JP2785498B2 - D/a変換器 - Google Patents

D/a変換器

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JP2785498B2
JP2785498B2 JP3015570A JP1557091A JP2785498B2 JP 2785498 B2 JP2785498 B2 JP 2785498B2 JP 3015570 A JP3015570 A JP 3015570A JP 1557091 A JP1557091 A JP 1557091A JP 2785498 B2 JP2785498 B2 JP 2785498B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高速度デジタルプロセ
スに対応したフローティングD/A変換器に関する。
【0002】
【従来の技術】従来方式のフローティングD/A変換器
(以下、適宜DACと称する)としては、例えば図9に
示すようなものが知られている。同図において、100
はセル部であり、セル部100は32行(ロー側)×1
4ブロック(コラム側)の大きさに構成されている。1
01はロー側の32行の何れかを選択するデコーダ、1
02はコラム側の14ブロックの何れかを選択するデコ
ーダ、103はコラム側の4列で構成される1ブロック
中の4列のうちの何れかを選択するデコーダ、104は
バイアス抵抗群、105は列選択トランジスタ群であ
る。デコーダ101〜103は例えば、アンドゲートや
インバータによって構成されている。図9における各ブ
ロックの詳細な回路は図10〜図16に順次示される。
なお、いわゆる電子出願においては、図面で示すことが
できる範囲(つまり、図面の大きさ)に限りがあるの
で、止むを得ず、各ブロック毎あるいはさらにそのブロ
ックを必要に応じて分割して示すこととしている。
【0003】まず、ロー側の32行を選択するデコーダ
101、セル部100および列選択トランジスタ群10
5を主に含む部分は図10〜図12のように示され、こ
れらの図10〜図12はわかりやすくいうと、図9にお
けるセル部100の左部、中央部、右部に対応してい
る。デコーダ101には仮数部データのうちのY0〜Y
4が入力される。なお、仮数部データとしてはY0〜Y
6(Y0:LSB、Y6:MSBに相当する)がある。
また、Y7〜Y10は指数部データとなっている。ここ
で、本明細書中では、浮動小数点表示のデータ(フロー
ティングデータ)を変換するという意味でフローティン
グDACという語句を用いており、例えば図17に示す
ように指数部DAC91と、仮数部DAC92に分れた
方式のフローティングDACとは異なるものである。し
たがって、本明細書において述べる従来技術および開示
する発明のフローティングDACの場合、全ての指数部
データのデコーダ値に対応して仮数部DACを抵抗列と
して有しており、そのために抵抗の数は膨大になってい
る。そして、この場合、仮数部データが固定のときに指
数部データが変化したとすると、出力電圧値は2n倍に
変化する。
【0004】図10〜図12に戻って、1Rはラダーを
構成する単位抵抗であり、所定の抵抗値を有している。
12Rは単位抵抗1Rの12倍の抵抗値を有する抵抗を
表し、同様に22Rは単位抵抗1Rの22倍の抵抗値を
有する抵抗を表している。コラム4列で構成される1ブ
ロック(代表的に100aで表す)には抵抗1R当り1
ケのMOSトランジスタ100bを接続したセルが32
行×4列で計128セル存在している。そして、各MO
Sトランジスタ100bのゲートはデコーダ101の3
2個の出力端子[0]〜[31]に接続されており、こ
のデコーダ101のデコーダ出力(出力端子[0]〜
[31]からの信号)と、コラム側の1ブロック中の4
列の何れかを選択するデコーダ103のデコーダ出力S
0〜S3(出力端子[0]〜[3]からの信号)と、コ
ラム側の14ブロックの何れかを選択するデコーダ10
2のデコーダ出力(出力端子[0]〜[14]からの信
号)とによってセル部100のマトリクスを指定できる
ようになっている。また、バイアス抵抗群104におけ
