JP2017186325A - １，２，４−トリアゾール化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】少ない工程数で、高収率で１，２，４−トリアゾール化合物を製造する方法の提供。
【解決手段】式（２）で表されるアミド化合物と式（３）で表されるヒドラジド化合物とを、ルイス酸及びルイス塩基の存在下、溶媒中で反応させ、式（１）で表される１，２，４−トリアゾール化合物を得る工程を含む、１，２，４−トリアゾール化合物の製造方法。

［Ｒ^１はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、複素環基等；Ｒ^２及びＲ^３は夫々独立にＨ、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、複素環基等；環Ａ及び環Ｂは夫々独立に、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環］
【選択図】なし

Description

本発明は、１，２，４−トリアゾール化合物の製造方法に関する。

１，２，４−トリアゾール環を有する化合物（１，２，４−トリアゾール化合物）は、有機エレクトロニクス材料の中間体として有用である。例えば、特許文献１には、配位子として１，２，４−トリアゾール構造を有するイリジウム錯体を用いた発光素子が記載されている。

１，２，４−トリアゾールの合成法として、例えば、特許文献１及び非特許文献１にはオキサジアゾールを経由した合成方法が記載されている。

米国特許出願公開第２０１５／０３４９２６７号明細書

ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ ２０１２，６８，４８１３

しかし、上記のオキサジアゾールを経由した合成方法では、工程数が多く、収率が低いという課題があった。

そこで、本発明は、少ない工程数で、高収率で１，２，４−トリアゾール化合物を得ることが可能な、１，２，４−トリアゾール化合物の製造方法を提供することを目的とする。

本発明は、以下の［１］〜［７］を提供する。
［１］式（２）で表されるアミド化合物と式（３）で表されるヒドラジド化合物とを、ルイス酸及びルイス塩基の存在下、溶媒中で反応させ、式（１）で表される１，２，４−トリアゾール化合物を得る工程を含む、１，２，４−トリアゾール化合物の製造方法。

［式中、
Ｒ^１はアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基又は置換アミノ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基又は置換アミノ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれが結合する炭素原子と、環Ａ中の該炭素原子に隣り合う原子とともに、環を形成していてもよい。
環Ａ及び環Ｂは、それぞれ独立に、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表し、これらの環は置換基を有していてもよい。該置換基が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、互いに結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。］
［２］前記アミド化合物が、式（２ａ）で表される化合物であり、前記１，２，４−トリアゾール化合物が、式（１ａ）で表される化合物である、［１］に記載の製造方法。

［式中、
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及び環Ｂは前記と同じ意味を表す。
Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ^２とＲ^４、Ｒ^４とＲ^５、Ｒ^５とＲ^６、及び、Ｒ^６とＲ^３は、それぞれ結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。］
［３］前記ヒドラジド化合物が、式（３ａ）で表される化合物であり、前記１，２，４−トリアゾール化合物が、式（１ｂ）で表される化合物である、［２］に記載の製造方法。

［式中、
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は前記と同じ意味を表す。
Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９及びＲ^１０は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ^７とＲ^８、Ｒ^８とＲ^９、及び、Ｒ^９とＲ^１０は、それぞれ結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。］
［４］Ｒ^１が置換基を有していてもよいアルキル基である、［１］〜［３］のいずれかに記載の製造方法。
［５］前記ルイス酸が酸無水物である、［１］〜［４］のいずれかに記載の製造方法。
［６］前記ルイス塩基が有機塩基である、［１］〜［５］のいずれかに記載の製造方法。
［７］前記アミド化合物と前記ヒドラジド化合物とを、前記溶媒の沸点以下の温度で反応させる、［１］〜［６］のいずれかに記載の製造方法。

本発明によれば、少ない工程数で、高収率で１，２，４−トリアゾール化合物を得ることが可能な、１，２，４−トリアゾール化合物の製造方法が提供される。

以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。

＜共通する用語の説明＞
本明細書で共通して用いられる用語は、特記しない限り、以下の意味である。

Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｂｕはブチル基、ｉ−Ｐｒはイソプロピル基、ｔ−Ｂｕはｔｅｒｔ−ブチル基、Ｐｈはフェニル基を表す。

水素原子（「Ｈ」とも表記する。）は、重水素原子であっても、軽水素原子であってもよい。

「アルキル基」は、直鎖及び分岐のいずれでもよい。直鎖のアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常１〜５０であり、好ましくは１〜１０であり、より好ましくは１〜５である。分岐のアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３〜５０であり、好ましくは３〜３０であり、より好ましくは４〜２０であり、更に好ましくは５〜１０である。
アルキル基は、置換基を有していてもよい。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、２−エチルブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、３−プロピルヘプチル基、デシル基、３，７−ジメチルオクチル基、２−エチルオクチル基、２−ヘキシルデシル基、ドデシル基等が挙げられる。また、アルキル基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基であってもよい。このようなアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、３−フェニルプロピル基、３−（４−メチルフェニル）プロピル基、３−（３，５−ジ−ヘキシルフェニル）プロピル基、６−エチルオキシヘキシル基が挙げられる。
「シクロアルキル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３〜５０であり、好ましくは３〜３０であり、より好ましくは４〜２０である。
シクロアルキル基は、置換基を有していてもよい。シクロアルキル基としては、例えば、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基が挙げられる。

「アリール基」は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子１個を除いた残りの原子団を意味する。アリール基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常６〜６０であり、好ましくは６〜２０であり、より好ましくは６〜１０である。
アリール基は、置換基を有していてもよい。アリール基としては、例えば、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−アントラセニル基、２−アントラセニル基、９−アントラセニル基、１−ピレニル基、２−ピレニル基、４−ピレニル基、２−フルオレニル基、３−フルオレニル基、４−フルオレニル基、２−フェニルフェニル基、３−フェニルフェニル基、４−フェニルフェニル基等が挙げられる。また、アリール基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基であってもよい。

「アルコキシ基」は、直鎖及び分岐のいずれでもよい。直鎖のアルコキシ基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常１〜４０であり、好ましくは４〜１０である。分岐のアルコキシ基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３〜４０であり、好ましくは４〜１０である。
アルコキシ基は、置換基を有していてもよい。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、３，７−ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基等が挙げられる。また、アルコキシ基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基であってもよい。
「シクロアルコキシ基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３〜４０であり、好ましくは４〜１０である。
シクロアルコキシ基は、置換基を有していてもよい。シクロアルコキシ基としては、例えば、シクロヘキシルオキシ基が挙げられる。

「アリールオキシ基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常６〜６０であり、好ましくは６〜４８である。
アリールオキシ基は、置換基を有していてもよい。アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、１−アントラセニルオキシ基、９−アントラセニルオキシ基、１−ピレニルオキシ基等が挙げられる。また、アリールオキシ基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、フッ素原子等で置換された基であってもよい。

「ｐ価の複素環基」（ｐは、１以上の整数を表す。）とは、複素環式化合物から、環を構成する炭素原子又はヘテロ原子に直接結合している水素原子のうちｐ個の水素原子を除いた残りの原子団を意味する。ｐ価の複素環基の中でも、芳香族複素環式化合物から、環を構成する炭素原子又はヘテロ原子に直接結合している水素原子のうちｐ個の水素原子を除いた残りの原子団である「ｐ価の芳香族複素環基」が好ましい。
「芳香族複素環式化合物」は、オキサジアゾール、チアジアゾール、チアゾール、オキサゾール、チオフェン、ピロール、ホスホール、フラン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、トリアジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、カルバゾール、ジベンゾホスホール等の複素環自体が芳香族性を示す化合物、及び、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾボロール、ジベンゾシロール、ベンゾピラン等の複素環自体は芳香族性を示さなくとも、複素環に芳香環が縮環されている化合物を意味する。

ｐ価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常２〜６０であり、好ましくは３〜２０であり、より好ましくは４〜２０である。
ｐ価の複素環基は、置換基を有していてもよい。ｐ価の複素環基のうち、１価の複素環基としては、例えば、チエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジニル基、ピペリジニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、ピリミジニル基、トリアジニル基等が挙げられる。また、１価の複素環基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基等で置換された基であってもよい。

