JP2017148533A - 集束ｕｖｂ放射およびビタミンｄ合成のための光線治療装置、ならびに関連システムおよび方法 - Google Patents

Abstract

【課題】集束ＵＶＢ放射およびビタミンＤ合成のための好適な光線治療装置、ならびに関連システムおよび方法を提供する。
【解決手段】集束ＵＶＢ放射およびビタミンＤ合成のための光線治療装置１００、および関連システム、方法を対象とする。光線治療装置は、照射ゾーンを少なくとも部分的に画定する筐体１０２と、筐体によって支持されている紫外線（ＵＶ）放射源１１０とを含むことができる。照射ゾーン１０６は、ヒト患者の少なくとも一部分を収容するように構成されることができる。光線治療装置はさらに、ＵＶ放射源と照射ゾーンとの間にフィルタを含むことができる。フィルタは、約２９７ｎｍを中心とし、最大でも１０ｎｍの帯域幅を有する、所定のスペクトルの外側のＵＶ放射を少なくとも実質的に除去するように構成されることができる。
【選択図】図１Ａ

Description

（関連出願の引用）
本願は、米国仮特許出願第６１／５８２，７７８号（２０１２年１月３日出願）の利益および優先権を主張する。該出願は、その全体が参照により本明細書に引用される。

（技術分野）
本技術は、ビタミンＤ光線療法に関し、より具体的には、集束ＵＶＢ放射およびビタミンＤ合成のための光線治療装置、ならびに関連システムおよび方法に関する。

ビタミンＤとは、日光への適切な暴露を通して人体が合成することができる、脂溶性セコステロイドの一群を指す。より具体的には、ビタミンＤ_３は、７−デヒドロコレステロールが紫外線Ｂ（「ＵＶＢ」）光と反応するときに皮膚において作製される。ビタミンＤはまた、脂肪性の魚（例えば、サケおよびマグロ）、ビタミンＤ強化食品（例えば、乳製品およびジュース製品）、およびビタミンＤサプリメント等の種々の食事供給源から吸収することもできる。いったん吸収されると、ビタミンＤは、血流を通って肝臓へ進行し、そこでプロホルモンカルシジオールに変換される。順に、カルシジオールは、腎臓または免疫系内の単球マクロファージによって、カルシトリオール（ビタミンＤのホルモン活性形態）に変換される。単球マクロファージによって合成されると、カルシトリオールは、侵入した細菌から身体を防御するように、局所的にサイトカインの役割を果たす。腎臓合成カルシトリオールは、血流中のカルシウムおよびリン酸塩の濃度を調節するように身体を通って循環し、それによって、骨の十分な鉱化、成長、および再構成を助長する。したがって、不十分なレベルのビタミンＤ（典型的には、２０〜４０ｎｇ／ｍ^２未満の血流中のカルシジオール濃度によって特徴付けられる）は、小児のくる病および成人の骨軟化症等の種々の骨軟化疾患を引き起こし得る。ビタミンＤ欠乏はまた、うつ病、心疾患、痛風、自己免疫障害、および種々の異なる癌等の多数の他の疾患および障害にも結び付けられている。

近年、ビタミンＤ欠乏は、少なくとも部分的に、ビタミンＤ産生のための日光への十分な毎日の暴露を阻止する、増加する大都市の人口および結果として生じた屋内生活様式により、顕著な状態になっている。ＵＶＢ光線を遮断する、皮膚癌の意識および日焼け止めの保護の増大する重視もまた、ビタミンＤ欠乏の広がりを増加させた場合がある。加えて、地理的緯度、季節、およびスモッグ等の種々の環境要因が、十分なビタミンＤ産生をさらに妨げる。

医師らは、ビタミンＤレベルを増加させる予防対策として、ビタミンＤサプリメントを推奨してきた。米国医学研究所（Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ ｏｆ Ｍｅｄｉｃｉｎｅ）は、例えば、１〜７０歳の人々には６００国際単位（ＩＵ）、７１歳以上の人々には８００ＩＵの１日の食事ビタミンＤ摂取を推奨している。他の機関は、より高いおよびより低い１日のビタミンＤ用量の両方を推奨している。１日投与量への制限はまた、最終的には有毒であり得る、過剰に多くのビタミンＤを摂取することを防止する努力も反映する。対照的に、人間生理学は、日光からのビタミンＤの有意に高い１日用量（例えば、４，０００〜２０，０００ＩＵ／日以上）に適合している。ビタミンＤが日光への暴露から産生される容易性、および皮膚を通した過剰なビタミンＤ摂取を阻止する身体の自然な能力により、ＵＶＢ放射が、より望ましいビタミンＤ源として識別されている。

本発明は、例えば、以下を提供する：
（項目１）
照射ゾーンを少なくとも部分的に画定する筐体であって、前記照射ゾーンは、ヒト患者の少なくとも一部分を収容するように構成されている、筐体と、
前記筐体によって支持されている紫外線（ＵＶ）放射源と、
前記ＵＶ放射源と前記照射ゾーンとの間のフィルタであって、前記フィルタは、所定のスペクトルの外側のＵＶ放射を少なくとも実質的に除去するように構成され、前記所定のスペクトルは、最大でも１０ｎｍの帯域幅を有し、約２９７ｎｍを中心とする、フィルタと
を備えている、光線治療装置。
（項目２）
前記筐体は、前記照射ゾーンを少なくとも部分的に取り囲む側壁を含み、
前記ＵＶ放射源は、複数の高輝度放電ランプを備え、
前記フィルタは、対応する複数の高輝度放電ランプを少なくとも部分的に覆う複数のコーティングされた石英ガラス管を備え、
前記フィルタの前記所定のスペクトルは、約２９２〜３０２ｎｍであり、
前記光線治療装置は、前記ヒト患者の皮膚を介してビタミンＤ産生を促進するように構成されている、項目１に記載の光線治療装置。
（項目３）
前記筐体は、前記照射ゾーンに向けられている少なくとも１本のカラムを備え、
前記ＵＶ放射源は、複数のメタルハライドランプを備え、
前記光線治療装置は、対応する複数のメタルハライドランプを部分的に包囲する複数の反射体をさらに備え、前記反射体は、個々のメタルハライドランプによって放出されるＵＶエネルギーを前記フィルタに向けるように構成されている、項目１に記載の光線治療装置。
（項目４）
前記フィルタの前記所定のスペクトルは、最大でも８ｎｍの帯域幅を有する、項目１に記載の光線治療装置。
（項目５）
前記ＵＶ放射源および前記フィルタは、２分以下の暴露期間中に１未満の肌タイプ調整ＭＥＤを送達するように構成されている、項目１に記載の光線治療装置。
（項目６）
前記ＵＶ放射源は、複数のメタルハライドランプを備えている、項目１に記載の光線治療装置。
（項目７）
前記ＵＶ放射源は、キセノンランプを備えている、項目１に記載の光線治療装置。
（項目８）
前記ＵＶ放射源は、約２９５〜３０２ｎｍの波長を有する複数のＬＥＤを備えている、項目１に記載の光線治療装置。
（項目９）
前記ＵＶ放射源および前記フィルタは、集束ＵＶＢ放射アセンブリを画定し、前記集束ＵＶＢ放射アセンブリは、前記ＵＶ放射源を少なくとも部分的に包囲し、前記ＵＶ放射源によって放出されるＵＶエネルギーを前記フィルタに向けるように構成されている反射体をさらに備えている、項目１に記載の光線治療装置。
（項目１０）
前記反射体は、前記ＵＶ放射源が前記フィルタに接触する前に、前記ＵＶ放射源によって放出されるＵＶエネルギーを少なくとも実質的に平行にするように構成されている、項目９に記載の光線治療装置。
（項目１１）
前記集束ＵＶＢ放射アセンブリは、前記ＵＶ放射源と前記フィルタとの間に遮蔽体をさらに備え、前記遮蔽体は、前記ＵＶ放射源によって放出される少なくとも一部のＵＶエネルギーを、前記フィルタに接触する前に前記反射体に向けるように構成されている、項目１０に記載の光線治療装置。
（項目１２）
前記フィルタは、コーティングされたガラス基板を備えている、項目１に記載の光線治療装置。
（項目１３）
前記コーティングされたガラス基板は、前記ＵＶ放射源を覆うスリーブである、項目１２に記載の光線治療装置。
（項目１４）
前記ヒト患者におけるビタミンＤ合成に影響を及ぼすパラメータに関係するユーザ入力を受信するように構成されているユーザインターフェースをさらに備えている、項目１に記載の光線治療装置。
（項目１５）
前記ユーザインターフェースは、前記光線治療装置、またはそれに通信可能に連結されている遠隔光線治療装置によって提供された以前の光線療法セッションに関するフィードバックをユーザから受信するように構成されている、項目１４に記載の光線治療装置。
（項目１６）
空間を少なくとも部分的に取り囲む筐体であって、前記空間は、人体の少なくとも一部分を収容するように構成されている、筐体と、
概して、前記空間に向けられている集束紫外線Ｂ（ＵＶＢ）放射アセンブリと
を備え、
前記集束ＵＶＢ放射アセンブリは、概して、約２９７ｎｍで集束されているＵＶＢ放射を送達するように構成され、前記ＵＶＢ放射アセンブリは、２分未満の暴露期間中にヒトの皮膚において少なくとも２０，０００ＩＵのビタミンＤ産生を促進するように構成されている、
光線治療装置。
（項目１７）
前記集束ＵＶＢ放射アセンブリは、所定のスペクトルの外側のＵＶ放射を少なくとも実質的に遮断する手段を含み、前記所定のスペクトルは、約２９２〜３０２ｎｍの範囲内である、項目１６に記載の光線治療装置。
（項目１８）
前記集束ＵＶＢ放射アセンブリは、
複数のメタルハライドランプと、
前記メタルハライドランプと前記空間との間で離間されている複数のフィルタと
を備えている、項目１６に記載の光線治療装置。
（項目１９）
前記フィルタは、約２９２〜３０２ｎｍの集束スペクトルの外側のＵＶ放射を少なくとも実質的に除去するように構成されている、項目１８に記載の光線治療装置。
（項目２０）
前記ＵＶＢ放射アセンブリは、前記複数のメタルハライドランプを少なくとも部分的に包囲する複数の平行反射体をさらに備えている、項目１９に記載の光線治療装置。
（項目２１）
前記集束ＵＶ放射アセンブリは、１ＭＥＤの最大でも９０％に人体を暴露させるように構成され、前記ＭＥＤは、前記人体の肌のタイプに合わせて調整されている、項目１６に記載の光線治療装置。
（項目２２）
肌のタイプまたはビタミンＤ要求のうちの少なくとも１つに関係するユーザ入力を受信するように構成されているユーザインターフェースをさらに備えている、項目１６に記載の光線治療装置。
（項目２３）
光線治療装置を用いて集束紫外線放射を送達する方法であって、前記方法は、
概して、筐体によって画定される照射ゾーンに向けて紫外線を伝送することと、
所定のスペクトルの外側の前記紫外線を少なくとも実質的にフィルタリングすることであって、前記所定のスペクトルは、約２９７ｎｍを中心とする、ことと、
５分以内に、前記紫外線の前記伝送を終了することと
を含む、方法。
（項目２４）
ユーザインターフェースを介してユーザ入力を受信することであって、前記ユーザ入力は、肌のタイプまたはビタミンＤ投与量のうちの少なくとも１つに関係する、ことと、
少なくとも部分的に前記照射ゾーン内でビタミンＤの用量をユーザに送達することであって、前記ビタミンＤの用量は、前記ユーザ入力に関係する、ことと
をさらに含む、項目２３に記載の方法。
（項目２５）
前記光線治療装置、またはそれに連結されている遠隔光線治療装置によって送達された以前のビタミンＤ用量に関係するフィードバックを前記ユーザから受信することをさらに含む、項目２４に記載の方法。
（項目２６）
ビタミンＤ光線療法を提供する方法であって、前記方法は、
照射ゾーンと前記照射ゾーンに向けられた集束紫外線Ｂ（ＵＶＢ）放射アセンブリを有する光線治療装置を提供することと、
前記集束ＵＶＢ放射アセンブリを介して、少なくとも実質的に所定のスペクトル内で集束されるＵＶ光線を生成することであって、前記所定のスペクトルは、約２９０〜３０６ｎｍの範囲内である、ことと、
所定の暴露時間以内に前記照射ゾーン内でビタミンＤの用量をヒト患者に送達することであって、前記ビタミンＤは、前記ヒト患者の皮膚の複数部分で産生される、ことと
を含む、方法。
（項目２７）
少なくとも実質的に前記所定のスペクトル内で集束されるＵＶ光線を生成することは、
少なくとも１つの高輝度放電ランプからＵＶ放射を伝送することと、
前記少なくとも１つの高輝度放電ランプと内部チャンバとの間のコーティングされた基板を使用して、前記所定のスペクトルの外側の前記ＵＶ放射を少なくとも実質的にフィルタリングすることと
を含む、項目２６に記載の方法。
（項目２８）
少なくとも実質的に前記所定のスペクトル内で集束されるＵＶ光線を生成することは、約２９７ｎｍを中心とする最大でも１０ｎｍのスペクトル内で少なくとも実質的に集束されている波長を有するＵＶ光線を生成することを含む、項目２６に記載の方法。
（項目２９）
前記ビタミンＤの用量を前記ユーザに送達することは、最大でも３分以内に前記ＵＶＢ放射を終了することを含む、項目２６に記載の方法。
（項目３０）
前記ビタミンＤの用量を前記ユーザに送達することは、１未満の肌タイプ調整ＭＥＤに前記ユーザを暴露させることを含む、項目２６に記載の方法。
（項目３１）
最大でも３分後に前記ＵＶ光線を自動的に終了することをさらに含む、項目２６に記載の方法。
（項目３２）
ビタミンＤ投与量または肌のタイプのうちの少なくとも１つに関係するユーザ入力を受信することと、
前記ユーザ入力に基づいて、前記ビタミンＤの用量の所定の期間を選択することと
をさらに含む、項目２６に記載の方法。
（項目３３）
光線治療装置を制御するためのコンピュータ読み取り可能な媒体であって、前記媒体は、方法を前記光線治療装置に行わせるための命令を有し、前記方法は、
前記光線治療装置の照射ゾーンに向けられるＵＶ放射源を介して、少なくとも実質的に所定のスペクトル内で集束される紫外線（ＵＶ）を生成することであって、前記所定のスペクトルは、概して、約２９７ｎｍで集束される、ことと、
所定の期間内にチャンバ内でビタミンＤの用量をユーザに送達することと
を含む、コンピュータ読み取り可能な媒体。
（項目３４）
少なくとも実質的に前記所定のスペクトル内で集束されるＵＶ光線を生成するための前記命令は、約２９０ｎｍから約３０５ｎｍの間の波長を伴うＵＶエネルギーを生成することを含む、項目３３に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
（項目３５）
前記命令は、前記ユーザが最大でも２標準ＭＥＤに暴露されたときに前記ＵＶ放射を終了することをさらに含む、項目３３に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
（項目３６）
前記所定の期間内に前記ビタミンＤの用量を前記ユーザに送達する前記命令は、最大でも３分後に前記ＵＶ放射を終了することを含む、項目３３に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
以下の図面を参照して、本開示の多くの側面をより良く理解することができる。図面中の構成要素は、必ずしも一定の縮尺ではない。代わりに、本開示の原理を例証することが強調されている。

