JP2522012B2 - 光学活性なビフェニル誘導体およびその製造法 - Google Patents
光学活性なビフェニル誘導体およびその製造法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、有機電子材料、特に液晶材料の中間体とし
て有用な光学活性なビフェニル誘導体に関するものであ
る。
て有用な光学活性なビフェニル誘導体に関するものであ
る。
近年、有機電子材料、特に液晶材料、とりわけ強誘電
性液晶材料が注目されている。
性液晶材料が注目されている。
しかし、高速応答性およびメモリー性等の特性の優れ
た強誘導性液晶材料の中間体の開発は未だ十分ではな
く、該中間体の開発が望まれていた。
た強誘導性液晶材料の中間体の開発は未だ十分ではな
く、該中間体の開発が望まれていた。
本発明は、上記目的に適する新規でかつ有用な光学活
性なビフェニル誘導体およびその製造法を提供するもの
である。
性なビフェニル誘導体およびその製造法を提供するもの
である。
すなわち、本発明は、一般式 (I) (式中、Rはハロゲン原子を含んでいてもよい炭素数1
〜20のアルキル基またはアルコキシアルキル基を示す。
※印は不斉炭素原子であることを示す。) で示される光学活性なビフェニル誘導体およびその製造
法である。
〜20のアルキル基またはアルコキシアルキル基を示す。
※印は不斉炭素原子であることを示す。) で示される光学活性なビフェニル誘導体およびその製造
法である。
本発明の一般式(I)で示される光学活性なビフェニ
ル誘導体は、次の各工程に従って製造することができ
る。
ル誘導体は、次の各工程に従って製造することができ
る。
〔第1工程〕 一般式 (II) (式中、Aは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シル基またはハロゲン原子を示す) で示されるケトン類を還元して、一般式(III) (式中、Aは前記と同じ意味を有する) で示されるアルコール類を得る工程 〔第2工程〕 第1工程で得られた一般式(III)で示されるアルコ
ール類を低級アルキルカルボン酸類と反応させて一般式
(IV) (式中、Aは前記と同じ意味を有し、R′は低級アルキ
ル基を示す) で示されるエステル類を得る工程 〔第3工程〕 第2工程で得られた一般式(IV)で示されるエステル
類を、該エステル類の光学活性体のうちのいずれか一方
を加水分解する能力を有するエステラーゼを用いて不斉
水解して、一般式(V) (式中、Aは前記と同じ意味を有し、※印は不斉炭素原
子であることを示す) で示される光学活性なアルコール類を得る工程 〔第4工程〕 第3工程で得られた一般式(V)で示される光学活性
なアルコール類を、一般式(VI) R−X (VI) (式中、Rはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素
数1〜20のアルキル基またはアルコキシアルキル基を示
し、Xはハロゲン原子または-OSO2R″を示す。ここで
R″は低級アルキル基または置換されていてもよいフェ
ニル基を示す) で示されるアルキル化剤と縮合させて、一般式(VII) (式中、A,Rおよび※印は前記と同じ意味を有する) で示される光学活性なエーテル類を得る工程 〔第5工程〕 第4工程で得られた一般式(VII)で示される光学活
性なエーテル類を脱ベンジル化して、前記一般式(I)
で示される光学活性なビフェニル誘導体を得る工程 において、それぞれ第1〜第5工程、第2〜第5工程、
第3〜第5工程、第4〜第5工程および第5工程よりな
る一般式(I)で示される光学活性なビフェニル誘導体
の製造法である。
シル基またはハロゲン原子を示す) で示されるケトン類を還元して、一般式(III) (式中、Aは前記と同じ意味を有する) で示されるアルコール類を得る工程 〔第2工程〕 第1工程で得られた一般式(III)で示されるアルコ
ール類を低級アルキルカルボン酸類と反応させて一般式
(IV) (式中、Aは前記と同じ意味を有し、R′は低級アルキ
ル基を示す) で示されるエステル類を得る工程 〔第3工程〕 第2工程で得られた一般式(IV)で示されるエステル
類を、該エステル類の光学活性体のうちのいずれか一方
を加水分解する能力を有するエステラーゼを用いて不斉
水解して、一般式(V) (式中、Aは前記と同じ意味を有し、※印は不斉炭素原
子であることを示す) で示される光学活性なアルコール類を得る工程 〔第4工程〕 第3工程で得られた一般式(V)で示される光学活性
なアルコール類を、一般式(VI) R−X (VI) (式中、Rはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素
数1〜20のアルキル基またはアルコキシアルキル基を示
し、Xはハロゲン原子または-OSO2R″を示す。ここで
R″は低級アルキル基または置換されていてもよいフェ
ニル基を示す) で示されるアルキル化剤と縮合させて、一般式(VII) (式中、A,Rおよび※印は前記と同じ意味を有する) で示される光学活性なエーテル類を得る工程 〔第5工程〕 第4工程で得られた一般式(VII)で示される光学活
性なエーテル類を脱ベンジル化して、前記一般式(I)
で示される光学活性なビフェニル誘導体を得る工程 において、それぞれ第1〜第5工程、第2〜第5工程、
第3〜第5工程、第4〜第5工程および第5工程よりな
る一般式(I)で示される光学活性なビフェニル誘導体
の製造法である。
以下、各工程に従って本発明をさらに詳細に説明す
る。
る。
第1工程における原料であるケトン類(II)は、たと
えば以下に示されるように、ベンジルハライド類とビフ
ェノール類を反応させることにより、容易に得ることが
できる。
えば以下に示されるように、ベンジルハライド類とビフ
ェノール類を反応させることにより、容易に得ることが
できる。
ケトン類(II)の還元は、ケトンを還元してアルコー
ルとすることのできる還元剤を用いて行われる。
ルとすることのできる還元剤を用いて行われる。
かかる還元剤として、好適には水素化ホウ素ナトリウ
ム、リチウムアルミニウムハイドライドまたは水素化ホ
ウ素が使用され、その使用量は原料ケトン類(II)に対
して少くとも1当量以上必要であり、通常1〜10当量の
範囲である。
ム、リチウムアルミニウムハイドライドまたは水素化ホ
ウ素が使用され、その使用量は原料ケトン類(II)に対
して少くとも1当量以上必要であり、通常1〜10当量の
範囲である。
この反応は通常溶媒中で行われ、かかる溶媒として
は、たとえばテトラヒドロフラン、ジオキサン、エチル
エーテル、メタノール、エタノール、n−プロピルアル
コール、イソプロピルアルコール、トルエン、ベンゼ
ン、クロロホルム、ジクロルメタン等のエーテル、ハロ
ゲン化炭化水素、アルコール等の反応に不活性な溶媒の
単独または混合物が使用される。
は、たとえばテトラヒドロフラン、ジオキサン、エチル
エーテル、メタノール、エタノール、n−プロピルアル
コール、イソプロピルアルコール、トルエン、ベンゼ
ン、クロロホルム、ジクロルメタン等のエーテル、ハロ
ゲン化炭化水素、アルコール等の反応に不活性な溶媒の
単独または混合物が使用される。
反応温度は通常、−30℃〜100℃の範囲であるが、好
ましくは−20℃〜90℃の範囲である。
ましくは−20℃〜90℃の範囲である。
このようにして得られた反応混合物から、分液、濃
縮、蒸留、結晶化等の操作により、アルコール類(II
I)を収率よく得ることができるが、次工程のエステル
類(IV)を得るためには必ずしもアルコール類(III)
を単離する必要はなく、反応混合物のまま次工程へ進ん
でもよい。
縮、蒸留、結晶化等の操作により、アルコール類(II
I)を収率よく得ることができるが、次工程のエステル
類(IV)を得るためには必ずしもアルコール類(III)
を単離する必要はなく、反応混合物のまま次工程へ進ん
でもよい。
アルコール類(III)からエステル類(IV)を得る反
応(第2工程)は、アルコール類(III)を低級アルキ
ルカルボン酸類と反応させてアシル化することにより行
われる。
応(第2工程)は、アルコール類(III)を低級アルキ
ルカルボン酸類と反応させてアシル化することにより行
われる。
このアシル化において、低級アルキルカルボン酸類と
しては低級アルキルカルボン酸、低級アルキルカルボン