「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を示す。

「アミノ基」は、置換基を有していてもよく、置換アミノ基が好ましい。アミノ基が有する置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基が好ましい。
置換アミノ基としては、二置換アミノ基が好ましい。二置換アミノ基としては、例えば、ジアルキルアミノ基、ジシクロアルキルアミノ基及びジアリールアミノ基が挙げられる。
二置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビス（４−メチルフェニル）アミノ基、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）アミノ基、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）アミノ基が挙げられる。

「アルケニル基」は、直鎖及び分岐のいずれでもよい。直鎖のアルケニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常２〜３０であり、好ましくは３〜２０である。分岐のアルケニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３〜３０であり、好ましくは４〜２０である。
「シクロアルケニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３〜３０であり、好ましくは４〜２０である。
アルケニル基及びシクロアルケニル基は、置換基を有していてもよい。アルケニル基としては、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、７−オクテニル基、及び、これらの基における水素原子の一部又は全部が置換基で置換された基が挙げられる。シクロアルケニル基としては、例えば、シクロへキセニル基、２−ノルボルニレニル基が挙げられる。

「アルキニル基」は、直鎖及び分岐のいずれでもよい。アルキニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常２〜２０であり、好ましくは３〜２０である。分岐のアルキニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常４〜３０であり、好ましくは４〜２０である。
「シクロアルキニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常４〜３０であり、好ましくは４〜２０である。
アルキニル基及びシクロアルキニル基は、置換基を有していてもよい。アルキニル基としては、例えば、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、３−ペンチニル基、４−ペンチニル基、１−ヘキシニル基、５−ヘキシニル基、及び、これらの基における水素原子の一部又は全部が置換基で置換された基が挙げられる。

「アリーレン基」は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子２個を除いた残りの原子団を意味する。アリーレン基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常６〜６０であり、好ましくは６〜３０であり、より好ましくは６〜１８である。
アリーレン基は、置換基を有していてもよい。アリーレン基としては、例えば、フェニレン基、ナフタレンジイル基、アントラセンジイル基、フェナントレンジイル基、ジヒドロフェナントレンジイル基、ナフタセンジイル基、フルオレンジイル基、ピレンジイル基、ペリレンジイル基、クリセンジイル基、及び、これらの基における水素原子の一部又は全部が置換基で置換された基が挙げられる。アリーレン基は、好ましくは、式（Ａ−１）〜式（Ａ−２０）で表される基である。アリーレン基は、これらの基が複数結合した基を含む。

式中、Ｒ及びＲ^ａは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表す。複数存在するＲ及びＲ^ａは、各々、同一でも異なっていてもよく、Ｒ^ａ同士は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよい。

２価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常２〜６０であり、好ましくは、３〜２０であり、より好ましくは、４〜１５である。
２価の複素環基は、置換基を有していてもよい。２価の複素環基としては、例えば、ピリジン、ジアザベンゼン、トリアジン、アザナフタレン、ジアザナフタレン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ジベンゾシロール、フェノキサジン、フェノチアジン、アクリジン、ジヒドロアクリジン、フラン、チオフェン、アゾール、ジアゾール、トリアゾールから、環を構成する炭素原子又はヘテロ原子に直接結合している水素原子のうち２個の水素原子を除いた２価の基、及び、これらの基における水素原子の一部又は全部が置換基で置換された基が挙げられる。２価の複素環基は、好ましくは、式（ＡＡ−１）〜式（ＡＡ−３４）で表される基である。２価の複素環基は、これらの基が複数結合した基を含む。

式中、Ｒ及びＲ^ａは、前記と同じ意味を表す。

「架橋基」とは、加熱、紫外線照射、近紫外線照射、可視光照射、赤外線照射、ラジカル反応等に供することにより、新たな結合を生成することが可能な基である。架橋基は、好ましくは、式（Ｂ−１）〜（Ｂ−１７）のいずれかで表される基である。これらの基は、置換基を有していてもよい。

「置換基」とは、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、置換アミノ基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基又はシクロアルキニル基を表す。置換基は架橋基であってもよい。

本明細書において、アリール基、１価の複素環基又は置換アミノ基は、デンドロンであってもよい。

「デンドロン」とは、原子又は環を分岐点とする規則的な樹枝状分岐構造（即ち、デンドリマー構造）を有する基を意味する。デンドロンを有する化合物（以下、「デンドリマー」と言う。）としては、例えば、国際公開第２００２／０６７３４３号、特開２００３−２３１６９２号公報、国際公開第２００３／０７９７３６号、国際公開第２００６／０９７７１７号等の文献に記載の構造が挙げられる。

デンドロンとしては、好ましくは、式（Ｄ−Ａ）又は（Ｄ−Ｂ）で表される基である。

式中、
ｍ^ＤＡ１、ｍ^ＤＡ２及びｍ^ＤＡ３は、それぞれ独立に、０以上の整数を表す。
Ｇ^ＤＡは、窒素原子、芳香族炭化水素基又は複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ａｒ^ＤＡ１、Ａｒ^ＤＡ２及びＡｒ^ＤＡ３は、それぞれ独立に、アリーレン基又は２価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ａｒ^ＤＡ１、Ａｒ^ＤＡ２及びＡｒ^ＤＡ３が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Ｔ^ＤＡは、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＴ^ＤＡは、同一であっても異なっていてもよい。

式中、
ｍ^ＤＡ１、ｍ^ＤＡ２、ｍ^ＤＡ３、ｍ^ＤＡ４、ｍ^ＤＡ５、ｍ^ＤＡ６及びｍ^ＤＡ７は、それぞれ独立に、０以上の整数を表す。
Ｇ^ＤＡは、窒素原子、芳香族炭化水素基又は複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＧ^ＤＡは、同一であっても異なっていてもよい。
Ａｒ^ＤＡ１、Ａｒ^ＤＡ２、Ａｒ^ＤＡ３、Ａｒ^ＤＡ４、Ａｒ^ＤＡ５、Ａｒ^ＤＡ６及びＡｒ^ＤＡ７は、それぞれ独立に、アリーレン基又は２価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ａｒ^ＤＡ１、Ａｒ^ＤＡ２、Ａｒ^ＤＡ３、Ａｒ^ＤＡ４、Ａｒ^ＤＡ５、Ａｒ^ＤＡ６及びＡｒ^ＤＡ７が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Ｔ^ＤＡは、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＴ^ＤＡは、同一であっても異なっていてもよい。

ｍ^ＤＡ１、ｍ^ＤＡ２、ｍ^ＤＡ３、ｍ^ＤＡ４、ｍ^ＤＡ５、ｍ^ＤＡ６及びｍ^ＤＡ７は、通常１０以下の整数であり、好ましくは５以下の整数であり、より好ましくは０又は１である。ｍ^ＤＡ２、ｍ^ＤＡ３、ｍ^ＤＡ４、ｍ^ＤＡ５、ｍ^ＤＡ６及びｍ^ＤＡ７は、同一の整数であることが好ましく、ｍ^ＤＡ１、ｍ^ＤＡ２、ｍ^ＤＡ３、ｍ^ＤＡ４、ｍ^ＤＡ５、ｍ^ＤＡ６及びｍ^ＤＡ７は、同一の整数であることがより好ましく、ｍ^ＤＡ１、ｍ^ＤＡ２、ｍ^ＤＡ３、ｍ^ＤＡ４、ｍ^ＤＡ５、ｍ^ＤＡ６及びｍ^ＤＡ７は、全て０であることが更に好ましい。

Ｇ^ＤＡは、好ましくは式（ＧＤＡ−１１）〜（ＧＤＡ−１５）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。