図１Ａおよび１Ｂは、本技術の実施形態に従って構成された、それぞれ、開放位置および閉鎖位置での集束ＵＶＢ放射のための光線治療装置の等角図である。 図１Ａおよび１Ｂは、本技術の実施形態に従って構成された、それぞれ、開放位置および閉鎖位置での集束ＵＶＢ放射のための光線治療装置の等角図である。 図１Ｃは、図１Ａおよび１Ｂの光線治療装置の上面図である。 図１Ｄは、本技術の実施形態に従って構成された図１Ａ−１Ｃの光線治療装置の集束ＵＶＢ放射アセンブリの拡大側面図である。 図２Ａおよび２Ｂは、本技術の実施形態による、それぞれ、ＵＶＢフィルタリング前および後のＵＶ源の相対スペクトルパワーの例示的なグラフ表示である。 図２Ａおよび２Ｂは、本技術の実施形態による、それぞれ、ＵＶＢフィルタリング前および後のＵＶ源の相対スペクトルパワーの例示的なグラフ表示である。 図３Ａ−３Ｃは、本技術の実施形態に従って構成された集束ＵＶＢ放射のための光線治療装置の表示ページを図示する。 図３Ａ−３Ｃは、本技術の実施形態に従って構成された集束ＵＶＢ放射のための光線治療装置の表示ページを図示する。 図３Ａ−３Ｃは、本技術の実施形態に従って構成された集束ＵＶＢ放射のための光線治療装置の表示ページを図示する。 図４は、本技術の実施形態による、ビタミンＤ合成のための集束ＵＶＢ放射を提供する方法を図示するブロック図である。 図５Ａは、本技術の別の実施形態に従って構成された集束ＵＶＢ放射のための光線治療装置の等角図である。 図５Ｂは、本技術の実施形態に従って構成された図５Ａの光線治療装置の集束ＵＶＢ放射アセンブリの拡大部分概略側面図である。 図５Ｃは、本技術の別の実施形態に従って構成された図５Ａの光線治療装置の集束ＵＶＢ放射アセンブリの拡大部分概略側面図である。 図６は、太陽の相対放射強度と比較した、本技術に従って構成されたメタルハライドＵＶ源を伴う集束ＵＶＢ放射アセンブリの相対放射強度の例示的なグラフ表示である。 図７は、本技術のさらなる実施形態に従って構成された光線治療装置のための集束ＵＶＢ放射アセンブリの正面図である。 図８は、太陽の相対放射強度と比較した、本技術に従って構成されたパルスキセノンＵＶ源を伴う集束ＵＶＢ放射アセンブリの相対放射強度の例示的なグラフ表示である。

本技術は、ビタミンＤ合成のために集束ＵＶＢ放射を提供するための装置、システム、および方法を対象とする。本技術のいくつかの実施形態の具体的詳細が、図１Ａ−８を参照して以下で説明される。実施形態の多くが、皮膚でのビタミンＤ産生を助長するための光線治療システム、デバイス、および方法に関して以下で説明されるが、本明細書で説明されるものに加えて、他の用途（例えば、皮膚疾患の光線治療）および他の実施形態が、本技術の範囲内である。加えて、本技術のいくつかの他の実施形態は、本明細書で説明されるものとは異なる構成、構成要素、または手技を有することができる。したがって、当業者であれば、それに応じて、本技術が、追加の要素を伴う他の実施形態を有することができ、または本技術が、図１Ａ−８を参照して以下で示され、説明される特徴のうちのいくつかを伴わない他の実施形態を有することができると理解するであろう。

図１Ａおよび１Ｂは、本技術の実施形態による、それぞれ、開放位置および閉鎖位置での集束ＵＶＢ放射のための光線治療装置１００（「装置１００」）の等角図であり、図１Ｃは、図１Ａおよび１Ｂの装置１００の上面図である。図１Ａ−１Ｃを一緒に参照すると、装置１００は、ユーザ（例えば、ヒト患者）を収容するように構成されるチャンバまたは内部空間１０６を画定する、１つ以上の側壁１０４およびドア１０８を有する、筐体１０２を含むことができる。筐体１０２は、概して、内部空間１０６、またはユーザを集束ＵＶＢ放射に暴露させることができる照射ゾーンに向かって集束ＵＶＢ放射を向ける、複数の集束ＵＶＢ放射アセンブリ１１０を支持することができる。集束ＵＶＢ放射アセンブリ１１０は、ヒトの皮膚でのビタミンＤ産生を助長するように、所定のスペクトル内のＵＶＢ放射を生成することができる。例えば、所定のスペクトルは、概して、ビタミンＤ合成のためのピーク波長と見なされる、約２９７ｎｍ（すなわち、約２９３〜３０１ｎｍ）で集束される約８ｎｍの帯域幅を有することができる。他の実施形態では、放射の所定のスペクトルは、より広いまたは狭い帯域幅（例えば、約６〜１０ｎｍ）を有することができ、ビタミンＤに好適な他の波長（例えば、２９６ｎｍ、３００ｎｍ、３０２ｎｍ等）の周囲で集束することができる。装置１００によって提供される集中ＵＶＢ放射は、同量のビタミンＤを産生するために必要な日光暴露の長さと比較して、比較的短い光線療法セッション（例えば、１０分未満、５分未満、２分未満、１分未満等）内で大量のビタミンＤ（例えば、１週間の用量、１ヶ月の用量等）をユーザに送達することができる。他の実施形態では、集束ＵＶＢ放射アセンブリ１１０は、皮膚疾患（例えば、乾癬）または他の障害（例えば、湿疹）に対する治療効果を提供する、他のＵＶＢ波長の周囲で集束させることができる。

筐体１０２は、光線療法セッション中にユーザ（例えば、成人）が完全に内部空間１０６内に立つことを可能にするようにサイズを決定されることができる。例えば、ユーザは、内部空間１０６に進入するように（例えば、図１Ａに示されるように）ドア１０８を枢動させ、摺動させ、および／または別様に開放し、筐体１０２内にユーザを少なくとも部分的に封入するように（例えば、図１Ｂに示されるように）ドア１０８を閉鎖することができる。種々の実施形態では、筐体１０２は、ＩＳＯ Ｉｔａｌｉａ ＵＳＡ（Ｃｌｅｖｅｌａｎｄ，Ｏｈｉｏ）から入手可能なＭａｘｔｅｒ Ｖ１９ ＥＲ垂直タンニングベッド等の約９０〜１００インチ（２２８．６〜２５４ｃｍ）の高さおよび約４０〜５０インチ（１０１．６〜１２７ｃｍ）の外径を有することができる。他の実施形態では、筐体１０２は、内部空間１０６内にユーザを収容するように、他の好適な寸法および／または配向を有することができる。例えば、筐体１０２は、光線療法セッション中にユーザが横たわることを可能にするように水平に構成することができる。筐体１０２によって提供される全身エンクロージャは、内部空間１０６の中で生成される集束ＵＶＢ放射にユーザの皮膚の大部分を暴露させ、したがって、光線療法セッション中にユーザの皮膚を介して相当量のビタミンＤ産生を助長することができる。他の実施形態では、筐体１０２は、顔または上半身等の身体の一部分のみを収容するように、より小さくあり得、および／または構成されることができる。

