JP2025123720A - ガス処理設備及びガス処理設備方法 - Google Patents

ガス処理設備及びガス処理設備方法

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Abstract

【課題】ロスを抑えて、ガス中の回収対象ガスを分離する。
【解決手段】ガス処理設備は、集塵フィルタ装置と、粉末状で回収対象ガスと反応可能な反応剤をガス中に供給可能な反応剤供給機と、を備える。前記集塵フィルタ装置は、ガスが流入する入口とガスが流出する出口とが形成されているケースと、前記ケース内を前記入口の側の入口側空間と前記出口の側の出口側空間とに仕切る集塵フィルタと、を備える。前記ガスラインは、前記集塵フィルタ装置の前記入口に接続され、前記反応剤供給機は、前記ガスライン中又は前記入口側空間に、前記反応剤に反応して吸着した前記回収対象ガスを前記反応剤から脱着させる脱着処理を施した前記反応剤を供給可能である。
【選択図】図１

Description

本開示は、ガス処理設備及びガス処理設備方法に関する。
近年、カーボンニュートラルの観点から、大気中に含まれる二酸化炭素（ＣＯ２）の濃度に注目が集まっている。大気中の二酸化炭素の濃度を下げる観点から、排気ガスから二酸化炭素を回収する各種装置が知られている。二酸化炭素の回収する装置としては、例えばＤＡＣ（Ｄｉｒｅｃｔ Ａｉｒ Ｃａｐｔｕｒｅ、直接空気回収技術）が知られている。ＤＡＣでは、吸着室に導かれた大気に含まれる二酸化炭素を吸着剤によって吸着した後、吸着室内を減圧したり、加熱したりすることで、吸着剤から脱着された二酸化炭素を外部に吸引や貯留し、有効利用している。
例えば、特許文献１には、ＤＡＣが適用された真空ユニットが記載されている。この真空ユニットでは、真空チャンバの内部空間に位置する吸着構造体を配置している。真空チャンバ内で、空気流を吸着構造体と接触させることで、二酸化炭素を吸着構造体に吸着させている。
米国特許第１０２３２３０５号明細書
ところで、特許文献１のような構造では、ハニカム等の基材に二酸化炭素を吸着可能な反応剤をコーティングして、ブロック状の吸着構造体を形成する必要がある。そのため、加熱や減圧を行う際には、基材を含む吸着構造体の全体を加熱や減圧しなければならない。その結果、二酸化炭素を脱着させるための処理時間やエネルギーのロスが大きくなってしまう。このようにガス中に含まれる回収対象ガスを脱着させるためのロスを抑えることが望まれている。
本開示は、上記課題を解決するためになされたものであって、ロスを抑えて、ガス中の回収対象ガスを分離可能なガス処理設備及びガス処理設備方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本開示に係るガス処理設備は、集塵フィルタ装置と、回収対象ガスを含むガスを前記集塵フィルタ装置に導入可能なガスラインと、粉末状で前記回収対象ガスと反応可能な反応剤を前記ガス中に供給可能な反応剤供給機と、を備え、前記集塵フィルタ装置は、ガスが流入する入口とガスが流出する出口とが形成されているケースと、前記ケース内を前記入口の側の入口側空間と前記出口の側の出口側空間とに仕切る集塵フィルタと、を備え、前記ガスラインは、前記集塵フィルタ装置の前記入口に接続され、前記反応剤供給機は、前記ガスライン中又は前記入口側空間に、前記反応剤に反応して吸着した前記回収対象ガスを前記反応剤から脱着させる脱着処理を施した前記反応剤を供給可能である。
また、本開示に係るガス処理設備方法は、ガスラインを流通し、回収対象ガスを含むガスに、粉末状で前記回収対象ガスと反応可能な反応剤を供給する反応剤供給工程と、集塵フィルタを備える集塵フィルタ装置を用いて、前記集塵フィルタ装置に流入してきた粉末状の前記反応剤を捕集する捕集工程と、を含み、前記反応剤供給工程では、前記反応剤に反応して吸着した前記回収対象ガスを前記反応剤から脱着させる脱着処理を施した後に、前記反応剤を供給する。
本開示のガス処理設備及びガス処理設備方法によれば、ロスを抑えて、ガス中の回収対象ガスを分離できる。
本開示に係る第一実施形態におけるガス処理設備を示す模式図である。 本開示に係る第一実施形態（第二実施形態、第三実施形態及び第六実施形態）におけるガス処理設備方法を示すフロー図である。 本開示に係る第二実施形態におけるガス処理設備を示す模式図である。 本開示に係る第三実施形態におけるガス処理設備を示す模式図である。 本開示に係る第四実施形態におけるガス処理設備を示す模式図である。 本開示に係る第四実施形態におけるガス処理設備方法を示すフロー図である。 本開示に係る第五実施形態におけるガス処理設備を示す模式図である。 本開示に係る第五実施形態におけるガス処理設備方法を示すフロー図である。 本開示に係る第六実施形態におけるガス処理設備を示す模式図である。
以下、添付図面を参照して、本開示による吸収塔及びガス処理設備及びガス処理設備方法を実施するための形態を説明する。しかし、本開示はこの実施形態のみに限定されるものではない。
＜第一実施形態＞
（ガス処理設備）
ガス処理設備１００は、ガス発生源１からのガスＥＧを処理する設備である。ガス発生源１としては、例えば、廃棄物焼却炉、石炭又は天然ガス焚き発電プラント、ガスタービン、ガスエンジン、セメントプラント、製鉄プラント、ガラス溶融プラント等がある。このガス発生源１からのガスＥＧには、回収対象ガス、灰、重金属等が含まれている。回収対象ガスには、二酸化炭素（ＣＯ２）の他、一酸化窒素（ＮＯ）等の窒素酸化物（ＮＯｘ）、二酸化硫黄（ＳＯ２）等の硫黄酸化物（ＳＯｘ）、硫化水素（Ｈ２Ｓ）が含まれている。また、ガス発生源１は、ガス処理設備１００の外部であって、ガス処理設備１００に大気を送り込む設備であってもよい。つまり、ガス処理設備１００は、ガスとして、各種設備から排出される排ガスや、大気を処理する。
図１に示すように、本実施形態におけるガス処理設備１００は、集塵フィルタ装置１０と、ガスライン２と、処理済みガスライン２ｔと、吸引ブロワー４と、反応剤供給機２０と、反応剤戻しライン３と、送出先切替部３１と、新規反応剤供給部２００と、ガス情報取得部７と、制御部５と、を備える。
集塵フィルタ装置１０は、ケース１１と、粉体や固形物を捕集できる集塵フィルタ１３と、逆洗装置１４と、排出機１５と、を備える。ここで、粉体とは、ガスライン２を通過して回収対象ガスが既に吸着している粉末状の反応剤ＲＳや、未反応の粉末状の反応剤ＲＳを含んでいる。また、固形物とは、反応剤ＲＳ以外の集塵フィルタ１３に付着したダストやＰＭ等の不純物の塊や、灰や重金属の塊等が含まれる。
ケース１１には、ガスが流入する入口１１ｉと、ガスが流出する出口１１ｏと、が形成されている。この集塵フィルタ１３を構成する繊維は、例えば、ガラス繊維、セラミックス繊維、ポリプロピレン、ナイロン、アクリル、ポリエステル、アラミド、ポリイミド、ＰＰＳ、ＰＴＦＥ等である。この集塵フィルタ１３は、ケース１１内を集塵フィルタ１３に対して入口１１ｉに寄った入口側空間１２ｉと、集塵フィルタ１３に対して出口１１ｏに寄った出口側空間１２ｏとに仕切れるように配置されている。
逆洗装置１４は、ケース１１内の出口側空間１２ｏが入口側空間１２ｉよりも高圧になるよう、出口側空間１２ｏに高圧ガス（例えば、高圧空気）を送って、集塵フィルタ１３で捕集された粉体や固形物を集塵フィルタ１３から離脱させることが可能とされている。この逆洗装置１４は、逆洗用高圧ガスタンク１４ａと、逆洗用高圧ガスタンク１４ａ内の高圧ガスを、ケース１１内で出口側空間１２ｏから入口側空間１２ｉに向かうように、集塵フィルタ１３に送る高圧ガス案内菅１４ｂと、高圧ガス案内菅１４ｂに設けられている開閉弁１４ｃと、を有する。
排出機１５は、逆洗装置１４の動作で集塵フィルタ１３から離脱して、ケース１１内の入口側空間１２ｉを落下してきた粉体や固形物を外部に排出できる。このような排出機１５としては、ロータリーバルブやスクリューコンベア等がある。排出機１５は、反応剤戻しライン３に接続されている。
ガスライン２の一端は、ガス発生源１に接続されている。ガスライン２の他端は、集塵フィルタ装置１０の入口１１ｉに接続されている。このガスライン２により、ガス発生源１からのガスＥＧを集塵フィルタ装置１０内に導くことが可能とされている。
処理済みガスライン２ｔの一端は、集塵フィルタ装置１０の出口１１ｏに接続されている。処理済みガスライン２ｔの他端は、外部の排出先に接続されている。この処理済みガスライン２ｔにより、集塵フィルタ装置１０を通過したガスＥＧである処理済みのガスＥＧを外部に排出することが可能とされている。
吸引ブロワー４は、この処理済みガスライン２ｔの途中に配置されている。吸引ブロワー４が無くても、処理済みのガスＥＧを集塵フィルタ装置１０から排気することができる場合には、この吸引ブロワー４は不要である。その際、処理済みガスライン２ｔ自体も配置されていなくてもよい。また、吸引ブロワー４を配置する場合であっても、吸引ブロワー４は、処理済みガスライン２ｔに配置されることに限定されるものではない。吸引ブロワー４は、ガスライン２に配置されていてもよい。
反応剤供給機２０は、回収対象ガスと反応可能な反応剤ＲＳをガスライン２中又は入口側空間１２ｉ中に供給可能とされている。反応剤供給機２０は、脱着処理を施した反応剤ＲＳを供給する。反応剤ＲＳは、平均粒径が１ｍｍ以下の粉末状とされている。ここで平均粒径とは、例えば、ｄ５０で示されるメディアン径である。反応剤ＲＳとしては、例えば、ゼオライト、金属有機構造体（ＭＯＦ）、及びアミン系化合物、アルカリ系金属化合物、消石灰等が挙げられる。脱着処理は、反応剤ＲＳに反応して吸着した回収対象ガスを、反応剤ＲＳから脱着させる処理である。
本実施形態の反応剤供給機２０は、反応剤ＲＳを蓄えることが可能な貯留部２１と、貯留部２１に蓄えられている反応剤ＲＳをガスＥＧ中に供給可能な供給部２２と、貯留部２１に配置されている反応剤ＲＳに対して脱着処理を実施可能な脱着部２３とを有する。
貯留部２１は、反応剤ＲＳを蓄えることが可能なホッパーである。貯留部２１には、反応剤戻しライン３及び新規反応剤供給部２００から反応剤ＲＳが供給される。つまり、貯留部２１には、反応剤戻しライン３から、ガスライン２に一度以上供給されて、集塵フィルタ装置１０を通過した反応剤ＲＳが供給される。また、貯留部２１には、新規反応剤供給部２００から、新たな反応剤ＲＳが供給される。ここで、新たな反応剤ＲＳとは、未使用の反応剤ＲＳ（多少空気を介して回収対象ガスを吸着している可能性があってもよい）であり、ガスライン２や集塵フィルタ装置１０を一度も通過していない反応剤ＲＳである。また、貯留部２１は、脱着処理によって反応剤ＲＳから脱着されたガス（例えば、二酸化炭素）を外部へ排出するガス排出ライン２４が接続されている。
供給部２２は、ガスライン２に接続されている。供給部２２は、貯留部２１内から反応剤ＲＳをガスライン２中に定量供給する。供給部２２は、例えば、回転式のフィーダーであって、回転速度を変更することで、反応剤ＲＳの供給量を調節可能とされている。
脱着部２３は、貯留部２１に配置されている反応剤ＲＳから回収対象ガスを脱着させる。本実施形態の脱着部２３は、脱着処理として加熱することで、反応剤ＲＳから回収対象ガスを脱着させる。反応剤供給機２０は、脱着処理としては、ガスライン２を流通するガスＥＧよりも高い温度に、粉末状の反応剤ＲＳを加熱する。脱着部２３は、例えば、貯留部２１及び供給部２２を構成する外装の両方を覆った状態で、外部から加熱可能なヒータである。これにより、本実施形態の脱着部２３は、貯留部２１のみではなく、供給部２２に配置されている反応剤ＲＳも加熱する。このように、脱着部２３は、基材等の他の構成を含まない粉末状の反応剤ＲＳのみを加熱可能とされている。
新規反応剤供給部２００は、新たな反応剤ＲＳを反応剤供給機２０に供給可能とされている。新規反応剤供給部２００は、貯留部２１と接続されている。
反応剤戻しライン３は、排出機１５と反応剤供給機２０とを接続している。反応剤戻しライン３の一端は、排出機１５に接続されている。反応剤戻しライン３の他端は、貯留部２１に接続されている。この反応剤戻しライン３により、排出機１５から排出された反応剤ＲＳを反応剤供給機２０に供給可能とされている。