式中、
＊は、式（Ｄ−Ａ）におけるＡｒ^ＤＡ１、式（Ｄ−Ｂ）におけるＡｒ^ＤＡ１、式（Ｄ−Ｂ）におけるＡｒ^ＤＡ２、又は、式（Ｄ−Ｂ）におけるＡｒ^ＤＡ３との結合を表す。
＊＊は、式（Ｄ−Ａ）におけるＡｒ^ＤＡ２、式（Ｄ−Ｂ）におけるＡｒ^ＤＡ２、式（Ｄ−Ｂ）におけるＡｒ^ＤＡ４、又は、式（Ｄ−Ｂ）におけるＡｒ^ＤＡ６との結合を表す。
＊＊＊は、式（Ｄ−Ａ）におけるＡｒ^ＤＡ３、式（Ｄ−Ｂ）におけるＡｒ^ＤＡ３、式（Ｄ−Ｂ）におけるＡｒ^ＤＡ５、又は、式（Ｄ−Ｂ）におけるＡｒ^ＤＡ７との結合を表す。
Ｒ^ＤＡは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は更に置換基を有していてもよい。Ｒ^ＤＡが複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。

Ｒ^ＤＡは、好ましくは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基又はシクロアルコキシ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。

Ａｒ^ＤＡ１、Ａｒ^ＤＡ２、Ａｒ^ＤＡ３、Ａｒ^ＤＡ４、Ａｒ^ＤＡ５、Ａｒ^ＤＡ６及びＡｒ^ＤＡ７は、好ましくは式（ＡｒＤＡ−１）〜（ＡｒＤＡ−３）で表される基である。

式中、
Ｒ^ＤＡは上記と同じ意味を表す。
Ｒ^ＤＢは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ^ＤＢが複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。

Ｒ^ＤＢは、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基であり、より好ましくはアリール基又は１価の複素環基であり、更に好ましくはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。

Ｔ^ＤＡは、好ましくは式（ＴＤＡ−１）〜（ＴＤＡ−３）で表される基である。

式中、Ｒ^ＤＡ及びＲ^ＤＢは上記と同じ意味を表す。

式（Ｄ−Ａ）で表される基は、好ましくは式（Ｄ−Ａ１）〜（Ｄ−Ａ３）で表される基である。

式中、
Ｒ^ｐ１、Ｒ^ｐ２及びＲ^ｐ３は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基又はハロゲン原子を表す。Ｒ^ｐ１及びＲ^ｐ２が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
ｎｐ１は、０〜５の整数を表し、ｎｐ２は０〜３の整数を表し、ｎｐ３は０又は１を表す。複数存在するｎｐ１は、同一であっても異なっていてもよい。

式（Ｄ−Ｂ）で表される基は、好ましくは式（Ｄ−Ｂ１）〜（Ｄ−Ｂ３）で表される基である。

式中、
Ｒ^ｐ１、Ｒ^ｐ２及びＲ^ｐ３は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基又はハロゲン原子を表す。Ｒ^ｐ１及びＲ^ｐ２が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
ｎｐ１は０〜５の整数を表し、ｎｐ２は０〜３の整数を表し、ｎｐ３は０又は１を表す。ｎｐ１及びｎｐ２が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。

ｎｐ１は、好ましくは０〜３の整数であり、より好ましくは１〜３の整数であり、更に好ましくは１である。ｎｐ２は、好ましくは０又は１であり、より好ましくは０である。ｎｐ３は好ましくは０である。

Ｒ^ｐ１、Ｒ^ｐ２及びＲ^ｐ３は、好ましくはアルキル基又はシクロアルキル基である。

＜１，２，４−トリアゾール化合物の製造方法＞
本実施形態に係る製造方法は、式（２）で表されるアミド化合物と式（３）で表されるヒドラジド化合物とを、ルイス酸及びルイス塩基の存在下、溶媒中で反応させ、式（１）で表される１，２，４−トリアゾール化合物を得る工程を含む。

Ｒ^１は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基であり、より好ましくはアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、さらに好ましくはアルキル基又はアリール基であり、特に好ましくはアルキル基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ^１は、置換基を有さないアルキル基がとりわけ好ましい。

Ｒ^１は、例えば、直鎖のアルキル基であってよく、Ｒ^１における直鎖のアルキル基の好適な例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−へキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等が挙げられる。

Ｒ^１は、例えば、分岐のアルキル基であってよく、Ｒ^１における分岐のアルキル基の好適な例としては、式（Ｉ−０１）〜（Ｉ−２１）で表される基が挙げられ、式（Ｉ−０８）〜（Ｉ−１０）、又は、式（Ｉ−１２）〜（Ｉ−１５）で表される基が好ましく、式（Ｉ−０８）〜（Ｉ−１０）、式（Ｉ−１２）、又は、式（Ｉ−１３）で表される基がより好ましい。

Ｒ^１は、例えば、シクロアルキル基であってよく、Ｒ^１におけるシクロアルキル基の好適な例としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基等が挙げられる。

Ｒ^１は、例えば、アリール基であってよく、Ｒ^１におけるアリール基の好適な例としては、式（ＩＶ−０１）〜（ＩＶ−０９）で表される基、式（Ｖ−０１）〜（Ｖ−０８）で表される基等が挙げられる。

Ｒ^２及びＲ^３は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であることが好ましく、水素原子又はアルキル基であることがより好ましく、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ^２及びＲ^３は、水素原子又は置換基を有さないアルキル基が更に好ましい。

Ｒ^２及びＲ^３は、一方が水素原子で、他方がアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であってよい。また、Ｒ^２及びＲ^３は、両方が水素原子であってよく、両方がアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であってもよい。

Ｒ^２及びＲ^３の好適な例としては、式（ＩＩ−０１）〜（ＩＩ−１４）で表される基が挙げられる。

環Ａは、Ｒ^２及びＲ^３を有する環が６員環の芳香族炭化水素環又は６員環の芳香族複素環であることが好ましく、６員環の芳香族炭化水素環であることがより好ましく、これらの環は置換基を有していてもよい。

環Ａは、単環の芳香族炭化水素環、縮合環を有する芳香族炭化水素環、単環の芳香族複素環、又は、縮合環を有する芳香族複素環であることが好ましく、単環の芳香族炭化水素環、縮合環を有する芳香族炭化水素環、又は、縮合環を有する芳香族複素環であることがより好ましく、単環の芳香族炭化水素環、又は、縮合環を有する芳香族炭化水素環であることが更に好ましく、単環の芳香族炭化水素環であることが特に好ましく、これらの環は置換基を有していてもよい。

環Ａで表される芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環、インデン環又はフェナントレン環が好ましく、ベンゼン環、フルオレン環又はフェナントレン環がより好ましく、ベンゼン環が更に好ましく、これらの環は置換基を有していてもよい。

環Ａで表される芳香族複素環としては、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、ピリジン環、ジアザベンゼン環又はトリアジン環が好ましく、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環又はカルバゾール環がより好ましく、これらの環は置換基を有していてもよい。

環Ａが有していてよいＲ^２及びＲ^３以外の置換基は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基であることが好ましく、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であることがより好ましく、アルキル基又はアリール基であることが更に好ましく、これらの基は更に置換基を有していてもよい。

環Ａとしては、例えば、式（Ｌ−１）〜（Ｌ−１６）で表される構造が挙げられる。これらのうち、環Ａとしては、式（Ｌ−１）〜（Ｌ−１０）で表される構造が好ましく、式（Ｌ−１）〜（Ｌ−６）で表される構造がより好ましく、式（Ｌ−１）又は（Ｌ−２）で表される構造が特に好ましい。ここで、結合手は、隣接位の窒素原子との結合を表す。

式中、
Ｒ^２及びＲ^３は、前記と同じ意味を表す。
Ｒ^Ｌ４は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲ^Ｌ４は、同一であっても異なっていてもよく、隣接するＲ^Ｌ４同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。
Ｒ^Ｌ５は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲ^Ｌ５は、同一であっても異なっていてもよく、互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。

Ｒ^Ｌ４は、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基であることが好ましく、水素原子又はアルキル基であることがより好ましく、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ^Ｌ４で表されるアルキル基又はシクロアルキル基としては、式（ＩＩＩ−０１）〜（ＩＩＩ−１０）で表される基が好ましい。