図１Ａおよび１Ｃに示されるように、集束ＵＶＢ放射アセンブリ１１０が内部空間１０６を少なくとも部分的に包囲するように、複数の集束ＵＶＢ放射アセンブリ１１０は、保護カバーまたはパネル１１１の後ろで筐体１０２の側壁１０４および／またはドア１０８の上または中に位置付けられ、内部空間１０６に向けられることができる。図示した実施形態では、集束ＵＶＢ放射アセンブリ１１０は、内部空間１０６の周囲で４本の縦列に配列される。他の実施形態では、集束ＵＶＢ放射アセンブリ１１０は、より多いまたは少ない縦列に配列されるか、または別様に、少なくとも部分的に内部空間１０６の周囲に位置付けられることができる。

図１Ｃに示されるように、装置１００はさらに、少なくともＵＶＢ放射アセンブリ１１０の動作温度を低減させるように、概して、集束ＵＶＢ放射アセンブリ１１０および／または筐体１０２の内部空間１０６に向けられる、１つ以上の冷却ファン１１８または他の冷却特徴を含むことができる。ファン１１８はまた、動作前および／または後にＵＶＢ放射アセンブリ１１０を冷却するように構成することもできる。選択された実施形態では、装置１００は、ファン１１８からの干渉を伴わずに、アセンブリ１１０が動作温度（例えば、ＵＶＢ放射アセンブリ１１０がＵＶＢ放射を生成することを可能にする温度）まで迅速に上昇するようにＵＶＢ放射アセンブリ１１０がオンにされた後に、ファン１１８を起動するように構成することができる。アセンブリ１１０の起動とファンの開始との間の遅延の持続時間は、例えば、１分未満（例えば、１０〜１５秒、３〜５秒等）であり得る。ファン遅延は、ＵＶＢ放射アセンブリ１１０が集束ＵＶＢ放射を産生するために要する時間を減少させることによって、全体的な光線療法時間（例えば、３０秒、２分、５分等）を減少させることができる。他の実施形態では、ファン１１８は、ＵＶＢ放射アセンブリ１１０の上昇時間への干渉を減少させるように、（例えば、典型的なタンニングベッドファンと比較して）比較的低い強度および／または速度に設定されることができる。さらなる実施形態では、装置１００は、上昇時間が全体的な光線療法時間を増加させないように、ＵＶＢ放射アセンブリ１１０がそれらの動作温度になった、またはその付近になった後まで、ユーザが内部空間１０６に進入することを防止するように構成されることができる。

図１Ｄは、本技術の実施形態に従って構成された個々の集束ＵＶＢ放射アセンブリ１１０の拡大側面図である。集束ＵＶＢアセンブリ１１０は、ＵＶ放射源１１２と、ビタミンＤ合成を促進する所定のスペクトルの外側のＵＶ放射を少なくとも実質的に遮断する、ＵＶ放射源１１２の上にあるか、またはそれを覆うフィルタ１１６とを含むことができる。ある実施形態では、例えば、フィルタ１１６は、約２９２ｎｍから約３０２ｎｍに及ぶ（すなわち、約２９７ｎｍを中心とする）所定の１０ｎｍスペクトルの外側のＵＶ放射を実質的に遮断することができる。他の実施形態では、フィルタ１１６は、より広いまたは狭い帯域幅（例えば、５ｎｍの広さ、６ｎｍの広さ、８ｎｍの広さ、２０ｎｍの広さ）を有する、および／またはより高いまたは低い波長（例えば、２９６ｎｍ、３００ｎｍ、３０２ｎｍ等）を中心とする、所定のスペクトルの外側のＵＶ放射を遮断するように構成することができる。

選択された実施形態では、ＵＶ放射源１１２は、アーク管１１５内の電極１１３の間でガス状混合物を通して電気アークを産生することによって光を生成する、メタルハライドランプ等の１つ以上の高輝度放電（「ＨＩＤ」）ランプを含む。以下でさらに詳細に説明されるように、ある実施形態では、メタルハライド放射源１１２は、放射源１１２によって放出されるエネルギーのＵＶＢ含有量を増加させるように、化学物質でドープされることができる。他の実施形態では、ＵＶ放射源１１２は、他の種類のＨＩＤランプ、より高いまたは低い出力の電球を有するランプ（例えば、１６０Ｗ、２００Ｗ、５００Ｗ、６５０Ｗ、７００Ｗ、８００Ｗ等）、および／または他の好適なＵＶ放射源を含むことができる。例えば、放射源１１２は、１つ以上の所定の波長で発光することができる複数の発光ダイオード（ＬＥＤ）（例えば、Ｓｅｎｓｏｒ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｉｎｃ．（Ｃｏｌｕｍｂｕｓ，Ｓｏｕｔｈ Ｃａｒｏｌｉｎａ）から入手可能なＬＥＤ）、狭いスペクトル範囲内で発光することができるエキシマーランプ（例えば、（Ｕｓｈｉｏ ｏｆ Ｃｙｐｒｅｓｓ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ）から入手可能なエキシマーランプ）、および／または（例えば、図７に関して以下でさらに詳細に説明されるような）パルスキセノンランプを含むことができる。

種々の実施形態では、ＵＶ放射源１１２の各々は、内部チャンバ１０６の中で実質的に均一なＵＶＢ暴露をユーザに提供するように、同一の強度を有し得る。他の実施形態では、ＵＶ放射源１１２は、様々な程度の出力に従って配列されることができる。例えば、より高い出力のＨＩＤランプ（例えば、６５０〜８００Ｗ）を伴う１つ以上のＵＶ放射源１１２を、顔面領域に近接する装置１００の上部分（図１Ａおよび１Ｃ）に位置付けることができ、１つ以上のより低い出力のＨＩＤランプ（例えば、５００〜６００Ｗランプ）を、装置１００の下部分に位置付けることができる。他の実施形態では、ＵＶ放射源１１２は、装置１００の内部空間１０６に向かってＵＶ放射を伝送するように、他の好適な構成で配列されることができる。

図１Ｄで図示される実施形態では、フィルタ１１６は、ＵＶ放射源１１２の長さ（例えば、４インチ）にわたって延在し、フィルタ１１６の各端部分における複数のスタンドオフ１１４によってＵＶ放射源１１２からオフセットされるコーティングされた円筒形の管またはスリーブ１１９である。スタンドオフ１１４は、例えば、ＵＶ放射源１１２とフィルタ１１６との間に１インチ（２５．４ｍｍ）の空間を作成することができる。スリーブ１１９はまた、放射源１１２がその動作温度まで迅速に上昇することを可能にする、ＵＶ放射源１１２を覆う絶縁エンクロージャを提供し得る。他の実施形態では、スタンドオフ１１４は、より長く、またはより短くあり得、および／または他の好適な手段を使用して、フィルタ１１６をＵＶ放射源１１２から分離することができる。さらなる実施形態では、フィルタ１１６は、ＵＶ放射源１１２の少なくとも一部分を覆う、他の好適な形状を有することができる。

スリーブ１１９は、二酸化ハフニウム、酸化亜鉛、セシウム、二酸化チタン、および／または種々の他の光学フィルタリング材料等のＵＶまたは他の光学フィルタリング材料でコーティングされた基板（例えば、石英ガラス、Ｐｌｅｘｉｇｌａｓ等）から作製されることができる。所定のスペクトルの下側閾値を下回るＵＶ放射（例えば、１００ｎｍ、２８５ｎｍ、２８７ｎｍ、２９４ｎｍ等以下の波長）を除外するように、１つ以上のコーティングを基板に適用することができ、所定のスペクトルの上側閾値を上回るＵＶ放射（例えば、３００ｎｍ、３０２ｎｍ、３１０ｎｍ以上の波長）を除外するように、追加のコーティングを基板に適用することができる。例えば、フィルタ１１６は、１８５ｎｍ未満の波長を遮断し、オゾンが形成することを防止するように、二酸化チタンコーティングを含むことができ、所定のスペクトルの外側の他の波長を遮断するように、追加のコーティングを含むことができる。他の実施形態では、基板は、所定のスペクトルの外側のＵＶ放射を少なくとも実質的に遮断するように構成される単一のコーティングを含むことができる。さらなる実施形態では、基板自体が、所定のスペクトルを下回る波長を伴う少なくとも一部のエネルギーを遮断するように、吸収フィルタとしての機能を果たすことができ、所定のスペクトルより高い波長を伴うエネルギーを遮断するように、干渉コーティングを基板に適用することができる。

コーティングは、化学蒸着（ＣＶＤ）、物理蒸着（ＰＶＤ）、および他の堆積プロセス、および／または他の好適なフィルタコーティング方法を使用して、スリーブ１１９に適用されることができる。他の実施形態では、１つ以上のコーティングは、放射源１１２から出射する際にＵＶ放射のうちの少なくとも一部を遮断するように、ＵＶ放射源１１２上に直接適用されることができる。さらなる実施形態では、フィルタコーティングは、ＵＶ放射源１１２と筐体１０２の内部チャンバ１０６との間の装置１００の他の部分に適用されることができる。例えば、フィルタコーティングは、ＵＶＢ放射アセンブリ１１０の前の保護カバー１１１（図１Ａおよび１Ｃ）に適用されることができる。なおもさらなる実施形態では、スリーブ１１９および／またはＵＶ放射源１１２の一部分は、コーティングされるよりもむしろフィルタリング材料でドープされることができる。

選択された実施形態では、ＵＶ放射源１１２は、所定のスペクトル内に少なくとも部分的に集中した放射を生成する、フィラメントを含むことができる。例えば、水銀系ランプは、２９７ｎｍの周囲でＵＶＢ放射の比較的強い集中を有することができ、したがって、ビタミンＤ合成に好適な集束ＵＶＢ放射を伝送するために、フィルタ１１６と併せて、またはその代わりに使用され得る。他の実施形態では、ＵＶ放射源１１２は、所定のスペクトルの外側のＵＶ放射を低減させる他の好適なフィラメントおよび／または特徴を含むことができる。

図２Ａおよび２Ｂは、フィルタ１１６を用いてＵＶＢ放射を集束させる前および後のＵＶ放射源１１２の相対スペクトルパワーの例示的なグラフ表示である。図２Ａに示されるように、ＵＶ放射源１１２は、波長の広いスペクトル（例えば、約２６０〜４００ｎｍ（すなわち、可視光））内の紫外線光を生成し得る。しかしながら、図２Ｂに示されるように、フィルタ１１６（例えば、コーティングまたはドープしたスリーブ１１９、ＵＶ放射源１１２上のコーティング等）をＵＶ放射源１１２に適用することにより、約２９０ｎｍ未満および約３１０ｎｍ以上のＵＶ放射を少なくとも実質的に遮断することができる。したがって、フィルタ１１６は、ビタミンＤ産生に関連付けられる波長（例えば、２９７ｎｍ、３００ｎｍ、３０２ｎｍ等）の周囲でＵＶ放射源１１２によって放出されるＵＶ放射を集中させ、それによって、比較的短い期間（例えば、１分未満、５分未満等）内で高レベルのビタミンＤ産生（例えば、約４０，０００ＩＵ、約７０，０００ＩＵ、約１００，０００ＩＵ等）を開始するために十分なＵＶＢ放射を提供することができる。