送出先切替部３１は、反応剤戻しライン３の途中に配置されている。送出先切替部３１は、排出機１５から反応剤戻しライン３に供給された反応剤ＲＳを、貯留部２１又は外部へと排出先を切り替えて排出可能とされている。送出先切替部３１は、制御部５から指示によって反応剤ＲＳの排出先を切り替える。
ガス情報取得部７は、ガスライン２を流通するガスＥＧ中の回収対象ガス（本実施形態では二酸化炭素）の濃度、ガスＥＧの湿度、ガスＥＧの流量、ガスＥＧの圧力の情報及びガスＥＧの温度を取得する。ガス情報取得部７は、供給部２２から反応剤ＲＳが供給される位置に対して上流の位置（ガス発生源１に寄った位置）に配置されている。ガス情報取得部７は、ガスライン２を流通するガスＥＧ中の回収対象ガスの濃度を計測して取得している。加えて、ガス情報取得部７は、ガスライン２を流通するガスＥＧの湿度を計測して取得している。さらに、ガス情報取得部７は、ガスライン２を流通するガスＥＧのガス流量を計測して取得している。また、ガス情報取得部７は、ガスライン２を流通するガスＥＧの温度を計測して取得している。また、ガス情報取得部７は、ガスライン２を流通するガスＥＧの圧力を計測して取得している。ガス情報取得部７は、取得したガスＥＧ中の回収対象ガスの濃度、ガスＥＧの湿度の情報、ガスＥＧのガス流量の情報、ガスＥＧの圧力の情報及びガスＥＧの温度の情報を制御部５Ｃに出力している。なお、ガスＥＧのガス流量は、ガス情報取得部７ではなく、吸引ブロワー４の回転数や動力などに基づいて取得されてもよい。
制御部５は、排出機１５で排出された反応剤ＲＳに対して吸着した回収対象ガスの吸着量に応じて、反応剤ＲＳの排出先を送出先切替部３１に切り替えさせる。制御部５には、ガス情報取得部７からガスＥＧ中の回収対象ガスの濃度の情報、ガスＥＧの湿度の情報、ガスＥＧのガス流量の情報、ガスＥＧの圧力の情報及びガスＥＧの温度の情報が入力される。本実施形態の制御部５は、吸着量取得部５１と、吸着量判定部５２とを有している。
吸着量取得部５１は、排出機１５で排出された反応剤ＲＳに対して吸着した回収対象ガスの吸着量を取得する。吸着量取得部５１は、例えば、反応剤ＲＳの供給量、ガスライン２を流れるガスＥＧ中の回収対象ガスの濃度の情報、ガスＥＧの湿度の情報、ガスＥＧのガス流量の情報、ガスＥＧの圧力の情報及びガスＥＧの温度の情報、及び、逆洗装置１４での逆洗時間に基づいて回収対象ガスの吸着量を算出する。逆洗時間は、集塵フィルタ１３に反応剤ＲＳが付着していた時間であり、次に逆洗を実施するまでの間隔である。つまり、逆洗時間によって、逆洗が実施される頻度が決定される。逆洗時間が長時間に及ぶことで、集塵フィルタ１３が目詰まりし、集塵フィルタ１３にガスＥＧを通過させることが難しい状況となる。反応剤ＲＳの供給量、ガスライン２を流れるガスＥＧ中の回収対象ガスの濃度の情報、ガスＥＧの湿度の情報、ガスＥＧのガス流量の情報、ガスＥＧの圧力の情報及びガスＥＧの温度の情報と、逆洗装置１４での逆洗時間等の情報は、事前に入力されてもよく、自動で検出してもよい。
吸着量判定部５２は、吸着量取得部５１で取得した吸着量が予め定めた吸着量基準値を下回っているか否かを判定する。ここで、吸着量基準値とは、脱着処理をしても反応剤ＲＳが完全に再生せず、新たに回収対象ガスと反応することができないとみなせる値である。つまり、反応剤ＲＳの劣化状態を表す値である。吸着量が吸着量基準値を超えている場合には、反応剤ＲＳがまだ劣化しきっておらず、反応剤ＲＳとして使用可能であることを示している。逆に、吸着量が吸着量基準値を下回っている場合には、反応剤ＲＳが劣化して使用できないことを示している。吸着量判定部５２は、吸着量が吸着量基準値を超えていると判定した場合には、反応剤ＲＳを貯留部２１へ搬送するように、送出先切替部３１に搬送先を切り替える信号を送る。吸着量判定部５２は、吸着量が吸着量基準値を下回っていると判定した場合には、反応剤ＲＳを外部へ排出するように、送出先切替部３１に搬送先を切り替える信号を送る。これにより、反応剤供給機２０には、吸着量判定部５２で吸着量が吸着量基準値を超えていると判定された場合には、排出機１５で排出された反応剤ＲＳが供給される。また、反応剤供給機２０には、吸着量判定部５２で吸着量が吸着量基準値を下回っていると判定された場合には、新規反応剤供給部２００から新たな反応剤ＲＳが供給される。
次に、以上で説明したガス処理設備１００でのガス処理設備方法Ｓ１００について、図２に示すフローチャートに従って説明する。
反応剤供給機２０は、ガスライン２を流れるガスＥＧに、平均粒径が１ｍｍ以下の粉末状の反応剤ＲＳを供給する（Ｓ１：反応剤供給工程）。具体的には、反応剤供給工程Ｓ１では、新規反応剤供給部２００から新たな反応剤ＲＳが反応剤供給機２０に供給される（Ｓ１１：新規反応剤供給工程）。供給された新たな反応剤ＲＳは、貯留部２１にいったん貯留される（Ｓ１２：貯留工程）。貯留部２１に貯留された反応剤ＲＳは、脱着部２３によって脱着処理として、ガスライン２を流通するガスＥＧよりも高い温度まで加熱される（Ｓ１３：脱着処理実施工程）。その結果、反応剤ＲＳから回収対象ガスが脱着される。回収対象ガスが脱着された反応剤ＲＳは、供給機からガスライン２を流れるガスＥＧ中に供給される（Ｓ１４：供給実施工程）。このガスＥＧ中には、回収対象ガスに加えて灰、重金属等が含まれている場合がある。なお、ガスＥＧが大気である場合には、灰、重金属等は含まれていない。
反応剤ＲＳを含むガスＥＧは、ガスライン２を経て、集塵フィルタ装置１０の入口側空間１２ｉに流入する。この結果、ガスＥＧ中の粉末状の反応剤ＲＳ及び固形物は、集塵フィルタ１３に捕集され、ガスＥＧ中のガスが処理済みのガスＥＧとして集塵フィルタ装置１０から流出する（Ｓ２：捕集工程）。集塵フィルタ装置１０から流出した処理済みのガスＥＧは、処理済みガスライン２ｔを経て、外部に排出される。
また、ガスＥＧ中の回収対象ガスは、ガスライン２、集塵フィルタ装置１０の入口側空間１２ｉ、及び、集塵フィルタ１３に付着した粉体（粉末状の反応剤ＲＳ）の層を通過する過程で、反応剤ＲＳと反応もしくは吸着し、捕集される。
集塵フィルタ装置１０での処理が所定の時間にわたって実施された後に集塵フィルタ１３に対して、逆洗を行い、集塵フィルタ１３で捕集された粉体や固形物を集塵フィルタ１３から離脱させる（Ｓ３：逆洗工程）。逆洗工程Ｓ３では、集塵フィルタ装置１０内の入口側空間１２ｉと出口側空間１２ｏとの差圧が判定される（Ｓ３１：差圧判定工程）。具体的には、集塵フィルタ装置１０では、ガスＥＧが供給され続けることで、集塵フィルタ１３に付着した粉体及び固形物の層が厚くなる。その結果、集塵フィルタ装置１０内の入口側空間１２ｉと出口側空間１２ｏとの差圧が大きくなる。差圧判定工程Ｓ３１では、この差圧が予め定めた差圧基準値を下回っているか否かを判定する。ここで、差圧基準値とは、集塵フィルタ１３に粉体及び固形物が付着しすぎているとみなせる値である。つまり、差圧が差圧基準値以上となることで、集塵フィルタ１３にガスＥＧを通過させることが難しい状況となる。また、差圧判定工程Ｓ３１では、前回の逆洗から予め定められた逆洗時間が経過したか否かも判定する。差圧が差圧基準値を下回っていると判断された場合や逆洗時間を経過していないと判断された場合、逆洗を実施せず、再び捕集工程Ｓ２が実施される。差圧が差圧基準値を下回っていないと判断された場合や逆洗時間を経過していると判断された場合、逆洗が実施される（Ｓ３２：逆洗実施工程）。
なお、逆洗工程Ｓ３では、集塵フィルタ装置１０に供給されるガスＥＧのガス流量や回収対象ガスの濃度や温度が安定している場合、粉末の供給量も一定となるため、差圧判定工程Ｓ３１を省略してもよい。その場合、逆洗は、差圧の判定を行うことなく、所定の逆洗間隔で実施される。
逆洗実施工程Ｓ３２では、逆洗装置１４の開閉弁１４ｃが開いて、逆洗用高圧ガスタンク１４ａ内の高圧ガスが出口側空間１２ｏから入口側空間１２ｉに向かうように、集塵フィルタ１３に送られる。この高圧ガスにより集塵フィルタ１３に付着していた粉体及び固形物が集塵フィルタ１３から剥離し、粉体及び固形物が集塵フィルタ装置１０の入口側空間１２ｉ内を落下する。入口側空間１２ｉ内を落下してきた粉体及び固形物は、排出機１５により集塵フィルタ装置１０の外に排出される（Ｓ４：排出工程）。
また、排出機１５から排出された反応剤ＲＳに対して吸着している回収対象ガスの吸着量を取得する（Ｓ５：吸着量取得工程）。吸着量取得工程Ｓ５では、例えば、制御部５の吸着量取得部５１によってガスＥＧ中の回収対象ガスの濃度の情報、ガスＥＧの湿度の情報、ガスＥＧのガス流量の情報、ガスＥＧの圧力の情報及びガスＥＧの温度の情報、及び逆洗装置１４での逆洗時間に基づいて回収対象ガスの吸着量を算出する。
吸着量取得工程Ｓ５で取得された吸着量が予め定めた吸着量基準値を下回っているか否かを判定する（Ｓ６：吸着量判定工程）。吸着量が吸着量基準値を超えていると判定した場合には、送出先切替部３１を切り替えて、反応剤ＲＳを貯留部２１へ搬送させる。吸着量が吸着量基準値を下回っていると判定した場合には、送出先切替部３１を切り替えて、反応剤ＲＳを外部へ排出させる。
貯留部２１へ搬送された反応剤ＲＳには、貯留工程Ｓ１２が再び実施される。つまり、供給された反応剤ＲＳは、貯留された後に脱着処理が施され、ガスライン２に供給されて、集塵フィルタ装置１０に送られる。このように、吸着量が吸着量基準値を超えていると判定された場合には、反応剤ＲＳは、反応剤供給機２０、ガスライン２、及び集塵フィルタ装置１０を、循環し続ける。
また、外部へ排出された反応剤ＲＳは廃棄される（Ｓ７：廃棄工程）。具体的には、廃棄量が算出され、廃棄量に基づいて反応剤ＲＳは廃棄される。反応剤ＲＳに吸着している回収対象ガスは、廃棄前に脱着されて別途利用されてもよい。廃棄工程Ｓ７で廃棄された廃棄量と同程度の量の新たな反応剤ＲＳが、新規反応剤供給部２００から新たに反応剤供給機２０に供給される（Ｓ１１：新規反応剤供給工程）。
（作用効果）
このようなガス処理設備１００及びガス処理設備方法Ｓ１００では、反応剤供給機２０によって、脱着処理を施した粉末状の反応剤ＲＳがガスＥＧに供給される。反応剤ＲＳが供給されることで、ガスＥＧ中の回収対象ガスは反応剤ＲＳと反応して反応生成物になる。その際、供給される反応剤ＲＳは、平均粒径が１ｍｍ以下の粉末状とされている。このような粉末状の反応剤ＲＳでは、粒径の大きなペレット状のような反応剤やハニカムコート型のような基材にコーティングされて大きな塊状となっている反応剤に比べて、比表面積が非常に大きくなる、そのため、粉末状の反応剤ＲＳをガスＥＧに供給することで、ガスＥＧ中の回収対象ガスを効果的に吸着分離することができる。さらに、回収対象ガスを吸着した反応剤ＲＳから回収対象ガスを脱着させる際には、反応剤ＲＳに対して加熱して脱着処理を行う必要がある。これに対し、本実施形態では、脱着処理は、粉末状の反応剤ＲＳに施される。粉末状のまま脱着処理が施されるため、反応剤ＲＳに対して脱着処理をする際のエネルギーが抑えられる。これらにより、ロスを抑えて、ガスＥＧ中の回収対象ガスを分離できる。
また、脱着処理としては、ガスライン２を流通するガスＥＧを超えた高い温度に粉末状の反応剤ＲＳが加熱されている。そのため、脱着処理が完了した反応剤ＲＳは、ガスライン２に供給されることで、流通しているガスＥＧによって冷却されることになる。反応剤ＲＳは、同じ圧力下において、温度が低いほど、回収対象ガスの吸着量が増加することがわかっている。したがって、脱着処理が完了するほど高温となった反応剤ＲＳを冷却することで、回収対象ガスの吸着効果を向上させることができる。また、反応剤ＲＳを冷却するために新たな装置を準備することなく、ガスライン２を流通するガスＥＧ中に反応剤ＲＳを供給するだけで、反応剤ＲＳを冷却できる。これにより、高い精度で反応剤ＲＳへの脱着処理を完了させつつ、コストを抑えて、回収対象ガスの吸着性能を向上させることができる。
