JP2017143060A - 直接検出センサを用いる電子エネルギー損失分光器 - Google Patents
直接検出センサを用いる電子エネルギー損失分光器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017143060A JP2017143060A JP2017006642A JP2017006642A JP2017143060A JP 2017143060 A JP2017143060 A JP 2017143060A JP 2017006642 A JP2017006642 A JP 2017006642A JP 2017006642 A JP2017006642 A JP 2017006642A JP 2017143060 A JP2017143060 A JP 2017143060A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- detection sensor
- direct detection
- images
- exposure time
- exposing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/05—Electron or ion-optical arrangements for separating electrons or ions according to their energy or mass
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/22—Optical, image processing or photographic arrangements associated with the tube
- H01J37/222—Image processing arrangements associated with the tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/252—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers
- H01J37/256—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers using scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/04—Means for controlling the discharge
- H01J2237/043—Beam blanking
- H01J2237/0432—High speed and short duration
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/05—Arrangements for energy or mass analysis
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/05—Arrangements for energy or mass analysis
- H01J2237/057—Energy or mass filtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/2446—Position sensitive detectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/24485—Energy spectrometers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/24495—Signal processing, e.g. mixing of two or more signals
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/245—Detection characterised by the variable being measured
- H01J2237/24571—Measurements of non-electric or non-magnetic variables
- H01J2237/24585—Other variables, e.g. energy, mass, velocity, time, temperature
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/28—Scanning microscopes
- H01J2237/2802—Transmission microscopes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
Description
(1秒当たりのスペクトルに関する合計フレームレートの制限)
(線量率の制限)
(線量効率)
(2重EELS)
(複合露光モード制御部)
Claims (17)
- 電子スペクトルへの直接露光、及び、前記電子スペクトルの2次元画像への変換のために設けられる直接検出センサと、
センサプロセッサとを備え、
前記センサプロセッサは、前記2次元画像を1次元スペクトルに変換し、
前記1次元スペクトルはホストコンピュータに出力される
電子エネルギー損失分光器。 - 高速シャッタと
カメラ制御部とを更に備え、
前記高速シャッタの動作は、前記直接検出センサの読み出しタイミングと統合される
請求項1記載の電子エネルギー損失分光器。 - 個々の画像に関して、前記高速シャッタにより制御される露光量で前記電子スペクトルに前記直接検出センサにさらすことにより複数の画像を得るために前記カメラ制御部が設けられ、前記複数の画像は、合成画像を形成するために結合される
請求項2記載の電子エネルギー損失分光器。 - 前記複数の画像が、第1露光時間で前記直接検出センサを露光することにより生成された少なくとも1枚の画像と、前記第1露光時間とは異なる第2露光時間で前記直接検出センサを露光することにより生成された少なくとも1枚の追加の画像とを備えるように、前記複数の画像を取得するために、前記前記カメラ制御部が設けられる
請求項3記載の電子エネルギー損失分光器。 - 前記複数の画像を結合して1次元スペクトルを形成するために設けられたカメラプロセッサを更に備える
請求項4記載の電子エネルギー損失分光器。 - ドリフト管電圧を有するドリフト管を更に備え、
前記ドリフト管電圧の制御を、前記直接検出センサの前記読み出しタイミングと統合するために、前記カメラ制御部が設けられる
請求項2記載の電子エネルギー損失分光器。 - 前記高速シャッタの制御を、前記ドリフト管電圧の制御と統合するために、前記カメラ制御部が設けられる
請求項6記載の電子エネルギー損失分光器。 - 第1露光時間で前記直接検出センサを露光することにより生成された少なくとも1枚の第1画像と、前記第1露光時間とは異なる第2露光時間で前記直接検出センサを露光することにより生成された少なくとも1枚の第2画像とを備える、複数の画像を第1ドリフト管電圧で取得し、
前記第1露光時間で前記直接検出センサを露光することにより生成された少なくとも1枚の第3画像と、前記第2露光時間で前記直接検出センサを露光することにより生成された少なくとも1枚の第4画像とを備える、複数の画像を第2ドリフト管電圧で取得するために、
前記カメラ制御部が設けられる
請求項7記載の電子エネルギー損失分光器。 - 画素予告信号により制御される走査制御電子装置を更に備え、
