JP2807670B2 - プロピオロニトリル誘導体、液晶組成物および液晶表示素子 - Google Patents
プロピオロニトリル誘導体、液晶組成物および液晶表示素子Info
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- JP2807670B2 JP2807670B2 JP9186008A JP18600897A JP2807670B2 JP 2807670 B2 JP2807670 B2 JP 2807670B2 JP 9186008 A JP9186008 A JP 9186008A JP 18600897 A JP18600897 A JP 18600897A JP 2807670 B2 JP2807670 B2 JP 2807670B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は新規なプロピオロニ
トリル誘導体からなる液晶性化合物、この液晶性化合物
を含有する液晶組成物、およびこの液晶組成物を用いた
液晶表示素子に関する。
トリル誘導体からなる液晶性化合物、この液晶性化合物
を含有する液晶組成物、およびこの液晶組成物を用いた
液晶表示素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶物質の光学異方性及び誘電異方性な
どの特性を利用した表示素子は、時計、電卓等に広く利
用されている。液晶相にはネマチック液晶相、スメクチ
ック液晶相、コレステリック液晶相があるが、実用的に
はネマチック相がもっとも一般的である。この場合の表
示方式としては、ＴＮ(ねじれネマチック)型、ＤＳ(動
的散乱)型、ＧＨ(ゲスト・ホスト)型、ＤＡＰ(配向相変
形)型等がある。これらに使われる液晶性化合物が今ま
でに数多く開発されたが、単一の化合物のままで表示素
子に封入されて実用化された例はない。表示素子用の液
晶材料としては、室温を中心とした広い温度範囲で液晶
相を示し、使用される環境下で、水分、光、熱、空気等
や電場、電磁放射に対して安定であり、表示素子を駆動
させるに十分な物理的性質を持つことが必要である。
どの特性を利用した表示素子は、時計、電卓等に広く利
用されている。液晶相にはネマチック液晶相、スメクチ
ック液晶相、コレステリック液晶相があるが、実用的に
はネマチック相がもっとも一般的である。この場合の表
示方式としては、ＴＮ(ねじれネマチック)型、ＤＳ(動
的散乱)型、ＧＨ(ゲスト・ホスト)型、ＤＡＰ(配向相変
形)型等がある。これらに使われる液晶性化合物が今ま
でに数多く開発されたが、単一の化合物のままで表示素
子に封入されて実用化された例はない。表示素子用の液
晶材料としては、室温を中心とした広い温度範囲で液晶
相を示し、使用される環境下で、水分、光、熱、空気等
や電場、電磁放射に対して安定であり、表示素子を駆動
させるに十分な物理的性質を持つことが必要である。
【０００３】液晶材料に求められる光学異方性、誘電異
方性および電気伝導度等の物性値は表示方式および素子
の形状に依存する。特に近年高品位の液晶ディスプレイ
に用いられているＳＴＮ方式に用いられる液晶材料は、
高い急峻性を有しかつ早い応答速度を示す良好な表示を
得るために、液晶組成物は弾性定数比(ｋ3／ｋ1)および
誘電異方性値が大きく、かつ、低粘度に設定しなくては
ならない。
方性および電気伝導度等の物性値は表示方式および素子
の形状に依存する。特に近年高品位の液晶ディスプレイ
に用いられているＳＴＮ方式に用いられる液晶材料は、
高い急峻性を有しかつ早い応答速度を示す良好な表示を
得るために、液晶組成物は弾性定数比(ｋ3／ｋ1)および
誘電異方性値が大きく、かつ、低粘度に設定しなくては
ならない。
【０００４】しかしながら、同時にこれらの条件を満た
す単体化合物は未だ知られておらず、現在のディスプレ
イに使用されている液晶材料は各々の特性を有する液晶
性化合物の混合物で構成された組成物である。諸特性に
ばらつきのある単体化合物を混合すると周波数依存性、
温度依存性が大きくなり各使用環境下で均一な表示を得
ることが困難である。そこで周波数依存性、温度依存性
を極力小さくした、良好な特性を有するＳＴＮ方式によ
る表示を得るためには、大きな弾性定数比を有し、大き
な誘電異方性値を有し、設定された定数に近い光学的異
方性値を有し、広い液晶温度レンジを有し、他の液晶と
の相溶性が高く、安定でしかも応答速度を損なわないよ