また、ガスライン２に供給された反応剤ＲＳは、集塵フィルタ１３で捕集されることで、ガスライン２及び集塵フィルタ装置１０の入口側空間１２ｉを流れて集塵フィルタ１３に付着した状態で、ガスＥＧ中の回収対象ガスと反応する。したがって、回収対象ガスを十分に吸着するための時間を確保できる。そして、集塵フィルタ１３で捕集された反応剤ＲＳを逆洗装置１４によって集塵フィルタ１３から離脱させることができる。そして、集塵フィルタ１３から離脱させた反応剤ＲＳは、排出機１５から排出されて反応剤戻しライン３を介して貯留部２１に戻される。そのため、回収対象ガスを十分に吸着した状態の反応剤ＲＳを、集塵フィルタ１３から回収することができる。そして、回収対象ガスを吸着した状態の反応剤ＲＳは、貯留部２１に貯留された状態で、脱着部２３で加熱され、回収対象ガスが分離される。したがって、回収対象ガスを十分に脱着した状態の反応剤ＲＳを再びガスライン２に供給できる。これにより、粉末状の反応剤ＲＳをリサイクルでき、反応剤ＲＳの使用量を抑えることができる。
また、吸着量取得部５１によって、排出機１５で排出された反応剤ＲＳに対して吸着した回収対象ガスの吸着量が取得される。そして、吸着量判定部５２によって、取得された回収対象ガスの吸着量が吸着量基準値を下回っているか否かが判定される。吸着量判定部５２は、吸着量が吸着量基準値を超えていると判定した場合には、送出先切替部３１に対して、排出機１５で排出された反応剤ＲＳを貯留部２１に供給させる。また、吸着量判定部５２は、吸着量が吸着量基準値を下回っていると判定した場合には、送出先切替部３１に対して、排出機１５で排出された反応剤ＲＳを外部へ排出させる。その結果、貯留部２１には、新規反応剤供給部２００から新たな反応剤ＲＳが供給される。このような構成により、排出機１５から排出された反応剤ＲＳに吸着している回収対象ガスの吸着量に基づいて、反応剤ＲＳの性能を評価することができる。したがって、性能が低下した反応剤ＲＳを廃棄するとともに、新たな反応剤ＲＳを供給するタイミングを切り替えることが容易となる。これにより、常に吸着性能が維持された反応剤ＲＳを廃棄ガスラインのガスＥＧ中に供給する運転を継続することができる。
＜第二実施形態＞
次に、本開示に係る第二実施形態のガス処理設備１００Ａについて説明する。なお、以下に説明する第二実施形態においては、上記第一実施形態と共通する構成については図中に同符号を付してその説明を省略する。第二実施形態では、反応剤供給機２０から反応剤ＲＳを供給する構成が第一実施形態と異なっている。
図３に示すように、第二実施形態のガス処理設備１００Ａは、反応剤冷却部６をさらに備えている。反応剤冷却部６は、粉末状の反応剤ＲＳをガスＥＧよりも低い温度に冷却する。具体的には、反応剤冷却部６は、供給部２２からガスライン２に供給される直前の反応剤ＲＳを冷却する。反応剤冷却部６は、例えば、反応剤ＲＳに外気や加湿ガスを混ぜたり、供給部２２とガスライン２との接続部部分を冷水などの低温流体で熱交換したりすることで冷却する。したがって、第二実施形態のガス処理設備方法Ｓ１００Ａでは、図２に示す反応剤供給工程Ｓ１Ａでは、反応剤ＲＳはガスＥＧの温度以下に冷却されてガスＥＧ中に供給される。
（作用効果）
第二実施形態のガス処理設備１００Ａ及びガス処理設備方法Ｓ１００Ａでは、反応剤冷却部６によって反応剤ＲＳはガスＥＧ以下の低い温度に冷却された後に、ガスＥＧ中に供給されている。そのため、反応剤ＲＳに吸着させる対象が二酸化炭素である場合、脱着処理が完了するほど高温となった反応剤ＲＳをガスＥＧ以下の低温まで冷却することで、二酸化炭素の吸着効果を特に向上させることができる。また、仮に、冷却する際に加湿ガスを反応剤ＲＳに混ぜた場合には、反応剤ＲＳの吸水量が上昇する。その結果、二酸化炭素の吸着効果をより一層向上させることができる。
＜第三実施形態＞
次に、本開示に係る第三実施形態のガス処理設備１００Ｂについて説明する。なお、以下に説明する第三実施形態においては、上記第一実施形態及び第二実施形態と共通する構成については図中に同符号を付してその説明を省略する。第三実施形態では、逆洗装置１４から排出される高圧ガスを調整する構成が第一実施形態及び第二実施形態と異なっている。
図４に示すように、第三実施形態のガス処理設備１００Ｂは、逆洗ガス調整部１４１をさらに備えている。逆洗ガス調整部１４１は、高圧ガスの温度をガスライン２を流通するガスＥＧ以下の温度とする、又は、高圧ガスの湿度をガスライン２を流通するガスＥＧを超えた湿度とする。具体的には、逆洗ガス調整部１４１は、逆洗用高圧ガスタンク１４ａから高圧ガス案内菅１４ｂに排出された高圧ガスを冷却するとともに湿度を上昇させる。これにより、第三実施形態では、高圧ガス案内菅１４ｂから集塵フィルタ１３に向かって排出される高圧ガスは、ガスライン２を流通するガスＥＧに対して低温かつ高湿とされる。したがって、第三実施形態のガス処理設備方法Ｓ１００Ｂでは、図２に示す逆洗工程Ｓ３Ｂで、高圧ガスはガスライン２を流通するガスＥＧ以下の低い温度又はガスＥＧを超えた高い湿度とされて供給される。
なお、逆洗ガス調整部１４１は、高圧ガスの温度又は湿度の両方を調整する構成に限定されるものではない。逆洗ガス調整部１４１は、高圧ガスの温度又は湿度の一方のみを調整する構成であってもよい。
（作用効果）
第三実施形態のガス処理設備１００Ｂ及びガス処理設備方法Ｓ１００Ｂでは、逆洗のために集塵フィルタ１３に送る高圧ガスの温度がガスＥＧ以下に低くされる。加えて、集塵フィルタ１３に送る高圧ガスの湿度がガスＥＧ超えて高くされている。そのため、集塵フィルタ１３に付着した反応剤ＲＳは、逆洗によって冷却され、反応剤ＲＳの吸着性能が向上される。そのため、逆洗時であっても、回収対象ガスの吸着効果を向上させることができる。特に、逆洗時の高圧ガスが高圧空気であった場合には、高圧空気に含まれる回収対象ガスも吸着させることができる。また、反応剤ＲＳがアミン系化合物のように水分共存下で吸着性能が向上する特徴を有する場合であって、吸着させる対象が二酸化炭素である場合には、集塵フィルタ１３に付着した反応剤ＲＳは、逆洗によって高湿となり、反応剤ＲＳの吸着性能が向上される。そのため、逆洗時に、回収対象ガスの吸着効果をより一層向上させることができる。
なお、逆洗装置１４では、高圧ガスの温度をガスＥＧ以下に低くするか、高圧ガスの湿度をガスＥＧを超えるように高くしていればよい。したがって、逆洗装置１４では、高圧ガスの温度をガスＥＧ以下に低くするだけでもよく、高圧ガスの湿度をガスＥＧを超えて高くするだけでもよい。つまり、逆洗ガス調整部１４１は、高圧ガスの温度及び湿度の両方を調整する構造に限定されるものではなく、高圧ガスの温度及び湿度の一方のみを調整する構造であってもよい。
＜第四実施形態＞
次に、本開示に係る第四実施形態のガス処理設備１００Ｃについて説明する。なお、以下に説明する第四実施形態においては、上記第一実施形態から第三実施形態と共通する構成については図中に同符号を付してその説明を省略する。第四実施形態では、ガスライン２を流通するガスＥＧの状態に応じて、運転条件を調整する構成が第一実施形態から第三実施形態と異なっている。
図５に示すように、第四実施形態のガス処理設備１００Ｃは、ガスライン２を流通するガスＥＧの状態に応じて、反応剤ＲＳの供給状態や脱着条件や逆洗条件を調整する。ガス処理設備１００Ｃは、ガスＥＧ中の回収対象ガスの濃度の情報、ガスＥＧの湿度の情報、ガスＥＧのガス流量の情報、ガスＥＧの圧力の情報及びガスＥＧの温度の情報に応じて、反応剤供給機２０でのガスＥＧ中への反応剤ＲＳの供給量を調整可能とされている。具体的には、反応剤供給機２０は、ガスＥＧ中の回収対象ガスの濃度が増加、ガスＥＧの湿度が低下、ガス流量が増加、圧力が減少、または温度が上昇した場合に、反応剤ＲＳの供給量を増加させるようにガスＥＧ中への反応剤ＲＳの供給量を調整可能とされている。また、反応剤供給機２０は、ガスＥＧ中の回収対象ガスの濃度が減少、ガスＥＧの湿度が増加、ガス流量が減少、圧力が増加、または温度が低下した場合に、反応剤ＲＳの供給量を減少させるようにガスＥＧ中への反応剤ＲＳの供給量を調整可能とされている。さらに、ガス処理設備１００Ｃは、ガスＥＧ中の回収対象ガスの濃度及びガスＥＧの湿度に応じて、反応剤供給機２０での反応剤ＲＳの脱着処理の時間を調整可能とされている。ガス処理設備１００Ｃは、ガスＥＧの湿度に応じて、逆洗装置１４での逆洗時間（頻度）を調整可能とされている。具体的には、反応剤供給機２０は、回収対象ガスの吸着量及び反応剤ＲＳに含まれる水分量が増加した場合に、脱着処理の時間を増加させるよう脱着処理の時間を調整可能とされている。また、反応剤供給機２０は、回収対象ガスの吸着量及び反応剤ＲＳに含まれる水分量が減少した場合に、脱着処理の時間を減少させるよう脱着処理の時間を調整可能とされている。
第四実施形態の制御部５Ｃは、ガスＥＧ中の回収対象ガスの濃度、ガスＥＧの湿度（Ｈ２０濃度）、ガスＥＧの流量、ガスＥＧの圧力の情報及びガスＥＧの温度に応じて、反応剤供給機２０や逆洗装置１４を制御する。本実施形態の制御部５Ｃは、吸着量取得部５１及び吸着量判定部５２に加えて、フィルタ吸着状態取得部５６と、供給条件調整部５７と、脱着条件調整部５８と、逆洗条件調整部５９と、をさらに有している。
フィルタ吸着状態取得部５６は、ガスＥＧ中の回収対象ガスの濃度の情報、ガスＥＧの湿度の情報、ガスＥＧのガス流量の情報、ガスＥＧの圧力の情報及びガスＥＧの温度の情報に基づいて、集塵フィルタ１３での反応剤ＲＳへの回収対象ガスの吸着量及び水分（Ｈ２０）の吸着量を算出して取得する。フィルタ吸着状態取得部５６は、ガス情報取得部７からガスＥＧ中の回収対象ガスの濃度の情報、ガスＥＧの湿度の情報、ガスＥＧのガス流量の情報、ガスＥＧの圧力の情報及びガスＥＧの温度の情報の情報が入力される。
フィルタ吸着状態取得部５６は、入力された回収対象ガスの濃度の情報、ガスＥＧの湿度の情報、ガスＥＧのガス流量の情報、ガスＥＧの圧力の情報及びガスＥＧの温度の情報に基づいて、集塵フィルタ１３に捕集された反応剤ＲＳへの回収対象ガスの吸着量を算出する。具体的には、フィルタ吸着状態取得部５６は、入力されたガスＥＧのガス流量に基づいて、集塵フィルタ１３でのろ過速度を算出する。算出されたろ過速度と、入力された回収対象ガスの濃度、温度、圧力、湿度の情報とに基づいて、集塵フィルタ１３での反応剤ＲＳへの回収対象ガスの吸着量が算出される。フィルタ吸着状態取得部５６は、算出した回収対象ガスの吸着量の情報を供給条件調整部５７及び脱着条件調整部５８へ送る。
また、フィルタ吸着状態取得部５６は、入力された濃度の情報、湿度の情報、ガスＥＧのガス流量の情報、ガスＥＧの圧力の情報及び温度の情報に基づいて、集塵フィルタ１３に捕集された反応剤ＲＳへの水分の吸着量（水分量）を算出する。具体的には、フィルタ吸着状態取得部５６は、算出されたろ過速度と、入力された濃度、温度、圧力、湿度の情報とに基づいて、集塵フィルタ１３での反応剤ＲＳの水分量が算出される。フィルタ吸着状態取得部５６は、算出した水分量の情報を脱着条件調整部５８及び逆洗条件調整部５９へ送る。
供給条件調整部５７は、吸着状態調整部で算出して取得された回収対象ガスの吸着量の情報に基づいて、供給部２２からガスＥＧ中への反応剤ＲＳの供給量を調整する。例えば、供給条件調整部５７は、回収対象ガスの吸着量が予め定めたフィルタ回収対象ガス基準値となる反応剤ＲＳの供給量を算出する。ここで、フィルタ回収対象ガス基準値とは、集塵フィルタ１３での反応剤ＲＳにおいて、吸着可能な回収対象ガスの限界量である。フィルタ回収対象ガス基準値は、反応剤ＲＳにおいて脱着処理をすることで再生可能となる限界の吸着量であって、吸着量基準値以下の小さな値となっている。供給条件調整部５７は、算出した供給量の反応剤ＲＳを供給するよう供給部２２に指示を送る。これにより、供給部２２は、取得したガスＥＧにおける回収対象ガスの濃度が増加、湿度が減少、流量が増加、圧力が減少、又は温度が上昇した場合に、ガスライン２への反応剤ＲＳの供給量を増加させる。また、供給部２２は、取得したガスＥＧにおける回収対象ガスの濃度が減少、湿度が増加、流量が減少、圧力が増加、または温度が低下した場合に、ガスライン２への反応剤ＲＳの供給量を減少させる。
脱着条件調整部５８は、吸着状態調整部で算出して取得された回収対象ガスの吸着量及び水分量の情報に基づいて、脱着処理を行う条件を調整する。脱着条件調整部５８は、取得された回収対象ガスの吸着量及び水分量の情報に基づいて、脱着部２３で脱着処理を行う際の加熱温度及び脱着時間を算出する。加熱温度は、脱着部２３で脱着処理を行う温度である。脱着時間は、脱着部２３で所定の加熱温度で脱着処理を行う時間である。加熱温度は、例えば、複数の基準となる温度が設定されていて、それらの温度の中の一つが選択される。そして、脱着条件調整部５８は、選択した加熱温度での脱着時間を算出する。
