass of dicyandiamide, 1000 parts by mass of a first alumina filler having an average particle diameter of 20 μm, and 430 parts by mass of a second alumina filler having an average particle diameter of 5 μm. . Further, 230 parts by mass of methyl ethyl ketone was added as a solvent and kneaded with a planetary mixer.

そして、得られたスラリーを用いて、比較例1と同様にBステージ状の樹脂シートを作製した。さらに比較例1と同様に、樹脂シートと銅箔とを加熱加圧成形することにより、本比較例の試験片を得た。なお、第一のアルミナフィラーは、昭和電工株式会社製「CB−A20S」を使用した。第二のアルミナフィラーは、昭和電工株式会社製「CB−A05S」を使用した。各例の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、硬化剤及び無機フィラーの配合量を表1に示す。   And the B-stage-shaped resin sheet was produced similarly to the comparative example 1 using the obtained slurry. Furthermore, the test piece of this comparative example was obtained by heat-press-molding a resin sheet and copper foil similarly to the comparative example 1. FIG. In addition, Showa Denko Co., Ltd. "CB-A20S" was used for the 1st alumina filler. As the second alumina filler, “CB-A05S” manufactured by Showa Denko KK was used. Table 1 shows the amounts of the thermosetting resin, thermoplastic resin, curing agent, and inorganic filler in each example.

[評価]
実施例及び比較例の各試験片における接着層の厚み、無機フィラーの体積比率、熱伝導率及び銅箔接着力を、次の方法で測定・評価した。測定・評価結果を表1に合わせて示す。さらに、実施例1の試験片の断面を次の方法で観察した。
[Evaluation]
The thickness of the adhesive layer, the volume ratio of the inorganic filler, the thermal conductivity, and the copper foil adhesive strength in each test piece of Examples and Comparative Examples were measured and evaluated by the following methods. The measurement / evaluation results are shown in Table 1. Furthermore, the cross section of the test piece of Example 1 was observed by the following method.

(接着層厚み)
各例の試験片の断面を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察し、フィラーが殆ど存在しない樹脂接着層の厚みを計測した。つまり、反射電子像においてフィラーは白色で観察されるため、樹脂接着層とフィラーが含有している層とを識別することが可能である。
(Adhesive layer thickness)
The cross section of the test piece of each example was observed with a scanning electron microscope (SEM), and the thickness of the resin adhesive layer in which almost no filler was present was measured. That is, since the filler is observed in white in the reflected electron image, the resin adhesive layer and the layer containing the filler can be distinguished.

(無機フィラーの体積比率)
まず、水中置換法により各例の試験片の体積を算出した。次に、マッフル炉を用いて各試験片を625℃で焼成し、灰分重量を測定した。そして、灰分が無機フィラーであるため、無機フィラーの密度、当該灰分重量及び試験片の体積から、試験片におけるフィラーの体積比率を計測した。なお、無機フィラーであるアルミナの密度は3.9g/cmとした。
(Volume ratio of inorganic filler)
First, the volume of the test piece of each example was calculated by an underwater substitution method. Next, each test piece was baked at 625 degreeC using the muffle furnace, and the ash weight was measured. And since ash was an inorganic filler, the volume ratio of the filler in a test piece was measured from the density of the inorganic filler, the said ash content weight, and the volume of the test piece. In addition, the density of the alumina which is an inorganic filler was 3.9 g / cm 3 .

(熱伝導率)
キセノンフラッシュ法(z軸方向)による熱拡散率測定を実施し、次式より熱伝導率を算出した。なお、比熱は構成される各物質の比熱を複合則から算出し、密度は水中置換法にて測定した。
熱伝導率(W/m・K)=熱拡散率(m/s)×比熱(J/kg・K)×密度(kg/m
(Thermal conductivity)
The thermal diffusivity was measured by the xenon flash method (z-axis direction), and the thermal conductivity was calculated from the following formula. In addition, specific heat calculated the specific heat of each substance comprised from the composite law, and the density was measured by the underwater substitution method.
Thermal conductivity (W / m · K) = thermal diffusivity (m 2 / s) × specific heat (J / kg · K) × density (kg / m 3 )

(銅箔接着力)
銅箔と樹脂組成物との間の接着力をJIS C6481(プリント配線板用銅張積層板試験方法)に従って評価した。ピール試験による銅箔接着力が1.5kN/m以上であるものを「〇」と評価し、1.5kN/m未満のものを「×」と評価した。
(Copper foil adhesion)
The adhesive force between the copper foil and the resin composition was evaluated according to JIS C6481 (Test method for copper-clad laminate for printed wiring board). Those having a copper foil adhesive strength of 1.5 kN / m or more by a peel test were evaluated as “◯”, and those less than 1.5 kN / m were evaluated as “x”.

(断面観察)
まず、実施例1の試験片を室温下、塩化メチレン95質量%及びメタノール5質量%の混合液に48時間浸漬し、ポリエーテルスルホンを溶解した。その後、試験片を洗浄して乾燥した後、断面を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察した。図3では、当該試験片の断面を観察した結果を示す。図3において、符号2Bはポリエーテルスルホンが存在していた樹脂相である。そして、符号2Bの相に含まれるものは、無機フィラー4と、ポリエーテルスルホン相に含有され、溶解しなかったエポキシ樹脂の球である。なお、上述のように、反射電子像において無機フィラー4は白色で観察されるため、無機フィラー4とエポキシ樹脂の球とは区別することが可能である。
(Cross section observation)
First, the test piece of Example 1 was immersed in a mixed solution of 95% by mass of methylene chloride and 5% by mass of methanol at room temperature for 48 hours to dissolve the polyethersulfone. Then, after wash | cleaning and drying the test piece, the cross section was observed with the scanning electron microscope (SEM). In FIG. 3, the result of having observed the cross section of the said test piece is shown. In FIG. 3, reference numeral 2B is a resin phase in which polyethersulfone was present. And what is contained in the phase of the code | symbol 2B is the ball | bowl of the epoxy resin which was contained in the inorganic filler 4 and the polyether sulfone phase, and did not melt | dissolve. As described above, since the inorganic filler 4 is observed in white in the reflected electron image, the inorganic filler 4 and the epoxy resin sphere can be distinguished.