うに低粘度を有する化合物が重要な鍵になっている。
す単体化合物は未だ知られておらず、現在のディスプレ
イに使用されている液晶材料は各々の特性を有する液晶
性化合物の混合物で構成された組成物である。諸特性に
ばらつきのある単体化合物を混合すると周波数依存性、
温度依存性が大きくなり各使用環境下で均一な表示を得
ることが困難である。そこで周波数依存性、温度依存性
を極力小さくした、良好な特性を有するＳＴＮ方式によ
る表示を得るためには、大きな弾性定数比を有し、大き
な誘電異方性値を有し、設定された定数に近い光学的異
方性値を有し、広い液晶温度レンジを有し、他の液晶と
の相溶性が高く、安定でしかも応答速度を損なわないよ
うに低粘度を有する化合物が重要な鍵になっている。
【０００５】大きな弾性定数比および大きな誘電異方性
値を有し、比較的に低粘度の液晶化合物として、下記式
(Ａ)に示すようなアルケニル化合物（特開昭59−176221
号公報）が一般に知られているが、この化合物はネマチ
ック液晶温度範囲が比較的に狭く、液晶組成物の一成分
とする場合にはこれを補うように高透明点を有する化合
物と併用する必要がある。しかしながら、一般に高透明
点を有する化合物は高粘度を示すため、上記アルケニル
化合物の添加は組成物全体の粘度が高くなる結果とな
る。一方、下記式(Ｂ)（式中、Ｒは炭素数１〜８のアル
キル基を表す）に示すシンナムニトリル誘導体（特開昭
55−9012号公報）も液晶化合物として知られているが、
特に光に対する安定性が乏しい。下記式(Ｃ)（式中、Ｒ
は炭素数１〜９のアルキル基またはアルコキシ基を表
す）に示すプロピオロニトリル誘導体（特開昭58−1105
27号公報）は広い液晶レンジおよび比較的大きな誘電異
方性値、弾性定数比を有するが十分であるとはいえな
い。
値を有し、比較的に低粘度の液晶化合物として、下記式
(Ａ)に示すようなアルケニル化合物（特開昭59−176221
号公報）が一般に知られているが、この化合物はネマチ
ック液晶温度範囲が比較的に狭く、液晶組成物の一成分
とする場合にはこれを補うように高透明点を有する化合
物と併用する必要がある。しかしながら、一般に高透明
点を有する化合物は高粘度を示すため、上記アルケニル
化合物の添加は組成物全体の粘度が高くなる結果とな
る。一方、下記式(Ｂ)（式中、Ｒは炭素数１〜８のアル
キル基を表す）に示すシンナムニトリル誘導体（特開昭
55−9012号公報）も液晶化合物として知られているが、
特に光に対する安定性が乏しい。下記式(Ｃ)（式中、Ｒ
は炭素数１〜９のアルキル基またはアルコキシ基を表
す）に示すプロピオロニトリル誘導体（特開昭58−1105
27号公報）は広い液晶レンジおよび比較的大きな誘電異
方性値、弾性定数比を有するが十分であるとはいえな
い。
【０００６】
【化３】
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、液晶組成物
の成分としての優れた性質、すなわち広い液晶温度レン
ジ、大きな誘電異方性値を有し、他の液晶化合物との相
溶性に優れ、組成物の低粘性などの性質を保持し、かつ
大きな弾性定数比を与えることが可能な新規液晶性化合
物を提供することを目的とする。また、この液晶性化合
物を含有する液晶組成物およびこの組成物から構成され
る液晶表示素子を提供することを別の目的とする。
の成分としての優れた性質、すなわち広い液晶温度レン
ジ、大きな誘電異方性値を有し、他の液晶化合物との相
溶性に優れ、組成物の低粘性などの性質を保持し、かつ
大きな弾性定数比を与えることが可能な新規液晶性化合
物を提供することを目的とする。また、この液晶性化合
物を含有する液晶組成物およびこの組成物から構成され
る液晶表示素子を提供することを別の目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するべく鋭意研究した結果、前記式(Ｃ)のプロピ
オロニトリル誘導体の環の種類およびそれらの連結基の
組み合わせ、ならびに環の置換基および置換位を変えた
一群の化合物が特異な液晶特性を示すことを見出し、本
発明を完成した。
を達成するべく鋭意研究した結果、前記式(Ｃ)のプロピ
オロニトリル誘導体の環の種類およびそれらの連結基の
組み合わせ、ならびに環の置換基および置換位を変えた
一群の化合物が特異な液晶特性を示すことを見出し、本
発明を完成した。
【０００９】本発明は、下記一般式(１)で表され、式中