また、本実施形態の脱着条件調整部５８は、取得された回収対象ガスの吸着量及び水分量の少なくとも一方が基準を超えているか否かを判定する。例えば、脱着条件調整部５８は、水分量が基準水分量を超えているか否かを判定する。水分量が基準水分量を超えている場合、予め設定された複数の加熱温度の中で、高い温度が選択される。また、水分量が基準水分量を超えていない場合、予め設定された複数の加熱温度の中で、低い温度が選択される。その後、脱着条件調整部５８は、選択された加熱温度での脱着時間を算出する。
脱着条件調整部５８は、算出した脱着時間及び選択した温度で脱着処理を行うように脱着部２３に指示を送る。これにより、脱着部２３は、取得した回収対象ガスの吸着量及び反応剤ＲＳに含まれる水分量が増加した場合に、脱着時間を増加させて、脱着処理を行う。また、脱着部２３は、取得した回収対象ガスの吸着量及び反応剤ＲＳに含まれる水分量が減少した場合に、脱着時間を減少させて、脱着処理を行う。
なお、脱着条件の一つである加熱温度は、予め設定された複数の加熱温度の中から選択されて決定されることに限定されるものではない。加熱温度は、任意の温度で算出して決定されてもよい。したがって、脱着条件調整部５８は、任意の加熱温度及びその加熱温度に対応する脱着時間に変更させるように脱着部２３に指示を出してもよい。さらに、加熱温度が任意の温度として算出される場合には、回収対象ガスの吸着量及び水分量の少なくとも一方が基準を超えているか否かを判定しなくてもよい。つまり、回収対象ガスの吸着量及び水分量の判定をせず、取得した回収対象ガスの吸着量及び水分量に基づいて、加熱温度及び脱着時間を直接算出してもよい。
また、脱着条件調整部５８は、回収対象ガスの吸着量及び水分量の少なくとも一方を判定する際に、本実施形態のように、水分量のみを判定することに限定されるものではない、脱着条件調整部５８は、回収対象ガスの吸着量のみを判定してもよく、回収対象ガスの吸着量及び水分量の両方を判定してもよい。
逆洗条件調整部５９は、吸着状態調整部で算出して取得された回収対象ガスの吸着量の情報に基づいて、集塵フィルタ１３への逆洗条件を調整する。例えば、逆洗条件調整部５９は、回収対象ガスの吸着量がフィルタ回収対象ガス基準値となるまでの時間を算出する。逆洗条件調整部５９は、算出した時間に基づいて、逆洗条件として逆洗時間（逆洗を実施する間隔）を決定する。逆洗条件調整部５９は、決定した逆洗時間で逆洗を実施するよう逆洗装置１４に指示を送る。これにより、逆洗装置１４は、取得したガスＥＧにおける回収対象ガスの濃度が増加した場合に、逆洗を実施する逆洗時間を減少させる。その結果、逆洗を実施する回数が増加される。また、逆洗装置１４は、取得したガスＥＧにおける回収対象ガスの濃度が減少した場合に、逆洗を実施する逆洗時間を増加させる。その結果、逆洗を実施する回数が減少される。
次に、上記のガス処理設備１００Ｃを利用したガス処理設備方法Ｓ１００Ｃを説明する。第四実施形態のガス処理設備方法Ｓ１００Ｃでは、図６に示すように、ガス情報取得部７によって、ガスライン２を流通するガスＥＧ中の回収対象ガスの濃度及びガスＥＧの湿度を取得する（Ｓ８１：ガス情報取得工程）。具体的には、反応剤ＲＳが供給される前のガスＥＧにおける回収対象ガスの濃度、湿度、温度、圧力及びガス流量が計測される。取得したガスＥＧ中の回収対象ガスの濃度、ガスＥＧの湿度の情報、ガスＥＧの圧力の情報及びガスＥＧのガス流量の情報、温度の情報は、制御部５Ｃに送られる。
制御部５Ｃでは、回収対象ガスの濃度の情報、湿度の情報、ガス流量の情報、ガスＥＧの圧力の情報及び温度の情報に基づいて、集塵フィルタ１３に捕集された反応剤ＲＳへの回収対象ガスの吸着量及び水分の吸着量（水分量）を算出して取得する（Ｓ８２：フィルタ吸着状態取得工程）。フィルタ吸着状態取得工程Ｓ８２では、ガス情報取得部７からガスＥＧ中の回収対象ガスの濃度の情報、ガスＥＧの湿度の情報、ガスＥＧの圧力の情報及びガスＥＧのガス流量の情報、温度の情報が取得される。フィルタ吸着状態取得工程Ｓ８２では、回収対象ガスの濃度の情報、湿度の情報、ガスＥＧの圧力の情報、温度の情報、及びガスＥＧのガス流量の情報に基づいて、フィルタ吸着状態取得部５６によって、集塵フィルタ１３での反応剤ＲＳへの回収対象ガスの吸着量が算出される。さらに、フィルタ吸着状態取得工程Ｓ８２は、湿度の情報、ガスＥＧのガス流量の情報、ガスＥＧの濃度の情報、ガスＥＧの圧力の情報及び温度の情報に基づいて、集塵フィルタ１３での反応剤ＲＳへの水分量が算出される。
フィルタ吸着状態取得工程Ｓ８２で取得された回収対象ガスの吸着量の情報に基づいて、供給実施工程Ｓ１４における供給部２２からガスＥＧ中への反応剤ＲＳの供給量が調整される（Ｓ８３：供給条件調整工程）。供給条件調整工程Ｓ８３では、供給条件調整部５７によって、フィルタ回収対象ガス基準値となる反応剤ＲＳの供給量が算出される。その後、算出した供給量の反応剤ＲＳを供給実施工程Ｓ１４で供給するよう供給部２２に指示が送られる。これにより、供給実施工程Ｓ１４では、取得したガスＥＧにおける回収対象ガスの濃度が増加、湿度が減少、流量が増加、圧力が減少、又は温度が上昇した場合に、ガスライン２への反応剤ＲＳの供給量が増加する。また、供給実施工程Ｓ１４では、取得したガスＥＧにおける回収対象ガスの濃度が減少、湿度が増加、流量が減少、圧力が増加、または温度が低下した場合に、ガスライン２への反応剤ＲＳの供給量が減少する。
フィルタ吸着状態取得工程Ｓ８２で取得された回収対象ガスの吸着量の情報に基づいて、逆洗実施工程Ｓ３２における集塵フィルタ１３への逆洗条件が調整される（Ｓ８４：逆洗条件調整工程）。逆洗条件調整工程Ｓ８４では、逆洗条件調整部５９によって、回収対象ガスの吸着量がフィルタ回収対象ガス基準値となるまでの時間が算出される。その後、算出した時間に基づいて、逆洗時間が決定される。逆洗条件調整工程Ｓ８４では、決定した逆洗時間での逆洗を逆洗実施工程Ｓ３２で実施するよう逆洗装置１４に指示が送られる。これにより、逆洗実施工程Ｓ３２では、取得したガスＥＧにおける回収対象ガスの濃度が増加した場合に、次の逆洗を実施する逆洗時間が減少される。また、逆洗実施工程Ｓ３２では、取得したガスＥＧにおける回収対象ガスの濃度が減少した場合に、次の逆洗を実施する逆洗時間が増加される。
フィルタ吸着状態取得工程Ｓ８２で取得された回収対象ガスの吸着量及び水分量の情報に基づいて、脱着処理を行う条件が調整される（Ｓ８５：脱着条件調整工程）。脱着条件調整工程Ｓ８５は、吸着量判定工程Ｓ６の後であって、吸着量が吸着量基準値を超えていると判定した場合に実施される。脱着条件調整工程Ｓ８５では、取得された回収対象ガスの吸着量及び水分量の情報に基づいて、脱着条件調整部５８によって、脱着工程で脱着処理を行う際の加熱温度及び脱着時間が算出される。脱着条件調整工程Ｓ８５では、算出した加熱温度での脱着時間を算出する。脱着条件調整工程Ｓ８５では、脱着処理実施工程Ｓ１３、Ｓ１３Ｅにおいて、算出した脱着時間及び選択した温度で脱着処理を行うように脱着部２３に指示が送られる。これにより、脱着処理実施工程Ｓ１３では、取得した回収対象ガスの吸着量及び反応剤ＲＳに含まれる水分量が増加した場合に、脱着処理の時間が増加され、脱着処理が実施される。また、脱着処理実施工程Ｓ１３では、取得した回収対象ガスの吸着量及び反応剤ＲＳに含まれる水分量が減少した場合に、脱着処理の時間が減少させて、脱着処理が実施される。
なお、吸着状態調整工程では、脱着条件の一つである加熱温度を、予め設定された複数の加熱温度の中から選択されて決定してもよく、任意の温度で算出して決定してもよい。したがって、脱着条件調整工程Ｓ８５では、任意の加熱温度及びその加熱温度に対応する脱着時間に変更させるように脱着部２３に指示を出してもよい。また、加熱温度が予め設定された複数の加熱温度の中から選択される場合には、回収対象ガスの吸着量及び水分量の少なくとも一方が基準を超えているか否かを判定してもよい。さらに、加熱温度が任意の温度として算出される場合には、回収対象ガスの吸着量及び水分量の少なくとも一方が基準を超えているか否かを判定しなくてもよい。
（作用効果）
第四実施形態のガス処理設備１００Ｃ及びガス処理設備方法Ｓ１００Ｃでは、ガス情報取得部７によって、ガスライン２を流通するガスＥＧ中の回収対象ガスの濃度の情報、ガスＥＧの湿度の情報、ガスＥＧの圧力の情報、温度の情報及びガスＥＧのガス流量の情報が取得される。そして、フィルタ吸着状態取得部５６によって、ガスＥＧ中の回収対象ガスの濃度の情報、ガスＥＧの湿度の情報、ガスＥＧの圧力の情報、温度の情報及びガスＥＧのガス流量の情報に基づいて、集塵フィルタ１３での反応剤ＲＳへの回収対象ガスの吸着量及び水分の吸着量（水分量）が取得される。取得された回収対象ガスの吸着量の情報に基づいて、供給部２２からガスＥＧ中への反応剤ＲＳの供給量が調整される。具体的には、取得したガスＥＧにおける回収対象ガスの濃度が減少、湿度が増加、流量が減少、圧力が増加、または温度が低下した場合に、ガスライン２への反応剤ＲＳの供給量が減少される。また、取得したガスＥＧにおける回収対象ガスの濃度が増加、湿度が減少、流量が増加、圧力が減少、又は温度が上昇した場合に、ガスライン２への反応剤ＲＳの供給量が増加される。つまり、ガス情報取得部７によって、取得された回収対象ガスの濃度、ガスＥＧの湿度、ガスＥＧの圧力、温度、ガスＥＧのガス流量の変化に対応して、ガスＥＧ中への反応剤ＲＳの供給量が調整される。そのため、ガスライン２を流通しているガスＥＧの回収対象ガスの濃度、圧力、温度、流量及び湿度の変化に対応して、ガスＥＧ中に吸着効率を向上させるような量の反応剤ＲＳを適切に供給することができる。
また、適切な量の反応剤ＲＳが供給されることで、集塵フィルタ１３が詰まってしまうまでの時間が長くなる。その結果、集塵フィルタ１３に対する入口側空間１２ｉと出口側空間１２ｏとでの差圧の上昇を抑制できる。したがって、吸引ブロワー４での動力を低減できる。
さらに、取得された回収対象ガスの吸着量の情報に基づいて、集塵フィルタ１３への逆洗条件が調整される。具体的には、取得したガスＥＧにおける回収対象ガスの濃度が増加した場合に、逆洗装置１４による逆洗時間が減少される。また、取得したガスＥＧにおける回収対象ガスの濃度が減少した場合に、逆洗装置１４による逆洗時間が増加される。回収対象ガスの吸着量は反応剤ＲＳの供給量と対応しているため、逆洗を実施する頻度を、供給される反応剤ＲＳの量に合わせて抑制することができる。これにより、集塵フィルタ１３の寿命を向上させることができる。
また、取得された回収対象ガスの吸着量の情報及び水分量の情報に基づいて、脱着処理を行う条件が調整される。具体的には、取得した回収対象ガスの吸着量及び反応剤ＲＳに含まれる水分量が増加した場合に、脱着部２３での脱着処理の時間が増加され、脱着処理が実施される。また、取得した回収対象ガスの吸着量及び反応剤ＲＳに含まれる水分量が減少した場合に、脱着部２３での脱着処理の時間が減少させて、脱着処理が実施される。したがって、現状の反応剤ＲＳに対して必要な脱着処理の条件を適切に把握することができる。これにより、反応剤ＲＳに対して脱着処理をする際のエネルギーが適切な範囲に抑えられる。
＜第五実施形態＞
次に、本開示に係る第五実施形態のガス処理設備１００Ｄについて説明する。なお、以下に説明する第五実施形態においては、上記第一実施形態から第四実施形態と共通する構成については図中に同符号を付してその説明を省略する。第五実施形態では、ガスＥＧに反応剤ＲＳを供給する前にガスＥＧ中の異物を分離する構成が第一実施形態から第四実施形態と異なっている。
図７に示すように、第五実施形態のガス処理設備１００Ｄは、反応剤供給機２０に対してガスＥＧの流通方向の上流側の位置で、ガスＥＧ中の異物を分離可能とされている。第五実施形態のガス処理設備１００Ｄは、前段集塵フィルタ装置１０ｆと、前段ガスライン２ｆとをさらに備える。