酸の酸無水物または酸ハライドが用いられ、具体的には
酢酸、無水酢酸、酢酸クロリドまたはブロミド、プロピ
オン酸、無水プロピオン酸、プロピオン酸クロリドまた
はブロミド、酪酸、ブチリルクロリドまたはブロミド、
バレイルクロリドまたはブロミド等が例示される。
しては低級アルキルカルボン酸、低級アルキルカルボン
酸の酸無水物または酸ハライドが用いられ、具体的には
酢酸、無水酢酸、酢酸クロリドまたはブロミド、プロピ
オン酸、無水プロピオン酸、プロピオン酸クロリドまた
はブロミド、酪酸、ブチリルクロリドまたはブロミド、
バレイルクロリドまたはブロミド等が例示される。
この反応において、低級アルキルカルボン酸類の使用
量はアルコール類(III)に対して1当量以上必要であ
り、上限については特に制限されないが、好ましくは4
当量である。
量はアルコール類(III)に対して1当量以上必要であ
り、上限については特に制限されないが、好ましくは4
当量である。
この反応は、溶媒の存在下もしくは非存在下に、触媒
を用いて反応させることにより行われる。
を用いて反応させることにより行われる。
この反応において溶媒を使用する場合、その溶媒とし
ては、たとえばテトラヒドロフラン、エチルエーテル、
アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、ベンゼン、
クロロホルム、クロルベンゼン、ジクロルメタン、ジク
ロルエタン、四塩化炭素、ジメチルホルムアミド、ヘキ
サン等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、エーテル、ハ
ロゲン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒の単独または
混合物が使用され、その使用量はついては特に制限され
ない。
ては、たとえばテトラヒドロフラン、エチルエーテル、
アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、ベンゼン、
クロロホルム、クロルベンゼン、ジクロルメタン、ジク
ロルエタン、四塩化炭素、ジメチルホルムアミド、ヘキ
サン等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、エーテル、ハ
ロゲン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒の単独または
混合物が使用され、その使用量はついては特に制限され
ない。
低級アルキルカルボン酸類として、低級アルキルカル
ボン酸の酸無水物または酸ハライドを用いる場合、触媒
としては、たとえばジメチルアミノピリジン、ジエチル
アミノピリジン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチル
アミン、ピコリン、ピリジン、イミダゾール、炭酸ナト
リウム、炭酸水素カリウム等の有機あるいは無機塩基性
物質が挙げられ、また、トルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸、硫酸などの有機酸または無機酸を触媒として
用いることもできる。
ボン酸の酸無水物または酸ハライドを用いる場合、触媒
としては、たとえばジメチルアミノピリジン、ジエチル
アミノピリジン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチル
アミン、ピコリン、ピリジン、イミダゾール、炭酸ナト
リウム、炭酸水素カリウム等の有機あるいは無機塩基性
物質が挙げられ、また、トルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸、硫酸などの有機酸または無機酸を触媒として
用いることもできる。
触媒の使用量は、使用する低級アルキルカルボン酸の
酸無水物または酸ハライドの種類、使用する触媒の組合
わせ等によっても異なり、必ずしも特定されないが、た
とえば酸ハライドを使用する場合には、該酸ハライドに
対して1当量以上である。
酸無水物または酸ハライドの種類、使用する触媒の組合
わせ等によっても異なり、必ずしも特定されないが、た
とえば酸ハライドを使用する場合には、該酸ハライドに
対して1当量以上である。
また、上記低級アルキルカルボン酸類として、低級ア
ルキルカルボン酸を使用する場合には、縮合剤の存在下
にアルコール類(III)と該カルボン酸を脱水縮合させ
ることによりアシル化することができる。
ルキルカルボン酸を使用する場合には、縮合剤の存在下
にアルコール類(III)と該カルボン酸を脱水縮合させ
ることによりアシル化することができる。
縮合剤としては、N,N′−ジシクロヘキシルカルボジ
イミドまたはN−シクロヘキシル−N′−(4−ジエチ
ルアミノ)シクロヘキシルカルボジイミドの如きカルボ
ジイミドが使用され、必要により4−ピロリジノピリジ
ン、ピリジンまたはトリエチルアミンの如き有機塩基が
併用される。
イミドまたはN−シクロヘキシル−N′−(4−ジエチ
ルアミノ)シクロヘキシルカルボジイミドの如きカルボ
ジイミドが使用され、必要により4−ピロリジノピリジ
ン、ピリジンまたはトリエチルアミンの如き有機塩基が
併用される。
縮合剤の使用量は低級アルキルカルボン酸に対して1
〜1.2当量倍であり、塩基の使用量は縮合剤に対して0.0
1〜0.2当量倍である。
〜1.2当量倍であり、塩基の使用量は縮合剤に対して0.0
1〜0.2当量倍である。
反応温度は通常−30℃〜100℃であるが、好ましくは
−20℃〜90℃である。
−20℃〜90℃である。
反応時間は特に制限されず、原料のアルコール類(II
I)が反応系から消失した時点を反応終点とすることが
できる。
I)が反応系から消失した時点を反応終点とすることが
できる。
反応終了後、通常の分離手段、たとえば抽出、分液、
濃縮、再結晶等によりエステル類(IV)が収率よく得ら
れ、これは必要により更にカラムクロマトグラフィー等
で精製することができるが、次工程へは反応混合物のま
ま使用することができる。
濃縮、再結晶等によりエステル類(IV)が収率よく得ら
れ、これは必要により更にカラムクロマトグラフィー等
で精製することができるが、次工程へは反応混合物のま
ま使用することができる。
エステル類(IV)から光学活性なアルコール類(V)
を得る反応(第3工程)は、エステル類の光学活性体の
うちいずれか一方を加水分解する能力を有するエステラ
ーゼを用いて、該エステル類の光学活性体の一方を加水
分解する(不斉水解)ことにより行われる。
を得る反応(第3工程)は、エステル類の光学活性体の
うちいずれか一方を加水分解する能力を有するエステラ
ーゼを用いて、該エステル類の光学活性体の一方を加水
分解する(不斉水解)ことにより行われる。
この反応で用いられるエステラーゼを生産する微生物
としては、エステル類(IV)を不斉加水分解する能力を
有するエステラーゼを生産する微生物であればよく、特
に限定されるものではない。
としては、エステル類(IV)を不斉加水分解する能力を
有するエステラーゼを生産する微生物であればよく、特
に限定されるものではない。
尚、本発明におけるエステラーゼとはリパーゼを含む
広義のエステラーゼを意味する。
広義のエステラーゼを意味する。
このような微生物の具体例としては、たとえばエンテ
ロバクター属、アルスロバクター属、ブレビバクテリウ
ム属、シュードモナス属、アルカリゲネス属、ミクロコ
ッカス属、クロモバクテリウム属、ミクロバクテリウム
属、コリネバクテリウム属、バシルス属、ラクトバシル
ス属、トリコデルマ属、キャンディダ属、サッカロミセ
ス属、ロドトルラ属、クリプトコッカス属、トルロプシ
ス属、ピヒア属、ペニシリウム属、アスペルギルス属、
リゾプス属、ムコール属、オーレオバシディウム属、ア
クチノムコール属、ノカルディア属、ストレプトミセス
属、ハンゼヌラ属、アクロモバクター属に属する微生物
が例示される。
ロバクター属、アルスロバクター属、ブレビバクテリウ
ム属、シュードモナス属、アルカリゲネス属、ミクロコ
ッカス属、クロモバクテリウム属、ミクロバクテリウム
属、コリネバクテリウム属、バシルス属、ラクトバシル
ス属、トリコデルマ属、キャンディダ属、サッカロミセ
ス属、ロドトルラ属、クリプトコッカス属、トルロプシ
ス属、ピヒア属、ペニシリウム属、アスペルギルス属、