のn1およびn2はそれぞれ独立して０または１；A1、A2お
よびA3はそれぞれ独立して１,４−フェニレン、１個ま
たは２個のＦで置換された１,４−フェニレン、トラン
ス−１,４−シクロヘキシレン、１,３−ジオキサン−
２,５−ジイルまたは１,３−ピリミジン−２,５−ジイ
ル；Z1、Z2およびZ3はそれぞれ独立して単結合、エチレ
ン基、エテニレン基、エチニレン基、カルボニルオキシ
基、オキシカルボニル基、メチレンオキシ基、オキシメ
チレン基、１,４−ブチレン基または１,４−ブテニレン
基；Ｒは炭素数が１０までの飽和または不飽和の脂肪族
炭化水素基、鎖中に１以上のエーテル結合を有する炭素
数が１０までの飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基、
または１以上のＦを含む炭素数が１０までの飽和または
不飽和のフッ素置換脂肪族炭化水素基；X1およびX2はそ
れぞれ独立してＦ、ＣｌまたはＨを表す、ただし、n1＝
n2＝０、Z1が単結合、エチレン基、カルボニルオキシ基
またはオキシカルボニル基、かつＲがアルキル基または
アルコキシ基の場合、ならびにn1＝１、n2＝０または
１、Z1およびZ2が単結合またはエチレン基、Z3がエチレ
ン基、かつＲがアルキル基またはアルコキシ基の場合に
は、X1、X2の少なくとも一方はＦまたはClであるプロピ
オロニトリル誘導体である。
のn1およびn2はそれぞれ独立して０または１；A1、A2お
よびA3はそれぞれ独立して１,４−フェニレン、１個ま
たは２個のＦで置換された１,４−フェニレン、トラン
ス−１,４−シクロヘキシレン、１,３−ジオキサン−
２,５−ジイルまたは１,３−ピリミジン−２,５−ジイ
ル；Z1、Z2およびZ3はそれぞれ独立して単結合、エチレ
ン基、エテニレン基、エチニレン基、カルボニルオキシ
基、オキシカルボニル基、メチレンオキシ基、オキシメ
チレン基、１,４−ブチレン基または１,４−ブテニレン
基；Ｒは炭素数が１０までの飽和または不飽和の脂肪族
炭化水素基、鎖中に１以上のエーテル結合を有する炭素
数が１０までの飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基、
または１以上のＦを含む炭素数が１０までの飽和または
不飽和のフッ素置換脂肪族炭化水素基；X1およびX2はそ
れぞれ独立してＦ、ＣｌまたはＨを表す、ただし、n1＝
n2＝０、Z1が単結合、エチレン基、カルボニルオキシ基
またはオキシカルボニル基、かつＲがアルキル基または
アルコキシ基の場合、ならびにn1＝１、n2＝０または
１、Z1およびZ2が単結合またはエチレン基、Z3がエチレ
ン基、かつＲがアルキル基またはアルコキシ基の場合に
は、X1、X2の少なくとも一方はＦまたはClであるプロピ
オロニトリル誘導体である。
【００１０】
【化４】
【００１１】また、別の本発明は、前記一般式(１)で表
わされるプロピオロニトリル誘導体の少なくとも１種を
含有する、少なくとも二成分からなることを特徴とする
液晶組成物、さらに詳しくは第一成分が前記一般式(１)
で表されるプロピオロニトリル誘導体の少なくとも１
種、第二成分が下記一般式(２)で表される化合物群より
選択される少なくとも１種および／または一般式(３)で
表される化合物群より選択される少なくとも１種からな
る液晶組成物、ならびにこれらの液晶組成物を用いて構
成される液晶表示素子である。
わされるプロピオロニトリル誘導体の少なくとも１種を
含有する、少なくとも二成分からなることを特徴とする
液晶組成物、さらに詳しくは第一成分が前記一般式(１)
で表されるプロピオロニトリル誘導体の少なくとも１
種、第二成分が下記一般式(２)で表される化合物群より
選択される少なくとも１種および／または一般式(３)で
表される化合物群より選択される少なくとも１種からな
る液晶組成物、ならびにこれらの液晶組成物を用いて構
成される液晶表示素子である。
【００１２】
【化５】
【００１３】一般式(２)中、ａは１または２、ｂは０ま
たは１であり、A4はトランス−１,４−シクロヘキシレ
ン、または未置換もしくは１個または２個のＦで置換さ
れた１,４−フェニレン；Z4およびZ5は、それぞれ独立
してエチレン基、エテニレン基または単結合；Ｒ1は炭
素数１〜１０のアルキル基；X5は−Ｆ、−CF3、−OC
F3、−OCF2Hまたは−Cl；(F)はＦまたはＨを表す。
たは１であり、A4はトランス−１,４−シクロヘキシレ
