JP2020003448A - 刺激応答性可逆変形構造体及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材12と、少なくともその片面側にマトリクス11とを有する構造体1であって、前記マトリクスは、水分を吸着及び脱離する特性を有する樹脂により構成され、マトリクスにおける水分の吸着及び脱離に伴う体積変化によって、構造体のカール量が変化することを特徴とする、刺激応答性可逆変形構造体。
【選択図】図1
Description
また特許文献2のように、2種のアクリレート化合物を組み合わせたものを用いて、カールを抑制する手段が知られている。
基材と、少なくともその片面側にマトリクスとを有する構造体であって、
前記マトリクスは、水分を吸着及び脱離する特性を有する樹脂により構成され、
前記マトリクスにおける水分の吸着及び脱離に伴う体積変化によって、前記構造体のカール量が変化することを特徴とする。
マトリクスと基材とを貫通する切り込み状の孔空け加工がされた切り込み部が複数配置されており、マトリクスにおける水分の吸着及び脱離に伴う体積変化によって、前記切り込み部のカール量が変化することを特徴とする。
硬化性樹脂材料を含む塗液を調製する塗液調製工程と、
前記塗液を基材上に塗布する塗布工程と、
前記塗液を熱処理して塗膜を形成する熱処理工程と、
前記塗膜に電離放射線を照射して硬化させて硬化膜とし、前記基材に支持された前記硬化膜からなるマトリクスを形成する電離放射線照射工程と、
を少なくとも備えることを特徴とする。
前記マトリクスまたは基材へ印刷パターンを形成する工程と、
前記マトリクスに切り込み状の孔空け加工を行う工程の、
いずれかまたは両方の工程をさらに備えることを特徴とする。
図1は、本発明の実施の形態に係るフィルム状構造の刺激応答性可逆変形構造体1の一例を示した断面模式図である。本構造体は図1に示すように、水分の吸着及び脱離により体積が変化する材料からなるマトリクス11と、基材フィルム12とを有する。図1はマトリクス11が特に変化のない状態を示す。
図2はマトリクス11における水分の脱離に伴い変化した状態の断面模式図であり、図3はマトリクス11の水分の吸着に伴い変化した状態の断面模式図である。
なお、本発明 の説明では基材としてフィルムを例として説明するが、基材はフィルムに限定されない。例えば、フィルムの他にシート、薄膜、箔などが挙げられる。
例えば、水がほぼすべて脱離している状態で図1のカールがない初期状態を作製した場合、温度23℃湿度50%RHの環境に放置すると、図3のようなカールが生じ、更に水分が吸着するとより強いカールが生じることになり、図2の状態は起こらない。
逆に水が限界まで含んでいる状態で図2のカールがない初期状態を作製した場合、図3の状態になることはなく、23℃50%RHの環境に放置すると図2のようなカールが生じ、更に水分の脱離が進むとより強いカールが生じることとなる。
例えば23℃50%RHで図1のカールがない初期状態を作製した場合は、25%RHで図2の状態に、75%RHで図3の状態となるように調整することができる。
例えば、粒子状であれば、親水化処理された金属酸化物微粒子や金属微粒子、ゼオライト、ポリマー微粒子などが挙げられる。また、板状であれば、サポナイトやスティブンナイト、ヘクトライト、モンモリロナイト、ルーセンタイト、ソマシフなど水膨潤性の層状粘土化合物などが挙げられる。また、繊維状であればセルロースナノファイバーや親水化処理されたカーボンナノチューブ、ガラスフィラーなどが挙げられる。
重合開始剤としては、具体的には、過酸化水素、過硫酸塩、例えば過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム等、アゾ系開始剤、例えば2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)2塩酸塩、2,2’−アゾビス(N,N’−ジメチレンイソブチルアミジン)2塩酸塩、2,2’−アゾビス{2−メチル−N−〔1,1,−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル〕プロピオンアミド}、2,2’−アゾビス〔2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン〕2塩酸塩、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4’−ジメチルバレロニトリル)、ベンゾフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスホンオキサイド、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン等の紫外光によってラジカルを発生する化合物、2,4−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、2−(3−ジメチルアミノ−2−ヒドロキシプロポキシ)−3,4−ジメチル−9H−チオキサントン−9−オンメソクロライド、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(ピル−1−イル)チタニウム、1,3−ジ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゼンや3,3’,4,4’−テトラ−(t−ブ
チルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン等のパーオキシエステルに、チオピリリウム塩、メロシアニン、キノリン、スチルキノリン系色素を混合した物質等の360nm以上の波長の光によってラジカルを発生する化合物等が挙げられる。また、過酸化水素あるいは過硫酸塩は、例えば、亜硫酸塩、L−アスコルビン酸等の還元性物質やアミン塩等を組み合わせてレドックス系の開始剤としても使用することができる。
マトリクス11の水分の吸着および脱離に伴う体積変化量によりカール量が変化することが必要となるため、フィルムやシートであることが望ましい。またこれらが積層されていてもフィルム表面にコーティングや印刷、賦形処理があっても構わない。
図4は、本発明の実施の形態に係るフィルム状構造の刺激応答性可逆変形構造体2の一例を示した断面模式図である。基材フィルム22と、その両面に水分の吸着及び脱離により体積が変化する材料からなるマトリクス21、23とを有する。
例えば、マトリクス21、23の組成、硬化度、架橋密度、重合度、膜厚が同等であり、水分の吸着及び脱離による体積変化率が同等であるとき、刺激応答性可逆変形構造体を介して相対的に23の側が21の側よりも水分の吸着量を多くすると、図5のように刺激応答性可逆変形構造体は23の側が凸となるようにカールさせることが可能となる。逆に刺激応答性可逆変形構造体を介して相対的に21の側が23の側よりも水分の脱離量が少ないとき、刺激応答性可逆変形構造体は21の側が凸となるようにカールさせることが可能となる(図示せず)。
また、マトリクス21、23の組成、硬化度、架橋密度、膜厚を変えて、刺激応答性可逆変形構造体の両面のマトリクスの水分吸着および脱離によるカールの向き、量を変更することも可能である。このように表裏の水分・脱離量の違いに応じてカールの向きを変えることが可能となる。
図6は、本実施の形態に係るフィルム状構造の刺激応答性可逆変形構造体3の一例を示した断面模式図と、A側からみた表面の模式図である。基材フィルムの32の一部にマトリクス31を形成し、マトリクス31のある部分に切り込み33が刺激応答性可逆変形構造体を貫通するようにA−B間に複数本入れてある。
図9 (左図)は、本発明の実施の形態に係るフィルム状構造の刺激応答性可逆変形構造体4の一例を示した断面模式図である。基材フィルム42の一部にマトリクス41を形成し、印刷基材46の一部と、粘着剤または接着剤45を用いて貼合している。また、マトリクス41のある部分に切り込み43が、刺激応答性可逆変形構造体を貫通するようにA−B間に入れてある。刺激応答性可逆変形構造体には、マトリクス41と印刷基材46の両方に印刷パターン44が形成してある。このような形態をとった場合、マトリクス41から水分が脱離すると、図9(右図)のように刺激応答性可逆変形構造体全体としては平滑なままであり、マトリクス41が形成されている部分のみカールが生じるようになる。A側からみると、マトリクス41からの水分の脱離前後で印刷パターン44が変化するようになる。
次に、本発明の実施の形態に係る刺激応答性可逆変形構造体の製造方法について、刺激応答性可逆変形構造体4を例にとり説明する。
マトリクス形成用塗液の基材フィルム42へのコーティング方法としては、スクリーン印刷法、ドクターブレード法、グラビア印刷法、ダイコート法、インクジェット法、ディスペンサー法等、既存の塗布方法が挙げられるが、特に限定しない。
なお、この時点での塗膜の含水量を調整することで、図1のカールがない状態での含水量を調整することも可能である。
本発明における電離放射線としては、紫外線、電子線などを採用できる。紫外線硬化の場合、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク、UV−LEDなどの光源を利用することができる。積算光量・照度は用いる樹脂によって異なるが、通常は紫外線源を搬送ラインに多段数設けておき、複数に分けて照射する。特に一段目の紫外線照射においては、光重合の暴走による内部応力の上昇を低減するため、ウェブの温度が60℃以下に保たれていることが好ましい。硬化度を調整することにより、図1のカールがない状態の含水量を調整することも可能である。
マトリクス41と基材フィルム42には例えばロールカッター、プレス穿孔などを用いて切り込み43を入れるが、特にその手法は問わない。