リゾプス属、ムコール属、オーレオバシディウム属、ア
クチノムコール属、ノカルディア属、ストレプトミセス
属、ハンゼヌラ属、アクロモバクター属に属する微生物
が例示される。
上記微生物の培養は、通常、常法に従って行われ、た
とえば液体培養を行なうことにより培養液を得ることが
できる。
とえば液体培養を行なうことにより培養液を得ることが
できる。
たとえば滅菌した液体培地〔かび類、酵母類用には麦
芽エキス・酵母エキス培地(水1にペプトン5g、グル
コース10g、麦芽エキス3g、酵母エキス3gを溶解し、pH
6.5とする)、細菌用には加糖ブイヨン培地(水1に
グルコース10g、ペプトン5g、肉エキス5g、Nacl 3gを溶
解し、pH7.2とする)〕に微生物を接種し、通常20〜40
℃で1〜3日間往復振盪培養をすることにより行なわ
れ、また必要に応じて固体培養を行なってもよい。
芽エキス・酵母エキス培地(水1にペプトン5g、グル
コース10g、麦芽エキス3g、酵母エキス3gを溶解し、pH
6.5とする)、細菌用には加糖ブイヨン培地(水1に
グルコース10g、ペプトン5g、肉エキス5g、Nacl 3gを溶
解し、pH7.2とする)〕に微生物を接種し、通常20〜40
℃で1〜3日間往復振盪培養をすることにより行なわ
れ、また必要に応じて固体培養を行なってもよい。
また、これらの微生物起源のエステラーゼのなかには
市販されているものがあり、容易に入手することができ
る。市販エステラーゼの具体例としては、たとえば以下
のものが挙げられる。
市販されているものがあり、容易に入手することができ
る。市販エステラーゼの具体例としては、たとえば以下
のものが挙げられる。
シュードモナス属のリパーゼ〔リパーゼP(天野製薬
製)〕アスペルギルス属のリパーゼ〔リパーゼAP(天野
製薬製)〕、ムコール属のリパーゼ〔リパーゼM-AP(天
野製薬製)〕、キャンディダ・シリンドラッセのリパー
ゼ〔リパーゼMY(名糖産業製)〕、アルカリゲネス属の
リパーゼ〔リパーゼPL(名糖産業製)〕、アクロモバク
ター属のリパーゼ〔リパーゼAL(名糖産業製)〕、アル
スロバクター属のリパーゼ(新日本化学製)、クロモバ
クテリウム属のリパーゼ(東洋醸造製)、リゾプス・デ
レマーのリパーゼ〔タリパーゼ(田辺製薬製)〕、リゾ
ブス属のリパーゼ〔リパーゼサイケン(大阪細菌研究
所)〕。
製)〕アスペルギルス属のリパーゼ〔リパーゼAP(天野
製薬製)〕、ムコール属のリパーゼ〔リパーゼM-AP(天
野製薬製)〕、キャンディダ・シリンドラッセのリパー
ゼ〔リパーゼMY(名糖産業製)〕、アルカリゲネス属の
リパーゼ〔リパーゼPL(名糖産業製)〕、アクロモバク
ター属のリパーゼ〔リパーゼAL(名糖産業製)〕、アル
スロバクター属のリパーゼ(新日本化学製)、クロモバ
クテリウム属のリパーゼ(東洋醸造製)、リゾプス・デ
レマーのリパーゼ〔タリパーゼ(田辺製薬製)〕、リゾ
ブス属のリパーゼ〔リパーゼサイケン(大阪細菌研究
所)〕。
また、動物・植物エステラーゼを用いることもでき、
これらの具体的なエステラーゼとしては、以下のものを
挙げることができる。
これらの具体的なエステラーゼとしては、以下のものを
挙げることができる。
ステアプシン、パンクレアチン、ブタ肝臓エステラー
ゼ、Wheat Germエステラーゼ。
ゼ、Wheat Germエステラーゼ。
この反応で用いられるエステラーゼとしては動物、植
物、微生物から得られた酵素が用いられ、その使用形態
としては、精製酵素、粗酵素、酵素含有物、微生物培養
液、培養物、菌体、培養ロ液及びそれらを処理した物な
ど種々の形態で必要に応じて用いることができ、酵素と
微生物を組合わせて用いることもできる。あるいはま
た、樹脂等に固定化した固定化酵素、固定化菌体として
用いることもできる。
物、微生物から得られた酵素が用いられ、その使用形態
としては、精製酵素、粗酵素、酵素含有物、微生物培養
液、培養物、菌体、培養ロ液及びそれらを処理した物な
ど種々の形態で必要に応じて用いることができ、酵素と
微生物を組合わせて用いることもできる。あるいはま
た、樹脂等に固定化した固定化酵素、固定化菌体として
用いることもできる。
不斉加水分解反応は、原料エステル類(IV)と上記酵
素もしくは微生物の混合物を、通常緩衝液中で激しく攪
拌することによって行われる。
素もしくは微生物の混合物を、通常緩衝液中で激しく攪
拌することによって行われる。
緩衝液としては、通常用いられるリン酸ナトリウム、
リン酸カリウムのごとき無機酸塩の緩衝液、酢酸ナトリ
ウム、クエン酸ナトリウムの如き有機酸塩の緩衝液等が
用いられ、そのpHは、好アルカリ性菌の培養液やアルカ
リ性エステラーゼではpH8〜11、好アルカリ性でない微
生物の培養液や耐アルカリ性を有しないエステラーゼで
はpH5〜8が好ましい。濃度は通常0.05〜2M、好ましく
は0.05〜0.5Mの範囲である。
リン酸カリウムのごとき無機酸塩の緩衝液、酢酸ナトリ
ウム、クエン酸ナトリウムの如き有機酸塩の緩衝液等が
用いられ、そのpHは、好アルカリ性菌の培養液やアルカ
リ性エステラーゼではpH8〜11、好アルカリ性でない微
生物の培養液や耐アルカリ性を有しないエステラーゼで
はpH5〜8が好ましい。濃度は通常0.05〜2M、好ましく
は0.05〜0.5Mの範囲である。
反応温度は通常10〜60℃であり、反応時間は一般的に
は10〜70時間であるが、これに限定されることはない。
は10〜70時間であるが、これに限定されることはない。
このような加水分解反応終了後、加水分解反応液をた
とえばメチルイソブチルケトン、酢酸エチル、エチルエ
ーテル等の溶媒により抽出処理し、有機層から溶媒を留
去したのち濃縮残渣をカラムクロマトグラフィーで処理
する等の方法により加水分解生成物である光学活性なア
ルコール類(V)と加水分解残である光学活性なエステ
ル類〔原料エステル類(IV)中の光学活性体のうち加水
分解されなかったもの〕を分離することができる。
とえばメチルイソブチルケトン、酢酸エチル、エチルエ
ーテル等の溶媒により抽出処理し、有機層から溶媒を留
去したのち濃縮残渣をカラムクロマトグラフィーで処理
する等の方法により加水分解生成物である光学活性なア
ルコール類(V)と加水分解残である光学活性なエステ
ル類〔原料エステル類(IV)中の光学活性体のうち加水
分解されなかったもの〕を分離することができる。
ここで得られた光学活性なエステル類は必要に応じて
更に加水分解し、先に得た光学活性なアルコール類
(V)とは対掌体の光学活性なアルコール類とすること
もできる。
更に加水分解し、先に得た光学活性なアルコール類
(V)とは対掌体の光学活性なアルコール類とすること
もできる。
なお、この不斉分解反応でリパーゼとしてシュードモ
ナス属あるいはアルスロバクター属に属するリパーゼを
用いる場合には比較的高い光学純度で光学活性なアルコ
ール類を得ることができる。
ナス属あるいはアルスロバクター属に属するリパーゼを
用いる場合には比較的高い光学純度で光学活性なアルコ
ール類を得ることができる。
また、この加水分解の際、緩衝液に加えてトルエン、
クロロホルム、メチルイソブチルケトン、ジクロルメタ
ン等の反応に不活性な有機溶媒を使用することもでき、
これらを使用することによって不斉水解を有利に行うこ
とができる。
クロロホルム、メチルイソブチルケトン、ジクロルメタ
ン等の反応に不活性な有機溶媒を使用することもでき、
これらを使用することによって不斉水解を有利に行うこ
とができる。
光学活性なアルコール類(V)から光学活性なエーテ
ル類(VII)を得る反応(第4工程)は、光学活性なア
ルコール類(V)をアルキル化剤(VI)と反応させるこ
とにより行われる。
ル類(VII)を得る反応(第4工程)は、光学活性なア
ルコール類(V)をアルキル化剤(VI)と反応させるこ
とにより行われる。
この反応は、通常塩基性物質の存在下に行われ、塩基
性物質としては水素化ナトリウム、水素化カリウムのご
ときアルカリ金属水素化物、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化カルシウムのごとき水酸化アルカリ金
属あるいは水酸化アルカリ土類金属、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウムのごとき炭酸アルカリ金属、ブチルリチウ
ムなどが、またリチウム、ナトリウム、カリウム等のア
