JP2017179499A - ビスマス電解澱物の処理方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 Bi電解澱物から純度の高いBiOClを得ることができるビスマス電解澱物の処理方法を提供する。
【解決手段】 ビスマス電解澱物の処理方法は、ビスマス電解澱物を塩酸にてpH1以下に調整して浸出する工程と、前記浸出後、固液分離を行う工程と、前記固液分離によって得られた浸出後液のpHが1を超えるように水を添加することでオキシ塩化ビスマスを生成させる工程と、を含むことを特徴とする。
【選択図】 図1

Description

本発明は、ビスマス電解澱物の処理方法に関する。
Bi(ビスマス)電解澱物には、BiOCl(オキシ塩化ビスマス)等とともに、不純物が含まれている。このBi電解澱物から不純物を分離するために、澱物中のBiを塩酸でBiClとする浸出が行われている。浸出後、ろ過によりBiClを含む浸出後液と不純物とを分離することができる(例えば、特許文献1参照)。
特開2012−144754号公報
上記技術では、浸出後液が苛性ソーダで中和され、水酸化物としてBiが回収されてしまう。すなわち、Bi電解電物から純度の高いBiOClを得ることができない。
本発明は上記の課題に鑑み、Bi電解澱物から純度の高いBiOClを得ることができるビスマス電解澱物の処理方法を提供すること目的とする。
本発明に係るビスマス電解澱物の処理方法は、ビスマス電解澱物を塩酸にてpH1以下に調整して浸出する工程と、前記浸出後、固液分離を行う工程と、前記固液分離によって得られた浸出後液のpHが1を超えるように水を添加することでオキシ塩化ビスマスを生成させる工程と、を含むことを特徴とする。前記オキシ塩化ビスマスを生成させた後の前記浸出後液に対して固液分離を行い、得られた溶液を塩酸溶液として用いてもよい。前記浸出する工程において、前記塩酸溶液を用いてもよい。
本発明に係るBi電解澱物の処理方法によれば、Bi電解澱物から純度の高いBiOClを得ることができる。
粗BiメタルからBiを製造する工程を表すフロー図である。 Bi−Cl−HO系のpH電位図である。 BiOClを塩化炉に投入した場合の反応シミュレーションの結果を例示する図である。 BiOClの熱分析(TG−DTA)の解析結果を例示する図である。
(実施形態)
図1は、Pb(鉛)などを不純物として含む粗BiメタルからBiを製造する工程を表すフロー図である。図1で例示するように、まず、粗Biメタルを塩化炉に投入する。塩化炉においては、塩素源から得られる塩素によって粗Biメタル中の不純物が塩化して揮発する。例えば、粗Biメタル中のPbが、塩化物として除去される。それにより、Biアノードが生成される。塩化によって得られたPbCl(塩化鉛)は、鉛電気炉へと投入されることで、鉛製造工程に供される。なお、塩素源、塩化炉の条件等の詳細については後述する。
次に、BiアノードからBiを電解採取するBi電解処理を行う。Bi電解処理によって得られた電着Biは、製品Biとして出荷される。Bi電解処理によって得られたBi電解澱物は、塩酸を含む浸出液を用いた浸出工程に供される。図2は、Bi−Cl−HO系のpH電位図である。このpH電位図は、本発明者らがシミュレーションによって得た電位図である。このpH電位図によれば、pH=1においてBiCl(l)とBiOCl(s)とが平衡する。そこで、本実施形態においては、浸出工程において、塩酸を用いて浸出液のpHを1以下に調整する。それにより、以下の反応式(1)によって、Bi電解澱物中のBiをBiClとして溶解させることができる。なお、浸出液の温度は、常温〜70℃程度が好ましい。
BiOCl+2HCl→BiCl+HO (1)
浸出工程で得られた浸出後液には、上記反応式(1)によってBiClが含まれている。そこで、図2のpH電位図に基づいて、浸出後液に対して工水などの水を添加することで、浸出後液のpHを、1を越える値に調整する。それにより、以下の反応式(2)によって、BiClからBiOCl(s)を生成することができる。なお、浸出後液のCl濃度は、一例として60g/L〜80g/L程度である。すなわち、Cl濃度が比較的低くなっている。この場合においては、浸出後液中のBiは過度に安定しない。したがって、低いpH値(例えば1<pH値≦1.3)でもBiOCl(s)を生成することができる。すなわち、アルカリを添加せずに水添加で十分にBiOCl(s)を生成することができる。
BiCl+HO→BiOCl(s)+2HCl (2)
次に、浸出後液に対して固液分離を行うことで、浸出後液を濾液とBiOClとに分離する。濾液には、キレート中和滓および塩酸が添加される。それにより、キレート酸洗浄が行わる。その後、固液分離によって、脱銅キレート滓が濾液から分離される。濾液には塩酸が含まれるため、浸出工程の塩酸として用いる。それにより、塩酸の使用量が低減される。