光線療法セッション中に、装置１００は、比較的短い暴露時間内でビタミンＤの用量を送達するように、所定の放射スペクトル内の集束ＵＶＢ放射にユーザを暴露させることができる。一実施形態では、例えば、装置１００は、２分未満でビタミンＤの用量を提供することができる。ビタミンＤの用量は、ユーザのビタミンＤの必要１週間用量と同等であり得る。例えば、ユーザが日光から約１０，０００ＩＵの１日のビタミンＤ用量を必要とする場合、装置１００は、光線療法セッション中に約７０，０００ＩＵを送達することができる。他の実施形態では、装置１００は、より多いまたは少ない１日のビタミンＤ用量（例えば、６，０００ＩＵ／日、２０，０００ＩＵ／日等）を提供するように構成することができ、および／またはビタミンＤ用量は、より長いまたは短い期間にわたるビタミンＤ要求（例えば、２日用量、２週間用量、１ヶ月用量等）に対応することができる。

ビタミンＤ用量のビタミンＤの量は、（例えば、フィッツパトリックスケールまたはその修正によって決定されるような）肌のタイプ、年齢、体重、平均日光暴露、および／またはビタミンＤ合成および必要性に影響を及ぼし得る他のパラメータ等のユーザ特有の特性に応じて、変化し得る。例えば、より薄い肌の色合いを伴うユーザは、典型的には、十分なビタミンＤ用量を受け取るために、より濃い肌の色合いを伴うユーザより短いＵＶＢ暴露時間および／またはより少ないＵＶＢ強度を必要とする。高齢のユーザは、若年のユーザと同量のＵＶＢへの暴露から、より少ないビタミンＤを産生し、したがって、典型的には、若年のユーザより長い暴露時間および／または大きいＵＶＢ強度を必要とする。したがって、装置１００は、光線療法セッションの持続時間および／または集束ＵＶＢ放射の強度を調整することによって、様々なレベルのビタミンＤを提供するように構成することができる。他の実施形態では、装置１００は、ユーザ特有の特性に合わせて調整せず、全てのユーザで標準化光線療法セッションを行う。理論に拘束されるわけではないが、人体は、本質的に、ユーザが必要より高いＵＶＢに暴露されたときに、有毒レベルのビタミンＤが皮膚において産生されることを防止するであろうと考えられる。したがって、装置１００は、少なくとも、身体の組み込まれた保護を回避する栄養補助食品の形態で摂取されるビタミンＤより、有毒レベルのビタミンＤを産生する可能性が低い。

装置１００は、種々の動作パラメータに基づいて、ローカルコントローラ１２１（概略的に示される図１Ａおよび１Ｂ）および／または通信リンク（例えば、インターネット、イントラネット等）を介してそれに連結された遠隔サーバを使用して、ビタミンＤ用量の変動に合わせて調整されることができる。例えば、コントローラ１２１は、ユーザが、より長い暴露時間中により多くのＵＶＢ放射を受け取るので、光線療法セッションの長さ（すなわち、暴露時間）を増加させることによって、光線療法セッション中に提供されるビタミンＤ用量を増加させることができる。ビタミンＤ用量はまた、（例えば、フィルタ１１６を介して）ビタミンＤ合成に関連付けられる、フィルタリングされるＵＶＢ光線の集中を増加させることによって、増加されることもできる。選択された実施形態では、装置１００は、５分、３分、１分、３０秒未満等の短い暴露時間内にビタミンＤの１週間用量をユーザに提供する、集中されたレベルのＵＶＢ放射を放出することができる。

種々の実施形態では、装置１００は、紅斑（すなわち、暴露の２４時間後の皮膚の可視発赤）を生じさせるＵＶＢ放射の閾値用量である、最小紅斑用量（「ＭＥＤ」）に基づいて、ビタミンＤ用量を制限するように構成することができる。ＭＥＤは、ユーザの肌の質に依存するが、測定値は、タンニングベッドにおけるＵＶＢ暴露を比較して制御するように、（フィッツパトリック肌タイプスケール上の保護されていない日焼けしていない肌のタイプ２を使用して）標準化されている。例えば、ある規制は、タンニングベッドが１回の暴露につき４標準化ＭＥＤを超えることを禁止する。したがって、装置１００はまた、光線療法セッションを４標準化ＭＥＤに限定するように構成することもできる。他の実施形態では、ＵＶＢ放射アセンブリ１１０によって生成される放射の狭い帯域幅が、ユーザのＵＶＢ暴露をビタミンＤ合成に関連付けられるＵＶＢ放射の集束スペクトルに限定するので、装置１００は、依然として比較的高いビタミンＤ用量をユーザに提供しながら、光線療法セッションを４未満の標準化ＭＥＤに限定することができる。一実施形態では、例えば、装置１００は、光線療法セッションを約１標準化ＭＥＤに限定することができる。他の実施形態では、装置１００は、ユーザの肌のタイプに関連付けられるＭＥＤ（例えば、ユーザのＭＥＤの７５％、ユーザのＭＥＤの５０％等）に基づいて、光線療法セッションを調整することができる。したがって、装置１００は、少なくとも、光線療法セッション中にビタミンＤ産生を誘発するように、依然として十分なレベルの集束ＵＶＢ放射を提供しながら、ＵＶＢ暴露に起因する皮膚の発赤の可能性を低減させることができる。したがって、装置１００は、典型的にはタンニングベッドおよび／または過剰な日光暴露に関連付けられる悪影響（例えば、日光皮膚炎および皮膚癌）を阻止するように構成することができる。

図１Ａおよび１Ｂでさらに示されるように、装置１００はまた、視覚および／または可聴信号（例えば、テキスト命令、可聴コマンド、アニメーション等）を介して、装置１００が、光線療法を受け取る個人（例えば、ユーザ）および／または光線療法を投与する個人（例えば、医師または訓練を受けた技師）と動作可能に連動することを可能にする、ユーザインターフェース１２０を含むこともできる。例えば、ユーザインターフェース１２０は、情報を受信し、および／または別様にユーザと通信することができる、タッチスクリーン、表示画面、キーボード、マウス、カードスワイプ、ＰＩＮパッド、および／または他の好適なデバイスを含むことができる。図示した実施形態では、ユーザインターフェース１２０は、筐体１０２の外部上に位置付けられる。しかしながら、他の実施形態では、ユーザインターフェース１２０は、装置１００上の他の場所に（例えば、内部空間１０６内に）位置付けることができ、または（例えば、インターネット、安全なイントラネット、および／または他の好適な接続を介して）装置１００に遠隔で連結することができる。

ユーザインターフェース１２０は、装置１００に関係する命令をユーザに提供し、および／または装置１００によって提供されるＵＶＢ暴露のパラメータに影響を及ぼし得る種々のユーザ特有の特性に関してユーザに問い合わせを行うことができる。例えば、ユーザインターフェース１２０は、（例えば、フィッツパトリック肌検査および／またはその修正を使用して）ユーザの肌のタイプに関係する質問に答えるようにユーザに命令するか、または促すことができ、装置１００は、（例えば、装置１００に通信可能に連結されたコントローラまたは遠隔コンピュータを介して）ユーザの肌のタイプを識別するために回答を使用することができる。ユーザインターフェース１２０はまた、ユーザのビタミンＤ必要性に影響を及ぼし得る、ユーザの年齢、体重、最近の日光暴露、食事、および／または他の好適な要因に関係する情報を受信するように構成することもできる。このユーザ特有の情報は、暴露時間等の光線療法セッションのパラメータを導出するために使用することができる。

選択された実施形態では、ユーザインターフェース１２０はまた、以前の光線療法セッションに関係するフィードバックを受信するように構成することもできる。例えば、ユーザは、ユーザが以前の光線療法セッションによって引き起こされた任意の発赤を体験した（すなわち、光線療法セッションがユーザのＭＥＤを超えた）かどうかを示すことができ、装置１００は、将来の発赤を低減または予防するように、後続の光線療法セッションのパラメータを調整することができる。

ユーザインターフェース１２０はまた、装置１００および／または同一のネットワーク内で装置１００に通信可能に結び付けられた他の光線治療装置によって行われる光線療法セッションにユーザを関連付ける、ユーザアカウントを作成するように構成することもできる。図３Ａ−３Ｃは、それぞれ、例えば、ユーザアカウントに登録してログインするために使用することができる、ユーザインターフェース１２０上の表示ページ３５０ａ−ｃを図示する。他の実施形態では、表示ページ３５０ａ−ｃは、装置１００の他の部分（例えば、追加のディスプレイ）、および／またはインターネットあるいは他の好適な通信リンクを介して装置１００に通信可能に連結されたホームコンピュータまたは携帯電話等のそれに通信可能に連結された遠隔デバイス上に表示することができる。

最初に図３Ａを参照すると、表示ページ３５０ａは、ユーザアカウントを登録または作成するように、ユーザがユーザ識別情報を入力することを可能にする、種々のボタンまたはアイコンを含むことができる。図示した実施形態では、表示ページ３５０ａは、表示ページ３５０ａ上に表示されるキーパッド３５４を使用して、自分の電話番号を入力するようにユーザに要求する、ボックス３５２を含む。表示ページ３５０ａはまた、ボックス３５２に入力された番号を編集する「削除」ボタン３５６、前のページに戻る「戻る」ボタン３５８、ホームページに戻る「メイン」ボタン３６０、および／または他の好適なボタン等の表示ページ間でナビゲートするボタンとを含む。他の実施形態では、表示ページ３５０ａは、Ｅメールアドレスおよび（例えば、カードスワイプで入力される）クレジットカード情報を含む、他の形態のユーザ識別情報を受信してユーザアカウントを作成するように構成することができる。

いったんユーザが自分の識別情報を入力すると、ユーザは、「次へ」ボタン３６２を選択して図３Ｂで図示される表示ページ３５０ｂへナビゲートすることができる。表示ページ３５０ｂは、ユーザが自分のユーザアカウントにログインすることを可能にする。新しいユーザは、最初の登録段階中に、表示ページ３６４上の指紋スキャンボックス３６４を介して自分の指紋をスキャンすることができ、装置１００は、ユーザが後続の光線療法セッション中に指紋識別を介して自分のユーザアカウントにログインすることを可能にするように、ローカルまたは遠隔でデータベース上にこの情報を記憶することができる。他の実施形態では、指紋スキャンは、装置１００上の他の場所に位置付けられたデバイスによって行うことができる。ユーザが自分の指紋を使用してログインすることを希望しない場合、ユーザは、「手動ログイン」ボタン３６６を選択し、ユーザ名、パスワード、および／またはユーザを自分のユーザアカウントに関連付ける他の情報をタイプすることによって、ユーザのアカウントに手動でアクセスすることができる。さらなる実施形態では、ユーザインターフェース１２０は、自分の顔をスキャンすることによって装置１００がユーザを認識することを可能にする、顔認識ソフトウェアを含むことができる。この顔認識スキャンはまた、ユーザインターフェース１２０がユーザの肌のタイプを決定し、それに応じて光線療法セッションのパラメータを調整することを可能にするように構成され得る。なおもさらなる実施形態では、ユーザインターフェース１２０および／または装置１００の他の部分は、ユーザを識別するように、他の好適な形態の生体認識を含むことができる。