カール量は刺激応答性可逆変形構造体を5mm×50mmに切り出し、水分の吸着や脱
離を行った後、5分後に曲率半径を測定した。カールを測定する環境は湿度の条件以外は23℃とした。直接水をかける場合は、5分後に表面に付着した水をふき取った後測定した。曲率半径が300mmを越すものについては平坦として扱った。
以下、刺激応答性可逆変形構造体1の実施例1〜12については、表1にデータをまとめた。表中において、曲率半径が正なものは基材フィルム側を凸とするカールが生じたことを意味する。∞を書いてあるものはほぼ平滑であることを意味する。負の数の場合、マトリクス側を凸とするカールが生じていることを意味する。
まず、マトリクス形成用塗液1を調製した。親水性UV硬化性樹脂UA−W2A(新中村化学工業社製、12重量部)、親水性UV硬化性モノマーHEAA(KJケミカルズ社製、82重量部)、水膨潤性層状粘土鉱物LAPONITERDS(BYK社製、6重量部)、光重合開始剤Irgacure2959(BASF社製、0.2重量部)、溶媒として純水を混合した塗液を調製した。
乾燥膜厚を55μmとする以外は実施例1と同じ条件で、刺激応答性可逆変形構造体1を作製した。刺激応答性可逆変形構造体1のカール量は、基材フィルム側を凸にして、25%RHにて曲率半径10mm、50%RHにてほぼ平坦、75%RHではマトリクス側を凸にして曲率半径240mmであった。
乾燥膜厚を35μmとする以外は実施例1と同じ条件で刺激応答性可逆変形構造体1を作製した。刺激応答性可逆変形構造体1のカール量は、基材フィルム側を凸にして、25%RHにて曲率半径55mm、50%RH、及び75%RHにてほぼ平坦であった。
電離放射線の露光量を300mJ/cm2とする以外は実施例1と同じ条件で刺激応答性可逆変形構造体1を作製した。刺激応答性可逆変形構造体1のカール量は、基材フィルム側を凸にして、25%RHにて曲率半径35mm、50%RHでほぼ平坦、75%RHにてマトリクス側を凸にして曲率半径230mmであった。
電離放射線の露光量を500mJ/cm2とする以外は実施例1と同じ条件で刺激応答性可逆変形構造体1を作製した。刺激応答性可逆変形構造体1のカール量は、基材フィルム側を凸にして、25%RHにて曲率半径80mm、50%RH、及び75%RHにてほぼ平坦であった。
基材に塗布された塗液を熱処理により乾燥する時間を5分とする以外は実施例1と同じ条件で刺激応答性可逆変形構造体1を作製した。刺激応答性可逆変形構造体1のカール量は、基材フィルム側を凸にして、25%RHにて曲率半径20mm、50%RHで曲率半径180mm、75%RHにてほぼ平坦であった。
基材フィルムの膜厚を38μmとする以外は実施例1と同じ条件で刺激応答性可逆変形構造体1を作製した。刺激応答性可逆変形構造体1のカール量は、基材フィルム側を凸にして、25%RHにて曲率半径10mm、50%RHでほぼ平坦、75%RHにてマトリクス側を凸にして曲率半径200mmであった。
マトリクス形成用塗液2として、親水性UV硬化性樹脂UA−W2A(新中村化学工業社製、24重量部)、親水性UV硬化性モノマーHEAA(KJケミカルズ社製、70重量部)、水膨潤性層状粘土鉱物LAPONITERDS(BYK社製、6重量部)、光重合開始剤Irgacure2959(BASF社製、0.2重量部)、溶媒として純水を混合した塗液を調製した。それ以外は実施例1と同じ条件で刺激応答性可逆変形構造体1を作製した。刺激応答性可逆変形構造体1のカール量は、基材フィルム側を凸にして、25%RHにて曲率半径50mm、50%RH、及び75%RHでほぼ平坦であった。
マトリクス形成用塗液3として、親水性UV硬化性樹脂UA−W2A(新中村化学工業社製、6重量部)、親水性UV硬化性モノマーHEAA(KJケミカルズ社製、88重量部)、水膨潤性層状粘土鉱物LAPONITERDS(BYK社製、6重量部)、光重合開始剤Irgacure2959(BASF社製、0.2重量部)、溶媒として純水を混合した塗液を調製した。それ以外は実施例1と同じ条件で刺激応答性可逆変形構造体1を作製した。刺激応答性可逆変形構造体1のカール量は、基材フィルム側を凸にして、25%RHにて曲率半径12mm、50%RHで曲率半径160mm、75%RHにて曲率半径250mmであった。
塗布用基材として、離型処理を施したポリエチレンテレフタレート(PET)を用い、マトリクス形成用塗液1を、バーコーターを使用して塗布した。塗液の塗布量は、乾燥膜厚が45μmとなるように設定した。
湿度調整を23℃25%RHとする以外は実施例10の条件で刺激応答性可逆変形構造体1を作製した。刺激応答性可逆変形構造体1のカール量は、25%RHにてほぼ平坦、50%RHでマトリクス側を凸にして曲率半径250mm、75%RHにてマトリクス側を凸にして曲率半径230mmであった。