pHの調整によって得られたBiOClは、上述した塩素源として塩化炉に戻される。それにより、BiOClを塩素ガスの代わりとして用いることができる。例えば、以下の反応式(3)によって、粗Biメタル中のPbおよびAgが、この順に塩化物として除去される。それにより、Biアノードが生成される。
2BiOCl+3Pb→2PbO+PbCl (3)
ここで、BiOClを塩化炉に投入した場合の反応シミュレーションについて説明する。図3は、BiOClを塩化炉に投入した場合の反応シミュレーションの結果を例示する図である。図3で例示するように、塩化炉にBiOClを投入することによって、メタル中のPbを0.8mass%程度まで除去することができる。しかしながら、BiOCl/Pb=0.7(モル比)以上添加しても、BiOClが残ることになる。そこで、塩化炉における粗Biメタルの反応初期にBiOClを添加し、その後に塩素ガスを添加することが好ましい。
ここで、BiOClの熱分析(TG−DTA)の解析結果について説明する。図4は、BiOClの熱分析(TG−DTA)の解析結果を例示する図である。図4で例示するように、TG曲線(質量変化)とDTA曲線(発熱/吸熱)の傾きから、BiOClの溶融温度がわかる。図4では、約225℃からDTA線の傾きが緩やかになっており、吸熱程度が弱まったことから、BiOClは、225℃程度で溶融することがわかる。また、BiOCl中の塩素は、700℃程度でClとして揮発する。この得られたClを用いることで、BiOClを有効利用することができる。
塩化炉は、以下の条件で操業することが好ましい。
塩化炉条件
溶湯温度:450℃〜600℃、より好ましくは470℃〜520℃。
BiOClの添加時期:反応開始初期が好ましく、具体的には溶湯に鉛が1%以上含まれる状態で添加するのが良い。これは、0.8mass%以下では未反応のBiOClが残るためおそれがあるためである。
添加量及び添加順序:特に限定をしない。
本実施形態においては、溶液に対してBiおよび不純物が溶解するpH値の差に着目している。具体的には、浸出工程において、塩酸を用いて浸出液のpHを1以下に調整することで、Bi電解澱物中のBiをBiClとして溶解させている。それにより、不溶性の塩化物と溶解したBiClとを分離することができる。次に、不純物を分離した浸出後液に工水などの水を添加して浸出後液のpHを、1を超える値に調整することで、BiClからBiOCl(s)を生成することができる。この場合、CuやFeなどの不純物は沈殿しないため、純度の高いBiOClを得ることができる。Bi以外の成分の沈殿を抑制するためには、pH値は、1を超える値であって2以下であることが好ましい。この1<pH値≦2であれば、CuやFeなどの不純物の沈殿をより抑制することができるからである。また、pH値は、1.2以上1.5以下であることがより好ましい。1.2以上1.5以下とすることで、過剰な水添加をなくすことができ、排水処理が容易になるからである。また、本実施形態においては、浸出液のpHに応じて塩酸が添加されるため、塩酸を過剰に添加する必要がない。それにより、塩酸の使用量を低減することができる。なお、pHを下げてBiを浸出する場合、pHの好ましい範囲は、0.1以上1以下である。pHのより好ましい範囲は、0.2以上0.5以下である。0.2〜0.5とし、過剰な塩酸添加をなくすことで、水を添加してBi沈殿させるときに少ない水でpHをあげることができる。
また、本実施形態においては、塩化炉におけるBiOClの反応に着目している。塩化炉にBiOClを供給することで、粗ビスマスメタル中の不純物を塩化除去することができる。すなわち、BiOClを塩化炉における塩素源として用いることで、塩素ガス以外の塩素源を用いることができる。また、BiOClとして浸出後液から得られるBiOClを用いることで、BiOClを有効利用することができる。また、BiOClに含まれる塩素は浸出工程で用いられた塩酸から得られるものであるため、塩酸の有効利用も可能となる。また、浸出後液からBiOClを生成しているため、浸出後液を中和などしてビスマスの水酸化物を得る必要がなくなる。それにより、工程が簡略化される。
以上、本発明の実施例について詳述したが、本発明は係る特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。

Claims (3)

  1. ビスマス電解澱物を塩酸にてpH1以下に調整して浸出する工程と、
    前記浸出後、固液分離を行う工程と、
    前記固液分離によって得られた浸出後液のpHが1を超えるように水を添加することでオキシ塩化ビスマスを生成させる工程と、を含むことを特徴とするビスマス電解澱物の処理方法。
  2. 前記オキシ塩化ビスマスを生成させた後の前記浸出後液に対して固液分離を行い、得られた溶液を塩酸溶液として用いることを特徴とする請求項1記載のビスマス電解澱物の処理方法。
  3. 前記浸出する工程において、前記塩酸溶液を用いることを特徴とする請求項2記載のビスマス電解澱物の処理方法。
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