Ｒ^Ｌ５は、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であることが好ましく、アリール基であることがより好ましく、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ^Ｌ５で表されるアリール基としては、式（ＩＶ−０１）〜（ＩＶ−０９）で表される基が好ましい。

環Ｂは、６員環の芳香族炭化水素環又は６員環の芳香族複素環であることが好ましく、６員環の芳香族炭化水素環であることがより好ましく、これらの環は置換基を有していてもよい。

環Ｂは、単環の芳香族炭化水素環、縮合環を有する芳香族炭化水素環、単環の芳香族複素環、又は、縮合環を有する芳香族複素環であることが好ましく、単環の芳香族炭化水素環、縮合環を有する芳香族炭化水素環、又は、縮合環を有する芳香族複素環であることがより好ましく、単環の芳香族炭化水素環、又は、縮合環を有する芳香族炭化水素環であることが更に好ましく、単環の芳香族炭化水素環であることが特に好ましく、これらの環は置換基を有していてもよい。

環Ｂとしては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環、インデン環、フェナントレン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、ピリジン環、ジアザベンゼン環、トリアジン環が挙げられる。環Ｂは、ベンゼン環、フルオレン環、インデン環、フェナントレン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、ピリジン環、ジアザベンゼン環又はトリアジン環であることが好ましく、ベンゼン環、フルオレン環、フェナントレン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、ピリジン環、ジアザベンゼン環又はトリアジン環であることがより好ましく、ベンゼン環、フルオレン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、ピリジン環又はピリミジン環であることが更に好ましく、ベンゼン環、フルオレン環、ジベンゾフラン環又はジベンゾチオフェン環であることが特に好ましく、ベンゼン環であることがとりわけ好ましく、これらの環は置換基を有していてもよい。

環Ｂが有していてよい置換基は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基又はハロゲン原子であることが好ましく、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であることがより好ましく、アルキル基又はアリール基であることが更に好ましく、これらの基は更に置換基を有していてもよい。

本実施形態に係る製造方法において、式（２）で表されるアミド化合物は、式（２ａ）で表される化合物であってよい。

Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基であることが好ましく、水素原子、アルキル基又はアリール基であることがより好ましく、これらの基は置換基を有していてもよい。

Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６の好適な例としては、式（ＩＩ−０１）〜（ＩＩ−１７）で表される基、式（Ｄ−Ａ）で表される基、及び、式（Ｄ−Ｂ）で表される基が挙げられる。

Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６において、式（Ｄ−Ａ）又は（Ｄ−Ｂ）で表される基の好適な例としては、例えば、式（ＩＩ−１８）〜（ＩＩ−２３）で表される基が挙げられる。

本実施形態に係る製造方法において、式（３）で表されるヒドラジド化合物は、塩酸塩等の塩であってもよい。

本実施形態に係る製造方法において、式（３）で表されるヒドラジド化合物は、式（３ａ）で表される化合物であってよい。

Ｒ^７及びＲ^１０は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基又はハロゲン原子であることが好ましく、水素原子、アルキル基又はアリール基であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましく、これらの基は置換基を有していてもよい。

Ｒ^８及びＲ^９は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基又はハロゲン原子であることが好ましく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であることがより好ましく、水素原子、アルキル基又はアリール基であることが更に好ましく、これらの基は置換基を有していてもよい。

Ｒ^８及びＲ^９の好適な例としては、式（ＩＩ−０１）〜（ＩＩ−１７）で表される基、式（Ｄ−Ａ）で表される基、及び、式（Ｄ−Ｂ）で表される基が挙げられる。

Ｒ^８及びＲ^９において、式（Ｄ−Ａ）又は（Ｄ−Ｂ）で表される基の好適な例としては、式（ＩＩ−１８）〜（ＩＩ−２３）で表される基が挙げられる。

本実施形態に係る製造方法で得られる１，２，４−トリアゾール化合物は、例えば、式（１ａ）で表される化合物であってよい。

また、本実施形態に係る製造方法で得られる１，２，４−トリアゾール化合物は、例えば、式（１ｂ）で表される化合物であってよい。

本実施形態に係る製造方法で得られる１，２，４−トリアゾール化合物の例としては、下記式（Ｔｒ−０１）〜（Ｔｒ−０７）で表される化合物が挙げられる。

式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^５、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９は上記と同様の意味を表す。

本実施形態に係る製造方法で得られる１，２，４−トリアゾール化合物としては、例えば、下記式で表される化合物が挙げられる。

また、上記の１，２，４−トリアゾール化合物の例示は、環Ａ、環Ｂ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９及びＲ^１０の好適な一形態を示すものということができ、環Ａ、環Ｂ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９及びＲ^１０の好適な例として、上記の１，２，４−トリアゾール化合物の例示における各基が挙げられる。

また、上記の１，２，４−トリアゾール化合物の例示おける環Ａ、環Ｂ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９及びＲ^１０を任意に組み合わせた化合物も、好適な１，２，４−トリアゾール化合物として例示できる。

本実施形態に係る製造方法では、式（２）で表されるアミド化合物と式（３）で表されるヒドラジド化合物との反応を、ルイス酸及びルイス塩基の存在下、溶媒中で行う。

ルイス酸としては、例えば、塩化鉄（ＩＩＩ）、塩化アルミニウム（ＩＩＩ）、塩化亜鉛（ＩＩ）、塩化チタン（ＩＶ）、塩化銅（ＩＩ）、塩化パラジウム（ＩＩ）、トリメチルシリルクロリド、トリフェニルシリルクロリド、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体、トリフルオロメタンスルホン酸亜鉛（ＩＩ）、トリフルオロメタンスルホン酸アルミニウム（ＩＩＩ）、トリメチルシリルトリフラート及びアセチルアセトン亜鉛（ＩＩ）等の金属又は半金属化合物；カルボン酸ハロゲン化物、スルホン酸ハロゲン化物及びリン酸ハロゲン物等の酸ハロゲン化物；カルボン酸エステル、スルホン酸エステル及びリン酸エステル等のエステル化合物；、並びに、カルボン酸無水物、スルホン酸無水物及びリン酸無水物等の酸無水物が挙げられる。ルイス酸は、好ましくは、酸ハロゲン化物、エステル化合物又は酸無水物であり、より好ましくは酸無水物である。

酸ハロゲン化物、エステル化合物及び酸無水物において、酸としては、１，２，４−トリアゾール化合物の収率が向上するので、好ましくはカルボン酸、スルホン酸又はリン酸であり、より好ましくはカルボン酸又はスルホン酸であり、更に好ましくはスルホン酸である。

酸ハロゲン化物、エステル化合物及び酸無水物が、それぞれ、カルボン酸ハロゲン化物、カルボン酸エステル化合物及びカルボン酸無水物である場合、カルボン酸としては、例えば、酢酸、トリフルオロ酢酸及びプロピオン酸等の脂肪族カルボン酸、並びに、安息香酸等の芳香族カルボン酸が挙げられ、好ましくは、脂肪族カルボン酸であり、より好ましくは酢酸又はトリフルオロ酢酸である。

酸ハロゲン化物、エステル化合物及び酸無水物が、それぞれ、スルホン酸ハロゲン化物、スルホン酸エステル化合物及びスルホン酸無水物である場合、スルホン酸としては、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸及びメタンスルホン酸等の脂肪族スルホン酸、並びに、ｐ−トルエンスルホン酸の芳香族スルホン酸が挙げられ、好ましくは、脂肪族スルホン酸であり、より好ましくはトリフルオロメタンスルホン酸である。

本実施形態に係る製造方法において、ルイス酸は、１，２，４−トリアゾール化合物の収率がより向上するので、好ましくは、カルボン酸無水物、スルホン酸無水物又はリン酸無水物であり、より好ましくはカルボン酸無水物又はスルホン酸無水物であり、更に好ましくはスルホン酸無水物であり、特に好ましくは脂肪族スルホン酸無水物である。