るRBはバイアス抵抗であり、フローティングDACの
最大幅を規定する。106、110はインバータであ
る。なお、これらのMOSトランジスタ100bやイン
バータ106は多数存在するので、理解できる範囲内で
一部にのみ符号を付している。このような符号の付し方
は後述の場合も同様である。
【0005】コラム側の4列を選択するデコーダ103
のデコーダ出力S0〜S3(出力端子[0]〜[3]か
らの信号)は列選択トランジスタ群105の中の1ブロ
ックに対応する4個のMOSトランジスタ107のゲー
トに供給されており、各トランジスタ107はデコーダ
出力S0〜S3に基づいて所定の列を選択する。また、
図12、図14に示すように、コラム側の14ブロック
の何れか選択するデコーダ102のデコーダ出力(出力
端子[0]〜[14]からの信号)は14ブロックに対
応する14個のMOSトランジスタ108のゲートに供
給されており、各トランジスタ108はデコーダ出力
[1]〜[13]に基づいて所定のブロックを選択す
る。なお、108aはインバータである。さらに、バイ
アス抵抗群104の全体構成は図15、図16に示さ
れ、このバイアス抵抗群104の両端には所定電圧AV
DD〜GNDが供給されている。そして、バイアス抵抗
群104は各ラダー抵抗R1、R12、R22によって
所定電圧AVDD〜GNDを分圧し、4列毎にセル部1
00に供給する。このようなフローティングDACで
は、仮数部データY0〜Y6および指数部データY7〜
Y10からなるデジタルデータを入力すると、デコーダ
101によってロー側の32行の何れかが選択され、デ
コーダ102によってコラム側の14ブロックの何れか
が選択されるとともに、デコーダ103によって選択さ
れた1ブロックのうちの4列の何れか1列が最終的に選
択される。この最終的に選択されたセルに対してバイア
ス抵抗群104の分圧が供給されてアナログ電圧として
出力端子DACOUTから取り出される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のフローティングDACにあっては、以下に詳
述する理由からDAC全体のレイアウト面積が大きくな
り、そのためDAC内蔵LSIとしてのチップサイズが
大きくなるという問題点があった。
【0007】すなわち、従来方式のフローティングDA
Cでは各列の変り目A(図12参照)と、電源電圧AV
DD〜GND間の中点B(図11参照)に配線の折返し
が存在する。この折返し配線の詳細は図18および図1
9のように示される。図18はセル部100のうちの4
列を抜き出して配線系統を示すもので、この図18から
明らかであるように各列は4列を単位として配線が直列
に接続されており、そのために折返し配線Cが存在して
いる。この場合、順次直列に接続されている各セルの抵
抗を等価的にまとめて表すと、図19(a)のように1
28Rの抵抗値を有する抵抗RA1となり、さらにこれ
は抵抗12Rと並列に接続されているので、図19
(b)に示すように結局11Rの抵抗値を有する抵抗R
A2と等価的に表すことができる。
【0008】通常、この折返し配線Cは抵抗率の低いア
ルミ配線によって形成する。一方、DACのラダー抵抗
1R、12R、22Rおよびバイアス抵抗RBはポリサ
イド(Poly cide:W−Si)によって形成する。ポリ
サイドはタングステンとシリコンのサンドイッチ構造に
よって形成される。この場合、ラダー抵抗1R、12
R、22Rは高精度に均一に形成しないと、DACのリ
ニアリティ特性や歪特性に影響を及ぼす。しかしなが
ら、上述のごとく折返し配線Cが存在し、しかもこの折
返し配線C自体にも抵抗rmがあるので、列の変り目A
におけるセルの抵抗は結局(1R+rm)となり、誤差
が生じる。かかる不具合を改善するには、前記単位抵抗
1Rの値を抵抗rmに比べて大きくすればよいが、一般
的にハイスピードデジタルプロセスに用いられるポリサ
イドは通常のポリシリコン(Poly Si)に比べて約1/
4の抵抗率であるために、単位抵抗1Rの値を大きくす
るには抵抗体の長さを長くする必要がある。その結果、
DAC全体のレイアウト面積が大きくなり、DAC内蔵
LSIとしてのチップサイズが大きくなってしまう。