ルカリ金属類が例示される。
性物質としては水素化ナトリウム、水素化カリウムのご
ときアルカリ金属水素化物、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化カルシウムのごとき水酸化アルカリ金
属あるいは水酸化アルカリ土類金属、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウムのごとき炭酸アルカリ金属、ブチルリチウ
ムなどが、またリチウム、ナトリウム、カリウム等のア
ルカリ金属類が例示される。
かかる塩基性物質は光学活性なアルコール類(V)に
対して1当量以上必要であり、上限については特に制限
されないが、好ましくは1〜5当量の範囲である。
対して1当量以上必要であり、上限については特に制限
されないが、好ましくは1〜5当量の範囲である。
この反応で使用されるアルキル化剤(VI)とは、以下
に例示されるようなハロゲン原子を含んでいてもよい炭
素数1〜20のアルキル基またはアルコキシアルキル基を
有するクロリド、ブロミド、ヨード等のハロゲン化物あ
るいは硫酸エステル類(メタンスルホン酸エステル、エ
タンスルホン酸エステル、ベンゼンスルホン酸エステ
ル、トルエンスルホン酸エステル等)である。上記のア
ルキル化剤は、必要により相当するアルコールから容易
に製造することができる。
に例示されるようなハロゲン原子を含んでいてもよい炭
素数1〜20のアルキル基またはアルコキシアルキル基を
有するクロリド、ブロミド、ヨード等のハロゲン化物あ
るいは硫酸エステル類(メタンスルホン酸エステル、エ
タンスルホン酸エステル、ベンゼンスルホン酸エステ
ル、トルエンスルホン酸エステル等)である。上記のア
ルキル化剤は、必要により相当するアルコールから容易
に製造することができる。
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキ
シル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシ
ル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシ
ル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナ
デシル、エイコシル、メトキシメチル、メトキシエチ
ル、メトキシプロピル、メトキシブチル、メトキシペン
チル、メトキシヘキシル、メトキシヘプチル、メトキシ
オクチル、メトキシノニル、メトキシデシル、エトキシ
メチル、エトキシエチル、エトキシプロピル、エトキシ
ブチル、エトキシペンチル、エトキシヘキシル、エトキ
シヘプチル、エトキシオクチル、エトキシノニル、エト
キシデシル、プロポキシメチル、プロポキシエチル、プ
ロポキシプロピル、プロポキシブチル、プロポキシペン
チル、プロポキシヘキシル、プロポキシオクチル、プロ
ポキシデシル、ブトキシメチル、ブトキシエチル、ブト
キシプロピル、ブトキシブチル、ブトキシペンチル、ブ
トキシヘキシル、ブトキシヘプチル、ブトキシノニル、
ペンチルオキシメチル、ペンチルオキシエチル、ペンチ
ルオキシプロピル、ペンチルオキシブチル、ペンチルオ
キシペンチル、ペンチルオキシオクチル、ペンチルオキ
シデシル、ヘキシルオキシメチル、ヘキシルオキシエチ
ル、ヘキシルオキシプロピル、ヘキシルオキシブチル、
ヘキシルヘキシペンチル、ヘキシルオキシヘキシル、ヘ
キシルオキシオクチル、ヘキシルオキシノニル、ヘキシ
ルオキシデシル、ヘプチルオキシメチル、ヘプチルオキ
シエチル、ヘプチルオキシプロピル、ヘプチルオキシペ
ンチル、オクチルオキシメチル、オクチルオキシエチ
ル、デシルオキシメチル、デシルオキシエチル、デシル
オキシプロピル、2−トリハロメチルペンチル、2−ト
リハロメチルヘキシル、2−トリハロメチルヘプチル、
2−ハロプロピル、3−ハロ−2−メチルプロピル、2,
3−ジハロプロピル、2−ハロブチル、3−ハロブチ
ル、2,3−ジハロブチル、2,4−ジハロブチル、3,4−ジ
ハロブチル、2−ハロ−3−メチルブチル、2−ハロ−
3,3−ジメチルブチル、2−ハロペンチル、3−ハロペ
ンチル、4−ハロペンチル、2,4−ジハロペンチル、2,5
−ジハロペンチル、2−ハロ−3−メチルペンチル、2
−ハロ−4−メチルペンチル、2−ハロ−3−モノハロ
メチル−4−メチルペンチル、2−ハロヘキシル、3−
ハロヘキシル、4−ハロヘキシル、5−ハロヘキシル、
2−ハロヘプチル、2−ハロオクチル(但し上記アルキ
ル基中ハロとは、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を表わ
す)。
シル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシ
ル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシ
ル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナ
デシル、エイコシル、メトキシメチル、メトキシエチ
ル、メトキシプロピル、メトキシブチル、メトキシペン
チル、メトキシヘキシル、メトキシヘプチル、メトキシ
オクチル、メトキシノニル、メトキシデシル、エトキシ
メチル、エトキシエチル、エトキシプロピル、エトキシ
ブチル、エトキシペンチル、エトキシヘキシル、エトキ
シヘプチル、エトキシオクチル、エトキシノニル、エト
キシデシル、プロポキシメチル、プロポキシエチル、プ
ロポキシプロピル、プロポキシブチル、プロポキシペン
チル、プロポキシヘキシル、プロポキシオクチル、プロ
ポキシデシル、ブトキシメチル、ブトキシエチル、ブト
キシプロピル、ブトキシブチル、ブトキシペンチル、ブ
トキシヘキシル、ブトキシヘプチル、ブトキシノニル、
ペンチルオキシメチル、ペンチルオキシエチル、ペンチ
ルオキシプロピル、ペンチルオキシブチル、ペンチルオ
キシペンチル、ペンチルオキシオクチル、ペンチルオキ
シデシル、ヘキシルオキシメチル、ヘキシルオキシエチ
ル、ヘキシルオキシプロピル、ヘキシルオキシブチル、
ヘキシルヘキシペンチル、ヘキシルオキシヘキシル、ヘ
キシルオキシオクチル、ヘキシルオキシノニル、ヘキシ
ルオキシデシル、ヘプチルオキシメチル、ヘプチルオキ
シエチル、ヘプチルオキシプロピル、ヘプチルオキシペ
ンチル、オクチルオキシメチル、オクチルオキシエチ
ル、デシルオキシメチル、デシルオキシエチル、デシル
オキシプロピル、2−トリハロメチルペンチル、2−ト
リハロメチルヘキシル、2−トリハロメチルヘプチル、
2−ハロプロピル、3−ハロ−2−メチルプロピル、2,
3−ジハロプロピル、2−ハロブチル、3−ハロブチ
ル、2,3−ジハロブチル、2,4−ジハロブチル、3,4−ジ
ハロブチル、2−ハロ−3−メチルブチル、2−ハロ−
3,3−ジメチルブチル、2−ハロペンチル、3−ハロペ
ンチル、4−ハロペンチル、2,4−ジハロペンチル、2,5
−ジハロペンチル、2−ハロ−3−メチルペンチル、2
−ハロ−4−メチルペンチル、2−ハロ−3−モノハロ
メチル−4−メチルペンチル、2−ハロヘキシル、3−
ハロヘキシル、4−ハロヘキシル、5−ハロヘキシル、
2−ハロヘプチル、2−ハロオクチル(但し上記アルキ
ル基中ハロとは、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を表わ
す)。
なお、上記例示のアルキル基またはアルコキシアルキ
ル基は光学活性基であってもよい。
ル基は光学活性基であってもよい。
上記の光学活性基を有するアルキル化剤は相当する光
学活性なアルコールから容易に製造され、該光学活性な
アルコールのうちのあるものは、対応するケトンの不斉
還元により得られる。また、あるものは、天然に存在す
るか、または分割により得られる次のような光学活性ア
ミノ酸および光学活性オキシ酸から誘導できる。
学活性なアルコールから容易に製造され、該光学活性な
アルコールのうちのあるものは、対応するケトンの不斉
還元により得られる。また、あるものは、天然に存在す
るか、または分割により得られる次のような光学活性ア
ミノ酸および光学活性オキシ酸から誘導できる。
バリン、ロイシン、イソロイシン、フェニルアラニ
ン、スレオニン、アロスレオニン、ホモセリン、アロイ