前段集塵フィルタ装置１０ｆは、反応剤供給機２０に対してガスＥＧの流通方向の上流側の位置に配置されている。つまり、ガスＥＧは、前段集塵フィルタ装置１０ｆを通過後に、反応剤供給機２０から反応剤ＲＳが供給されて集塵フィルタ装置１０に到達する。前段集塵フィルタ装置１０ｆは、前段ケース１１ｆと、前段集塵フィルタ１３ｆと、前段逆洗装置１４ｆと、前段排出機１５ｆと、を備える。
前段集塵フィルタ装置１０ｆは、第一実施形態における集塵フィルタ装置１０と同じ構成である。よって、前段ケース１１ｆは、ケース１１と同じ構成とされている。したがって、前段ケース１１ｆには、入口１１ｉに対応してガスが流入する前段入口１１ｉｆと、出口１１ｏに対応してガスが流出する前段出口１１ｏｆと、が形成されている。また、前段集塵フィルタ１３ｆは、集塵フィルタ１３と同様の構成とされている。前段集塵フィルタ１３ｆは、前段ケース１１ｆ内を前段集塵フィルタ１３ｆに対して前段入口１１ｉｆに近い前段入口側空間１２ｉｆと、前段集塵フィルタ１３ｆに対して前段出口１１ｏｆに近い前段出口側空間１２ｏｆとに仕切れるように配置されている。前段逆洗装置１４ｆは、逆洗装置１４と同じ構成とされている。前段排出機１５ｆは、排出機１５と同じ構成とされている。
前段ガスライン２ｆの一端は、ガス発生源１に接続されている。前段ガスライン２ｆの他端は、前段集塵フィルタ装置１０ｆの前段入口１１ｉｆに接続されている。よって、この前段ガスライン２ｆにより、ガス発生源１からのガスＥＧである前段ガスＥＧｆを前段集塵フィルタ装置１０ｆ内に導くことが可能とされている。
また、第五実施形態のガスライン２の一端は、前段集塵フィルタ装置１０ｆの前段出口１１ｏｆに接続されている。よって、ガスライン２により、前段集塵フィルタ装置１０ｆを通過したガスＥＧを集塵フィルタ装置１０内に導くことが可能とされている。
反応剤供給機２０は、前段集塵フィルタ装置１０ｆを通過したガスＥＧ中に反応剤ＲＳを供給している。具体的には、反応剤供給機２０は、前段集塵フィルタ装置１０ｆと集塵フィルタ装置１０との間で、ガスライン２中に反応剤ＲＳを供給する。
次に、上記のガス処理設備１００Ｄを利用したガス処理設備方法Ｓ１００Ｃを説明する。第五実施形態のガス処理設備方法Ｓ１００Ｄでは、ガス発生源１から送られてきたガスＥＧは、前段ガスライン２ｆを経て、前段集塵フィルタ装置１０ｆの前段入口側空間１２ｉｆに流入する。この結果、ガスＥＧ中の異物等の固形物は、前段集塵フィルタ１３ｆに捕集される（Ｓ２０：前段捕集工程）。図８に示すように、前段捕集工程Ｓ２０は、反応剤供給工程Ｓ１の前に実施されている。前段集塵フィルタ装置１０ｆから流出したガスＥＧは、ガスライン２に送られる。
なお、第五実施形態では、ガスライン２に反応剤供給機２０から反応剤ＲＳを供給しているが、前段ガスライン２ｆに対しても反応剤ＲＳを供給してもよい。つまり、前段ガスライン２ｆに接続された反応剤供給機２０がさらに配置されていてもよい。その際、前段ガスライン２ｆには、例えば活性炭などの吸着材を供給することで、特定の回収対象ガスを分離することも可能となる。
（作用効果）
第五実施形態のガス処理設備１００Ｄ及びガス処理設備方法Ｓ１００Ｄでは、反応剤ＲＳを供給する前のガスＥＧが前段集塵フィルタ装置１０ｆに供給されている。そのため、ガスＥＧ中に含まれる異物等の固形物は、前段集塵フィルタ装置１０ｆで捕集される。したがって、粉末状の反応剤ＲＳが供給される排ガスは、固形物がほとんど含まれていない状態となっている。このような排ガスに対して粉末状の反応が供給されることで、ガスＥＧ中の回収対象ガスを非常に効果的に吸着分離することができる。さらに、反応剤ＲＳが供給された排ガスが集塵フィルタ装置１０に送られている。そのため、集塵フィルタ装置１０の集塵フィルタ１３には、固形部がほとんど付着せず、粉末状の反応剤ＲＳのみが付着する。したがって、逆洗によって集塵フィルタ装置１０から回収した反応剤ＲＳにも異物がほとんど含まれていない状態となっている。これにより、反応剤ＲＳ以外の固形物が混入することによる見かけ上の性能低下を回避し、反応剤ＲＳの不必要な廃棄を予防できる。したがって、状態の良い粉末状の反応剤ＲＳを効率よくリサイクルできる。
＜第六実施形態＞
次に、本開示に係る第六実施形態のガス処理設備１００Ｅについて説明する。なお、以下に説明する第六施形態においては、上記第一実施形態から第五施形態と共通する構成については図中に同符号を付してその説明を省略する。第六施形態では、反応剤供給機２０Ａが脱着部２３を有していない構成が第一実施形態から第五実施形態と異なっている。
図９に示すように、第六実施形態のガス処理設備１００Ｅは、貯留部２１に貯留されている状態の反応剤ＲＳに脱着処理を施さない。排ガス処理設備では、集塵フィルタ１３で捕集された反応剤ＲＳを脱着ガスで加熱することで脱着処理が実施される。ガス処理設備１００Ｅは、脱着ガス供給部８をさらに備えている。脱着ガス供給部８は、ガスライン２を流通するガスＥＧよりも高い温度の脱着ガスを集塵フィルタ１３に供給する。本実施形態の脱着ガス供給部８は、反応剤ＲＳが供給された後に、ガスライン２に供給される流体をガスＥＧから脱着ガスに切り替えるように、ガスライン２に脱着ガスを供給する。つまり、脱着ガス供給部８は、反応剤供給機２０Ａと集塵フィルタ装置１０との間で、ガスライン２に脱着ガスを供給する。本実施形態における脱着ガスとしては、水蒸気や、回収した回収対象ガスが供給される。また、本実施形態では、低温ガスであるガスＥＧが供給される際には、粉末状の反応剤ＲＳが供給部２２からガスライン２に供給される。その結果、集塵フィルタ１３の表面上で、ガスＥＧが吸着分離される。その後、逆洗せずに、高温ガスである脱着ガスに切替えて、ガスＥＧの代わりに、脱着ガス供給部８から脱着ガスがガスライン２に供給される。これにより、集塵フィルタ１３の表面上で、反応剤ＲＳに吸着しているガスＥＧが脱着され、処理済みガスライン２ｔで回収される。その後、脱着ガス供給部８からの脱着ガスの供給を止めて、逆洗し、反応剤ＲＳを回収する。そして、再びガスＥＧがガスライン２に供給され、反応剤ＲＳが供給される。このように、ガスＥＧと脱着ガスとの供給が切り替えながら反応剤ＲＳを供給するというサイクルが繰り返される。また、本実施形態では、処理済みガスライン２ｔに介して、回収された回収対象ガスのガスが得られる。
また、第六実施形態の反応剤供給機２０Ａは、脱着部２３を有していない。つまり、反応剤供給機２０Ａは、貯留部２１及び供給部２２のみを有している。したがって、第六実施形態のガス処理設備方法Ｓ１００Ｅでは、脱処理実施工程では、脱着処理として、脱着ガスを集塵フィルタ１３に供給し、集塵フィルタ１３で捕集された反応剤ＲＳを脱着ガスで加熱している。
（作用効果）
第六実施形態のガス処理設備１００Ｅ及びガス処理設備方法Ｓ１００Ｅでは、脱着ガス供給部８によって、ガスライン２を流通するガスＥＧよりも高温の脱着ガスが供給されている。そのため、集塵フィルタ１３で捕集された反応剤ＲＳは、脱着ガスで加熱されて脱着処理される。したがって、集塵フィルタ１３に付着した状態の反応剤ＲＳに対して脱着処理を直接実施できる。さらに、反応剤供給機２０Ａは、脱着部２３を有していない。そのため、貯留部２１や供給部２２のような反応剤供給機２０Ａへの加温が不要となる。これにより、加温設備の設置コストを抑えることができる。
（その他の実施形態）
以上、本開示の実施の形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施の形態に限られるものではなく、本開示の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
なお、本実施形態のガス処理設備１００では、回収対象ガスの種類を限定するものでは無く、吸着剤の種類を変更することで様々なガス成分を選択的に回収することが可能である。
なお、脱着部２３は、脱着処理として加熱することに限定されるものではない。脱着部２３は、反応剤ＲＳから回収対象ガスを脱着させることができれば、他の方法であってもよい。例えば、脱着部２３は、反応剤ＲＳを減圧し、反応剤ＲＳから回収対象ガスを脱着させてもよい。
また、脱着部２３で加熱する場合であっても、脱着部２３は、粉末状の反応剤ＲＳを加熱できればどのような構成であってもよい。例えば、脱着部２３は、ガス排熱や温水や水蒸気等の高温流体を利用した熱交換器による加熱、マイクロ波加熱、通電によるジュール熱加熱、及び誘電加熱等による加熱が可能な構造であってもよい。さらに、脱着部２３は、貯留部２１や供給部２２の外から間接的に粉末状の反応剤ＲＳを加熱してもよく、貯留部２１や供給部２２の中から直接的に粉末状の反応剤ＲＳを加熱してもよい。間接的に粉末状の反応剤ＲＳを加熱する構造としては、例えば、キルンやシェルアンドチューブが適用できる。直接的に粉末状の反応剤ＲＳを加熱する構造としては、流動床が適用できる。
また、集塵フィルタ装置１０で回収された反応剤ＲＳは、制御部５、５Ｃ及び送出先切替部３１によって、送り先が切り替えられる構造に限定されるものではない。たとえば、制御部５、５Ｃを有しておらず、作業員によって送出先切替部３１での切り替えが実施されてもよい。
また、本実施形態において反応剤供給機２０は、反応剤ＲＳをガスライン２中に供給したが反応剤ＲＳの供給先は、ガスライン２に限定されるものではない。反応剤供給機２０は、ガスライン２中又は入口側空間１２ｉ中に反応剤ＲＳを供給できればよい。したがって、反応剤供給機２０は、反応剤ＲＳを入口側空間１２ｉ中に直接供給する構成であってよい。
また、実施形態では、回収対象ガスの濃度、ガスの湿度、ガスの流量、ガスの圧力、及び、ガスの温度の情報を入力した例を示したが、必ずしも全ての情報の入力は必須では無く、少なくとも一つの情報が入力されていればよい。したがって、例えば、これらの情報のうち一つ又は複数の情報が入力されても良い。また、これらの情報以外で反応剤の供給量調整に寄与する情報を代替として使うこともできる。
また、実施形態では、対象ガス及び水分の吸着量の算出には、回収対象ガスの濃度、ガスの湿度、ガスの流量、ガスの圧力、及び、ガスの温度の情報の基づき算出される例を示したが、必ずしも全ての情報の入力は必須では無く、少なくとも一つの情報が入力されていればよい。したがって、例えば、これらの情報のうち一つ又は複数の情報が入力されても良い。また、これらの情報以外で対象ガス及び水分の吸着量の算出に寄与する情報を代替として使用し算出してもよい。
＜付記＞
各実施形態に記載のガス処理設備１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅ及びガス処理設備方法Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅは、例えば以下のように把握される。
（１）第１の態様に係るガス処理設備１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅは、集塵フィルタ装置１０と、回収対象ガスを含むガスＥＧを前記集塵フィルタ装置１０に導入可能なガスライン２と、粉末状で前記回収対象ガスと反応可能な反応剤ＲＳを前記ガスＥＧ中に供給可能な反応剤供給機２０と、を備え、前記集塵フィルタ装置１０は、ガスが流入する入口１１ｉとガスが流出する出口１１ｏとが形成されているケース１１と、前記ケース１１内を前記入口１１ｉの側の入口側空間１２ｉと前記出口１１ｏの側の出口側空間１２ｏとに仕切る集塵フィルタ１３と、を備え、前記ガスライン２は、前記集塵フィルタ装置１０の前記入口１１ｉに接続され、前記反応剤供給機２０は、前記ガスライン２中又は前記入口側空間１２ｉに、前記反応剤ＲＳに反応して吸着した前記回収対象ガスを前記反応剤ＲＳから脱着させる脱着処理を施した前記反応剤ＲＳを供給可能である。
このような構成によれば、粉末状の反応剤ＲＳでは、粒径の大きなペレット状のような反応剤ＲＳやハニカムコート型のような基材にコーティングされて大きな塊状となっている反応剤ＲＳに比べて、比表面積が非常に大きくなる、そのため、粉末状の反応剤ＲＳをガスＥＧに供給することで、ガスＥＧ中の回収対象ガスを効果的に吸着分離することができる。さらに、回収対象ガスを吸着した反応剤ＲＳから回収対象ガスを脱着させる際には、反応剤ＲＳに対して脱着処理を行う必要がある。これに対し、本実施形態では、脱着処理は、粉末状の反応剤ＲＳに施される。粉末状のまま脱着処理が施されるため、反応剤ＲＳに対して脱着処理をする際のエネルギーが抑えられる。これらにより、ロスを抑えて、ガスＥＧ中の回収対象ガスを分離できる。