ン、または未置換もしくは１個または２個のＦで置換さ
れた１,４−フェニレン；Z4およびZ5は、それぞれ独立
してエチレン基、エテニレン基または単結合；Ｒ1は炭
素数１〜１０のアルキル基；X5は−Ｆ、−CF3、−OC
F3、−OCF2Hまたは−Cl；(F)はＦまたはＨを表す。
【００１４】 R2-(-A5-Z6-)c-(-A6-Z7-)d-(-A7-Z8-)e-A8-(-COO-)f-R3 (３) 一般式(３)中、ｃ、ｄ、ｅおよびｆはそれぞれ独立して
０または１であり；A5、A6およびA7はそれぞれ独立して
トランス−１,４−シクロヘキシレン、未置換もしくは
１個または２個のＦで置換された１,４−フェニレン、
１,３−ジオキサン−２,５−ジイルまたは１,３−ピリ
ミジン−２,５−ジイル；A8はトランス−１,４−シクロ
ヘキシレン、または未置換もしくは１個または２個のＦ
で置換された１,４−フェニレン；Z6、Z7およびZ8は、
それぞれ独立してエチレン基、エテニレン基、エチニレ
ン基、１−ブテン−３−イニレン基、カルボニルオキシ
基または単結合；Ｒ2は鎖中に１以上のエーテル結合を
有していてもよい炭素数１０までの飽和または不飽和の
脂肪族炭化水素基；R3は−CN、−Ｆ、−OCF3、−OCF
2H、−CF3、−CF2H、−CFH2または鎖中に１以上のエー
テル結合を有していてもよい炭素数１０までの飽和また
は不飽和の脂肪族炭化水素基である。
０または１であり；A5、A6およびA7はそれぞれ独立して
トランス−１,４−シクロヘキシレン、未置換もしくは
１個または２個のＦで置換された１,４−フェニレン、
１,３−ジオキサン−２,５−ジイルまたは１,３−ピリ
ミジン−２,５−ジイル；A8はトランス−１,４−シクロ
ヘキシレン、または未置換もしくは１個または２個のＦ
で置換された１,４−フェニレン；Z6、Z7およびZ8は、
それぞれ独立してエチレン基、エテニレン基、エチニレ
ン基、１−ブテン−３−イニレン基、カルボニルオキシ
基または単結合；Ｒ2は鎖中に１以上のエーテル結合を
有していてもよい炭素数１０までの飽和または不飽和の
脂肪族炭化水素基；R3は−CN、−Ｆ、−OCF3、−OCF
2H、−CF3、−CF2H、−CFH2または鎖中に１以上のエー
テル結合を有していてもよい炭素数１０までの飽和また
は不飽和の脂肪族炭化水素基である。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明のプロピオロニトリル誘導
体は、一般式(１)で表され、式中の、n1、n2、A1、A2、
A3、Z1、Z2、Z3、Ｒ、X1およびX2は前記と同じ意味を表
わす。
体は、一般式(１)で表され、式中の、n1、n2、A1、A2、
A3、Z1、Z2、Z3、Ｒ、X1およびX2は前記と同じ意味を表
わす。
【００１６】
【化６】
【００１７】一般式(１)中のＲは、直鎖状または分岐鎖
状の炭素数１〜１０の飽和脂肪族炭化水素基、鎖中に１
または２の不飽和基、たとえばエテニレン基またはエチ
ニレン基を含有する直鎖状または分岐鎖状の炭素数２〜
１０の不飽和脂肪族炭化水素基、鎖中に１以上のエーテ
ル結合(-O-)を含有する炭素数１〜１０の飽和または不
飽和の脂肪族炭化水素基、もしくは鎖中に１以上のＦを
含む炭素数１〜１０の飽和または不飽和のフッ素置換脂
肪族炭化水素基である。
状の炭素数１〜１０の飽和脂肪族炭化水素基、鎖中に１
または２の不飽和基、たとえばエテニレン基またはエチ
ニレン基を含有する直鎖状または分岐鎖状の炭素数２〜
１０の不飽和脂肪族炭化水素基、鎖中に１以上のエーテ
ル結合(-O-)を含有する炭素数１〜１０の飽和または不
飽和の脂肪族炭化水素基、もしくは鎖中に１以上のＦを
含む炭素数１〜１０の飽和または不飽和のフッ素置換脂
肪族炭化水素基である。
【００１８】飽和脂肪族炭化水素基はいわゆるアルキル
基であり、たとえばエチル基、メチル基、ｎ−プロピル
基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ペ
ンチル基、２−メチルブチル基、ヘキシル基、２−メチ
ルペンチル基、３−メチルペンチル基、ヘプチル基、２
−メチルヘキシル基、オクチル、２−エチルヘキシル、
３−メチルヘプチル基、ノニル基、デシル基などが挙げ
られる。不飽和脂肪族炭化水素基は、アルケニル基、ア
ルキニル基、アルカジエニル基などであり、たとえばビ
ニル基、アリル基、１−ブテニル基、３−ブテニル基、
３−メチル−１−ブテニル基、１−ペンテニル基、３−