ソロイシン、tert−ロイシン、2−アミノ酪酸、ノルバ
リン、ノルロイシン、オルニチン、リジン、ヒドロキシ
リジン、フェニルグリシン、アスパラギン酸、グルタミ
ン酸、マンデル酸、トロパ酸、3−ヒドロキシ酪酸、リ
ンゴ酸、酒石酸またはイソプロピルリンゴ酸等。
ン、スレオニン、アロスレオニン、ホモセリン、アロイ
ソロイシン、tert−ロイシン、2−アミノ酪酸、ノルバ
リン、ノルロイシン、オルニチン、リジン、ヒドロキシ
リジン、フェニルグリシン、アスパラギン酸、グルタミ
ン酸、マンデル酸、トロパ酸、3−ヒドロキシ酪酸、リ
ンゴ酸、酒石酸またはイソプロピルリンゴ酸等。
このようなアルキル化剤(VI)の使用量は、光学活性
なアルコール類(V)に対して1当量以上任意である
が、通常は1〜5当量の範囲である。
なアルコール類(V)に対して1当量以上任意である
が、通常は1〜5当量の範囲である。
反応溶媒としては、先の第2工程で例示した溶媒以外
に、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリルア
ミド、N−メチルピロリドン等の極性溶媒を使用するこ
とができる。
に、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリルア
ミド、N−メチルピロリドン等の極性溶媒を使用するこ
とができる。
反応温度は、通常−50℃〜120℃、好ましくは−30℃
〜100℃の範囲である。
〜100℃の範囲である。
反応終了後、通常の分離手段、たとえば抽出、分液、
濃縮等の操作により光学活性なエーテル類(VII)を収
率よく得ることができ、これは必要に応じてカラムクロ
マトグラフィー、再結晶等により精製することができる
が、次工程へは反応混合物のままで使用することもでき
る。
濃縮等の操作により光学活性なエーテル類(VII)を収
率よく得ることができ、これは必要に応じてカラムクロ
マトグラフィー、再結晶等により精製することができる
が、次工程へは反応混合物のままで使用することもでき
る。
光学活性なエーテル類(VII)から目的とする光学活
性なビフェニル誘導体(I)を得る反応(第5工程)
は、通常、光学活性なエーテル類(VII)を、水添触媒
の存在下、水素により接触水添して脱ベンジル化するこ
とにより行われる。
性なビフェニル誘導体(I)を得る反応(第5工程)
は、通常、光学活性なエーテル類(VII)を、水添触媒
の存在下、水素により接触水添して脱ベンジル化するこ
とにより行われる。
この脱ベンジル化反応において、水添触媒としてはパ
ラジウム系の金属触媒が好んで用いられ、その具体例と
してパラジウム−炭素、酸化パラジウム、パラジウム
黒、塩化パラジウム等が挙げられる。
ラジウム系の金属触媒が好んで用いられ、その具体例と
してパラジウム−炭素、酸化パラジウム、パラジウム
黒、塩化パラジウム等が挙げられる。
かかる触媒の使用量は、光学活性なエーテル類(VI
I)に対して通常0.001〜0.5重量倍、好ましくは0.005〜
0.3重量倍の範囲である。反応は通常溶媒中で行われ、
溶媒としてはたとえば水、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコー
ル、アセトン、ジメチルホルムアミド、トルエン、ジク
ロルメタン、酢酸エチル等の脂肪族炭化水素、芳香族炭
化水素、アルコール、エーテル、ケトン、エステル、ハ
ロゲン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒の単独または
混合物が使用される。
I)に対して通常0.001〜0.5重量倍、好ましくは0.005〜
0.3重量倍の範囲である。反応は通常溶媒中で行われ、
溶媒としてはたとえば水、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコー
ル、アセトン、ジメチルホルムアミド、トルエン、ジク
ロルメタン、酢酸エチル等の脂肪族炭化水素、芳香族炭
化水素、アルコール、エーテル、ケトン、エステル、ハ
ロゲン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒の単独または
混合物が使用される。
この反応は、水素圧が常圧または加圧下に行われ、水
素の吸収量が原料である光学活性なエーテル類(VII)
に対して1〜1.2当量倍となった時点で反応終点とする
のが好ましい。
素の吸収量が原料である光学活性なエーテル類(VII)
に対して1〜1.2当量倍となった時点で反応終点とする
のが好ましい。
反応温度は−10℃〜100℃、好ましくは10℃〜60℃の
範囲である。
範囲である。
反応終了後、反応混合物から触媒をろ過処理等により
除去したのち濃縮する等の方法により、目的とする光学
活性なビフェニル誘導体(I)を得ることができ、これ
は必要に応じて再結晶あるいはカラムクロマトグラフィ
ー等により精製することができる。
除去したのち濃縮する等の方法により、目的とする光学
活性なビフェニル誘導体(I)を得ることができ、これ
は必要に応じて再結晶あるいはカラムクロマトグラフィ
ー等により精製することができる。
かくして、本発明の方法によれば、新規化合物である
一般式(I)で示される光学活性なビフェニル誘導体を
工業的有利に製造することができ、該誘導体は、有機電
子材料、特に液晶用材料とりわけ、たとえば (式中、R1はアルキル基またはアルコキシル基などを示
し、Arは芳香族基を示す。Rはハロゲン原子を含んでい
てもよい炭素数1〜20のアルキル基またはアルコキシア
ルキル基を示し、※印は不斉炭素原子であることを示
す) の如き強誘電性液晶材料の中間体として有用であるのみ
ならず、農薬、医薬等の中間体としても利用することが
できる。
一般式(I)で示される光学活性なビフェニル誘導体を
工業的有利に製造することができ、該誘導体は、有機電
子材料、特に液晶用材料とりわけ、たとえば (式中、R1はアルキル基またはアルコキシル基などを示
し、Arは芳香族基を示す。Rはハロゲン原子を含んでい
てもよい炭素数1〜20のアルキル基またはアルコキシア
ルキル基を示し、※印は不斉炭素原子であることを示
す) の如き強誘電性液晶材料の中間体として有用であるのみ
ならず、農薬、医薬等の中間体としても利用することが
できる。
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例1 攪拌装置、温度計を装着した4ツ口フラスコに4−ベ
ンジルオキシ−4′−アセチル−ビフェニル120.9g(0.
4モル)、テトラヒドロフラン400mlおよびメタノール10
0mlを仕込み、これに、15〜25℃にて水素化ホウ素ナト
リウム15.14g(0.4モル)を2時間を要して加える。同
温度にて5時間保温後、氷水中にあけ、クロロホルム50
0mlにて2回抽出する。有機層を減圧下に濃縮して4−
ベンジルオキシ−4′−(1−ヒドロキシエチル)−ビ
フェニル(III-1)117.4g(収率96.5%)を得た。
ンジルオキシ−4′−アセチル−ビフェニル120.9g(0.
4モル)、テトラヒドロフラン400mlおよびメタノール10
0mlを仕込み、これに、15〜25℃にて水素化ホウ素ナト
リウム15.14g(0.4モル)を2時間を要して加える。同
温度にて5時間保温後、氷水中にあけ、クロロホルム50
0mlにて2回抽出する。有機層を減圧下に濃縮して4−
ベンジルオキシ−4′−(1−ヒドロキシエチル)−ビ
フェニル(III-1)117.4g(収率96.5%)を得た。
次に、ここで得た(III-1)91.25g(0.3モル)をトルエ
ン400mlとピリジン100mlの混合液に溶解し、これにアセ
チルクロリド25.91g(0.33モル)を15〜20℃にて2時間
を要して加える。その後、同温度で1時間、40〜50℃で
2時間保温する。反応終了後、10℃以下に冷却し、水30
0mlを加える。分液した有機層を2N−塩酸水、水、5%
炭酸ナトリウム、水にて順次洗浄したのち減圧濃縮し、
さらにカラムクロマトにて精製して4−ベンジルオキシ
−4′−(1−アセトキシエチル)−ビフェニル(IV-
1)101.57g(収率97.8%)を得た。
ン400mlとピリジン100mlの混合液に溶解し、これにアセ
チルクロリド25.91g(0.33モル)を15〜20℃にて2時間
を要して加える。その後、同温度で1時間、40〜50℃で