上記反応におけるルイス酸の使用量は、式（２）で表されるアミド化合物のモル数の合計に対して、０．０１〜３０モル当量であることが好ましく、０．１〜２０モル当量であることがより好ましく、１〜１０モル当量であることが更に好ましい。

ルイス酸は、１種を単独で用いても二種以上を併用してもよい。

ルイス塩基としては、有機塩基が好ましい。

ルイス塩基における有機塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン及びピペリジン等の脂肪族アミン化合物；トリフェニルアミン等の芳香族アミン化合物；ピリジン、ピリミジン等の含窒素複素環式化合物；、並びに、トリフェニルホスフィン等のホスフィン化合物が挙げられ、好ましくは、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物又は含窒素複素環式化合物であり、より好ましくは含窒素複素環式化合物である。

ルイス塩基における含窒素複素環式化合物は、１，２，４−トリアゾール化合物の収率が向上するので、ピリジン化合物が好ましい。ピリジン化合物としては、例えば、ピリジン；２，６−ルチジン及び２，６−ジ−ｔ−ブチルピリジン等のアルキル置換ピリジン化合物；、並びに、２−クロロピリジン、２−フルオロピリジン及び２−ブロモピリジン等のハロゲン置換ピリジン化合物が挙げられ、１，２，４−トリアゾール化合物の収率がより向上するので、好ましくは、アルキル置換ピリジン化合物又はハロゲン置換ピリジン化合物であり、より好ましくは、ハロゲン置換ピリジン化合物であり、更に好ましくは、２−クロロピリジン又は２−フルオロピリジンである。

上記反応におけるルイス塩基の使用量は、式（２）で表されるアミド化合物のモル数の合計に対して、０．１〜３０モル当量であることが好ましく、０．５〜２０モル当量であることがより好ましく、１〜１０モル当量であることが更に好ましい。

ルイス塩基は、１種を単独で用いても二種以上を併用してもよい。

溶媒としては、アミド化合物及びヒドラジド化合物が溶解する溶媒から選択されることが好ましい。

溶媒としては、例えば、有機溶媒及び水が挙げられ、有機溶媒が好ましい。

有機溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン（ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、及び、これらの混合物）、メシチレン、エチルベンゼン及びシクロへキシルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ブロモベンゼン及びフルオロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒；メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、グリセリン、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール等のアルコール系溶媒；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル、ジグリム、アニソール、メチルアニソール及びジメトキシベンゼン等のエーテル系溶媒；アセトニトリル及びベンゾニトリル等のニトリル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びアセトフェノン等のケトン系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びＮ−メチル−２−ピロリドン等のアミド系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル及び安息香酸メチル等のエステル系溶媒；ペンタン、ヘキサン、オクタン、デカン、シクロヘキサン及びデカリン等の脂肪族炭化水素系溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロブタン及びブロモホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒；並びに、ジメチルスルホキシドが挙げられる。

有機溶媒は、好ましくは、芳香族炭化水素系溶媒、ハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、ハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒系又はジメチルスルホキシドであり、より好ましくは、芳香族炭化水素系溶媒、ハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒又はハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒であり、更に好ましくは、芳香族炭化水素系溶媒又はハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒であり、特に好ましくは、ハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒である。

脂肪族炭化水素系溶媒において、脂肪族炭化水素の炭素原子数は、好ましくは５〜３０であり、より好ましくは、６〜１５である。
ハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒において、ハロゲン化脂肪族炭化水素の炭素原子数は、好ましくは３〜２０であり、より好ましくは、４〜１０である。

ハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒は、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン及びクロロブタン等の塩素化脂肪族炭化水素系溶媒であることが好ましく、クロロブタンであることがより好ましい。

芳香族炭化水素系溶媒において、芳香族炭化水素の炭素原子数は、好ましくは６〜２０であり、より好ましくは、６〜１０である。
ハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒において、ハロゲン化芳香族炭化水素の炭素原子数は、好ましくは６〜２０であり、より好ましくは、６〜１０である。

ハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒は、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン及びトリクロロベンゼン等の塩素化芳香族炭化水素系溶媒であることが好ましく、クロロベンゼン及びジクロロベンゼンであることがより好ましい。

溶媒は、１ａｔｍ及び２５℃において、液体であることが好ましい。

溶媒としては、沸点が４０℃以上の溶媒が好ましく、８５℃以上の溶媒がより好ましい。溶媒の沸点は、例えば１６０℃以下であってよく、１４０℃以下であってもよい。

本明細書において、「沸点」とは１ａｔｍにおける沸点を意味する。

溶媒の使用量は、式（２）で表されるアミド化合物を１質量部としたとき、通常０．１〜１００質量部であり、１〜８０質量部であることが好ましく、５〜５０質量部であることがより好ましい。

溶媒は、１種を単独で用いても二種以上を併用してもよい。

アミド化合物とヒドラジド化合物との反応の反応温度は、溶媒の沸点以下の温度であることが好ましい。

反応温度は、３０℃以上であることが好ましく、４０℃以上であることがより好ましい。反応温度の上限は特に限定されないが、例えば１６０℃以下であってよく、１４０℃以下であってもよく、１００℃以下であってもよい。

アミド化合物とヒドラジド化合物との反応の反応時間は、特に限定されないが、通常、０．５〜１５０時間である。

アミド化合物とヒドラジド化合物との反応は、常圧（１ａｔｍ）下で反応を行うことが好ましい。

アミド化合物とヒドラジド化合物との反応は、不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。不活性ガスは、例えば、窒素、アルゴン等であってよい。

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。

以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。

ＬＣ−ＭＳは、下記の方法で測定した。
測定試料を約２ｍｇ／ｍＬの濃度になるようにクロロホルム又はテトラヒドロフランに溶解させ、ＬＣ−ＭＳ（Ａｇｉｌｅｎｔ製、商品名：１１００ＬＣＭＳＤ）に約１μＬ注入した。ＬＣ−ＭＳの移動相には、アセトニトリル及びテトラヒドロフランの比率を変化させながら用い、０．２ｍＬ／分の流量で流した。カラムは、Ｌ−ｃｏｌｕｍｎ ２ ＯＤＳ（３μｍ）（化学物質評価研究機構製、内径：２．１ｍｍ、長さ：１００ｍｍ、粒径３μｍ）を用いた。

ＮＭＲは、下記の方法で測定した。
５〜１０ｍｇの測定試料を約０．５ｍＬの重クロロホルム（ＣＤＣｌ_３）、重テトラヒドロフラン、重ジメチルスルホキシド、重アセトン、重Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、重トルエン、重メタノール、重エタノール、重２−プロパノール又は重塩化メチレンに溶解させ、ＮＭＲ装置（Ａｇｉｌｅｎｔ製、商品名：ＩＮＯＶＡ３００又はＭＥＲＣＵＲＹ ４００ＶＸ）を用いて測定した。

化合物の純度の指標として、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）面積百分率の値を用いた。この値は、特に記載がない限り、ＨＰＬＣ（島津製作所製、商品名：ＬＣ−２０Ａ）でのＵＶ＝２５４ｎｍにおける値とする。この際、測定する化合物は、０．０１〜０．２重量％の濃度になるようにテトラヒドロフラン又はクロロホルムに溶解させ、濃度に応じてＨＰＬＣに１〜１０μＬ注入した。ＨＰＬＣの移動相には、アセトニトリル／テトラヒドロフランの比率を１００／０〜０／１００（容積比）まで変化させながら用い、１．０ｍＬ／分の流量で流した。カラムは、Ｋａｓｅｉｓｏｒｂ ＬＣ ＯＤＳ ２０００（東京化成工業製）又は同等の性能を有するＯＤＳカラムを用いた。検出器には、フォトダイオードアレイ検出器（島津製作所製、商品名：ＳＰＤ−Ｍ２０Ａ）を用いた。