【0009】次に、第2の対策として図12中の折返し
部分に位置しているセル100xの抵抗を小さくとり、
rsとする。そして、このセル100xの抵抗値(rs
+rm)が単位抵抗1Rの値に等しく(rs+rm=1
R)なるような値にrsを選択するという方法も考えら
れる。ところが、製造プロセスにおいてアルミの配線抵
抗rmの抵抗値はほぼ一定であるが、ポリサイド(Poly
cide:W−Si)による抵抗1R、12R、22Rお
よびrsの抵抗値は±30%程度の幅で一様にばら付き
がある(ただし、抵抗比はほぼ一定)。したがって、r
s+rm=1Rの関係を常に保つのは困難であり、この
第2の対策も有効な解決方法にはなっていない。また、
上記アルミ配線rmは電源電圧AVDD〜GND間の中
点Bにも存在するため、DAC出力電圧が中点を交差す
るときのクロス誤差の原因にもなっている。
【0010】本発明は上述した事情に鑑みてなされたも
ので、DAC全体のレイアウト面積の増加を抑え、DA
C内蔵LSIとしてのチップサイズを小さくできる高速
度デジタルプロセスに対応したフローティングDACを
提供することを目的としている。
【0011】
【課題を解決するための手段】上述した問題点を解決す
るために、本発明によるD/A変換器は、仮数部及び指
数部からなる浮動小数点表現で入力されるデジタルデー
タをアナログ信号に変換するD/A変換器において、所
定の抵抗値の単位抵抗にMOSトランジスタが接続され
セルが多数個マトリクス状に配置されたセル部であっ
て、前記デジタルデータの仮数部のうちの所定ビット数
の下位ビットに対応する数のセルが行方向へ直列に接続
された列を単位として配置され、各列は相互に順次接続
されて、前記仮数部のうち前記下位ビットを除く上位ビ
ットに対応する数の隣接する列で構成されるブロックが
所定数設けられ、デコーダ出力によって所定のセルが指
定されるセル部と、前記デジタルデータの指数部に基づ
いて前記セル部における所定のブロックをデコードする
ブロックデコーダと、前記仮数部の上位ビットに基づい
て前記ブロック内の所定のセルを列方向にデコードする
列デコーダと、前記仮数部の下位ビットに基づいて前記
セル部における所定のセルを該セル内の前記MOSトラ
ンジスタによって行方向にデコードする行デコーダと、
前記各ブロック内におけるセル内の単位抵抗の直列接続
からなる抵抗と所定抵抗値の第1の抵抗とが並列接続さ
れた回路と、該回路が有する抵抗値の2倍の抵抗値を持
つ第2の抵抗とが接続されてなるラダー抵抗が、前記各
ブロックに対応して所定の高電位電源および低電位電源
との間に配置され、各ラダー抵抗における前記第1の抵
抗及び前記第2の抵抗の接続点から該ラダー抵抗に対応
するブロックへそれぞれバイアス電圧を供給するバイア
ス抵抗群とを備え、前記仮数部及び前記指数部に基づ
き、前記ブロックデコーダにより前記ブロックのうち何
れか1ブロックを選択し、前記列デコーダにより該選択
されたブロック中の何れか1列を選択し、前記行デコー
ダにより該選択された列中の何れか1セルを選択して、
該選択したセルによって分圧されるバイアス電圧をアナ
ログ信号として出力するD/A変換器であって、前記各
セル内のMOSトランジスタのうち、前記高電位電源側
をP型のMOSトランジスタにするとともに、前記低位
電源側をN型のMOSトランジスタとして、前記各ブロ
ック内における各列を、1列毎に最短距離で相互に接続
するとともに、前記行デコーダに入力選択手段を設け、
該入力選択手段は、前記列デコーダの出力に基づいて列
毎に前記仮数部の下位ビットの入力極性を互いに反転さ
せて、前記行デコーダのデコード動作が隣接する列間で
逆順となるように構成したことを特徴とする。
【0012】
【作用】本発明では、ハイスピードに対応するためにラ
ダー抵抗およびバイアス抵抗は抵抗率の低いポリサイド
(Poly cide:W−Si)によって形成される一方、セ
ル部は、1列毎に最短距離で相互に接続され、さらに列
デコーダの出力に基づいて列毎にデジタルの入力信号の
入力極性が互いに反転する。したがって、デコーダ動作
は列毎に入替わって実行されることとなり、従来のよう
に前段の列の最後尾のセルと、その後の列の先頭のセル