ユーザが自分のアカウントにログインすると、ユーザインターフェース１２０は、ユーザのホームページとしての役割を果たすことができる、図３Ｃに示される表示ページ３５０ｃへナビゲートすることができる。表示ページ３５０ｃは、ユーザインターフェース１２０を種々の他の表示ページへナビゲートする、複数の選択ボタン３６８を含むことができる。例えば、「タイマー制御」ボタン３６８を選択することにより、ユーザが自分の光線療法セッションの持続時間を選択または入力することを可能にする表示ページへユーザインターフェース１２０をナビゲートすることができる。ユーザは、「あなたのアカウント」ボタン３６８を選択して自分のユーザアカウントに関係する情報（例えば、ユーザの住所、病歴、ユーザアカウントに関連付けられるクレジットカード等）を閲覧および／または編集することができ、ユーザは、「設定」ボタン３６８を選択して、ユーザが装置１００に関連付けられる設定、ユーザ選好、および／または他のユーザ特有の設定（例えば、肌のタイプ、年齢等）閲覧および／または編集することができる表示ページへユーザインターフェース１２０をナビゲートすることができる。種々の実施形態では、ユーザは、「設定」ボタン３６８および／または表示ページ３５０ｃ上の他のボタンを選択して、以前の光線療法セッションに関係するフィードバックを入力することができ、装置１００は、それに応じて後続の光線療法セッションを修正することができる。ユーザの以前の光線療法セッションに関係するデータを例証するように、「レポート」ボタン３６８を選択することができる。例えば、ビタミンＤの以前の用量を、チャートおよび／またはグラフの形態でユーザのために表示することができる。「レポート」ボタン３６８はまた、ユーザおよび以前の光線療法セッションに関係する他の種類の概要を表示するように構成することもできる。種々の実施形態では、ユーザは、「購入」ボタン３６８を選択して（例えば、１分および／または１回のセッションごとの）光線療法セッションのパッケージおよび／または関連製品を購入することができる。装置１００に関係する情報全般（例えば、技術仕様）、ビタミンＤ関連情報（例えば、１日用量推奨、ビタミンＤ欠乏の影響、ビタミンＤに関係する記事等）、および／または他の好適な情報を示すように、「情報」ボタン３６８を選択することができる。「情報」ボタンはまた、装置１００がインターネットおよび／または安全なイントラネットに接続されたときに、オンラインリソース（例えば、医学雑誌）にアクセスするために使用することもできる。装置１００がインターネットまたはイントラネットに接続されたとき、オンラインリソース（例えば、医学雑誌）にアクセスするために選択ボタン３６８を使用することができる。

図３Ｃにさらに示されるように、表示ページ３５０ｃはまた、ユーザが光線療法セッションを開始することを可能にする、起動ボタン３７０（「Ｄｓｈｏｔを使用する」と標識される）を含むこともできる。種々の実施形態では、起動ボタン３７０は、光線療法セッションのパラメータに影響を及ぼし得る情報を追加するようにユーザに要求する表示へ表示ページ３５０ｃをナビゲートし得る。別の実施形態では、起動ボタン３７０は、光線療法セッションの開始までのカウントダウンを開始し得る。この実施形態は、ＵＶＢ放射源１１２の上昇時間および／または装置１００の他の特徴に適応することができる。加えて、図３Ｃに示されるように、表示ページ３５０ｃは、任意の時間に自分のユーザアカウントからログアウトするように、「終了」ボタン３７２を含むことができる。

図４は、本技術の実施形態による、ビタミンＤ合成のための集束ＵＶＢ放射を生成する方法４００を図示するブロック図である。種々の実施形態では、方法４００は、図１Ａ−３Ｃを参照して上記で説明される装置１００の特徴に概して類似する特徴を含む、光線治療装置によって行うことができる。方法４００は、随意に、ビタミンＤ光線療法セッションの前にユーザ特有の情報を受信することを含むことができる（ブロック４１０）。ユーザ特有の情報は、（例えば、フィッツパトリックスケールによって特徴付けられるような）肌のタイプ、年齢、体重、現在のビタミンＤレベル、以前のビタミンＤ光線療法セッションに関係するフィードバック、および／またはユーザのビタミンＤ用量に影響を及ぼし得る他の情報、および／または光線治療装置の動作パラメータを含み得る。選択された実施形態では、ビタミンＤ光線療法を受ける個人（すなわち、ユーザ）は、ユーザインターフェースおよび／または（例えば、ウェブサイトおよび／またはスマートフォンアプリケーションを介して）光線治療装置に通信可能に連結された他の好適なデバイスを介して、自分のユーザ特有の情報を入力することができる。他の実施形態では、光線療法セッションを投与する個人（例えば、医師、看護師等）は、ユーザインターフェース、光線治療装置に通信可能に連結された遠隔コンピュータ、および／または他の好適な入力デバイスを介して、ユーザ特有の情報を入力することができる。この実施形態は、光線療法が専門家によって制御されることを可能にし、訓練を受けていないユーザによる不適切な使用を回避する。

方法４００は、ローカルコントローラおよび／またはそれに連結された遠隔サーバを介して、光線療法セッションの性能パラメータを決定することによって継続することができる（ブロック４２０）。例えば、アルゴリズムは、装置によって提供される適切なビタミンＤ用量、光線療法セッションの持続時間、および／または光線療法セッションのための集束ＵＶＢ暴露の強度を決定するために、ユーザ特有の情報を使用することができる。他の実施形態では、ユーザは、ユーザ特有の情報を入力することなく、光線療法セッションの動作パラメータ（例えば、暴露時間）を選択し、および／またはアルゴリズムによって提供される推奨パラメータを無効にすることができる。さらなる実施形態では、本方法は、ブロック４２０を迂回し、光線療法セッションのための非ユーザ特有の暴露パラメータを使用することができる。一実施形態では、例えば、各光線療法セッションは、集束ＵＶＢ暴露の１分未満以内に約５０，０００ＩＵのビタミンＤを典型的なユーザに送達することができる。他の実施形態では、光線療法セッションのパラメータは異なり得る。

図４でさらに示されるように、方法４００は、所定のスペクトル内の集束ＵＶＢ光線を生成することができる（ブロック４３０）。例えば、フィルタおよび／または好適なＵＶ放射源は、皮膚を通した効率的なビタミンＤ産生を促進する波長（例えば、２９７ｎｍ、３０２ｎｍ等）を概して中心とする、狭い帯域幅（例えば、約６〜１０ｎｍの帯域幅）内でＵＶＢ放射を放出することができる。一実施形態では、所定のスペクトルは、約２９０ｎｍから約３１０ｎｍに及ぶ。他の実施形態では、所定のスペクトルは、より広く、または狭くあり得る。

フィルタリングすること、および／または別様に集束ＵＶＢ光線を生成することにより、比較的短い時間量でビタミンＤの用量をユーザに送達することができる（ブロック４４０）。例えば、方法４００は、２分以内にビタミンＤの１週間用量（例えば、７００，０００ＩＵ）を送達することができる。本装置によって提供されるビタミンＤ用量は、以前に提供されたユーザ特有の特性および装置の動作パラメータによって概算することができる。異なるビタミンＤ用量を得るために、例えば、方法４００は、所定のスペクトル内のＵＶＢ光線の強度を増加させること、および／またはビタミンＤ合成に関連付けられる波長に向けてより密に所定のスペクトルを集束させることを含むことができる。暴露時間はまた、ビタミンＤ用量を変化させるように調整することもできる。さらなる実施形態では、方法４００はまた、ユーザが暴露させられるＭＥＤ、および／またはビタミンＤ光線療法を提供することに関連付けられる他の好適なステップを制限するように、光線療法セッションのパラメータを調整することを含むこともできる。

図５Ａは、本技術の別の実施形態に従って構成された集束ＵＶＢ放射のための光線治療装置（「装置５００」）の等角図である。装置５００は、図１Ａ−１Ｄに関して上記で説明される装置の特徴に概して類似する、いくつかの特徴を含む。例えば、本装置は、所定の波長スペクトル（例えば、約２９３〜３０１ｎｍ、２９８〜３０６ｎｍ等）内のエネルギーを放出する、複数の集束ＵＶＢ放射器具またはアセンブリ５１０ａ（「放射アセンブリ５１０ａ」）を含む。図示した実施形態では、放射アセンブリ５１０ａは、台座または基部５３２の上に載置されるか、または別様にそれに取り付けられる、２つの筐体、アーム、またはカラム（第１のカラム５３０ａおよび第２のカラム５３０ｂとして個別に識別され、集合的にカラム５３０と称される）によって支持され、放射アセンブリ５１０ａは、概して、基部５３２の中心部分５３４に向かって内向きに向けられる。基部５３２およびカラム５３０は、一緒になって、ヒト患者を放射アセンブリ５１０ａによって放出される集束ＵＶＢエネルギーに暴露させることができる、照射ゾーンを画定する。ユーザ（例えば、ヒト患者）が基部５３２の中心部分５３４に立つか、または別様に位置付けられるとき、放射アセンブリ５１０ａは、光線療法セッション中に皮膚においてビタミンＤ産生を促進するようにユーザの皮膚を照射することができる。種々の実施形態では、基部５３２の中心部分５３４および／またはカラム５３０は、ユーザの身体の全ての側面を放射アセンブリ５１０ａによって放出されるエネルギーに暴露させるように、互に対して回転し得る（例えば、カラム５３０は、中心部分５３４の周囲に回転し得る）。

図５Ａで図示される実施形態では、装置５００は、実質的に類似する波長および類似する強度でエネルギーを放出する各カラム５３０の中に８つの放射アセンブリ５１０ａを含む。ある実施形態では、第１のカラム５３０ａの中の放射アセンブリ５１０ａは、第１のカラム５３０ａの放射アセンブリ５１０ａからの照射が、第２のカラム５３０ｂの放射アセンブリ５１０ａからの照射に直接重複することを防止するように、第２のカラム５３０ｂの中の放射アセンブリ５１０ａから垂直にオフセットされることができる。例えば、第１のカラム５３０ａの中の放射アセンブリ５１０ａは、ほぼ個々の放射アセンブリ５１０ａの１つの半径だけ第２のカラムの中の放射アセンブリ５１０ａからオフセットすることができる。放射アセンブリ５１０ａのこの交互配列は、カラム５３０の長さに沿ってより均一な強度の照射を提供し、ユーザの皮膚のある領域が他の領域より多くの照射に暴露されることを防止することができる。他の実施形態では、装置５００は、８つより少ないまたは多い放射アセンブリ５１０ａを伴うカラム５３０、放射アセンブリ５１０ａの単一のカラム５３０、放射アセンブリ５１０ａの２本より多くのカラム５３０（例えば、４本のカラム、６本のカラム等）を含むことができ、および／または放射アセンブリ５１０ａは、他の好適な構成で配列することができる。例えば、放射アセンブリ５１０ａは、筐体（例えば、図１Ａ−１Ｃの筐体１０２）によって支持し、概して、筐体によって画定される封入空間に向かって内向きに向けることができる。