湿度調整を23℃75%RHとする以外は実施例10の条件で刺激応答性可逆変形構造体1を作製した。刺激応答性可逆変形構造体1のカール量は、基材フィルム側を凸にして、25%RHにて曲率半径10mm、50%RH曲率半径40mm、75%RHでほぼ平坦であった。
(実施例13)
実施例1で作製した刺激応答性可逆変形構造体1の、基材フィルムのマトリクスが形成されていない側にコロナ処理を施し、実施例1と同じ条件でマトリクスを形成したことにより、刺激応答性可逆変形構造体2を得た。刺激応答性可逆変形構造体2のカール量は、25%RH、50%RH、75%RHでほぼ平坦であった。マトリクスの片側に水蒸気を当てたところ、当ててない側のマトリクスの側を凸として曲率半径50mmのカールが生じた。
(実施例14)
実施例1で作製した刺激応答性可逆変形構造体1に対して、図13(左図)のように4本の切込みを入れ刺激応答性可逆変形構造体3を作製した。25%RHの環境に刺激応答性可逆変形構造体3を置くと、図13(右図)のようなカールが生じた。
(実施例15)
実施例1で作製した刺激応答性可逆変形構造体1に対して、得られたマトリクスの表面にオフセット印刷を用いて、ライン幅が50μm、ピッチが100μmのライン&スペースのパターンを黒インキにて形成した。更にパターンの上から4本の切込みを入れた。別途PETフィルムを準備し、得られたマトリクスの表面にオフセット印刷を用いて、ライン幅が50μm、ピッチが100μmのライン&スペースのパターンを黒インキ形成した。いずれも50%RHの状態では、平滑であった。
図14(左図)のようにこれらを重ねモアレパターンを生じさせた後、25%RHの状態に置くと、図14(右図)のようにモアレパターンの変化が見られた。
(比較例)
水分の吸着、脱離に伴って体積変化を発現しないマトリクスとして、紫光UV7000B(日本合成化学工業)100質量部、ESACURE ONE (Lamberti社製)1質量部をメチルエチルケトンに溶解して塗液を調整し、マトリクス形成用塗液としてこの塗液を用いる以外は、上記に記載の実施例1〜15を作製したが、水分の吸着、脱離に伴うカール量の変化、視覚効果は発現しなかった。
11…マトリクス
12…基材フィルム
13…応力
2…刺激応答性可逆変形構造体2
21…マトリクス
22…基材フィルム
23…マトリクス
3…刺激応答性可逆変形構造体3
31…マトリクス
32…基材フィルム
33…切り込み
4…刺激応答性可逆変形構造体4
41…マトリクス
42…基材フィルム
43…切り込み
44…印刷パターン
45…粘着剤または接着剤
46・・・印刷基材
Claims (8)
- 基材と、少なくともその片面側にマトリクスとを有する構造体であって、
前記マトリクスは、水分を吸着及び脱離する特性を有する樹脂により構成され、
前記マトリクスにおける水分の吸着及び脱離に伴う体積変化によって、前記構造体のカール量が変化することを特徴とする、刺激応答性可逆変形構造体。 - 前記樹脂が、硬化性樹脂の重合体あるいは共重合体であることを特徴とする、請求項1に記載の刺激応答性可逆変形構造体。
- 前記硬化性樹脂が、電離放射線硬化性あるいは熱硬化性を有することを特徴とする、請求項1または2に記載の刺激応答性可逆変形構造体。
- 前記マトリクスにおける水分の吸着及び脱離に伴う体積変化が、前記マトリクスの組成、硬化度、架橋密度、重合度のいずれかによって制御されていることを特徴とする、請求項1から3のいずれかに記載の刺激応答性可逆変形構造体。
- 少なくとも前記構造体のカール量が変化するマトリクスまたは基材表面にインキによる印刷が施されていることを特徴とする、請求項1から4のいずれかに記載の刺激応答性可逆変形構造体。
- 前記構造体において、マトリクスと基材とを貫通する切り込み状の孔空け加工がされた切り込み部が複数配置されており、マトリクスにおける水分の吸着及び脱離に伴う体積変化によって、前記切り込み部のカール量が変化することを特徴とする、請求項1から5のいずれかに記載の刺激応答性可逆変形構造体。
- 請求項1から6のいずれかに記載の刺激応答性可逆変形構造体の製造方法であって、
硬化性樹脂材料を含む塗液を調製する塗液調製工程と、
前記塗液を基材上に塗布する塗布工程と、
前記塗液を熱処理して塗膜を形成する熱処理工程と、
前記塗膜に電離放射線を照射して硬化させて硬化膜とし、前記基材に支持された前記硬化膜からなるマトリクスを形成する電離放射線照射工程と、
を少なくとも備えることを特徴とする、刺激応答性可逆変形構造体の製造方法。 - 請求項7に記載の刺激応答性可逆変形構造体の製造方法において、
前記マトリクスまたは基材へ印刷パターンを形成する工程と、
前記マトリクスに切り込み状の孔空け加工を行う工程の、
いずれかまたは両方の工程をさらに備えることを特徴とする、刺激応答性可逆変形構造体の製造方法。
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