とを折返し配線を介して接続するというような配線の引
回しを無くしても、列毎に入替わってデコーダ動作が実
行され、セルの行選択は正常に実行される。その結果、
ラダー抵抗の折返し配線を廃止しているので、バイアス
抵抗群を高精度に均一に形成することができ、DACの
リニアリティ特性や歪特性の劣化を防いで、高速度デジ
タルプロセスに対応したフローティングDACが得られ
る。また、ロー行の配線の増加や行デコーダの大幅な増
加、さらにラダー抵抗のレイアウトの増加を招くことが
ないので、DAC全体のレイアウト面積の増加を抑え、
DAC内蔵LSIとしてのチップサイズが小さくなる。
【0013】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例につい
て説明する。図1〜図7は本発明の一実施例の構成を示
す図であり、これらの図において従来の構成と同一部分
には同一符号を付して重複説明を省略する。図1〜図7
で示す各ブロックによって従来例と同様にフローティン
グDACの全体構成が明らかにされる。本実施例が従来
例と異なる点は第1に行選択のデコーダに入力選択回路
を追加したこと、第2に折返し配線を廃止してセル配線
を非常に短くした点である。すなわち、図1において、
201は行選択のデコーダであり、デコーダ201は従
来と同様構成のデコーダ101に加えて新たに入力選択
回路202が追加されている。入力選択回路202はエ
クスクルーシブオアゲート202a〜202eおよびオ
アゲート202fからなり、エクスクルーシブオアゲー
ト202a〜202eの一方の端子には仮数部データY
0〜Y4が供給され、他方の端子にはオアゲート202
fの出力が供給される。また、オアゲート202fの両
端子には図3に示すコラム側の1ブロック中の4列の何
れかを選択するデコーダ103のデコーダ出力S3、S
1(出力端子[3]、[1]からの信号)が供給され
る。入力選択回路202を含むデコーダ201の入出力
の関係は図8のように示され、コラム側選択のデコーダ
103のデコーダ出力S3、S1(列情報)によってデ
コーダ201のデコーダ出力S0〜S31(出力端子
[0]〜[31]からの信号)が互いに逆の順でデコー
ダ動作を行うようになっている。
【0014】一方、バイアス抵抗群104のラダー抵抗
1R、12R、22Rおよびバイアス抵抗RBは低抵抗
率の破線材料であるポリサイド(Poly cide:W−S
i)によって形成され、タングステンとシリコンのサン
ドイッチ構造で製造されている。また、図3に示すよう
に各列の変り目に配線の折返しが存在せず、単に隣接す
るセルから最短距離で配線Dを設けているに過ぎない。
図3では所定の2つの列間にわたる配線Dを示している
が、他の各列間についても同様である。この配線Dはア
ルミ配線によって形成されている。なお、このように配
線したことによるデコーダ動作の不都合をなくするため
に上述のごとくデコーダ201が改良されている。さら
に、図2に示すようにバイアス抵抗群104における電
源電圧AVDD〜GND間の中点にも配線の折返しが存
在せず、同様に単に隣接するセルから最短距離で配線E
を設けているに過ぎない。その他は従来例と同様であ
る。
【0015】次に、作用を説明する。本実施例のフロー
ティングDACで、仮数部データY0〜Y6および指数
部データY7〜Y10からなるデジタルデータを入力す
ると、デコーダ201によってロー側の32行の何れか
が選択され、デコーダ102によってコラム側の14ブ
ロックの何れかが選択されるとともに、デコーダ103
によって選択された14ブロックのうちの1ブロックに
おけるコラム側の4列のうちの1列が最終的に選択さ
れ、この最終的に選択されたセルに対してバイアス抵抗
群104の分圧が供給されてアナログ電圧として出力端
子DACOUTから取り出される。
【0016】ここで、本実施例では折返し配線を無くし
た構成でデコーダ動作が行われるが、その場合の動作を
説明する。図8に示すようにデコーダ201へのデコー
ダ入力(DEC 201 IN)Y0〜Y4が[000
00]〜[11111]まで変化したとき、デコーダ2
01の出力(DEC 201 OUT)はコラム側の4
列を選択するデコーダ103のデコーダ出力S0あるい