図１Ａ−１Ｄを参照して上記で議論される装置５００と同様に、図５Ａの装置５００は、比較的短い光線療法セッションの間に皮膚におけるビタミンＤ産生を促進するように、高強度の集束ＵＶＢ放射を放出することができる。例えば、装置５００は、ビタミンＤの１週間または１ヶ月用量の産生を促進するように、１分間の光線療法セッション中に十分な量の照射を提供することができる。各光線療法セッションの暴露時間は、（例えば、フィッツパトリックスケールによって定義されるような）ユーザの肌のタイプおよび放射アセンブリ５１０ａの強度に基づいて選択することができる。例えば、ユーザの肌の色合いが薄くなるほど、ユーザの皮膚において所望のレベルのビタミンＤ合成を得るために必要な暴露時間が少なくなる。別の実施例として、装置５００によって提供される照射の強度が高くなるほど、ビタミンＤ産生のための所望の照射を得るために必要な暴露時間が少なくなる。種々の実施形態では、少なくとも、光線療法セッションの後にユーザが日光皮膚炎を被る可能性を低減させるように、光線療法セッションの持続時間も選択することができる。例えば、ＵＶＢ照射までの暴露時間は、１．０以下のユーザ特有のＭＥＤ（例えば、０．７５のＭＥＤ）に限定することができる。他の実施形態では、装置５００の暴露時間は、ＵＶＢ照射および／またはビタミンＤ合成のための他の好適なパラメータを使用して決定することができる。

図５Ａに示されるように、各放射アセンブリ５１０ａは、放射源５１２と、放射源５１２を部分的に包囲する反射体５３６と、放射源５１２の前方の随意的なフィルタ５３８とを含むことができる。図５Ｂは、本技術の実施形態に従って構成された図５Ａの放射アセンブリの拡大部分概略側面図である。図５Ｂに示されるように、放射源５１２は、エネルギー（例えば、実線によって示されるような紫外線光）を放出することができ、エネルギーのうちの少なくとも一部は、放射アセンブリ５１０ａから出射する前に反射体５３６（例えば、鏡面基板またはコーティング）に接触することができる。反射体５３６は、所定の帯域幅（例えば、約２９２〜３０２ｎｍ）内の光が（例えば、鎖線によって示されるように）放射アセンブリ５１０ａから出射することができる、フィルタ５３８に向かって、（例えば、実線によって示されるように）前方に光を転換するか、または別様に向けることができる。図示した実施形態では、反射体５３６は、放射源５１２によって放出される光が反射体５３６と接触すると平行になるように、放射源５１２の周囲で曲線状である。次いで、平行光線は、フィルタ５３８に向かって前方に進行し、光の実質的に均一なフィルタリングを提供するように、同一の入射角（例えば、０°）でフィルタ５３８を通過することができる。

図５Ｂで図示される実施形態では、放射源５１２は、アーク管またはエンベロープ５１５の中の２つの電極５１３の間でガス状混合物を通して電気アークを産生することによって光を生成する、一種のＨＩＤガス放電ランプである、メタルハライドランプである。メタルハライドランプのアーク長（すなわち、ほぼ電極５１３の間の距離）は、光の視準を促進するために、メタルハライドランプが点光源と同様に作用するように、全体として放射アセンブリ５１０ａに関して比較的小さくあり得る。ある実施形態では、例えば、電極５１３は、メタルハライドランプが約１０〜１２ｍｍ（例えば、約１１ｍｍ、約１１．５ｍｍ等）のアーク長を有するように、互から離間することができる。他の実施形態では、メタルハライドランプは、メタルハライドランプの構成および放射アセンブリ５１０ａの他の構成要素（例えば、反射体５３６）のサイズに応じて、より大きいまたは小さいアーク長を有することができる。メタルハライドランプは、典型的には、動作温度まで温まる上昇期間を有する。したがって、ある実施形態では、放射アセンブリ５１０ａは、メタルハライドランプがその動作温度まで迅速に上昇することを可能にするように、ある期間（例えば、約２分、約１分等）にわたって放射源５１２を一時的に取り囲むか、または絶縁する、シャッタまたは他のカバー（図示せず）を含むことができる。

種々の実施形態では、アーク管５１５の中のガス混合物は、メタルハライドランプの放射のＵＶＢ含有量を増加させるように選択することができる。例えば、ガス混合物は、ＵＶＢ範囲内でそれらの放射の約１％を有する、通常のタンニングベッドランプと比較して、ＵＶＢ範囲（例えば、約２８０〜３１５ｎｍ）内で全放射の約６％を生成するようにドープされることができる。増加したＵＶＢ含有量のための好適なガス混合物は、Ｈｅｒａｅｕｓ Ｎｏｂｅｌｉｇｈｔ（Ｐｌａｉｎｖｉｅｗ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）から入手可能である。放射の増加したＵＶＢ含有量は、放射アセンブリ５１０ａによって放出されるＵＶＢの強度を増加させることができ、したがって、所望のビタミンＤ用量を達成するために必要な全体的暴露時間を減少させ得る。

図５Ｂに示されるように、放射アセンブリ５１０ａはさらに、最初に反射体５３８から伝搬することなく、光が放射アセンブリ５１０ａから出射することを少なくとも実質的に防止するように、放射源５１２とフィルタ５３８との間に随意的なカバーまたは遮蔽体５４０を含むことができる。図示した実施形態では、例えば、遮蔽体５４０は、（例えば、図１Ｄのスタンドオフ１１４に類似するスタンドオフを使用して）放射源５１２から離間され、アーク管５１５の前方で放射源５１２の一部分の周囲に位置付けられる管状本体である。遮蔽体５４０は、光が放射アセンブリ５１０ａから出射する前に、最初に反射体５３８に接触するように、アーク管５１３から前方に伝搬する光を遮断することができる。このようにして、遮蔽体５４０は、光がフィルタ５３８に接触する前に反射体５３６による光の視準を促進することができる。他の実施形態では、遮蔽体５４０は、光がフィルタ５３８を通って直接前方に伝搬することを防止する、他の好適な形状および構成を有することができる。

フィルタ５３８は、所定の帯域幅の外側のＵＶＢ放射がフィルタ５３８を通過することを防止する、狭域通過フィルタであり得る。例えば、フィルタ５３８は、約２９７ｎｍを中心とする（すなわち、約２９２〜３０２ｎｍ）１０ｎｍスペクトルの外側のＵＶＢ放射を少なくとも実質的に遮断することができる。他の実施形態では、フィルタ５３８は、より狭い帯域幅（例えば、６ｎｍスペクトル、８ｎｍスペクトル等）、より広い帯域幅（例えば、１２ｎｍスペクトル）の外側のＵＶＢ放射を少なくとも実質的に遮断することができ、および／またはスペクトルは、別の好適なＵＶＢ波長（例えば、２９８ｎｍ、３００ｎｍ、３０２ｎｍ等）の周囲を中心とすることができる。

図５Ｂに示されるように、フィルタ５３８は、基板５４２（例えば、ガラス、プラスチック等）と、基板５４２に適用される少なくとも１つの干渉コーティング５４４とを含むことができる。例えば、コーティング５４４は、当業者に公知である方法を使用して、基板５４２上に噴霧し、および／または別様に基板５４２上に堆積させることができる。ある実施形態では、基板５４２は、放射源５１２によって放出される紫外線光のうちの少なくとも一部を遮断する材料（例えば、ガラス）から作製することができる。例えば、基板５４２は、例えば、約２９０ｎｍ以下のＵＶ放射を遮断する、吸収ガラスから作製することができる。コーティング５４４（例えば、１つ以上の光学コーティング）は、所定の帯域幅の外側のエネルギーの追加のフィルタリングを提供するように、基板５４２に適用することができる。例えば、コーティング５４４は、基板５４２およびコーティング５４４が一緒に狭域通過フィルタを形成するように、基板５４２によって提供されるよりも高い精度の所定のスペクトルの外側のエネルギーのフィルタリングを提供することができる。ある実施形態では、例えば、所定のスペクトルの最小波長より小さい波長を伴う光を遮断するように、第１のコーティングを基板５４２に適用することができ、所定のスペクトルの最大波長より高い波長を伴う光を遮断するように、第２のコーティングを基板５４２に適用することができる。他の実施形態では、基板５４２またはコーティング５４４は、単独で、所定のスペクトルの外側の光の好適なフィルタリングを提供することができる。所定のスペクトルの外側のＵＶ放射の少なくとも一部のフィルタリングを提供する、基板５４２およびコーティング５４４は、Ｓｃｈｏｔｔ（Ｅｌｍｓｆｏｒｄ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）から入手可能である。

種々の実施形態では、放射アセンブリ５１０ａの他の部分は、所望の波長スペクトルの外側の少なくとも一部の放射を遮断する、干渉コーティングを含むことができる。例えば、メタルハライドランプの外側電球５１７は、ＵＶＢスペクトルの外側の少なくとも一部のＵＶ放射がメタルハライドランプから出射することを阻止する、干渉コーティングを含むことができる。コーティングは、例えば、ＵＶＣ範囲（例えば、約１００〜２８０ｎｍ）内の放射のうちの一部を遮断し、オゾンが形成することを阻止するように、外側電球５１７に適用することができる。この実施形態では、放射源５１２は、フィルタ５３８に暴露される光のスペクトルを狭くし、したがって、フィルタ５３８は、フィルタ５３８を通過することが許可される光の帯域幅をさらに狭くすることのみに関係する必要がある。

図５Ｃは、本技術の別の実施形態に従って構成された集束ＵＶＢ放射アセンブリ５１０ｂ（「放射アセンブリ５１０ｂ」）の拡大部分概略側面図である。放射アセンブリ５１０ｂは、図５Ｂに関して上記で説明される放射アセンブリ５００ａの特徴に概して類似する特徴を含むことができる。例えば、放射アセンブリ５１０ｂは、ＵＶ放射源５１２と、ＵＶ放射源５１２を少なくとも部分的に包囲する反射体５３６と、フィルタ５３８と、放射源５１２とフィルタ５３８との間の遮蔽体５４０とを含む。放射源５１２は、放射アセンブリ５１０ｂに対して実質的に点光源として機能し、（例えば、図５Ｃの実線によって示されるように）エネルギーを半径方向外向きに放出する、メタルハライドランプであり得る。遮蔽体５４０は、反射体５３６が、フィルタ５３８を通過する前に光を少なくとも実質的に平行にすることができるように、放射源５１２から反射体５３６に向かって後方に放出されたエネルギーを偏倚させ、または別様に方向転換させることができる。図５Ｃで図示される実施形態では、遮蔽体５４０は、実質的に半球形状を有し、基礎部分５４６から遮蔽体５４０まで延在するスタンドオフ５４８（例えば、ロッド、バー等）を用いてメタルハライドランプの基礎部分５４６に接続される。他の実施形態では、遮蔽体５４０は、最初に反射体５３６を平行にすることなく、エネルギーが放射アセンブリ５１０ｂから出射することを阻止するように、他の好適な構成を有することができる。