化合物の純度の指標として、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）面積百分率の値を用いた。この値は、特に記載がない限り、ＧＣ（Ａｇｉｌｅｎｔ社製、商品名：Ａｇｉｌｅｎｔ７８２０）での値とする。この際、測定する化合物は、０．０１〜０．２重量％の濃度になるようにテトラヒドロフラン又はクロロホルムに溶解させ、濃度に応じてＧＣに１〜１０μＬ注入した。キャリヤーはヘリウムを用い、１．０ｍＬ／分の流量で流した。カラムオーブンは５０℃〜３００℃まで変化させながら用いた。ヒーター温度は注入口２８０℃、検出器３２０℃とした。カラムは、ＳＧＥ製ＢＰＸ−５（３０ｍ×０．２５ｍｍ×０．２５μｍ）を用いた。

＜実施例１＞
下記の方法で、１，２，４−トリアゾール化合物（化合物１）を合成した。

反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、２，４−ジメチルアニリン（２０ｇ）（化合物１ａ）、トリエチルアミン（２７ｍＬ）及びアセトン２７５ｍＬを加え撹拌した。その後、反応容器を氷浴を用いて冷却し、２，２−ジメチルブチリルクロリド（２４ｍＬ）を滴下した。室温で４時間撹拌後、反応容器に氷水を加え、析出した固体をろ過した。得られた固体を５０℃で減圧乾燥させることにより、化合物１ｂ（２８ｇ、白色固体、収率７７％）を得た。化合物１ｂのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％であった。上記操作を繰り返し、必要量を確保した。

化合物１ｂのＮＭＲ測定結果は、以下のとおりであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ（ｐｐｍ）：０．９４（３Ｈ，ｔ），１．２９（６Ｈ，ｓ），１．６７（２Ｈ，ｑ），２．２１（３Ｈ，ｓ），２．２８（３Ｈ，ｓ），６．９９（１Ｈ，ｓ），７．００（１Ｈ，ｄ），７．１２（１Ｈ，ｂｒ），７．６５（１Ｈ，ｄ）．

反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物１ｂ（６０．０ｇ）、モノクロロベンゼン（４８０ｍＬ）、２−フルオロピリジン（２６ｍＬ）及びトリフルオロメタンスルホン酸無水物（５０ｍＬ）を加え、室温下で３０分間撹拌した。その後、そこへ、ベンズヒドラジド（４１ｇ）を加え、９０℃で３時間撹拌することにより、化合物１を得た。反応液を少量取り出し、クロロホルムで希釈したものについて、ＨＰＬＣ測定を実施した。ＨＰＬＣから求めた化合物１の収率は９７％であった。

化合物１のＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：［Ｍ＋Ｈ］^＋ ３２０．
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ_２Ｃｌ_２―ｄ_２， ６００ＭＨｚ） δ（ｐｐｍ）：７．４２−７．３７（ｍ，２Ｈ），７．３５−７．３１（ｍ，２Ｈ），７．２９−７．２５（ｍ，２Ｈ），７．１９（ｄ，１Ｈ），７．０７（ｓ，１Ｈ），２．４０（ｓ，３Ｈ），１．７９−１．７２（ｍ，４Ｈ），１．５７−１．４５（ｍ，１Ｈ），１．３４（ｓ，３Ｈ），１．１５（ｓ，３Ｈ），０．８９（ｔ，３Ｈ）．

＜比較例１＞
下記の方法で、１，２，４−トリアゾール化合物（化合物１）を合成した。

反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、ベンゾイルヒドラジン（２５．０ｇ）、トリエチルアミン（２８ｍＬ）及びテトラヒドロフラン（２５０ｍＬ）を加え、撹拌した。その後、反応容器を氷浴を用いて冷却し、２，２−ジメチルブチリルクロリド（２２ｍＬ）を滴下した。その後、室温で６時間撹拌した。析出した固体をろ過し、得られたろ液を減圧濃縮し、得られた固体を酢酸エチルを用いて再結晶した後、５０℃で減圧乾燥させることにより、化合物１ｃ（３１．５ｇ、白色固体、収率７３％）を得た。化合物１ｃのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．０％であった。

化合物１ｃのＮＭＲ測定結果は、以下のとおりであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ（ｐｐｍ）：０．９４（３Ｈ，ｔ），１．２１（６Ｈ，ｓ），１．６２（２Ｈ，ｑ），７．４１（２Ｈ，ｔ），７．４８（１Ｈ，ｔ），７．８８（２Ｈ，ｄ），８．９０（１Ｈ，ｓ），９．５８（１Ｈ，ｓ）．

反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物１ｃ（２．０ｇ）、トシルクロライド（４．９ｇ）、ジイソプロピルエチルアミン（３ｍＬ）及びアセトニトリル（１００ｍＬ）を加え、室温で２０時間撹拌した。別途用意した反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、１３質量％アンモニウム水溶液２０ｍＬを加え、撹拌したところに、上記の反応液を滴下した。その後、室温で３０分間撹拌した。得られた反応液を分液し、得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた固体とヘキサンとを混合させ、ろ過することにより、化合物１ｄ（１．６ｇ、白色固体、収率８７％）を得た。化合物１ｄのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。

化合物１ｃのＮＭＲ測定結果は、以下のとおりであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ（ｐｐｍ）：０．８６（３Ｈ，ｔ），１．４４（６Ｈ，ｓ），１．８０（２Ｈ，ｑ），７．４８−７．５１（３Ｈ，ｍ），８．０３（２Ｈ，ｄ）．

反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物１ｄ（１．０ｇ）、２，４−ジメチルアニリン（１．１ｇ）及びトリフルオロ酢酸ピリジン塩（２ｇ）を加え、１１０℃で１８時間撹拌することにより、化合物１を得た。反応液を少量取り出し、クロロホルムで希釈したものについて、ＨＰＬＣ測定を実施した。ＨＰＬＣから求めた収率は３０％であった。

化合物１のＬＣ−ＭＳの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：［Ｍ＋Ｈ］＋ ３２０．

＜実施例２＞
下記の方法で、１，２，４−トリアゾール化合物（化合物２）を合成した。

反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、２，４，６−トリメチルアニリン（１０ｇ）、トリエチルアミン（２２ｍＬ）及びクロロホルム１５０ｍＬを加え、撹拌した。その後、反応容器を氷浴を用いて冷却し、２，２−ジメチルブチリルクロリド（９ｍＬ）を滴下した。室温で１時間撹拌後、反応容器に飽和炭酸ナトリウム水溶液を加えた。得られた反応液を分液し、得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を濃縮することにより白色固体を得た。得られた固体とヘキサンとを混合させ、ろ過し得られた固体を４０℃で減圧乾燥させることにより、化合物２ａ（１４ｇ、白色固体、収率８０％）を得た。化合物２ａのＨＰＬＣ面積百分率値は９５．５％であった。

化合物２ａのＮＭＲ測定結果は、以下のとおりであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ（ｐｐｍ）：０．９６（３Ｈ，ｔ），１．２９（６Ｈ，ｓ），１．６８（２Ｈ，ｑ），２．１５（６Ｈ，ｓ），２．２７（３Ｈ，ｓ），６．８７（２Ｈ，ｓ）．

反応容器をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物２ａ（１．０ｇ）、２−フルオロピリジン（０．５ｇ）、クロロベンゼン（１０ｍＬ）及びトリフルオロ酢酸無水物（１．３ｇ）を加え、撹拌した。その後、反応容器を水浴を用いて冷却しベンゾイルヒドラジン（０．６ｇ）を加え、３時間室温で撹拌した。得られた反応液を少量取り出し、クロロホルムで希釈したものについて、ＨＰＬＣ測定を実施した。化合物２ａの残存量が３％未満になったことを確認後、９０℃で３時間撹拌し、更に１００℃で８時間撹拌することにより、化合物２を得た。反応液を少量取り出し、クロロホルムで希釈したものについて、ＨＰＬＣ測定を実施した。ＨＰＬＣから求めた収率は９２％であった。