ペンテニル基、４−メチル−３−ペンテニル基、３−ノ
ネニル基、エチニル基、プロピニル基、１−ブチニル
基、ブタジエニル基、１,５−ヘキサジエニル基などが
挙げられる。
基であり、たとえばエチル基、メチル基、ｎ−プロピル
基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ペ
ンチル基、２−メチルブチル基、ヘキシル基、２−メチ
ルペンチル基、３−メチルペンチル基、ヘプチル基、２
−メチルヘキシル基、オクチル、２−エチルヘキシル、
３−メチルヘプチル基、ノニル基、デシル基などが挙げ
られる。不飽和脂肪族炭化水素基は、アルケニル基、ア
ルキニル基、アルカジエニル基などであり、たとえばビ
ニル基、アリル基、１−ブテニル基、３−ブテニル基、
３−メチル−１−ブテニル基、１−ペンテニル基、３−
ペンテニル基、４−メチル−３−ペンテニル基、３−ノ
ネニル基、エチニル基、プロピニル基、１−ブチニル
基、ブタジエニル基、１,５−ヘキサジエニル基などが
挙げられる。
【００１９】鎖中にエーテル結合を有する飽和脂肪族炭
化水素基は、前記アルキル鎖中に１以上のエーテル結合
を有するアルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルコ
キシアルコキシ基などであり、たとえばメトキシ基、エ
トキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオ
キシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチ
ルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキ
シ基、デシルオキシ基、メトキシメチル基、メトキシエ
チエル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、プ
ロポキシプロピル基、エトキシメトキシ基、プロポキシ
エトキシ基などが挙げられる。鎖中にエーテル結合を有
する不飽和脂肪族炭化水素基は、前記アルケニル鎖、ア
ルキニル鎖中に１以上のエーテル結合を有するアルケニ
ルオキシ基、アルキニルオキシ基、アルケニルオキシア
ルキル基などであり、たとえばアリルオキシ基、2-ブテ
ニルオキシ基、ペンテニルオキシ基、プロピニルオキシ
基、アリルオキシメチル基などが挙げられる。
化水素基は、前記アルキル鎖中に１以上のエーテル結合
を有するアルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルコ
キシアルコキシ基などであり、たとえばメトキシ基、エ
トキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオ
キシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチ
ルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキ
シ基、デシルオキシ基、メトキシメチル基、メトキシエ
チエル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、プ
ロポキシプロピル基、エトキシメトキシ基、プロポキシ
エトキシ基などが挙げられる。鎖中にエーテル結合を有
する不飽和脂肪族炭化水素基は、前記アルケニル鎖、ア
ルキニル鎖中に１以上のエーテル結合を有するアルケニ
ルオキシ基、アルキニルオキシ基、アルケニルオキシア
ルキル基などであり、たとえばアリルオキシ基、2-ブテ
ニルオキシ基、ペンテニルオキシ基、プロピニルオキシ
基、アリルオキシメチル基などが挙げられる。
【００２０】さらに飽和または不飽和のフッ素置換脂肪
族炭化水素基は、前記飽和または不飽和の脂肪族炭化水
素基またはエーテル結合を有する飽和または不飽和脂肪
族炭化水素基の鎖中にフッ素原子を有するフルオロアル
キル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルコキシ
基、フルオロアルコキシアルキル基、フルオロアルケニ
ルオキシ基などであり、たとえばフルオロメチル基、ジ
フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエ
チル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、