図６は、太陽の相対放射強度と比較した、メタルハライドＵＶ源（例えば、図５Ａ−５Ｃに関して上記で説明される放射アセンブリ５１０ａおよび５１０ｂ）を伴う集束ＵＶＢ放射アセンブリの相対放射強度の例示的なグラフ表示である。より具体的には、（破線で示される）曲線６０１は、メタルハライド放射アセンブリの強度を表し、（実線で示される）曲線６０３は、オーストラリアのメルボルンで夏の間のほぼ正午に測定された日光の強度を表し、曲線６０５は、皮膚におけるビタミンＤ産生を助長することが知られているＵＶ放射の作用スペクトルを表す。図６で図示されるように、メタルハライド放射アセンブリは、主に約２９２〜３０２ｎｍの間の（例えば、約２９７ｎｍで集束される）紫外線光を放出し、したがって、放射の大部分は、ビタミンＤ産生のための作用スペクトル６０５内である。対照的に、日光のピークエネルギー時間および場所のうちの１つで測定されているにもかかわらず、太陽エネルギーは、ＵＶＢスペクトル（すなわち、約２８０〜３１５ｎｍ）内の比較的低い強度の紫外線光を有し、ＵＶＡスペクトル（すなわち、約３１５〜４００ｎｍ）内の比較的高い強度の紫外線光を有する。例えば、メタルハライド放射アセンブリからの紫外線放射の９９．７％が、集束ＵＶＢ範囲内であり得る一方で、太陽放射のわずか約３．４％が、集束ＵＶＢ範囲内である。したがって、図６で描写されるメタルハライド放射アセンブリを含む光線治療装置は、通常の日光暴露よりはるかに高いＵＶＢ含有量および強度を伴うＵＶエネルギーを放出することができる。この集中ＵＶＢ放射は、皮膚におけるビタミンＤ産生を助長するために使用することができ、日光によって提供できるよりもはるかに短い暴露時間でそうすることができる。例えば、ある実施形態では、（ピーク時間で）約３８分の日光暴露によって提供されるＵＶＢ照射を、メタルハライド放射アセンブリへの１分未満（例えば、５８秒）の暴露によって提供することができる。加えて、メタルハライド放射アセンブリによって提供される高強度のＵＶＢ放射は、日光によって提供される低強度のＵＶＢ放射より有意に多くのビタミンＤ合成を皮膚において促進することができる。ある実施形態では、例えば、メタルハライド放射アセンブリは、日光から得ることができるより少なくとも３倍のビタミンＤの産生を皮膚において提供することができる（例えば、太陽エネルギーを介した２０，０００ＩＵ等量と比較して、集束ＵＶＢ放射を介した７４，５００ＩＵ）。また、ＵＶＢ放射の高い集中にもかかわらず、所定のスペクトルの外側のＵＶ放射の多くが（例えば、図５Ａ−５Ｃのフィルタ５３８を介して）集束ＵＶＢ放射アセンブリによって除外されるので、集束ＵＶＢ放射アセンブリは、対象（例えば、ヒト患者）を光線療法セッション中に日光暴露より少ない全体的なＵＶエネルギーに暴露させる（例えば、日光よりも６２倍少ないＵＶエネルギー）。したがって、集束ＵＶＢ放射アセンブリは、日光よりも皮膚においてビタミンＤを産生するための実質的に効率的な手段を提供し、日光暴露の地理的で天候依存性の開始を伴わずにそうする。

図７は、本技術のさらなる実施形態に従って構成された光線治療装置のための集束ＵＶＢ放射アセンブリ（「放射アセンブリ７１０」）の正面図である。放射アセンブリ７１０は、図１Ｄ、５Ｂ、および５Ｃに関して上記で説明される放射アセンブリ１１０、５１０ａ、および５１０ｂの特徴に概して類似する特徴を含むことができる。例えば、放射アセンブリ７１０は、ＵＶ放射源７１２と、放射源７１２の後ろで部分的にその周囲に位置付けられる反射体７３６と、放射源７１２の前方のフィルタ７３８とを含むことができる。図示した実施形態では、放射源７１２は、高い圧力でイオン化キセノンガスに電気を通過させることによって、管内のパルスまたは連続光線７５２を産生する、キセノンランプ７５０である。キセノンランプ７５０は、電源（例えば、示されていない１６ｋＷ電源）に連結することができ、冷却するために放射アセンブリ７１０の一方または両方の端部から集束空気を供給することができる。キセノンランプは、本質的に、高ＵＶＢ含有量を伴うエネルギーを放出し、したがって、放射アセンブリ７１０によって提供される集束ＵＶＢ照射を促進する。放射アセンブリ７１０のための好適なキセノンランプ（例えば、パルス直線状キセノンランプ）は、Ｈｅｒａｅｕｓ Ｎｏｂｅｌｉｇｈｔ ＧｍｂＨ（Ｈａｎａｕ，Ｇｅｒｍａｎｙ）から入手可能である。

図７に示されるように、キセノンランプ７５０は、直線状紫外線光線７５２を放出する、細長い構造であり得る。例えば、キセノンランプ７５０は、光線治療装置（例えば、図１Ａおよび５Ａの光線治療装置１００および５００）の高さまたは長さに沿って延在することができるように、約８ｍｍの直径および約１６５ｍｍの長さを有することができる。他の実施形態では、キセノンランプは、より長いまたは短い長さであり得、および／またはより小さいまたは大きい直径を有することができる。反射体７３６（例えば、バレル反射体）はまた、フィルタリングされたＵＶＢ光が放射アセンブリから出射するフィルタ７３８に向かって前方に光を向けるように、キセノンランプ７５０の長さに沿って延在する細長い構造であり得る。フィルタ７３８は、ある波長以下（例えば、約２９０ｎｍ以下）のエネルギーを遮断する、吸収ガラスまたは他の種類の基板を含むことができ、干渉コーティングは、（例えば、約３０６ｎｍ以上の）より高い波長を伴うエネルギーを遮断することができる。

キセノンランプ７５０を伴う放射アセンブリ７１０は、上記で説明される光線治療装置１００および５００の中のメタルハライドランプと併せて、またはその代わりに使用することができる。例えば、放射アセンブリ７１０は、カラム（例えば、図５Ａの光線治療装置のカラム５３０のうちの１本）によって支持されることができ、キセノンランプ７５０は、実質的にカラムの長さに沿って延在する光線を生成するように構成されることができる。動作中に、放射アセンブリ７１０のうちの１つ以上は、集束ＵＶＢ放射を基部の上に立っている対象（例えば、ヒト患者）に提供するように、基部（例えば、図５Ａの基部５３２の中心部分５３４）の周囲で回転されることができる。他の実施形態では、１つ以上の放射アセンブリ７１０は、筐体（例えば、図１Ａの筐体１０２）に組み込まれ、筐体によって提供される封入空間に向かって放射を向けるように構成されることができる。

図８は、太陽の相対放射強度と比較した、パルスキセノンＵＶ源を伴う集束ＵＶＢ放射アセンブリ（例えば、図７の放射アセンブリ７１０）の相対放射強度の例示的なグラフ表示である。（破線として示される）曲線８０１は、キセノンランプ放射アセンブリの強度を表し、（実線として示される）曲線８０３は、（オーストラリアのメルボルンで夏の間のほぼ正午に測定された）太陽光の強度を表し、曲線８０５は、皮膚におけるビタミンＤ産生のＵＶ放射の作用スペクトルを表す。図８に示されるように、（曲線８０３の下の領域によって画定されるような）太陽のスペクトルは、ビタミンＤ作用スペクトル８０５内で非常に少ない出力（例えば、約３．４％）を有する。対照的に、キセノンランプ放射アセンブリの出力のほぼ全て（例えば、９８％以上）は、ビタミンＤ作用スペクトル８０５内である。加えて、キセノンランプ放射アセンブリによって提供されるＵＶＢ放射の強度は、太陽エネルギーによって提供されるよりもはるかに高い。したがって、キセノンランプ放射アセンブリは、太陽エネルギーによって提供することができるより有意に短い暴露時間で皮膚におけるビタミンＤ合成を促進する、ビタミンＤ作用スペクトル８０５内の集束ＵＶＢ放射を提供することができる。例えば、１分未満（例えば、５７秒）に１つのキセノンランプ放射アセンブリによって提供されるＵＶＢ放射は、３０分以上（例えば、３８分）の日光暴露と同等である。

種々の実施形態では、上記で説明される光線治療装置１００および５００は、随意的なフィルタと組み合わせて、所定のスペクトル内の集束ＵＶＢ照射を提供することができる、他の種類のＵＶ放射源（例えば、図１Ｄ、５Ｂ、５Ｃ、および７の放射源１１２、５１２、および７１２）を含むことができる。例えば、ＵＶ放射源は、特定の波長（例えば、２９５ｎｍ、２９７ｎｍ、３００ｎｍ等）で発光する、複数のＬＥＤ（例えば、何千個ものＬＥＤ）から成ることができる。好適なＬＥＤは、例えば、Ｓｅｎｓｏｒ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｉｎｃ．（Ｃｏｌｕｍｂｕｓ，Ｓｏｕｔｈ Ｃａｒｏｌｉｎａ）から入手可能である。ある実施形態では、１つ以上のＬＥＤは、（例えば、図５Ａ−５Ｃのメタルハライドランプと同様に）個々の放射アセンブリに配列することができる。他の実施形態では、ＬＥＤは、（例えば、図７のキセノンランプと同様に）光線治療装置の長さに沿って延在する細長い行および／または列に配列することができる。ＬＥＤの実質的に単色の出力は、所定のスペクトル内のＵＶＢ放射を提供するために必要なフィルタリングの量を制限し得る。加えて、ＬＥＤは、（例えば、ＨＩＤランプと比較して）比較的低い電力消費を有し、したがって、本質的に電力の節約を提供する。さらなる実施形態では、ＵＶ放射源は、狭いスペクトル範囲内で発光することができるエキシマーランプ（例えば、Ｕｓｈｉｏ（Ｃｙｐｒｅｓｓ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ）から入手可能なエキシマーランプ）、および／または集束ＵＶＢ放射のために操作することができる他の好適なＵＶ放射源から成ることができる。