化合物２のＬＣ−ＭＳの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：［Ｍ＋Ｈ］^＋ ３３４．

＜実施例３＞
下記の方法で、１，２，４−トリアゾール化合物（化合物３）を合成した。

反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、２，４−ジイソプロピルアニリン（５ｇ）、トリエチルアミン（８ｍＬ）及びクロロホルム７５ｍＬを加え、撹拌した。その後、反応容器を氷浴を用いて冷却し、２，２−ジメチルブチリルクロリド（４ｍＬ）を滴下した。室温で８時間撹拌した後、反応容器に飽和炭酸ナトリウム水溶液を加えた。得られた反応液を分液し、得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を濃縮することにより白色固体を得た。得られた固体とヘキサンとを混合させ、ろ過し、得られた固体を５０℃で減圧乾燥させることにより、化合物３ａ（８ｇ、白色固体）を得た。反応は定量的に進行した。化合物３ａのＧＣ面積百分率値は９７．９％であった。

反応容器をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物３ａ（１．０ｇ）、２−フルオロピリジン（０．４ｇ）、クロロベンゼン（１０ｍＬ）及びトリフルオロ酢酸無水物（１．１ｇ）を加え、撹拌した。その後、反応容器を水浴を用いて冷却し、ベンゾイルヒドラジン（０．５ｇ）を加え、２時間室温で撹拌した。得られた反応液を少量取り出し、クロロホルムで希釈したものについて、ＨＰＬＣ測定を実施した。化合物３ａの残存量が３％未満になったことを確認後、９０℃で５時間撹拌し、１００℃で２時間撹拌し、１１０℃で１０時間撹拌し、１２０℃で５時間撹拌することにより、化合物３を得た。反応液を少量取り出し、クロロホルムで希釈したものについて、ＨＰＬＣ測定を実施した。ＨＰＬＣから求めた収率は８５％であった。

化合物３のＬＣ−ＭＳの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：［Ｍ＋Ｈ］^＋ ３７６．

＜実施例４＞
下記の方法で、１，２，４−トリアゾール化合物（化合物４）を合成した。

反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、２−ｔｅｒｔ−ブチルアニリン（３．３ｇ）、トリエチルアミン（７ｍＬ）及びクロロホルム５０ｍＬを加え撹拌した。その後、反応容器を氷浴を用いて冷却し、２，２−ジメチルブチリルクロリド（３ｍＬ）を滴下した。室温で６時間撹拌後、反応容器に飽和炭酸ナトリウム水溶液を加えた。得られた反応液を分液し、得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を濃縮することにより白色固体を得た。得られた固体とヘキサンとを混合させ、ろ過し、得られた固体を５０℃で減圧乾燥させることにより、化合物４ａ（３ｇ、白色固体、収率５１％）を得た。化合物４ａのＧＣ面積百分率値は９６．２％であった。

化合物４ａのＮＭＲ測定結果は、以下のとおりであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ（ｐｐｍ）：０．９７（３Ｈ，ｔ），１．３０（６Ｈ，ｓ），１．４２（９Ｈ，ｓ），１．６９（２Ｈ，ｑ），７．１４（１Ｈ，ｔ），７．２３（１Ｈ，ｔ），７．３６（１Ｈ，ｄ），７．６７（１Ｈ，ｄ）．

反応容器をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物４ａ（０．６ｇ）、２−フルオロピリジン（０．３ｇ）、クロロベンゼン（６ｍＬ）及びトリフルオロ酢酸無水物（０．８ｇ）を加え、撹拌した。その後、反応容器を水浴を用いて冷却し、ベンゾイルヒドラジン（０．４ｇ）を加え、１時間室温で撹拌した。得られた反応液を少量取り出し、クロロホルムで希釈したものについて、ＨＰＬＣ測定を実施した。化合物４ａの残存量が３％未満になったことを確認後、９０℃で６時間撹拌し、更に１００℃で６時間撹拌することにより、化合物４を得た。反応液を少量取り出しクロロホルムで希釈しＨＰＬＣ測定を実施した。ＨＰＬＣから求めた収率は７７％であった。

化合物４のＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：［Ｍ＋Ｈ］^＋ ３４８．
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３， ４００ＭＨｚ） δ（ｐｐｍ）：０．８５−０．９１（１２Ｈ，ｍ），１．１２（３Ｈ，ｓ），１．３３（３Ｈ，ｓ），１．５３−１．６３（１Ｈ，ｍ），１．９２−２．０２（１Ｈ，ｍ），７．１８−７．３２（６Ｈ，ｍ），７．４６−７．５０（３Ｈ，ｍ）．

＜実施例５＞
下記の方法で、１，２，４−トリアゾール化合物（化合物５）を合成した。

反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、２−フェニル−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（５０ｇ）、２−メチル−４−ブロモアニリン（４６ｇ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（３ｇ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル（４ｇ）及びトルエン（１Ｌ）を加え、室温で撹拌した。その後、そこへ、２０質量％テトラエチルアンモニウム水溶液を滴下し、７０℃で５時間撹拌した。得られた反応液を室温まで冷却後、分液し、得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過し、得られたろ液を濃縮した。その後、そこへ、テトラヒドロフラン及び活性白土を加え、室温で３０分間撹拌した後、セライトを敷いたろ過器でろ過する操作を二度繰り返した。得られたろ液を減圧濃縮し、トルエン及び活性炭を加え、室温で３０分間撹拌した後、セライトを敷いたろ過器でろ過し、得られたろ液を濃縮した。上記操作を繰り返すことにより、化合物５ａ（９２ｇ、赤茶色オイル）を得た。化合物５ａのＧＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。

反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物５ａ（９２ｇ）及びシクロペンチルメチルエーテル（２１４ｍＬ）を加え、撹拌した。その後、反応容器を氷浴を用いて冷却し、１６質量％塩化水素シクロペンチルメチルエーテル溶液（１１４ｇ）を滴下し、次いで、ｎ−ヘプタン（６４９ｍＬ）を滴下した。滴下後、室温で１時間撹拌し、析出した固体をろ過し、得られた固体をｎ−ヘプタン及びアセトンで洗浄した。得られた固体を２−プロパノール、メタノール、エタノール及びｎ−ヘプタンの混合溶媒を用いて２回再結晶し、次いで、２−プロパノール、エタノール及びｎ−ヘプタンの混合溶媒を用いて１回再結晶し、室温で減圧乾燥させることにより、化合物５ｂ（３７ｇ、薄赤色固体）を得た。上記操作を繰り返すことにより、必要量を確保した。

化合物５ｂのＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）＝７．３３−７．６５（８Ｈ，ｍ），４．８５（３Ｈ，ｓ），２．４６（３Ｈ，ｓ）．

反応容器内をアルゴン雰囲気とした後、２，２−ジメチルヘキサン酸（２９ｇ）、クロロホルム（１７４ｍＬ）及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．１４ｇ）を加え、５０℃で撹拌した。その後、そこへ、塩化チオニル（２４ｇ）を滴下し、５０℃で４時間撹拌することにより、２，２−ジメチルヘキサノイルクロライドを発生させた。別途用意した反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物５ｂ（３９ｇ）、クロロホルム（２９０ｍＬ）及びトリエチルアミン（４７ｍＬ）を加え、撹拌した。その後、反応容器を氷浴を用いて冷却し、そこへ、上記で調製した２，２−ジメチルヘキサノイルクロライドを滴下した。滴下後、室温で２時間撹拌し、次いで、飽和炭酸ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）を加え、室温で撹拌した。得られた反応液を分液し、得られた有機層を飽和炭酸ナトリウム水溶液及びイオン交換水で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過した。得られたろ液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン及び酢酸エチルの混合溶媒）で精製することにより、オイル状化合物を得た。得られたオイル状化合物にヘキサンを加えた後、ドライアイスを加えたアセトンバスを用いて冷却しながら１時間撹拌し、得られた固体をろ過し、５０℃で減圧乾燥させることにより、化合物５ｃ（４０ｇ、白色固体、収率７３％）を得た。化合物５ｃのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。