（２）第２の態様に係るガス処理設備１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅは、（１）のガス処理設備１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅであって、前記反応剤供給機２０は、前記脱着処理としては、前記ガスライン２を流通する前記ガスＥＧを超えた高い温度に粉末状の前記反応剤ＲＳを加熱する。
このような構成によれば、脱着処理が完了した反応剤ＲＳは、ガスライン２に供給されることで、流通しているガスＥＧによって冷却されることになる。したがって、脱着処理が完了するほど高温となった反応剤ＲＳを冷却することで、回収対象ガスの吸着効果を向上させることができる。また、反応剤ＲＳを冷却するために新たな装置を準備することなく、ガスライン２を流通するガスＥＧ中に反応剤ＲＳを供給するだけで、反応剤ＲＳを冷却できる。これにより、高い精度で反応剤ＲＳへの脱着処理を完了させつつ、コストを抑えて、回収対象ガスの吸着性能を向上させることができる。
（３）第３の態様に係るガス処理設備１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅは、（１）のガス処理設備１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅであって、前記ガスライン２を流通する前記ガスＥＧを超えた高い温度の脱着ガスを前記集塵フィルタ１３に供給する脱着ガス供給部８をさらに備え、前記脱着処理は、前記集塵フィルタ１３で捕集された前記反応剤ＲＳを前記脱着ガス及び水蒸気少なくとも一方で加熱する。
このような構成によれば、集塵フィルタ１３で捕集された反応剤ＲＳは、脱着ガスで加熱されて脱着処理される。したがって、集塵フィルタ１３に付着した状態の反応剤ＲＳに対して脱着処理を直接実施できる。
（４）第４の態様に係るガス処理設備１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅは、（１）から（３）のいずれか一つのガス処理設備１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅであって、前記集塵フィルタ装置１０は、前記出口側空間１２ｏが前記入口側空間１２ｉよりも高圧になるよう、前記出口側空間１２ｏに高圧ガスを送って、前記集塵フィルタ１３で捕集された前記反応剤ＲＳを前記集塵フィルタ１３から離脱させることが可能な逆洗装置１４と、前記集塵フィルタ１３から離脱した前記入口側空間１２ｉ内の前記反応剤ＲＳを外部に排出可能な排出機１５と、を有し、前記排出機１５と前記反応剤供給機２０とを接続し、前記排出機１５から排出された前記反応剤ＲＳを前記反応剤供給機２０に供給可能な反応剤戻しライン３をさらに備える。
このような構成によれば、回収対象ガスを十分に吸着した状態の反応剤ＲＳを、集塵フィルタ１３から回収することができる。そして、回収対象ガスを吸着した状態の反応剤ＲＳは、反応剤供給機２０で貯留された状態で、脱着処理され、回収対象ガスが分離される。したがって、回収対象ガスを十分に脱着した状態の反応剤ＲＳを再びガスライン２に供給できる。これにより、粉末状の反応剤ＲＳをリサイクルでき、反応剤ＲＳの使用量を抑えることができる。
（５）第５の態様に係るガス処理設備１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅは、（４）ガス処理設備１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅであって、前記排出機１５で排出された前記反応剤ＲＳに対して吸着した前記回収対象ガスの吸着量を取得する吸着量取得部５１と、前記吸着量取得部５１で取得した前記吸着量が予め定めた吸着量基準値を下回っているか否かを判定する吸着量判定部５２と、をさらに含み、前記反応剤供給機２０には、前記吸着量判定部５２で前記吸着量が前記吸着量基準値を超えていると判定された場合には、前記排出機１５で排出された前記反応剤ＲＳが供給され、前記吸着量判定部５２で前記吸着量が前記吸着量基準値を下回っていると判定された場合には、新たな前記反応剤ＲＳが供給される。
このような構成によれば、排出機１５から排出された反応剤ＲＳに吸着している回収対象ガスの吸着量に基づいて、反応剤ＲＳの性能を評価することができる。したがって、性能が低下した反応剤ＲＳを廃棄するとともに、新たな反応剤ＲＳを供給するタイミングを切り替えることが容易となる。これにより、常に吸着性能が維持された反応剤ＲＳをガスライン２のガスＥＧ中に供給する運転を継続することができる。
（６）第６の態様に係るガス処理設備１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅは、（４）又は（５）のガス処理設備１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅであって、前記逆洗装置１４は、前記高圧ガスの温度を前記ガスライン２を流通する前記ガスＥＧ以下の温度とする、又は、前記高圧ガスの湿度を前記ガスライン２を流通する前記ガスＥＧを超えた湿度とする。
このような構成によれば、集塵フィルタ１３に付着した反応剤ＲＳは、逆洗によって冷却され、反応剤ＲＳの吸着性能が向上される。そのため、逆洗時であっても、回収対象ガスの吸着効果を向上させることができる。また、反応剤ＲＳがアミン系化合物のように水分共存下で吸着性能が向上する特徴を有する場合であって吸着させる対象が回収対象ガスである場合には、集塵フィルタ１３に付着した反応剤ＲＳは、逆洗によって高湿となり、反応剤ＲＳの吸着性能が向上される。そのため、逆洗時に、回収対象ガスの吸着効果をより一層向上させることができる。
（７）第７の態様に係るガス処理設備１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅは、（１）から（６）のいずれか一つのガス処理設備１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅであって、前記反応剤供給機２０は、粉末状の前記反応剤ＲＳを前記ガスＥＧ以下の低い温度に冷却して前記ガスＥＧ中に供給する。
このような構成によれば、反応剤ＲＳに吸着させる対象が回収対象ガスである場合、脱着処理が完了するほど高温となった反応剤ＲＳをガスＥＧ以下の低温まで冷却することで、回収対象ガスの吸着効果を特に向上させることができる。また、仮に、冷却する際に加湿ガスを反応剤ＲＳに混ぜた場合には、反応剤ＲＳの湿度が上昇する。その結果、回収対象ガスの吸着効果をより一層向上させることができる。
（８）第８の態様に係るガス処理設備１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅは、（１）から（７）のいずれか一つのガス処理設備１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅであって、前記ガスライン２を流通する前記ガスＥＧ中の回収対象ガスの濃度、前記ガスＥＧの湿度、前記ガスＥＧの流量、前記ガスＥＧの圧力及び前記ガスＥＧの温度の少なくとも一つを取得するガス情報取得部７をさらに備え、前記反応剤供給機２０は、取得した前記ガスＥＧ中の前記回収対象ガスの濃度が増加、前記ガスＥＧの湿度が減少、前記ガスＥＧの流量が増加、前記ガスＥＧの圧力が減少又は前記ガスＥＧの温度が上昇した場合に、前記反応剤ＲＳの供給量を増加させ、取得した前記ガスＥＧ中の前記回収対象ガスの濃度が減少、前記ガスＥＧの湿度が増加、前記ガスＥＧの流量が減少、前記ガスＥＧの圧力が増加又は前記ガスＥＧの温度が低下した場合に、前記反応剤ＲＳの供給量を減少させるように前記ガスＥＧ中への前記反応剤ＲＳの供給量を調整可能とされている。
このような構成によれば、取得された回収対象ガスの濃度、ガスＥＧの湿度、ガスＥＧの流量、ガスＥＧの圧力、及びガスＥＧの温度の変化に対応して、ガスＥＧ中への反応剤ＲＳの供給量が調整される。そのため、ガスライン２を流通しているガスＥＧの回収対象ガスの濃度及び湿度の変化に対応して、ガスＥＧ中に吸着効率を向上させるような量の反応剤ＲＳを適切に供給することができる。
（９）第９の態様に係るガス処理設備１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅは、（１）のガス処理設備１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅであって、取得した前記ガスＥＧ中の前記回収対象ガスの濃度、前記ガスＥＧの湿度、前記ガスＥＧの流量、前記ガスＥＧの圧力及び前記ガスＥＧの温度の少なくとも一つに基づいて、前記集塵フィルタ１３に捕集された前記反応剤ＲＳに対して吸着した前記回収対象ガスの吸着量及び前記反応剤ＲＳに含まれる水分量を取得するフィルタ吸着状態取得部５６をさらに備え、前記反応剤供給機２０は、取得した前記回収対象ガスの吸着量及び前記反応剤ＲＳに含まれる水分量が増加した場合に、前記脱着処理の時間を増加させ、取得した前記回収対象ガスの吸着量及び前記反応剤ＲＳに含まれる水分量が減少した場合に、前記脱着処理の時間を減少させるよう前記脱着処理の時間を調整可能とされている。
このような構成によれば、取得された回収対象ガスの吸着量の情報及び水分量の情報に基づいて、脱着処理を行う条件が調整される。したがって、現状の反応剤ＲＳに対して必要な脱着処理の条件を適切に把握することができる。これにより、反応剤ＲＳに対して脱着処理をする際のエネルギーが適切な範囲に抑えられる。
（１０）第１０の態様に係るガス処理設備１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅは、（１）から（９）のいずれか一つのガス処理設備１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅであって、前記反応剤供給機２０に対して前記ガスＥＧの流通方向の上流側の位置に配置された前段集塵フィルタ装置１０ｆと、前記反応剤ＲＳが供給される前の前記ガスＥＧを前記前段集塵フィルタ装置１０ｆに導入可能な前段ガスライン２ｆと、を備え、前記前段集塵フィルタ装置１０ｆは、ガスが流入する前段入口１１ｉｆとガスが流出する前段出口１１ｏｆとが形成されている前段ケース１１ｆと、前記前段ケース１１ｆ内を前記前段集塵フィルタ装置１０ｆの前記前段入口１１ｉｆの側の前段入口側空間１２ｉｆと前記前段集塵フィルタ装置１０ｆの前記前段出口１１ｏｆの側の前段出口側空間１２ｏｆとに仕切り、耐熱性を有する前段集塵フィルタ１３ｆと、を備え、前記前段ガスライン２ｆは、前記前段集塵フィルタ装置１０ｆの前記前段入口１１ｉｆに接続され、前記反応剤供給機２０は、前記前段集塵フィルタ装置１０ｆを通過した前記ガスＥＧ中に前記反応剤ＲＳを供給している。
このような構成によれば、ガスＥＧ中に含まれる異物等の固形物は、前段集塵フィルタ装置１０ｆで捕集される。したがって、粉末状の反応剤ＲＳが供給される排ガスは、固形物がほとんど含まれていない状態となっている。このような排ガスに対して粉末状の反応が供給されることで、ガスＥＧ中の回収対象ガスを非常に効果的に吸着分離することができる。さらに、反応剤ＲＳが供給された排ガスが集塵フィルタ装置１０に送られている。そのため、集塵フィルタ装置１０の集塵フィルタ１３には、固形部がほとんど付着せず、粉末状の反応剤ＲＳのみが付着する。したがって、逆洗によって集塵フィルタ装置１０から回収した反応剤ＲＳにも異物がほとんど含まれていない状態となっている。これにより、反応剤ＲＳ以外の固形物が混入することによる見かけ上の性能低下を回避し、反応剤ＲＳの不必要な廃棄を予防できる。したがって、状態の良い粉末状の反応剤ＲＳを効率よくリサイクルできる。