2時間保温する。反応終了後、10℃以下に冷却し、水30
0mlを加える。分液した有機層を2N−塩酸水、水、5%
炭酸ナトリウム、水にて順次洗浄したのち減圧濃縮し、
さらにカラムクロマトにて精製して4−ベンジルオキシ
−4′−(1−アセトキシエチル)−ビフェニル(IV-
1)101.57g(収率97.8%)を得た。
次に上で得た(IV-1)86.55g(0.25モル)を0.3Mリン
酸バッファ(pH7.5)2,000mlおよびアマノリパーゼ
「P」50gとともに40〜45℃で120時間激しく攪拌する。
反応終了後、反応混合物をクロロホルム1,000mlにて抽
出し、有機層を減圧にて濃縮したのち、残渣をトルエ
ン:酢酸エチル(5:2)混合液を展開溶媒としてカラム
クロマト精製し、(+)−4−ベンジルオキシ−4′−
(1−ヒドロキシエチル)−ビフェニル(V−1)28.9
g(収率38%)〔〔α〕▲20 D▼+34.8°(c=1、CHCl
3)、融点158〜159℃〕および未反応エステル50.17gを
得た。
酸バッファ(pH7.5)2,000mlおよびアマノリパーゼ
「P」50gとともに40〜45℃で120時間激しく攪拌する。
反応終了後、反応混合物をクロロホルム1,000mlにて抽
出し、有機層を減圧にて濃縮したのち、残渣をトルエ
ン:酢酸エチル(5:2)混合液を展開溶媒としてカラム
クロマト精製し、(+)−4−ベンジルオキシ−4′−
(1−ヒドロキシエチル)−ビフェニル(V−1)28.9
g(収率38%)〔〔α〕▲20 D▼+34.8°(c=1、CHCl
3)、融点158〜159℃〕および未反応エステル50.17gを
得た。
次にここで得た〔V−1〕4.56g(0.015モル)とジメ
チルホルムアミド40mlの溶液を10℃に冷却し、水素化ナ
トリウム0.47g(0.0196モル)を加え、30〜35℃にて1
時間保温する。次にn−プロピルトシレート4.82g(0.0
225モル)を20〜25℃にて加え、30〜40℃にて5時間反
応させる。反応終了後、反応混合物を氷中にあけ、クロ
ロホルム200mlにて抽出する。有機層は水にて洗浄後、
減圧下に濃縮する。濃縮残渣をカラムクロマトグラフィ
ーにて精製し、(+)−4−ベンジルオキシ−4′−
(1−プロポキシエチル)−ビフェニル(VII-1)4.91g
(収率94.5%)を得た。〔〔α〕▲20 D▼+73.7°(c
=1、CHCl3)、融点106〜108℃〕 次に、ここで得た(VII-1)3.46gをメタノール20mlお
よび5%Pd−炭素0.3gと混合し、水素雰囲気下に常圧に
て接触水添する。水素吸収量が240mlになったところで
反応を止め、触媒を別して除く。液を濃縮し、残渣
をトルエン−酢酸エチル(5:2)混合液を展開溶媒とし
てカラムクロマトグラフィーにて精製して(+)−4−
ヒドロキシ−4′−(1−プロポキシエチル)−ビフェ
ニル2.43g(収率94.8%)を得た。〔〔α〕▲20 D▼+9
4.5°(c=1、CHCl3)、融点123〜125℃〕 実施例2 実施例1で得た〔V−1〕4.56g(0.015モル)とN−
メチルピロリドン80mlからなる溶液を5℃に冷却し、こ
れに水素化ナトリウム0.72g(0.03モル)を加える。そ
の後、30〜35℃にて1時間保温する。
チルホルムアミド40mlの溶液を10℃に冷却し、水素化ナ
トリウム0.47g(0.0196モル)を加え、30〜35℃にて1
時間保温する。次にn−プロピルトシレート4.82g(0.0
225モル)を20〜25℃にて加え、30〜40℃にて5時間反
応させる。反応終了後、反応混合物を氷中にあけ、クロ
ロホルム200mlにて抽出する。有機層は水にて洗浄後、
減圧下に濃縮する。濃縮残渣をカラムクロマトグラフィ
ーにて精製し、(+)−4−ベンジルオキシ−4′−
(1−プロポキシエチル)−ビフェニル(VII-1)4.91g
(収率94.5%)を得た。〔〔α〕▲20 D▼+73.7°(c
=1、CHCl3)、融点106〜108℃〕 次に、ここで得た(VII-1)3.46gをメタノール20mlお
よび5%Pd−炭素0.3gと混合し、水素雰囲気下に常圧に
て接触水添する。水素吸収量が240mlになったところで
反応を止め、触媒を別して除く。液を濃縮し、残渣
をトルエン−酢酸エチル(5:2)混合液を展開溶媒とし
てカラムクロマトグラフィーにて精製して(+)−4−
ヒドロキシ−4′−(1−プロポキシエチル)−ビフェ
ニル2.43g(収率94.8%)を得た。〔〔α〕▲20 D▼+9
4.5°(c=1、CHCl3)、融点123〜125℃〕 実施例2 実施例1で得た〔V−1〕4.56g(0.015モル)とN−
メチルピロリドン80mlからなる溶液を5℃に冷却し、こ
れに水素化ナトリウム0.72g(0.03モル)を加える。そ
の後、30〜35℃にて1時間保温する。
次にヨウ化メチル5.32g(0.0375モル)を15〜20℃に
て加え、20〜30℃で2時間、さらに40〜50℃で2時間反
応させる。反応終了後、反応混合物を氷中にあけ、酢酸
エチル50mlにて抽出する。以下、実施例1に準じて精製
処理を行い(+)−4−ベンジルオキシ−4′−(1−
メトキシエチル)ビフェニル(VII-2)4.61g(収率96.5
%)を得た。〔〔α〕▲20 D▼+77.3°(c=1、CHC
l3)、融点97〜98℃〕 次にここで得た(VII-2)3.18g(0.01モル)をテトラ
ヒドロフラン15mlおよび5%Pd−炭素0.3gと混合し、水
素雰囲気下に常圧にて接触水添する。水素吸収量が240m
lのところで反応を止め、触媒を別して除く。液を
濃縮し、残渣をさらにカラムクロマトにて精製して
(+)−4−ヒドロキシ−4′−(1−メトキシエチ
ル)ビフェニル2.2g(収率96.7%)を得た。
て加え、20〜30℃で2時間、さらに40〜50℃で2時間反
応させる。反応終了後、反応混合物を氷中にあけ、酢酸
エチル50mlにて抽出する。以下、実施例1に準じて精製
処理を行い(+)−4−ベンジルオキシ−4′−(1−
メトキシエチル)ビフェニル(VII-2)4.61g(収率96.5
%)を得た。〔〔α〕▲20 D▼+77.3°(c=1、CHC
l3)、融点97〜98℃〕 次にここで得た(VII-2)3.18g(0.01モル)をテトラ
ヒドロフラン15mlおよび5%Pd−炭素0.3gと混合し、水
素雰囲気下に常圧にて接触水添する。水素吸収量が240m
lのところで反応を止め、触媒を別して除く。液を
濃縮し、残渣をさらにカラムクロマトにて精製して
(+)−4−ヒドロキシ−4′−(1−メトキシエチ
ル)ビフェニル2.2g(収率96.7%)を得た。
〔〔α〕▲20 D▼+104.1°(c=1、CHCl3)、融点174
〜175℃〕 実施例3 実施例1で得た〔V−1〕4.56g(0.015モル)とジメ
チルホルムアミド40mlとからなる溶液を10℃に冷却し、
これに水素化ナトリウム0.47g(0.0196モル)を加え、3
0〜35℃にて1時間保温する。その後n−ヘキシルトシ
レート5.76g(0.0225モル)を加え、40〜45℃にて5時
間反応させる。反応終了後、実施例1に準じて後処理し
て(+)−4−ベンジルオキシ−4′−(1−n−ヘキ
シルオキシエチル)ビフェニル(VII-3)5.5g(収率94.
4%)を得た。〔〔α〕▲20 D▼+37.8°(c=1、CHCl
3)、融点61〜63℃〕 次にここで得た(VII-3)3.88g(0.01モル)をテトラ
ヒドロフラン10ml、メタノール15mlおよび5%Pd−炭素
0.3gと混合し、水素雰囲気下、常圧にて接触水添する。
水素吸収量が240mlのところで反応を止め、触媒を別
して除く。液を濃縮し、残渣をカラムクロマトにて精
製して(+)−4−ヒドロキシ−4′−(1−n−ヘキ
シルオキシエチル)ビフェニル2.83g(収率94.8%)を
得た。
〜175℃〕 実施例3 実施例1で得た〔V−1〕4.56g(0.015モル)とジメ
チルホルムアミド40mlとからなる溶液を10℃に冷却し、
これに水素化ナトリウム0.47g(0.0196モル)を加え、3
0〜35℃にて1時間保温する。その後n−ヘキシルトシ
レート5.76g(0.0225モル)を加え、40〜45℃にて5時
間反応させる。反応終了後、実施例1に準じて後処理し
て(+)−4−ベンジルオキシ−4′−(1−n−ヘキ
シルオキシエチル)ビフェニル(VII-3)5.5g(収率94.