化合物５ｃのＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）＝７．９８（１Ｈ，ｄ），７．５５（１Ｈ，ｄ），７．４２（１Ｈ，ｔ），７．４１（４Ｈ，ｍ），７．３１（１Ｈ，ｔ），２．３２（３Ｈ，ｓ），１．６２（２Ｈ，ｓ），１．３５（１０Ｈ，ｓ），０．９１（３Ｈ，ｓ）．

反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物５ｃ（３０ｇ）、モノクロロベンゼン（３００ｍＬ）、２−フルオロピリジン（９ｍＬ）及びトリフルオロメタンスルホン酸無水物（１８ｍＬ）を加え、室温で３０分間撹拌した。その後、そこへ、２−ブロモベンゾイルヒドラジン（２３ｇ）を加えた。得られた反応液を少量取り出し、クロロホルムで希釈したものについて、ＨＰＬＣ測定を実施した。化合物５ｃの残存量が３％未満になったことを確認後、９０℃で２時間撹拌した。得られた反応液を少量取り出し、クロロホルムで希釈したものについて、ＨＰＬＣ測定を実施した。ＨＰＬＣから求めた化合物５の収率は９７％であった。
反応容器を冷却後、そこへ、炭酸水素ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）を加え、有機層を抽出し、得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた有機層を減圧濃縮することで固体を得た。得られた固体にヘキサンを加え洗浄した。洗浄した固体を、２−プロパノール及びヘプタンの混合溶媒を用いて再結晶し、５０℃で減圧乾燥することにより、化合物５（３５ｇ、単離収率７４％）を白色固体として得た。化合物５のＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。

化合物５のＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：［Ｍ＋Ｈ］^＋４８８．
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３， ４００ＭＨｚ） δ（ｐｐｍ）：７．５７−７．６４（ｍ，４Ｈ），７．３８−７．４９（ｍ，６Ｈ），７．２８−７．３０（ｄ，１Ｈ），７．０７（ｔ，１Ｈ），１．８５（３Ｈ，ｓ），１．６７−１．７４（２Ｈ，ｍ），１．４２−１．５０（１Ｈ，ｍ），１．３９（３Ｈ，ｓ），１．１４−１．３６（３Ｈ，ｍ），１．１７（３Ｈ，ｓ），０．８８（３Ｈ，ｔ）．

＜実施例６＞
下記の方法で、１，２，４−トリアゾール化合物（化合物６）を合成した。

反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、２，２’−ジメチルヘキサン酸（４０ｇ）、クロロホルム（２４０ｍＬ）、Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（０．２１ｍＬ）及び塩化チオニル（２０ｍＬ）を加え、４５℃で３時間撹拌した。その後、反応容器を水浴を用いて冷却し、２，２’−ジメチルヘキサノイルクロライドを含む反応液を得た。別途用意した反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物６ａ（４１．５ｇ）、クロロホルム（４００ｍＬ）及びトリエチルアミン（７５ｍＬ）を加え、反応容器を氷浴に設置して冷却した。その後、そこへ、上記で得られた化合物２，２’−ジメチルヘキサノイルクロライドを含む反応液を滴下した。滴下後、室温で１時間撹拌し、次いで、炭酸ナトリウム水溶液（２ｍｏｌ／Ｌ、２８０ｍＬ）を加え、室温で撹拌した。得られた混合物を分液し、有機層を得た。得られた有機層をイオン交換水（２８０ｍＬ）で洗浄した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧濃縮することにより、化合物６ｂ（６０ｇ、収率８８％）を薄黄色の油状物として得た。化合物６ｂのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。

化合物６ｂのＴＬＣ−ＭＳ測定結果は、以下のとおりであった。
ＴＬＣ／ＭＳ（ＤＡＲＴ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝２４８［Ｍ＋Ｈ］^＋

反応容器をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物６ｂ（２５．２ｇ）、２−フルオロピリジン（１０．８ｇ）、クロロベンゼン（２０２ｍＬ）及びトリフルオロ酢酸無水物（３１．３ｇ）を加え、撹拌した。その後、反応容器を水浴を用いて冷却し、２−ブロモ３−メチルベンゾイルヒドラジン（２５．４ｇ）を加え、１０分間室温で撹拌した。得られた反応液を少量取り出し、クロロホルムで希釈したものについて、ＨＰＬＣ測定を実施した。化合物６ｂの残存量が２％未満になったことを確認後、９０℃で７時間撹拌した。得られた反応液を少量取り出し、クロロホルムで希釈したものについて、ＨＰＬＣ測定を実施した。ＨＰＬＣから求めた化合物６の収率は９１％であった。
反応容器を冷却後、そこへ、炭酸水素ナトリウム水溶液（１００ｍＬ）を加え有機層を抽出し、得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた有機層に硫酸マグネシウムを加え乾燥させた後、活性炭１２．６ｇを加え撹拌し、セライトを敷いたろ過器でろ過し、得られたろ液を減圧濃縮することにより、固体を得た。得られた固体にクロロホルム及びテトラヒドロフランを加え、シリカゲル及びセライトを敷いたろ過器でろ過し、得られたろ液を減圧濃縮することにより、固体を得た。得られた固体を、トルエン及びヘプタンの混合溶媒を用いて再結晶し、５０℃で減圧乾燥することにより、化合物６（３６．２ｇ、単離収率８１％）を白色固体として得た。化合物６のＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。

化合物６のＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ_２Ｃｌ_２−ｄ_２）δ（ｐｐｍ）＝７．６１−７．５３（ｍ，１Ｈ），７．２８−７．２１（ｍ，１Ｈ），７．２１−７．１２（ｍ，１Ｈ），７．１２−７．０１（ｍ，３Ｈ），２．３４（ｓ，３Ｈ），２．３０（ｓ，３Ｈ），１．７５−１．６０（ｍ，５Ｈ），１．４２−１．０８（ｍ，１０Ｈ），８５（ｔ，３Ｈ）．

本発明によれば、少ない工程数で、高収率で１，２，４−トリアゾール化合物を得ることが可能な、１，２，４−トリアゾール化合物の製造方法が提供される。

Claims (7)

1. 式（２）で表されるアミド化合物と式（３）で表されるヒドラジド化合物とを、ルイス酸及びルイス塩基の存在下、溶媒中で反応させ、式（１）で表される１，２，４−トリアゾール化合物を得る工程を含む、１，２，４−トリアゾール化合物の製造方法。
   

   

   
   

   

   
   

   

   
   ［式中、
   Ｒ^１はアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基又は置換アミノ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
   Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基又は置換アミノ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれが結合する炭素原子と、環Ａ中の該炭素原子に隣り合う原子とともに、環を形成していてもよい。
   環Ａ及び環Ｂは、それぞれ独立に、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表し、これらの環は置換基を有していてもよい。該置換基が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、互いに結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。］
2. 前記アミド化合物が、式（２ａ）で表される化合物であり、
   前記１，２，４−トリアゾール化合物が、式（１ａ）で表される化合物である、請求項１に記載の製造方法。
   

   

   
   

   

   
   ［式中、
   Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及び環Ｂは前記と同じ意味を表す。
   Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ^２とＲ^４、Ｒ^４とＲ^５、Ｒ^５とＲ^６、及び、Ｒ^６とＲ^３は、それぞれ結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。］
3. 前記ヒドラジド化合物が、式（３ａ）で表される化合物であり、
   前記１，２，４−トリアゾール化合物が、式（１ｂ）で表される化合物である、請求項２に記載の製造方法。
   

   

   
   

   

   
   ［式中、
   Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は前記と同じ意味を表す。
   Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９及びＲ^１０は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ^７とＲ^８、Ｒ^８とＲ^９、及び、Ｒ^９とＲ^１０は、それぞれ結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。］
4. Ｒ^１が置換基を有していてもよいアルキル基である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の製造方法。
5. 前記ルイス酸が酸無水物である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の製造方法。
6. 前記ルイス塩基が有機塩基である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の製造方法。
7. 前記アミド化合物と前記ヒドラジド化合物とを、前記溶媒の沸点以下の温度で反応させる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の製造方法。