（１１）第１１の態様に係るガス処理設備方法Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅは、ガスライン２を流通し、回収対象ガスを含むガスＥＧに、粉末状で前記回収対象ガスと反応可能な反応剤ＲＳを供給する反応剤供給工程Ｓ１、Ｓ１Ａと、集塵フィルタ１３を備える集塵フィルタ装置１０を用いて、前記集塵フィルタ装置１０に流入してきた粉末状の前記反応剤ＲＳを捕集する捕集工程Ｓ２０と、を含み、前記反応剤供給工程Ｓ１、Ｓ１Ａでは、前記反応剤ＲＳに反応して吸着した前記回収対象ガスを前記反応剤ＲＳから脱着させる脱着処理を施した後に、前記反応剤ＲＳを供給する。
このような構成によれば、粉末状の反応剤ＲＳでは、粒径の大きなペレット状のような反応剤ＲＳやハニカムコート型のような基材にコーティングされて大きな塊状となっている反応剤ＲＳに比べて、比表面積が非常に大きくなる、そのため、粉末状の反応剤ＲＳをガスＥＧに供給することで、ガスＥＧ中の回収対象ガスを効果的に吸着分離することができる。さらに、回収対象ガスを吸着した反応剤ＲＳから回収対象ガスを脱着させる際には、反応剤ＲＳに対して脱着処理を行う必要がある。これに対し、本実施形態では、脱着処理は、粉末状の反応剤ＲＳに施される。粉末状のまま脱着処理が施されるため、反応剤ＲＳに対して脱着処理をする際のエネルギーが抑えられる。これらにより、ロスを抑えて、ガスＥＧ中の回収対象ガスを分離できる。
（１２）第１２の態様に係るガス処理設備方法Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅは、（１１）のガス処理設備方法Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅであって、前記反応剤供給工程Ｓ１、Ｓ１Ａでは、前記脱着処理として、前記ガスライン２を流通する前記ガスＥＧを超えた高い温度の粉末状の前記反応剤ＲＳを加熱する。
このような構成によれば、脱着処理が完了した反応剤ＲＳは、ガスライン２に供給されることで、流通しているガスＥＧによって冷却されることになる。したがって、脱着処理が完了するほど高温となった反応剤ＲＳを冷却することで、回収対象ガスの吸着効果を向上させることができる。また、反応剤ＲＳを冷却するために新たな装置を準備することなく、ガスライン２を流通するガスＥＧ中に反応剤ＲＳを供給するだけで、反応剤ＲＳを冷却できる。これにより、高い精度で反応剤ＲＳへの脱着処理を完了させつつ、コストを抑えて、回収対象ガスの吸着性能を向上させることができる。
（１３）第１３の態様に係るガス処理設備方法Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅは、（１２）のガス処理設備方法Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅであって、前記反応剤供給工程Ｓ１、Ｓ１Ａでは、前記脱着処理として、前記ガスライン２を流通する前記ガスＥＧを超えた高い温度の脱着ガスを前記集塵フィルタ１３に供給し、前記集塵フィルタ１３で捕集された前記反応剤ＲＳを前記脱着ガスで加熱する。
このような構成によれば、集塵フィルタ１３で捕集された反応剤ＲＳは、脱着ガスで加熱されて脱着処理される。したがって、集塵フィルタ１３に付着した状態の反応剤ＲＳに対して脱着処理を直接実施できる。
（１４）第１４の態様に係るガス処理設備方法Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅは、（１１）から（１３）のいずれか一つのガス処理設備方法Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅであって、前記集塵フィルタ装置１０の集塵フィルタ１３で捕集された前記反応剤ＲＳを高圧ガスによって前記集塵フィルタ１３から離脱させる逆洗工程Ｓ３、Ｓ３Ｂと、前記逆洗工程Ｓ３、Ｓ３Ｂで前記集塵フィルタ１３から離脱した前記反応剤ＲＳを前記集塵フィルタ装置１０から排出する排出工程Ｓ４と、をさらに含み、前記反応剤供給工程Ｓ１、Ｓ１Ａでは、前記排出工程Ｓ４で排出された前記反応剤ＲＳを供給する。
このような構成によれば、回収対象ガスを十分に吸着した状態の反応剤ＲＳを、集塵フィルタ１３から回収することができる。そして、回収対象ガスを吸着した状態の反応剤ＲＳは、脱着処理され、回収対象ガスが分離される。したがって、回収対象ガスを十分に吸着した後に脱着した状態の反応剤ＲＳを再びガスライン２に供給できる。これにより、粉末状の反応剤ＲＳをリサイクルでき、反応剤ＲＳの使用量を抑えることができる。
（１５）第１５の態様に係るガス処理設備方法Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅは、（１４）のガス処理設備方法Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅであって、前記排出工程Ｓ４で排出された前記反応剤ＲＳに対して吸着した前記回収対象ガスの吸着量を取得する吸着量取得工程Ｓ５と、前記吸着量取得工程Ｓ５で取得した前記吸着量が予め定めた吸着量基準値を下回っているか否かを判定する吸着量判定工程Ｓ６と、をさらに含み、前記反応剤供給工程Ｓ１、Ｓ１Ａでは、前記吸着量判定工程Ｓ６で前記吸着量が前記吸着量基準値を超えていると判定された場合には、前記排出工程Ｓ４で排出された前記反応剤ＲＳが供給され、前記吸着量判定工程Ｓ６で前記吸着量が前記吸着量基準値を下回っていると判定された場合には、新たな前記反応剤ＲＳが供給される。
このような構成によれば、排出工程Ｓ４で排出された反応剤ＲＳに吸着している回収対象ガスの吸着量に基づいて、反応剤ＲＳの性能を評価することができる。したがって、性能が低下した反応剤ＲＳを廃棄するとともに、新たな反応剤ＲＳを供給するタイミングを切り替えることが容易となる。これにより、常に吸着性能が維持された反応剤ＲＳをガスライン２のガスＥＧ中に供給する運転を継続することができる。
（１６）第１６の態様に係るガス処理設備方法Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅは、（１４）又は（１５）のガス処理設備方法Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅであって、前記逆洗工程Ｓ３、Ｓ３Ｂでは、前記ガスライン２を流通する前記ガスＥＧ以下の温度へと前記高圧ガスがされている、又は、前記ガスライン２を流通する前記ガスＥＧを超えた湿度へと前記高圧ガスがされている。
このような構成によれば、集塵フィルタ１３に付着した反応剤ＲＳは、逆洗によって冷却され、反応剤ＲＳの吸着性能が向上される。そのため、逆洗時であっても、回収対象ガスの吸着効果を向上させることができる。また、反応剤ＲＳがアミン系化合物のように水分共存下で吸着性能が向上する特徴を有する場合であって吸着させる対象が回収対象ガスである場合には、集塵フィルタ１３に付着した反応剤ＲＳは、逆洗によって高湿となり、反応剤ＲＳの吸着性能が向上される。そのため、逆洗時に、回収対象ガスの吸着効果をより一層向上させることができる。
（１７）第１７の態様に係るガス処理設備方法Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅは、（１１）から（１６）のいずれか一つのガス処理設備方法Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅであって、前記反応剤供給工程Ｓ１、Ｓ１Ａでは、粉末状の前記反応剤ＲＳは前記ガスＥＧ以下の低い温度に冷却されて前記ガスＥＧ中に供給される。
このような構成によれば、反応剤ＲＳに吸着させる対象が回収対象ガスである場合、脱着処理が完了するほど高温となった反応剤ＲＳをガスＥＧよりも低温まで冷却することで、回収対象ガスの吸着効果を特に向上させることができる。また、仮に、冷却する際に加湿ガスを反応剤ＲＳに混ぜた場合には、反応剤ＲＳの湿度が上昇する。その結果、回収対象ガスの吸着効果をより一層向上させることができる。
（１８）第１８の態様に係るガス処理設備方法Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅは、（１１）から（１７）のいずれか一つのガス処理設備方法Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅであって、前記ガスライン２を流通する前記ガスＥＧ中の前記回収対象ガスの濃度、前記ガスＥＧの湿度、前記ガスＥＧの流量、前記ガスＥＧの圧力及び前記ガスＥＧの温度の少なくとも一つを取得するガス情報取得工程Ｓ８１をさらに含み、前記反応剤供給工程Ｓ１、Ｓ１Ａでは、取得した前記ガスＥＧ中の前記回収対象ガスの濃度が増加、前記ガスＥＧの湿度が減少、前記ガスＥＧの流量が増加、前記ガスＥＧの圧力が減少又は前記ガスＥＧの温度が上昇した場合に、前記反応剤ＲＳの供給量が増加され、取得した前記ガスＥＧ中の前記回収対象ガスの濃度が減少、前記ガスＥＧの湿度が増加、前記ガスＥＧの流量が減少、前記ガスＥＧの圧力が増加又は前記ガスＥＧの温度が低下した場合に、前記反応剤ＲＳの供給量が減少されるように前記ガスＥＧ中への前記反応剤ＲＳの供給量が調整される。
このような構成によれば、取得された回収対象ガスの濃度、ガスＥＧの流量、ガスＥＧの圧力、ガスＥＧの温度又はガスＥＧの湿度の変化に対応して、ガスＥＧ中への反応剤ＲＳの供給量が調整される。そのため、ガスライン２を流通しているガスＥＧの回収対象ガスの濃度及び湿度の変化に対応して、ガスＥＧ中に吸着効率を向上させるような量の反応剤ＲＳを適切に供給することができる。
（１９）第１９の態様に係るガス処理設備方法Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅは、（１８）のガス処理設備方法Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅであって、取得した前記ガスＥＧ中の前記回収対象ガスの濃度、前記ガスＥＧの湿度、前記ガスＥＧの流量、前記ガスＥＧの圧力、前記ガスＥＧの温度の少なくとも一つに基づいて、前記集塵フィルタ１３に捕集された前記反応剤ＲＳに対して吸着した前記回収対象ガスの吸着量及び前記反応剤ＲＳに含まれる水分量を取得するフィルタ吸着状態取得工程Ｓ８２をさらに含み、前記反応剤供給工程Ｓ１、Ｓ１Ａでは、取得した前記回収対象ガスの吸着量及び前記反応剤ＲＳに含まれる水分量が増加した場合に、前記脱着処理の時間が増加され、取得した前記回収対象ガスの吸着量及び前記反応剤ＲＳに含まれる水分量が減少した場合に、前記脱着処理の時間が減少されるよう前記脱着処理の時間を調整される。
このような構成によれば、取得された回収対象ガスの吸着量の情報及び水分量の情報に基づいて、脱着処理を行う条件が調整される。したがって、現状の反応剤ＲＳに対して必要な脱着処理の条件を適切に把握することができる。これにより、反応剤ＲＳに対して脱着処理をする際のエネルギーが適切な範囲に抑えられる。
（２０）第２０の態様に係るガス処理設備方法Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅは、（１１）から（１９）のいずれか一つのガス処理設備方法Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅであって、前記反応剤供給工程Ｓ１、Ｓ１Ａの前に実施され、耐熱性を有する前段集塵フィルタ１３ｆを備える前段集塵フィルタ装置１０ｆを用いて、前記前段集塵フィルタ装置１０ｆに流入してきた前記ガスＥＧに含まれる固形物を捕集する前段捕集工程Ｓ２０をさらに含み、前記反応剤供給工程Ｓ１、Ｓ１Ａでは、前記前段捕集工程Ｓ２０を実施した後の前記ガスＥＧ中に前記反応剤ＲＳを供給している。