4%)を得た。〔〔α〕▲20 D▼+37.8°(c=1、CHCl
3)、融点61〜63℃〕 次にここで得た(VII-3)3.88g(0.01モル)をテトラ
ヒドロフラン10ml、メタノール15mlおよび5%Pd−炭素
0.3gと混合し、水素雰囲気下、常圧にて接触水添する。
水素吸収量が240mlのところで反応を止め、触媒を別
して除く。液を濃縮し、残渣をカラムクロマトにて精
製して(+)−4−ヒドロキシ−4′−(1−n−ヘキ
シルオキシエチル)ビフェニル2.83g(収率94.8%)を
得た。
〔〔α〕▲20 D▼+32.8°(c=1、CHCl3)、▲n20 D▼
1.5506〕 実施例4〜5 n−ヘキシルトシレートを第1表に示すアルキル化剤
に代える以外は実施例3に準じて反応、後処理し、第1
表に示す結果を得た。
1.5506〕 実施例4〜5 n−ヘキシルトシレートを第1表に示すアルキル化剤
に代える以外は実施例3に準じて反応、後処理し、第1
表に示す結果を得た。
実施例6 攪拌装置、温度計を装着した4つ口フラスコに4−ア
セチル−4′−(4−クロロベンジル)オキシビフェニ
ル134.6g(0.4モル)、メタノール100mlおよびテトラヒ
ドロフラン400mlを仕込み、15〜25℃にて水素化ホウ素
ナトリウム15.1g(0.4モル)を2時間を要して加える。
セチル−4′−(4−クロロベンジル)オキシビフェニ
ル134.6g(0.4モル)、メタノール100mlおよびテトラヒ
ドロフラン400mlを仕込み、15〜25℃にて水素化ホウ素
ナトリウム15.1g(0.4モル)を2時間を要して加える。
同温度に25時間保温後、反応混合物を氷水中にあけ、
クロロホルム500mlにて2回抽出処理する。有機層を水
洗後、減圧下に濃縮して4−(1−ヒドロキシエチル)
−4′−(4−クロロベンジル)オキシビフェニル(II
I-6)135.1g(収率100%)を得た。融点170.5〜172℃ 次に、ここで得た(III-6)101.5g(0.3モル)をトル
エン400mlとピリジン100mlの混合液に溶解し、これにア
セチルクロリド25.9g(0.33モル)を15〜20℃にて2時
間を要して加える。その後、同温度で1時間、40〜50℃
で2時間保温する。反応終了後、10℃以下に冷却し、水
300mlを加える。分液した有機層を2N−塩酸水、水、5
%炭酸ナトリウム、水にて順次洗浄したのち減圧濃縮
し、4−(1−アセトキシエチル)−4′−(4−クロ
ロベンジル)オキシビフェニル(IV-6)101.6g(収率9
7.8%)を得た。
クロロホルム500mlにて2回抽出処理する。有機層を水
洗後、減圧下に濃縮して4−(1−ヒドロキシエチル)
−4′−(4−クロロベンジル)オキシビフェニル(II
I-6)135.1g(収率100%)を得た。融点170.5〜172℃ 次に、ここで得た(III-6)101.5g(0.3モル)をトル
エン400mlとピリジン100mlの混合液に溶解し、これにア
セチルクロリド25.9g(0.33モル)を15〜20℃にて2時
間を要して加える。その後、同温度で1時間、40〜50℃
で2時間保温する。反応終了後、10℃以下に冷却し、水
300mlを加える。分液した有機層を2N−塩酸水、水、5
%炭酸ナトリウム、水にて順次洗浄したのち減圧濃縮
し、4−(1−アセトキシエチル)−4′−(4−クロ
ロベンジル)オキシビフェニル(IV-6)101.6g(収率9
7.8%)を得た。
次に、上で得た(IV-6)15.1g(0.04モル)を0.3Mリ
ン酸バッファー(pH7.5)0.5lおよびリパーゼ(アマノ
「P」)5gとともに40〜45℃で、5日間激しく攪拌す
る。反応終了後、反応混合物をクロロホルム0.5lにて抽
出し、有機層を減圧にて濃縮したのち、残渣をトルエ
ン:酢酸エチル系でカラムクロマト分離精製し、(+)
−4−(1−ヒドロキシエチル)−4′−(4−クロル
ベンジル)オキシビフェニル(V−6)5.8g(収率42.5
%)〔〔α〕▲20 D▼+30.2°(c=1、クロロホル
ム)、融点165〜167℃〕を得た。
ン酸バッファー(pH7.5)0.5lおよびリパーゼ(アマノ
「P」)5gとともに40〜45℃で、5日間激しく攪拌す
る。反応終了後、反応混合物をクロロホルム0.5lにて抽
出し、有機層を減圧にて濃縮したのち、残渣をトルエ
ン:酢酸エチル系でカラムクロマト分離精製し、(+)
−4−(1−ヒドロキシエチル)−4′−(4−クロル
ベンジル)オキシビフェニル(V−6)5.8g(収率42.5
%)〔〔α〕▲20 D▼+30.2°(c=1、クロロホル
ム)、融点165〜167℃〕を得た。
次に、ここで得た(V−6)1.35g(4ミリモル)と
ジメチルホルムアミド20mlの溶液を10〜15℃に冷却し、
水素化ナトリウム0.2g(5ミリモル)を加え、30〜40℃
にて1時間保温する。次に、n−ヘキサデシルトシレー
ト2.0g(5ミリモル)を加え、3時間反応させる。反応
終了後、反応混合物を氷中にあけ、トルエン300mlにて
抽出する。有機層は水で洗浄後、減圧下に濃縮する。濃
縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエ
ン;ヘキサン系)にて精製し、(+)−4−(1−ヘキ
サデシルオキシエチル)−4′−(p−クロロベンジ
ル)オキシビフェニル(VII-6)2.07g(収率92%)を得
た。〔〔α〕▲20 D▼+19.8°(c=1、クロロホル
ム)、融点22〜30℃〕 次に、(VII-6)1.0g(0.0018モル)をテトラヒドロ
フラン10ml、メタノール15mlおよび5%Pd−炭素0.1gと
混合し、水素雰囲気下、常圧にて接触水添する。水素吸
収量か当量点に達したところで反応を止め、触媒を別
したのち、液を濃縮し、濃縮残渣をカラムクロマト精
製して、(+)−4−ヒドロキシ−4′−(1−n−ヘ
キサデシルオキシエチル)ビフェニル(I−6)0.68g
(収率87%)を得た。
ジメチルホルムアミド20mlの溶液を10〜15℃に冷却し、
水素化ナトリウム0.2g(5ミリモル)を加え、30〜40℃
にて1時間保温する。次に、n−ヘキサデシルトシレー
ト2.0g(5ミリモル)を加え、3時間反応させる。反応
終了後、反応混合物を氷中にあけ、トルエン300mlにて
抽出する。有機層は水で洗浄後、減圧下に濃縮する。濃
縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエ
ン;ヘキサン系)にて精製し、(+)−4−(1−ヘキ
サデシルオキシエチル)−4′−(p−クロロベンジ
ル)オキシビフェニル(VII-6)2.07g(収率92%)を得
た。〔〔α〕▲20 D▼+19.8°(c=1、クロロホル
ム)、融点22〜30℃〕 次に、(VII-6)1.0g(0.0018モル)をテトラヒドロ
フラン10ml、メタノール15mlおよび5%Pd−炭素0.1gと
混合し、水素雰囲気下、常圧にて接触水添する。水素吸
収量か当量点に達したところで反応を止め、触媒を別
したのち、液を濃縮し、濃縮残渣をカラムクロマト精
製して、(+)−4−ヒドロキシ−4′−(1−n−ヘ
キサデシルオキシエチル)ビフェニル(I−6)0.68g
(収率87%)を得た。
〔〔α〕▲20 D▼+25.1°(c=1、CHCl3) ▲n20 D▼1.5398 実施例7〜8 実施例6で得た(V−6)を原料とし、n−ヘキサデ
シルトシレートを第2表に示すアルキル化剤に代える以
外は実施例6に準じて反応および後処理し、第2表に示
す結果を得た。
シルトシレートを第2表に示すアルキル化剤に代える以
外は実施例6に準じて反応および後処理し、第2表に示
す結果を得た。
実施例9 4−ベンジルオキシ−4′−アセチルビフェニルに代
えて、4−(4−メチルベンジルオキシ)−4′−アセ
チルビフェニルを用いる以外は実施例1と同様に反応、
後処理および精製等をおこなえば、(+)−4−ヒドロ
キシ−4′−(1−プロポキシエチル)ビフェニルを得
ることができる。
えて、4−(4−メチルベンジルオキシ)−4′−アセ
チルビフェニルを用いる以外は実施例1と同様に反応、
後処理および精製等をおこなえば、(+)−4−ヒドロ
キシ−4′−(1−プロポキシエチル)ビフェニルを得
ることができる。
実施例10 4−ベンジルオキシ−4′−アセチルビフェニルに代
えて、4−(4−メトキシベンジルオキシ)−4′−ア
セチルビフェニルを用いる以外は実施例1と同様に反
応、後処理および精製等をおこなえば、(+)−4−ヒ
ドロキシ−4′−(1−プロポキシエチル)ビフェニル
を得ることができる。
えて、4−(4−メトキシベンジルオキシ)−4′−ア
セチルビフェニルを用いる以外は実施例1と同様に反
応、後処理および精製等をおこなえば、(+)−4−ヒ
ドロキシ−4′−(1−プロポキシエチル)ビフェニル
を得ることができる。
実施例11 実施例1で得た未反応エステル(−)−4−ベンジル
オキシ−4′−(1−アセトキシエチル)ビフェニル3.