前記画素予告信号の制御を前記直接検出センサの前記読み出しタイミングと統合するために、前記カメラ制御部が設けられる
請求項6記載の電子エネルギー損失分光器。 - 直接検出センサを電子スペクトルにさらし、
前記電子スペクトルを2次元画像に変換し、
前記2次元画像を1次元スペクトルに変換し、
前記1次元スペクトルをホストコンピュータに伝達する
電子エネルギー損失スペクトルを取得する方法。 - 更に、直接検出センサの読み出しタイミングを高速シャッタによる前記さらすことの制御と統合する
請求項10記載の方法。 - 更に、前記高速シャッタにより各露光量が制御されるように、前記電子スペクトルに前記直接検出センサをさらすことにより複数の画像を取得し、
前記複数の画像を結合して合成画像を形成する
請求項11記載の方法。 - 前記複数の画像が、第1露光時間で前記直接検出センサを露光することにより生成された少なくとも1枚の画像と、前記第1露光時間とは異なる第2露光時間で前記直接検出センサを露光することにより生成された少なくとも1枚の追加の画像とを備えるように、前記複数の画像が取得される
請求項12記載の方法。 - 更に、ドリフト管電圧の制御と前記直接検出センサの前記読み出しタイミングとを統合する
請求項11記載の方法。 - 更に、前記高速シャッタの制御と前記ドリフト管電圧の制御とを統合する
請求項14記載の方法。 - 更に、第1露光時間で前記直接検出センサを露光することにより生成された少なくとも1枚の第1画像と、前記第1露光時間とは異なる第2露光時間で前記直接検出センサを露光することにより生成された少なくとも1枚の第2画像とを備える、複数の画像を第1ドリフト管電圧で取得し、
前記第1露光時間で前記直接検出センサを露光することにより生成された少なくとも1枚の第3画像と、前記第2露光時間で前記直接検出センサを露光することにより生成された少なくとも1枚の第4画像とを備える、複数の画像を第2ドリフト管電圧で取得する
請求項15記載の方法。 - 更に、画素予告信号の制御と、前記直接検出センサの前記読み出しタイミングとを統合する
請求項11記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019206863A JP6949924B2 (ja) | 2016-01-20 | 2019-11-15 | 直接検出センサを用いる電子エネルギー損失分光器 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201662281147P | 2016-01-20 | 2016-01-20 | |
| US62/281,147 | 2016-01-20 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019206863A Division JP6949924B2 (ja) | 2016-01-20 | 2019-11-15 | 直接検出センサを用いる電子エネルギー損失分光器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017143060A true JP2017143060A (ja) | 2017-08-17 |
Family
ID=57860714
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017006642A Pending JP2017143060A (ja) | 2016-01-20 | 2017-01-18 | 直接検出センサを用いる電子エネルギー損失分光器 |
| JP2019206863A Expired - Fee Related JP6949924B2 (ja) | 2016-01-20 | 2019-11-15 | 直接検出センサを用いる電子エネルギー損失分光器 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019206863A Expired - Fee Related JP6949924B2 (ja) | 2016-01-20 | 2019-11-15 | 直接検出センサを用いる電子エネルギー損失分光器 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US9966220B2 (ja) |
| EP (1) | EP3196920B1 (ja) |
| JP (2) | JP2017143060A (ja) |
| CN (1) | CN106847659B (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8874477B2 (en) | 2005-10-04 | 2014-10-28 | Steven Mark Hoffberg | Multifactorial optimization system and method |
| CN106847659B (zh) * | 2016-01-20 | 2019-10-11 | 加坦公司 | 使用直接检测传感器的电子能量损失光谱仪 |
| WO2019028129A1 (en) * | 2017-08-04 | 2019-02-07 | Gatan, Inc. | METHOD FOR ACQUIRING SPECTRUM HIGH-SPEED EELS |
| EP3518270A1 (en) | 2018-01-25 | 2019-07-31 | FEI Company | Innovative imaging technique in transmission charged particle microscopy |
| EP3751595A1 (en) * | 2019-06-14 | 2020-12-16 | FEI Company | A method of examining a sample using a charged particle microscope, wherein an electron energy-loss spectroscopy (eels) spectrum is acquired |
| WO2021007360A1 (en) | 2019-07-10 | 2021-01-14 | Integrated Dynamic Electron Solutions, Inc. | High framerate and high dynamic range electron microscopy |
| WO2021046118A1 (en) * | 2019-09-03 | 2021-03-11 | Drexel University | Direct detection electron energy loss spectroscopy system |
| EP4133516A1 (en) * | 2020-04-07 | 2023-02-15 | Gatan, Inc. | Apparatus for transmission electron microscopy cathodoluminescence |
| US11516413B2 (en) * | 2020-07-29 | 2022-11-29 | Fingerprint Cards Anacatum Ip Ab | Adaptive readout from an optical biometric sensor to a host device |