はS2のどちらかが“1”になっている場合は[0、
1、2、3、・・・・30、31]が選択される。これ
は、エクスクルーシブオアゲート202a〜202eの
他方の端子への入力210が“0”であるからであり、
デコーダ入力Y0〜Y4が正極性でデコーダ201に入
力されるためである。したがって、この場合は通常通り
に正極性で行選択のためのデコーダ動作が行われて所定
の行のセルが選択される。一方、デコーダ103のデコ
ーダ出力S1あるいはS3のどちらかが“1”になって
いる場合は、デコーダ入力Y0〜Y4が[00000]
〜[11111]と変化したとき、前記デコーダ201
の出力は[31、30、・・・・3、2、1、0]の順
で選択される。これは、エクスクルーシブオアゲート2
02a〜202eの他方の端子への入力210がデコー
ダ出力S1あるいはS3によって“1”となっているか
らである。そのため、デコーダ入力Y0〜Y4はエクス
クルーシブオアゲート202a〜202eによって極性
が反転されてデコーダ101に入力される。したがっ
て、前述のデコーダ出力S0あるいはS2のどちらかが
“1”になっている場合とは逆の順でデコーダ101に
よりデコーダ動作が行われる。このようなデコーダ動作
は列毎に入替わって実行される。したがって、従来のよ
うに前段の列の最後尾のセルと、その後の列の先頭のセ
ルとを折返し配線を介して接続するというような配線の
引回し(各列の変り目A:図12参照)が無くても、列
毎に入替わってデコーダ動作が実行されるので、セルの
行選択は正常に実行される。また、同様に電源電圧AV
DD〜GND間の中点B(図11参照)にも配線の折返
しが存在しないが、デコーダ動作が正常に実行されるの
は同じである。
【0017】以上のことから、本実施例では従来LSI
のマスクレイアウト上で必要であったラダー抵抗の折返
し配線を廃止しているので、ラダー抵抗群を高精度に均
一に形成することができ、DACのリニアリティ特性や
歪特性の劣化を防いで、高速度デジタルプロセスに対応
したフローティングDACを得ることができる。また、
ロー行の配線の増加や行デコーダの大幅な増加、さらに
ラダー抵抗のレイアウトの増加を招くことがないので、
DAC全体のレイアウト面積の増加を抑え、DAC内蔵
LSIとしてのチップサイズを小さくすることができ
る。実際上、入力選択回路202のみの追加であるた
め、従来のDACと比べてもレイアウト面積は殆ど変ら
ない。さらに、従来と異なり、電源電圧AVDD〜GN
D間の中点Bにアルミ配線rmが存在しないので、DA
C出力電圧がこの中点を交差するときのクロス誤差を防
止することができる。
【0018】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明によれ
ば、ラダー抵抗群を高精度に均一に形成することがで
き、DACのリニアリティ特性や歪特性の劣化を防い
で、高速度デジタルプロセスに対応したフローティング
DACを得ることができる。また、ロー行の配線の増加
や行デコーダの大幅な増加、さらにラダー抵抗のレイア
ウトの増加を招くことがないので、DAC全体のレイア
ウト面積の増加を抑え、DAC内蔵LSIとしてのチッ
プサイズを小さくすることができる。さらに、電源電圧
AVDD〜GND間の中点Bにアルミ配線rmが存在し
ないので、DAC出力電圧がこの中点を交差するときの
クロス誤差を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例のDACの行デコーダを含
む部分の回路図である。
【図2】 同実施例のDACのセル部の中間に位置する
ブロックを含む部分の回路図である。
【図3】 同実施例のDACのセル部の4列からなる1
ブロックを含む部分の回路図である。
【図4】 同実施例のDACの列選択トランジスタ群の
一部を含む部分の回路図である。
【図5】 同実施例のDACの列選択トランジスタ群の
他を含む部分の回路図である。
【図6】 同実施例のDACのバイアス抵抗群の一部を
含む部分の回路図である。
【図7】 同実施例のDACのバイアス抵抗群の他を含
む部分の回路図である。
【図8】 同実施例のDACのデコーダ動作を説明する