45g(0.01モル)をメタノール50ml、20%水酸化ナトリ
ウム溶液25mlの混合液中で30〜40℃にて2時間攪拌す
る。反応終了後、反応液に水200mlを加え、4N−塩酸を
加えてpH4とし、エーテル500mlで抽出処理する。有機層
を水洗ののち、減圧下濃縮すると、白色固体として、
(−)−4−ベンジルオキシ−4′−(1−ヒドロキシ
エチル)ビフェニル3.0g(収率99%)を得た。このうち
1.22g(4ミリモル)を実施例8と同様に反応および後
処理して、(−)−4−ヒドロキシ−4′−{1−(2s
−メチルブチルオキシ)エチル}ビフェニル(I-11)0.
47g(収率91%)を得た。
オキシ−4′−(1−アセトキシエチル)ビフェニル3.
45g(0.01モル)をメタノール50ml、20%水酸化ナトリ
ウム溶液25mlの混合液中で30〜40℃にて2時間攪拌す
る。反応終了後、反応液に水200mlを加え、4N−塩酸を
加えてpH4とし、エーテル500mlで抽出処理する。有機層
を水洗ののち、減圧下濃縮すると、白色固体として、
(−)−4−ベンジルオキシ−4′−(1−ヒドロキシ
エチル)ビフェニル3.0g(収率99%)を得た。このうち
1.22g(4ミリモル)を実施例8と同様に反応および後
処理して、(−)−4−ヒドロキシ−4′−{1−(2s
−メチルブチルオキシ)エチル}ビフェニル(I-11)0.
47g(収率91%)を得た。
▲n20 D▼=1.5479、〔α〕▲20 D▼=−60.0°(c=
1、CHCl3) 実施例12 実施例1において得られた4−ベンジルオキシ−4′
−(1−ヒドロキシエチル)ビフェニル9.1g(0.03モ
ル)をジクロルメタン100mlにとかし、酢酸2.4g(0.04
モル)、4−ピロリジノピリジン0.2gおよびN,N′−ジ
シクロヘキシルカルボジイミド7.1g(0.035モル)を加
えて30〜35℃で一昼夜攪拌する。反応終了後、生じた白
色固体を別したのち、有機層を水、5%酢酸水、水、
5%重曹水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。そののち減圧下にて溶媒を留去し、シリカゲルカラ
ムクロマトにて精製することにより、4−ベンジルオキ
シ−4′−(1−アトセキシエチル)ビフェニル(IV-
1)9.4g(収率91%)を得た。その後は、実施例1と同
様に反応および後処理を順次おこなって、(+)−4−
ヒドロキシ−4′−(1−プロポキシエチル)ビフェニ
ルを得ることができる。
1、CHCl3) 実施例12 実施例1において得られた4−ベンジルオキシ−4′
−(1−ヒドロキシエチル)ビフェニル9.1g(0.03モ
ル)をジクロルメタン100mlにとかし、酢酸2.4g(0.04
モル)、4−ピロリジノピリジン0.2gおよびN,N′−ジ
シクロヘキシルカルボジイミド7.1g(0.035モル)を加
えて30〜35℃で一昼夜攪拌する。反応終了後、生じた白
色固体を別したのち、有機層を水、5%酢酸水、水、
5%重曹水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。そののち減圧下にて溶媒を留去し、シリカゲルカラ
ムクロマトにて精製することにより、4−ベンジルオキ
シ−4′−(1−アトセキシエチル)ビフェニル(IV-
1)9.4g(収率91%)を得た。その後は、実施例1と同
様に反応および後処理を順次おこなって、(+)−4−
ヒドロキシ−4′−(1−プロポキシエチル)ビフェニ
ルを得ることができる。
実施例13 n−ヘキシルトシレートを(s)−2−フルオロヘプ
チルトシレート6.5g(0.0225モル)に代える以外は実施
例3に準じて反応および後処理し、(+)−4−ベンジ
ルオキシ−4′−{1−(2(s)−フルオロヘプチル
オキシ)エチル}ビフェニル(VII-13)5.6gを得た。
チルトシレート6.5g(0.0225モル)に代える以外は実施
例3に準じて反応および後処理し、(+)−4−ベンジ
ルオキシ−4′−{1−(2(s)−フルオロヘプチル
オキシ)エチル}ビフェニル(VII-13)5.6gを得た。
この(VII-13)4.2gを実施例3に準じて脱ベンジル化さ
せ、同様に後処理し、(+)−4−ヒドロキシ−4′−
{1−(2(s)−フルオロヘプチルオキシ)エチル}
ビフェニル3.0g(収率91%)を得た。
せ、同様に後処理し、(+)−4−ヒドロキシ−4′−
{1−(2(s)−フルオロヘプチルオキシ)エチル}
ビフェニル3.0g(収率91%)を得た。
▲n20 D▼1.5883 〔〔α〕▲20 D▼+33.8°(c=1、CHCl3)
Claims (6)
- 【請求項1】一般式 (式中、Rはハロゲン原子を含んでいてもよい炭素数1
〜20のアルキル基またはアルコキシアルキル基を示す。
※印は不斉炭素原子であることを示す。) で示される光学活性なビフェニル誘導体。 - 【請求項2】一般式 (式中、Rはハロゲン原子を含んでいてもよい炭素数1
〜20のアルキル基またはアルコキシアルキル基を、Aは
水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシル基または
ハロゲン原子を示す。※印は不斉炭素原子であることを
示す。) で示される光学活性なエーテル類を脱ベンジル化するこ
とを特徴とする一般式 (式中、Rおよび※印は前記と同じ意味を有する。) で示される光学活性なビフェニル誘導体の製造法。 - 【請求項3】一般式 (式中、Aは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シル基またはハロゲン原子を示す。※印は不斉炭素原子
であることを示す。) で示される光学活性なアルコール類と、一般式 R−X (式中、Rはハロゲン原子を含んでいてもよい炭素数1
〜20のアルキル基またはアルコキシアルキル基を、Xは
ハロゲン原子または-OSO2R″を示す。ここでR″は低級
アルキル基または置換されていてもよいフェニル基を示
す。) で示されるアルキル化剤とを縮合させて、一般式 (式中、R,Aおよび※印は前記と同じ意味を有する。) で示される光学活性なエーテル類を得る請求項2に記載
の光学活性なビフェニル誘導体の製造法。 - 【請求項4】一般式 (式中、Aは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シル基またはハロゲン原子を、R′は低級アルキル基を
示す。) で示されるエステル類を、該エステル類の光学活性体の
うちのいずれか一方を加水分解する能力を有するエステ
ラーゼを用いて不斉水解して、一般式 (式中、Aは前記と同じ意味を有し、※印は不斉炭素原
子であることを示す。) で示される光学活性なアルコール類を得る請求項3に記
載の光学活性なビフェニル誘導体の製造法。 - 【請求項5】一般式 (式中、Aは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シル基またはハロゲン原子を示す。) で示されるアルコール類を低級アルキルカルボン酸類と
反応させて一般式 (式中、Aは前記と同じ意味を有し、R′は低級アルキ
ル基を示す。) で示されるエステル類を得る請求項4に記載の光学活性
なビフェニル誘導体の製造法。 - 【請求項6】一般式 (式中、Aは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シル基またはハロゲン原子を示す。) で示されるケトン類を還元して、一般式 (式中、Aは前記と同じ意味を有する) で示されるアルコール類を得る請求項5に記載の光学活
性なビフェニル誘導体の製造法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11327087 | 1987-05-09 | ||
| JP62-113270 | 1987-05-09 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6456636A JPS6456636A (en) | 1989-03-03 |
| JP2522012B2 true JP2522012B2 (ja) | 1996-08-07 |
Family
ID=14607915
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63113391A Expired - Lifetime JP2522012B2 (ja) | 1987-05-09 | 1988-05-09 | 光学活性なビフェニル誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2522012B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2687583B2 (ja) * | 1989-05-16 | 1997-12-08 | 住友化学工業株式会社 | 光学活性なエーテル誘導体、その製造法、これを有効成分とする液晶材料およびこれを用いてなる光スイッチング素子 |
| JP4853757B2 (ja) * | 2005-03-08 | 2012-01-11 | 国立大学法人京都大学 | 光学活性硫黄架橋二核ルテニウム錯体及びその製造方法並びにかかる触媒を用いた光学活性化合物の製造方法及び新規光学活性化合物 |
| JP4895515B2 (ja) * | 2005-03-14 | 2012-03-14 | ヤンマー株式会社 | コンバイン |
-
1988
- 1988-05-09 JP JP63113391A patent/JP2522012B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6456636A (en) | 1989-03-03 |
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