| US20230179885A1 (en) * | 2021-12-08 | 2023-06-08 | Fei Company | Methods and Systems for Processing of Microscopy Images |
| US12607577B2 (en) * | 2023-04-06 | 2026-04-21 | Fei Company | Augmentation of electron energy loss spectroscopy in charged particle microscopes |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01175156A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-11 | Tosoh Corp | 局所表面分析装置 |
| JPH04126345A (ja) * | 1990-09-18 | 1992-04-27 | Res Dev Corp Of Japan | 電子エネルギー損失スペクトル測定装置 |
| JPH10246709A (ja) * | 1997-03-03 | 1998-09-14 | Hitachi Ltd | 透過型電子顕微鏡及び元素分布観察方法 |
| US20050030373A1 (en) * | 2003-08-01 | 2005-02-10 | Chao Henry Shih-Ming | Multi-mode charged particle beam device |
| JP2006284482A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Jeol Ltd | エネルギー損失分光装置の分析方法及びエネルギー損失分光装置を備えた透過電子顕微鏡 |
| JP2008509510A (ja) * | 2004-08-04 | 2008-03-27 | サントル ナショナル ドゥ ラ ルシェルシュ スィヤンティフィック(セーエヌエルエス) | 画像および/または電子エネルギー損失スペクトルを得るためのデバイス |
| JP2011123999A (ja) * | 2009-12-08 | 2011-06-23 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子顕微鏡 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6184524B1 (en) | 1996-08-07 | 2001-02-06 | Gatan, Inc. | Automated set up of an energy filtering transmission electron microscope |
| WO2000041206A1 (fr) * | 1999-01-04 | 2000-07-13 | Hitachi, Ltd. | Dispositif de mappage d'elements, microscope electronique a transmission et a balayage, et procede associe |
| JP3979945B2 (ja) | 2003-01-23 | 2007-09-19 | 日本電子株式会社 | 電子分光系を有した電子線装置 |
| JP2004288519A (ja) | 2003-03-24 | 2004-10-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子顕微鏡 |
| JP4908934B2 (ja) * | 2006-06-08 | 2012-04-04 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 半導体ウェーハ検査装置および半導体ウェーハ検査方法 |
| CN1862761A (zh) | 2006-06-09 | 2006-11-15 | 清华大学 | 高稳定能量过滤电子显微像的接收方法及装置 |
| JP4997013B2 (ja) * | 2007-07-31 | 2012-08-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子分光器を備えた電子顕微鏡 |
| JP5086818B2 (ja) * | 2008-01-16 | 2012-11-28 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡装置 |
| JP4474473B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2010-06-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子分光器を備えた透過型電子顕微鏡 |
| US20100123077A1 (en) * | 2008-11-18 | 2010-05-20 | Gatan, Inc. | Passive pixel direct detection sensor |
| JP5315033B2 (ja) * | 2008-12-09 | 2013-10-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子分光器を備えた透過型電子顕微鏡 |
| EP2383769A1 (en) * | 2010-04-28 | 2011-11-02 | Fei Company | Method of using a direct electron detector for a TEM |
| JP2013101918A (ja) * | 2011-10-13 | 2013-05-23 | Canon Inc | 質量分析装置 |
| WO2014134400A1 (en) * | 2013-02-28 | 2014-09-04 | Direct Electron, Lp | Method of electron beam imaging of a specimen by combining images of an image sequence |
| CN106796861B (zh) * | 2014-04-17 | 2019-05-03 | 加坦公司 | 混合能量转换与处理检测器 |
| CN106847659B (zh) * | 2016-01-20 | 2019-10-11 | 加坦公司 | 使用直接检测传感器的电子能量损失光谱仪 |
-
2017
- 2017-01-18 CN CN201710037915.3A patent/CN106847659B/zh active Active
- 2017-01-18 JP JP2017006642A patent/JP2017143060A/ja active Pending
- 2017-01-19 EP EP17152124.8A patent/EP3196920B1/en active Active
- 2017-01-20 US US15/411,194 patent/US9966220B2/en active Active
-
2018
- 2018-04-24 US US15/960,924 patent/US10535492B2/en active Active
-
2019
- 2019-11-15 JP JP2019206863A patent/JP6949924B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01175156A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-11 | Tosoh Corp | 局所表面分析装置 |