（実施例）
以下の実施例は、本技術のいくつかの実施形態を例証する。
１．照射ゾーンを少なくとも部分的に画定する筐体であって、前記照射ゾーンは、ヒト患者の少なくとも一部分を収容するように構成されている、筐体と、
前記筐体によって支持されている紫外線（ＵＶ）放射源と、
前記ＵＶ放射源と前記照射ゾーンとの間のフィルタであって、前記フィルタは、所定のスペクトルの外側のＵＶ放射を少なくとも実質的に除去するように構成され、前記所定のスペクトルは、最大でも１０ｎｍの帯域幅を有し、約２９７ｎｍを中心とする、フィルタと
を備えている、光線治療装置。
２．前記筐体は、前記照射ゾーンを少なくとも部分的に取り囲む側壁を含み、
前記ＵＶ放射源は、複数の高輝度放電ランプを備え、
前記フィルタは、対応する複数の高輝度放電ランプを少なくとも部分的に覆う複数のコーティングされた石英ガラス管を備え、
前記フィルタの前記所定のスペクトルは、約２９２〜３０２ｎｍであり、
前記光線治療装置は、前記ヒト患者の皮膚を介してビタミンＤ産生を促進するように構成されている、実施例１に記載の光線治療装置。
３．前記筐体は、前記照射ゾーンに向けられている少なくとも１本のカラムを備え、
前記ＵＶ放射源は、複数のメタルハライドランプを備え、
前記光線治療装置は、対応する複数のメタルハライドランプを部分的に包囲する複数の反射体をさらに備え、前記反射体は、個々のメタルハライドランプによって放出されるＵＶエネルギーを前記フィルタに向けるように構成されている、実施例１に記載の光線治療装置。
４．前記フィルタの前記所定のスペクトルは、最大でも８ｎｍの帯域幅を有する、実施例１に記載の光線治療装置。
５．前記ＵＶ放射源および前記フィルタは、２分以下の暴露期間中に１未満の肌タイプ調整ＭＥＤを送達するように構成されている、実施例１に記載の光線治療装置。
６．前記ＵＶ放射源は、複数のメタルハライドランプを備えている、実施例１に記載の光線治療装置。
７．前記ＵＶ放射源は、キセノンランプを備えている、実施例１に記載の光線治療装置。８．前記ＵＶ放射源は、約２９５〜３０２ｎｍの波長を有する複数のＬＥＤを備えている、実施例１に記載の光線治療装置。
９．前記ＵＶ放射源および前記フィルタは、集束ＵＶＢ放射アセンブリを画定し、前記集束ＵＶＢ放射アセンブリは、前記ＵＶ放射源を少なくとも部分的に包囲し、前記ＵＶ放射源によって放出されるＵＶエネルギーを前記フィルタに向けるように構成されている反射体をさらに備えている、実施例１に記載の光線治療装置。
１０．前記反射体は、前記ＵＶ放射源が前記フィルタに接触する前に、前記ＵＶ放射源によって放出されるＵＶエネルギーを少なくとも実質的に平行にするように構成されている、実施例９に記載の光線治療装置。
１１．前記集束ＵＶＢ放射アセンブリは、前記ＵＶ放射源と前記フィルタとの間に遮蔽体をさらに備え、前記遮蔽体は、前記ＵＶ放射源によって放出される少なくとも一部のＵＶエネルギーを、前記フィルタに接触する前に前記反射体に向けるように構成されている、実施例１０に記載の光線治療装置。
１２．前記フィルタは、コーティングされたガラス基板を備えている、実施例１に記載の光線治療装置。
１３．前記コーティングされたガラス基板は、前記ＵＶ放射源を覆うスリーブである、実施例１２に記載の光線治療装置。
１４．前記ヒト患者におけるビタミンＤ合成に影響を及ぼすパラメータに関係するユーザ入力を受信するように構成されているユーザインターフェースをさらに備えている、実施例１に記載の光線治療装置。
１５．前記ユーザインターフェースは、前記光線治療装置、またはそれに通信可能に連結されている遠隔光線治療装置によって提供された以前の光線療法セッションに関するフィードバックをユーザから受信するように構成されている、実施例１４に記載の光線治療装置。
１６．空間を少なくとも部分的に取り囲む筐体であって、前記空間は、人体の少なくとも一部分を収容するように構成されている、筐体と、
概して、前記空間に向けられている集束紫外線Ｂ（ＵＶＢ）放射アセンブリと
を備え、
前記集束ＵＶＢ放射アセンブリは、概して、約２９７ｎｍで集束されているＵＶＢ放射を送達するように構成され、前記ＵＶＢ放射アセンブリは、２分未満の暴露期間中にヒトの皮膚において少なくとも２０，０００ＩＵのビタミンＤ産生を促進するように構成されている、
光線治療装置。
１７．前記集束ＵＶＢ放射アセンブリは、所定のスペクトルの外側のＵＶ放射を少なくとも実質的に遮断する手段を含み、前記所定のスペクトルは、約２９２〜３０２ｎｍの範囲内である、実施例１６に記載の光線治療装置。
１８．前記集束ＵＶＢ放射アセンブリは、
複数のメタルハライドランプと、
前記メタルハライドランプと前記空間との間で離間されている複数のフィルタと
を備えている、実施例１６に記載の光線治療装置。
１９．前記フィルタは、約２９２〜３０２ｎｍの集束スペクトルの外側のＵＶ放射を少なくとも実質的に除去するように構成されている、実施例１８に記載の光線治療装置。
２０．前記ＵＶＢ放射アセンブリは、前記複数のメタルハライドランプを少なくとも部分的に包囲する複数の平行反射体をさらに備えている、実施例１９に記載の光線治療装置。２１．前記集束ＵＶ放射アセンブリは、１ＭＥＤの最大でも９０％に人体を暴露させるように構成され、前記ＭＥＤは、前記人体の肌のタイプに合わせて調整されている、実施例１６に記載の光線治療装置。
２２．肌のタイプまたはビタミンＤ要求のうちの少なくとも１つに関係するユーザ入力を受信するように構成されているユーザインターフェースをさらに備えている、実施例１６に記載の光線治療装置。
２３．光線治療装置を用いて集束紫外線放射を送達する方法であって、前記方法は、
概して、筐体によって画定される照射ゾーンに向けて紫外線を伝送することと、
所定のスペクトルの外側の前記紫外線を少なくとも実質的にフィルタリングすることであって、前記所定のスペクトルは、約２９７ｎｍを中心とする、ことと、
５分以内に、前記紫外線の前記伝送を終了することと
を含む、方法。
２４．ユーザインターフェースを介してユーザ入力を受信することであって、前記ユーザ入力は、肌のタイプまたはビタミンＤ投与量のうちの少なくとも１つに関係する、ことと、
少なくとも部分的に前記照射ゾーン内でビタミンＤの用量をユーザに送達することであって、前記ビタミンＤの用量は、前記ユーザ入力に関係する、ことと
をさらに含む、実施例２３に記載の方法。
２５．前記光線治療装置、またはそれに連結されている遠隔光線治療装置によって送達された以前のビタミンＤ用量に関係するフィードバックを前記ユーザから受信することをさらに含む、実施例２４に記載の方法。
２６．ビタミンＤ光線療法を提供する方法であって、前記方法は、
照射ゾーンと前記照射ゾーンに向けられた集束紫外線Ｂ（ＵＶＢ）放射アセンブリを有する光線治療装置を提供することと、
前記集束ＵＶＢ放射アセンブリを介して、少なくとも実質的に所定のスペクトル内で集束されるＵＶ光線を生成することであって、前記所定のスペクトルは、約２９０〜３０６ｎｍの範囲内である、ことと、
所定の暴露時間以内に前記照射ゾーン内でビタミンＤの用量をヒト患者に送達することであって、前記ビタミンＤは、前記ヒト患者の皮膚の複数部分で産生される、ことと
を含む、方法。
２７．少なくとも実質的に前記所定のスペクトル内で集束されるＵＶ光線を生成することは、
少なくとも１つの高輝度放電ランプからＵＶ放射を伝送することと、
前記少なくとも１つの高輝度放電ランプと内部チャンバとの間のコーティングされた基板を使用して、前記所定のスペクトルの外側の前記ＵＶ放射を少なくとも実質的にフィルタリングすることと
を含む、実施例２６に記載の方法。
２８．少なくとも実質的に前記所定のスペクトル内で集束されるＵＶ光線を生成することは、約２９７ｎｍを中心とする最大でも１０ｎｍのスペクトル内で少なくとも実質的に集束されている波長を有するＵＶ光線を生成することを含む、実施例２６に記載の方法。
２９．前記ビタミンＤの用量を前記ユーザに送達することは、最大でも３分以内に前記ＵＶＢ放射を終了することを含む、実施例２６に記載の方法。
３０．前記ビタミンＤの用量を前記ユーザに送達することは、１未満の肌タイプ調整ＭＥＤに前記ユーザを暴露させることを含む、実施例２６に記載の方法。
３１．最大でも３分後に前記ＵＶ光線を自動的に終了することをさらに含む、実施例２６に記載の方法。
３２．ビタミンＤ投与量または肌のタイプのうちの少なくとも１つに関係するユーザ入力を受信することと、
前記ユーザ入力に基づいて、前記ビタミンＤの用量の所定の期間を選択することと
をさらに含む、実施例２６に記載の方法。
３３．光線治療装置を制御するためのコンピュータ読み取り可能な媒体であって、前記媒体は、方法を前記光線治療装置に行わせるための命令を有し、前記方法は、
前記光線治療装置の照射ゾーンに向けられるＵＶ放射源を介して、少なくとも実質的に所定のスペクトル内で集束される紫外線（ＵＶ）を生成することであって、前記所定のスペクトルは、概して、約２９７ｎｍで集束される、ことと、
所定の期間内にチャンバ内でビタミンＤの用量をユーザに送達することと
を含む、コンピュータ読み取り可能な媒体。
３４．少なくとも実質的に前記所定のスペクトル内で集束されるＵＶ光線を生成するための前記命令は、約２９０ｎｍから約３０５ｎｍの間の波長を伴うＵＶエネルギーを生成することを含む、実施例３３に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
３５．前記命令は、前記ユーザが最大でも２標準ＭＥＤに暴露されたときに前記ＵＶ放射を終了することをさらに含む、実施例３３に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。
３６．前記所定の期間内に前記ビタミンＤの用量を前記ユーザに送達する前記命令は、最大でも３分後に前記ＵＶ放射を終了することを含む、実施例３３に記載のコンピュータ読み取り可能な媒体。

（結論）
先述の内容から、本技術の具体的実施形態は、例証の目的で本明細書において説明されているが、本開示から逸脱することなく、種々の修正が行われてもよいことが理解されるであろう。例えば、本明細書で開示される種々の実施形態は、２９７ｎｍの周囲でＵＶＢ放射を集束させるフィルタを含む。しかしながら、他の実施形態では、フィルタは、皮膚においてビタミンＤ産生を可能にし、および／または皮膚を介して治療される他の疾患または障害（例えば、乾癬、湿疹等）に対する治療効果を提供する、他の波長の周囲でＵＶＢ放射を集束させることができる。特定の実施形態との関連で説明される新しい技術のある側面は、他の実施形態で組み合わせられ、または排除され得る。例えば、図５Ａ−５Ｃで説明されるメタルハライドＵＶ源および／または図７で説明されるキセノンＵＶ源を、図１Ａ−１Ｃの光線治療装置のためのＵＶ放射源の代わりに、またはそれと併せて使用することができる。加えて、新しい技術のある実施形態に関連付けられる利点が、これらの実施形態との関連で説明されているが、他の実施形態もまた、そのような利点を示し得、全ての実施形態が、本技術の範囲内に入るそのような利点を必ずしも示す必要はない。したがって、本開示および関連技術は、本明細書で明示的に示されていない、または説明されていない、他の実施形態を包含することができる。

Claims (1)

1. 本明細書に記載の発明。