表1に示すように、実施例1及び2は、それぞれ比較例1及び2と比べ高い熱伝導率と接着力を両立する結果となった。具体的には、実施例1と比較例1は同じ体積の無機フィラーを含んでおり、さらに樹脂量が多いため、接着力は共に良好であった。また、図3に示すように、実施例1の樹脂組成物は熱伝導パスが形成されているため、熱伝導率が良好となった。しかし、比較例1は熱可塑性樹脂を含有しておらず、熱伝導パスが十分に形成されていないため、実施例1に比べ熱伝導率が低下する結果となった。   As shown in Table 1, Examples 1 and 2 resulted in achieving both high thermal conductivity and adhesive strength as compared with Comparative Examples 1 and 2, respectively. Specifically, Example 1 and Comparative Example 1 contained the same volume of inorganic filler, and because the amount of resin was large, both had good adhesion. Moreover, as shown in FIG. 3, since the resin composition of Example 1 had a heat conduction path, the heat conductivity was good. However, since Comparative Example 1 did not contain a thermoplastic resin and the heat conduction path was not sufficiently formed, the thermal conductivity was lower than that of Example 1.

さらに、比較例2は、実施例2と同等の熱伝導率になるようにフィラー量を多くしたものである。しかし、比較例2はフィラーの含有量が多いため、樹脂の量が不足し、実施例2と比べ接着力が低下したものとなった。   Furthermore, the comparative example 2 increases the amount of fillers so that it may become the thermal conductivity equivalent to Example 2. FIG. However, since Comparative Example 2 had a large filler content, the amount of resin was insufficient, and the adhesive strength was lower than that of Example 2.

各例の試験片の断面を走査型電子顕微鏡で観察した結果、実施例1の試験片の表面ではフィラーが殆ど存在しない明確な接着層が観察された。また、実施例2の試験片でも、フィラーが殆ど存在しない明確な接着層が観察された。これに対し、比較例1及び2の試験片では、明確な接着層が観察されなかった。なお、図3に示すように、実施例1の試験片は、共連続の相分離構造を有し、樹脂層の一方に無機フィラーが偏在していることが確認できる。   As a result of observing the cross section of the test piece of each example with a scanning electron microscope, a clear adhesive layer having almost no filler was observed on the surface of the test piece of Example 1. Further, even in the test piece of Example 2, a clear adhesive layer with almost no filler was observed. On the other hand, in the test pieces of Comparative Examples 1 and 2, a clear adhesive layer was not observed. As shown in FIG. 3, the test piece of Example 1 has a co-continuous phase separation structure, and it can be confirmed that the inorganic filler is unevenly distributed on one side of the resin layer.

以上、本発明を実施例及び比較例によって説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内で種々の変形が可能である。   Although the present invention has been described with reference to the examples and comparative examples, the present invention is not limited to these, and various modifications can be made within the scope of the gist of the present invention.

1 相分離構造体
2 第1樹脂相
3 第2樹脂相
4 無機フィラー
5 接着層
10 絶縁樹脂組成物
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Phase separation structure 2 1st resin phase 3 2nd resin phase 4 Inorganic filler 5 Adhesive layer 10 Insulating resin composition

Claims (5)

第1樹脂により形成される第1樹脂相と、前記第1樹脂相と相違し、第2樹脂により形成される第2樹脂相とを有する相分離構造体と、
前記相分離構造体の内部に分散する無機フィラーと、
を備え、
前記相分離構造体は、前記第1樹脂又は第2樹脂を主成分とし、かつ、厚みが0.1〜5μmの接着層を表面に備えることを特徴とする絶縁樹脂組成物。
A phase separation structure having a first resin phase formed of a first resin and a second resin phase different from the first resin phase and formed of a second resin;
An inorganic filler dispersed inside the phase separation structure;
With
The said phase-separation structure has the said 1st resin or 2nd resin as a main component, and equips the surface with the contact bonding layer whose thickness is 0.1-5 micrometers, The insulating resin composition characterized by the above-mentioned.
前記接着層は、前記無機フィラーを含むことを特徴とする請求項1に記載の絶縁樹脂組成物。   The insulating resin composition according to claim 1, wherein the adhesive layer includes the inorganic filler. 前記無機フィラーは前記第1樹脂相に偏在し、前記接着層は前記第2樹脂を主成分とすることを特徴とする請求項1又は2に記載の絶縁樹脂組成物。   The insulating resin composition according to claim 1 or 2, wherein the inorganic filler is unevenly distributed in the first resin phase, and the adhesive layer contains the second resin as a main component. 前記第1樹脂相は前記第1樹脂が三次元的に連続する相であり、前記無機フィラーは前記第1樹脂相に偏在することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の絶縁樹脂組成物。   The first resin phase is a phase in which the first resin is three-dimensionally continuous, and the inorganic filler is unevenly distributed in the first resin phase. Insulating resin composition. 請求項1乃至4のいずれか一項に記載の絶縁樹脂組成物を備える物品。   An article comprising the insulating resin composition according to any one of claims 1 to 4.
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