| JPH04126345A (ja) * | 1990-09-18 | 1992-04-27 | Res Dev Corp Of Japan | 電子エネルギー損失スペクトル測定装置 |
| JPH10246709A (ja) * | 1997-03-03 | 1998-09-14 | Hitachi Ltd | 透過型電子顕微鏡及び元素分布観察方法 |
| US20050030373A1 (en) * | 2003-08-01 | 2005-02-10 | Chao Henry Shih-Ming | Multi-mode charged particle beam device |
| JP2008509510A (ja) * | 2004-08-04 | 2008-03-27 | サントル ナショナル ドゥ ラ ルシェルシュ スィヤンティフィック(セーエヌエルエス) | 画像および/または電子エネルギー損失スペクトルを得るためのデバイス |
| JP2006284482A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Jeol Ltd | エネルギー損失分光装置の分析方法及びエネルギー損失分光装置を備えた透過電子顕微鏡 |
| JP2011123999A (ja) * | 2009-12-08 | 2011-06-23 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子顕微鏡 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2020077641A (ja) | 2020-05-21 |
| JP6949924B2 (ja) | 2021-10-13 |
| US10535492B2 (en) | 2020-01-14 |
| US20180240639A1 (en) | 2018-08-23 |
| US9966220B2 (en) | 2018-05-08 |
| EP3196920B1 (en) | 2025-03-12 |
| CN106847659A (zh) | 2017-06-13 |
| CN106847659B (zh) | 2019-10-11 |
| US20170207059A1 (en) | 2017-07-20 |
| EP3196920A1 (en) | 2017-07-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6949924B2 (ja) | 直接検出センサを用いる電子エネルギー損失分光器 | |
| KR102942973B1 (ko) | 높은 프레임 레이트 및 높은 동적 범위 전자 현미경 | |
| US20220057520A1 (en) | Distance measurement apparatus and distance measurement method | |
| JP4937512B2 (ja) | 荷電粒子スペクトロメータおよびその検出器 | |
| WO2012061043A1 (en) | Scanning incremental focus microscopy | |
| EP1590687A1 (en) | Photon arrival time detection | |
| CN112005333B (zh) | 带电粒子束装置 | |
| US20140034842A1 (en) | Electronic variable gain for x-ray detector | |
| JP2020167171A (ja) | 荷電粒子線デバイス用のセグメント化検出器 | |
| US20230298853A1 (en) | Method and system for generating a diffraction image | |
| US10818471B2 (en) | Charged particle beam device | |
| JP2020099016A (ja) | 微弱放電撮像システム | |
| JP6936915B2 (ja) | 高速eelsスペクトル取得のための方法 | |
| US12579621B2 (en) | Optical image processing method, machine learning method, trained model, machine learning pre-processing method, optical image processing module, optical image processing program, and optical image processing system | |
| US20240257317A1 (en) | Optical image processing method, machine learning method, trained model, machine learning preprocessing method, optical image processing module, optical image processing program, and optical image processing system | |
| CN115962858B (zh) | 一种囚禁离子光学超分辨成像方法、装置、设备和介质 | |
| Mochizuki et al. | Separation of multi-path components in sweep-less time-of-flight depth imaging with a temporally-compressive multi-aperture image sensor | |
| Li et al. | Research of range resolution of streak tube imaging system | |
| US20260063799A1 (en) | Time-of-flight detecting device, system, and method | |
| JP2852054B2 (ja) | スピン偏極走査電子顕微鏡 | |
| WO2025094225A1 (ja) | 画像処理方法、プログラム、画像処理装置、およびイメージング質量分析装置 | |
| JPH0715809B2 (ja) | コインシデンス型電子顕微鏡 | |
| Tulloch | ING Technical Note 132 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170216 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20171121 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180109 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180406 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180925 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20181219 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20190716 |