このような構成によれば、ガスＥＧ中に含まれる異物等の固形物は、前段集塵フィルタ装置１０ｆで捕集される。したがって、粉末状の反応剤ＲＳが供給される排ガスは、固形物がほとんど含まれていない状態となっている。このような排ガスに対して粉末状の反応が供給されることで、ガスＥＧ中の回収対象ガスを非常に効果的に吸着分離することができる。さらに、反応剤ＲＳが供給された排ガスが集塵フィルタ装置１０に送られている。そのため、集塵フィルタ装置１０の集塵フィルタ１３には、固形部がほとんど付着せず、粉末状の反応剤ＲＳのみが付着する。したがって、逆洗によって集塵フィルタ装置１０から回収した反応剤ＲＳにも異物がほとんど含まれていない状態となっている。これにより、反応剤ＲＳ以外の固形物が混入することによる見かけ上の性能低下を回避し、反応剤ＲＳの不必要な廃棄を予防できる。したがって、状態の良い粉末状の反応剤ＲＳを効率よくリサイクルできる。
１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｅ…ガス処理設備
１…ガス発生源
ＥＧ…ガス
ＲＳ…反応剤
１０…集塵フィルタ装置
１１…ケース
１１ｉ…入口
１２ｉ…入口側空間
１１ｏ…出口
１２ｏ…出口側空間
１３…集塵フィルタ
１４…逆洗装置
１４ａ…逆洗用高圧ガスタンク
１４ｂ…高圧ガス案内菅
１４ｃ…開閉弁
１５…排出機
２…ガスライン
２ｔ…処理済みガスライン
４…吸引ブロワー
２０…反応剤供給機
２１…貯留部
２２…供給部
２３…脱着部
２４…ガス排出ライン
３…反応剤戻しライン
３１…送出先切替部
２００…新規反応剤供給部
５、５Ｃ…制御部
５１…吸着量取得部
５２…吸着量判定部
Ｓ１００、Ｓ１００Ａ、Ｓ１００Ｂ、Ｓ１００Ｃ、Ｓ１００Ｄ、Ｓ１００Ｅ…ガス処理設備方法
Ｓ１、Ｓ１Ａ…反応剤供給工程
Ｓ１１…新規反応剤供給工程
Ｓ１２…貯留工程
Ｓ１３、Ｓ１３Ｅ…脱着処理実施工程
Ｓ１４…供給実施工程
Ｓ２…捕集工程
Ｓ３、Ｓ３Ｂ…逆洗工程
Ｓ３１…差圧判定工程
Ｓ３２…逆洗実施工程
Ｓ４…排出工程
Ｓ５…吸着量取得工程
Ｓ６…吸着量判定工程
Ｓ７…廃棄工程
６…反応剤冷却部
１４１…逆洗ガス調整部
７…ガス情報取得部
５６…フィルタ吸着状態取得部
５７…供給条件調整部
５８…脱着条件調整部
５９…逆洗条件調整部
Ｓ８１…ガス情報取得工程
Ｓ８２…フィルタ吸着状態取得工程
Ｓ８３…供給条件調整工程
Ｓ８４…逆洗条件調整工程
Ｓ８５…脱着条件調整工程
１０ｆ…前段集塵フィルタ装置
２ｆ…前段ガスライン
１１ｆ…前段ケース
１１ｉｆ…前段入口
１２ｉｆ…前段入口側空間
１１ｏｆ…前段出口
１２ｏｆ…前段出口側空間
１３ｆ…前段集塵フィルタ
１４ｆ…前段逆洗装置
１５ｆ…前段排出機
Ｓ２０…前段捕集工程
８…脱着ガス供給部

Claims (20)

  1. 集塵フィルタ装置と、
    回収対象ガスを含むガスを前記集塵フィルタ装置に導入可能なガスラインと、
    粉末状で前記回収対象ガスと反応可能な反応剤を前記ガス中に供給可能な反応剤供給機と、
    を備え、
    前記集塵フィルタ装置は、ガスが流入する入口とガスが流出する出口とが形成されているケースと、前記ケース内を前記入口の側の入口側空間と前記出口の側の出口側空間とに仕切る集塵フィルタと、を備え、
    前記ガスラインは、前記集塵フィルタ装置の前記入口に接続され、
    前記反応剤供給機は、前記ガスライン中又は前記入口側空間に、前記反応剤に反応して吸着した前記回収対象ガスを前記反応剤から脱着させる脱着処理を施した前記反応剤を供給可能であるガス処理設備。
  2. 前記反応剤供給機は、前記脱着処理としては、前記ガスラインを流通する前記ガスを超えた高い温度に粉末状の前記反応剤を加熱する請求項１に記載のガス処理設備。
  3. 前記ガスラインを流通する前記ガスを超えた高い温度の脱着ガスを前記集塵フィルタに供給する脱着ガス供給部をさらに備え、
    前記脱着処理は、前記集塵フィルタで捕集された前記反応剤を前記脱着ガス及び水蒸気の少なくとも一方で加熱する請求項２に記載のガス処理設備。
  4. 前記集塵フィルタ装置は、前記出口側空間が前記入口側空間よりも高圧になるよう、前記出口側空間に高圧ガスを送って、前記集塵フィルタで捕集された前記反応剤を前記集塵フィルタから離脱させることが可能な逆洗装置と、前記集塵フィルタから離脱した前記入口側空間内の前記反応剤を外部に排出可能な排出機と、を有し、
    前記排出機と前記反応剤供給機とを接続し、前記排出機から排出された前記反応剤を前記反応剤供給機に供給可能な反応剤戻しラインをさらに備える請求項１又は２に記載のガス処理設備。
  5. 前記排出機で排出された前記反応剤に対して吸着した前記回収対象ガスの吸着量を取得する吸着量取得部と、
    前記吸着量取得部で取得した前記吸着量が予め定めた吸着量基準値を下回っているか否かを判定する吸着量判定部と、をさらに含み、
    前記反応剤供給機には、前記吸着量判定部で前記吸着量が前記吸着量基準値を超えていると判定された場合には、前記排出機で排出された前記反応剤が供給され、前記吸着量判定部で前記吸着量が前記吸着量基準値を下回っていると判定された場合には、新たな前記反応剤が供給される請求項４に記載のガス処理設備。
  6. 前記逆洗装置は、前記高圧ガスの温度を前記ガスラインを流通する前記ガス以下の温度とする、又は、前記高圧ガスの湿度を前記ガスラインを流通する前記ガスを超えた湿度と前記高圧ガスをする請求項４に記載のガス処理設備。
  7. 前記反応剤供給機は、粉末状の前記反応剤を前記ガス以下の低い温度に冷却して前記ガス中に供給する請求項１又は２に記載のガス処理設備。
  8. 前記ガスラインを流通する前記ガス中の前記回収対象ガスの濃度、前記ガスの湿度、前記ガスの流量、前記ガスの圧力及び前記ガスの温度の少なくとも一つを取得するガス情報取得部をさらに備え、
    前記反応剤供給機は、
    取得した前記ガス中の前記回収対象ガスの濃度が増加、前記ガスの湿度が減少、前記ガスの流量が増加、前記ガスの圧力が減少又は前記ガスの温度が上昇した場合に、前記反応剤の供給量を増加させ、
    取得した前記ガス中の前記回収対象ガスの濃度が減少、前記ガスの湿度が増加、前記ガスの流量が減少、前記ガスの圧力が増加又は前記ガスの温度が低下した場合に、前記反応剤の供給量を減少させるように前記ガス中への前記反応剤の供給量を調整可能とされている請求項１又は２に記載のガス処理設備。
  9. 取得した前記ガス中の前記回収対象ガスの濃度、前記ガスの湿度、前記ガスの流量、前記ガスの圧力及び前記ガスの温度の少なくとも一つに基づいて、前記集塵フィルタに捕集された前記反応剤に対して吸着した前記回収対象ガスの吸着量及び前記反応剤に含まれる水分量を取得するフィルタ吸着状態取得部をさらに備え、
    前記反応剤供給機は、
    取得した前記回収対象ガスの吸着量及び前記反応剤に含まれる水分量が増加した場合に、前記脱着処理の時間を増加させ、
    取得した前記回収対象ガスの吸着量及び前記反応剤に含まれる水分量が減少した場合に、前記脱着処理の時間を減少させるよう前記脱着処理の時間を調整可能とされている請求項８に記載のガス処理設備。
  10. 前記反応剤供給機に対して前記ガスの流通方向の上流側の位置に配置された前段集塵フィルタ装置と、
    前記反応剤が供給される前の前記ガスを前記前段集塵フィルタ装置に導入可能な前段ガスラインと、を備え、
    前記前段集塵フィルタ装置は、ガスが流入する前段入口とガスが流出する前段出口とが形成されている前段ケースと、前記前段ケース内を前記前段集塵フィルタ装置の前記前段入口の側の前段入口側空間と前記前段集塵フィルタ装置の前記前段出口の側の前段出口側空間とに仕切り、耐熱性を有する前段集塵フィルタと、を備え、
    前記前段ガスラインは、前記前段集塵フィルタ装置の前記前段入口に接続され、
    前記反応剤供給機は、前記前段集塵フィルタ装置を通過した前記ガス中に前記反応剤を供給している請求項１又は２に記載のガス処理設備。
  11. ガスラインを流通し、回収対象ガスを含むガスに、粉末状で前記回収対象ガスと反応可能な反応剤を供給する反応剤供給工程と、
    集塵フィルタを備える集塵フィルタ装置を用いて、前記集塵フィルタ装置に流入してきた粉末状の前記反応剤を捕集する捕集工程と、を含み、
    前記反応剤供給工程では、前記反応剤に反応して吸着した前記回収対象ガスを前記反応剤から脱着させる脱着処理を施した後に、前記反応剤を供給するガス処理設備方法。
  12. 前記反応剤供給工程では、前記脱着処理として、前記ガスラインを流通する前記ガスを超えた温度の粉末状の前記反応剤を加熱する請求項１１に記載のガス処理設備方法。
  13. 前記反応剤供給工程では、前記脱着処理として、前記ガスラインを流通する前記ガスを超えた高い温度の脱着ガスを前記集塵フィルタに供給し、前記集塵フィルタで捕集された前記反応剤を前記脱着ガスで加熱する請求項１２に記載のガス処理設備方法。
  14. 前記集塵フィルタ装置の集塵フィルタで捕集された前記反応剤を高圧ガスによって前記集塵フィルタから離脱させる逆洗工程と、
    前記逆洗工程で前記集塵フィルタから離脱した前記反応剤を前記集塵フィルタ装置から排出する排出工程と、をさらに含み、
    前記反応剤供給工程では、前記排出工程で排出された前記反応剤を供給する請求項１１又は１２に記載のガス処理設備方法。
  15. 前記排出工程で排出された前記反応剤に対して吸着した前記回収対象ガスの吸着量を取得する吸着量取得工程と、
    前記吸着量取得工程で取得した前記吸着量が予め定めた吸着量基準値を下回っているか否かを判定する吸着量判定工程と、をさらに含み、
    前記反応剤供給工程では、前記吸着量判定工程で前記吸着量が前記吸着量基準値を超えていると判定された場合には、前記排出工程で排出された前記反応剤が供給され、前記吸着量判定工程で前記吸着量が前記吸着量基準値を下回っていると判定された場合には、新たな前記反応剤が供給される請求項１４に記載のガス処理設備方法。
  16. 前記逆洗工程では、前記ガスラインを流通する前記ガス以下の温度へと前記高圧ガスがされている、又は、前記ガスラインを流通する前記ガスを超えた湿度へと前記高圧ガスがされている請求項１４に記載のガス処理設備方法。
  17. 前記反応剤供給工程では、粉末状の前記反応剤は前記ガス以下の低い温度に冷却されて前記ガス中に供給される請求項１１又は１２に記載のガス処理設備方法。
  18. 前記ガスラインを流通する前記ガス中の前記回収対象ガスの濃度、前記ガスの湿度、前記ガスの流量、前記ガスの圧力及び前記ガスの温度の少なくとも一つを取得するガス情報取得工程をさらに含み、
    前記反応剤供給工程では、
    取得した前記ガス中の前記回収対象ガスの濃度が増加、前記ガスの湿度が減少、前記ガスの流量が増加、前記ガスの圧力が減少又は前記ガスの温度が上昇した場合に、前記反応剤の供給量が増加され、
    取得した前記ガス中の前記回収対象ガスの濃度が減少、前記ガスの湿度が増加、前記ガスの流量が減少、前記ガスの圧力が増加又は前記ガスの温度が低下した場合に、前記反応剤の供給量が減少されるように前記ガス中への前記反応剤の供給量が調整される請求項１１又は１２に記載のガス処理設備方法。
  19. 取得した前記ガス中の前記回収対象ガスの濃度、前記ガスの湿度、前記ガスの流量、前記ガスの圧力及び前記ガスの温度の少なくとも一つに基づいて、前記集塵フィルタに捕集された前記反応剤に対して吸着した前記回収対象ガスの吸着量及び前記反応剤に含まれる水分量を取得するフィルタ吸着状態取得工程をさらに含み、
    前記反応剤供給工程では、
    取得した前記回収対象ガスの吸着量及び前記反応剤に含まれる水分量が増加した場合に、前記脱着処理の時間が増加され、
    取得した前記回収対象ガスの吸着量及び前記反応剤に含まれる水分量が減少した場合に、前記脱着処理の時間が減少されるよう前記脱着処理の時間を調整される請求項１８に記載のガス処理設備方法。
  20. 前記反応剤供給工程の前に実施され、耐熱性を有する前段集塵フィルタを備える前段集塵フィルタ装置を用いて、前記前段集塵フィルタ装置に流入してきた前記ガスに含まれる固形物を捕集する前段捕集工程をさらに含み、
    前記反応剤供給工程では、前記前段捕集工程を実施した後の前記ガス中に前記反応剤を供給している請求項１１又は１２に記載のガス処理設備方法。
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