論理図である。
【図9】 従来のDACの全体的なブロック図である。
【図10】 従来のDACの行デコーダを含む部分の回
路図である。
【図11】 従来のDACのセル部の中間に位置するブ
ロックを含む部分の回路図である。
【図12】 従来のDACのセル部の4列からなる1ブ
ロックを含む部分の回路図である。
【図13】 従来のDACの列選択トランジスタ群の一
部を含む部分の回路図である。
【図14】 従来のDACの列選択トランジスタ群の他
を含む部分の回路図である。
【図15】 従来のDACのバイアス抵抗群の一部を含
む部分の回路図である。
【図16】 従来のDACのバイアス抵抗群の他を含む
部分の回路図である。
【図17】 従来の他のフローティングDACの構成を
説明する図である。
【図18】 従来のDACの折返し配線を説明する図で
ある。
【図19】 従来のDACの折返し配線を等価的に説明
する図である。
【符号の説明】
1R:単位抵抗、12R、22R:抵抗、RB:バイア
ス抵抗、100:セル部、101、102、103、1
04、201:デコーダ、104:バイアス抵抗群、1
05:列選択トランジスタ群、202:入力選択回路

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 仮数部及び指数部からなる浮動小数点表
    現で入力されるデジタルデータをアナログ信号に変換す
    るD/A変換器において、 所定の抵抗値の単位抵抗にMOSトランジスタが接続さ
    れたセルが多数個マトリクス状に配置されたセル部であ
    って、前記デジタルデータの仮数部のうちの所定ビット
    数の下位ビットに対応する数のセルが行方向へ直列に接
    続された列を単位として配置され、各列は相互に順次接
    続されて、前記仮数部のうち前記下位ビットを除く上位
    ビットに対応する数の隣接する列で構成されるブロック
    が所定数設けられ、デコーダ出力によって所定のセルが
    指定されるセル部と、 前記デジタルデータの指数部に基づいて前記セル部にお
    ける所定のブロックをデコードするブロックデコーダ
    と、 前記仮数部の上位ビットに基づいて前記ブロック内の所
    定のセルを列方向にデコードする列デコーダと、 前記仮数部の下位ビットに基づいて前記セル部における
    所定のセルを該セル内の前記MOSトランジスタによっ
    行方向にデコードする行デコーダと、 前記各ブロック内におけるセル内の単位抵抗の直列接続
    からなる抵抗と所定抵抗値の第1の抵抗とが並列接続さ
    れた回路と、該回路が有する抵抗値の2倍の抵抗値を持
    つ第2の抵抗とが接続されてなるラダー抵抗が、前記各
    ブロックに対応して所定の高電位電源および低電位電源
    との間に配置され、各ラダー抵抗における前記第1の抵
    抗及び前記第2の抵抗の接続点から該ラダー抵抗に対応
    するブロックへそれぞれバイアス電圧を供給するバイア
    ス抵抗群とを備え、 前記仮数部及び前記指数部に基づき、前記ブロックデコ
    ーダにより前記ブロックのうち何れか1ブロックを選択
    し、前記列デコーダにより該選択されたブロック中の何
    れか1列を選択し、前記行デコーダにより該選択された
    列中の何れか1セルを選択して、該選択したセルによっ
    て分圧されるバイアス電圧をアナログ信号として出力す
    るD/A変換器であって、前記各セル内のMOSトランジスタのうち、前記高電位
    電源側をP型のMOSトランジスタにするとともに、前
    記低位電源側をN型のMOSトランジスタとして、 前記各ブロック内における各列を、1列毎に最短距離で
    相互に接続するとともに、 前記行デコーダに入力選択手段を設け、該入力選択手段
    は、前記列デコーダの出力に基づいて列毎に前記仮数部
    の下位ビットの入力極性を互いに反転させて、前記行デ
    コーダのデコード動作が隣接する列間で逆順となるよう
    に構成したことを特徴とするD/A変換器。
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