パーフルオロエチル基、２,２−ジフルオロビニル基、
４−フルオロ−３−ブテニル基、４,４−ジフルオロ−
３−ブテニル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメト
キシ基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキ
シメチル基、３−フルオロ−１−プロペニルオキシ基な
どが挙げられる。
族炭化水素基は、前記飽和または不飽和の脂肪族炭化水
素基またはエーテル結合を有する飽和または不飽和脂肪
族炭化水素基の鎖中にフッ素原子を有するフルオロアル
キル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルコキシ
基、フルオロアルコキシアルキル基、フルオロアルケニ
ルオキシ基などであり、たとえばフルオロメチル基、ジ
フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエ
チル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、
パーフルオロエチル基、２,２−ジフルオロビニル基、
４−フルオロ−３−ブテニル基、４,４−ジフルオロ−
３−ブテニル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメト
キシ基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキ
シメチル基、３−フルオロ−１−プロペニルオキシ基な
どが挙げられる。
【００２１】一般式(１)で表されるプロピオロニトリル
誘導体は、式中のn1およびn2が共に０である下記一般式
(1a)で表わされる２環化合物、n1が１、n2が０である下
記一般式(1b)で表わされる３環化合物、ならびにn1およ
びn2が共に１である下記一般式(1c)で表わされる４環化
合物に大別できる。一般式(1a)、(1b)および(1c)中、A
1、A2、A3、Z1、Z2、Z3、Ｒ、X1およびX2は前記と同じ
意味を表わす。
誘導体は、式中のn1およびn2が共に０である下記一般式
(1a)で表わされる２環化合物、n1が１、n2が０である下
記一般式(1b)で表わされる３環化合物、ならびにn1およ
びn2が共に１である下記一般式(1c)で表わされる４環化
合物に大別できる。一般式(1a)、(1b)および(1c)中、A
1、A2、A3、Z1、Z2、Z3、Ｒ、X1およびX2は前記と同じ
意味を表わす。
【００２２】
【化７】
【００２３】一般式(1a)で表わされる２環化合物は、プ
ロピオロニトリル誘導体の中でもその液晶温度レンジを
室温付近に持ち、粘度が低く、また液晶組成物の構成成
分とした場合、結晶が析出しにくい優れた材料である。
さらに２環化合物を用いた液晶ディスプレイは他の、よ
り環数の大きな化合物を用いた場合より速い応答速度で
表示を行うことができる。２環化合物のより具体的な例
を、式(1a-1)〜(1a-28)に示す。式中、Ｒは前記と同じ
意味を表わし、Alkylは炭素数１〜１０のアルキル基、A
lkenylは炭素数２〜１０のアルケニル基、(F)はＦまた
はＨを表わす。
ロピオロニトリル誘導体の中でもその液晶温度レンジを
室温付近に持ち、粘度が低く、また液晶組成物の構成成
分とした場合、結晶が析出しにくい優れた材料である。
さらに２環化合物を用いた液晶ディスプレイは他の、よ
り環数の大きな化合物を用いた場合より速い応答速度で
表示を行うことができる。２環化合物のより具体的な例
を、式(1a-1)〜(1a-28)に示す。式中、Ｒは前記と同じ
意味を表わし、Alkylは炭素数１〜１０のアルキル基、A
lkenylは炭素数２〜１０のアルケニル基、(F)はＦまた
はＨを表わす。
【００２４】
【化８】
【００２５】
【化９】
【００２６】一般式(1b)で表わされる３環化合物は、高
い透明点を有し、他の液晶性等号物と良好な相溶性を有
し、液晶組成物の良好な急峻性を得るために必要な大き
な弾性定数比を有する。３環化合物のより具体的な例
を、式(1b-1)〜(1b-81)に示す。式中、Ｒ、Alkyl、Alke
nylおよび(F)は前記と同じ意味を表わす。
い透明点を有し、他の液晶性等号物と良好な相溶性を有
し、液晶組成物の良好な急峻性を得るために必要な大き
な弾性定数比を有する。３環化合物のより具体的な例
を、式(1b-1)〜(1b-81)に示す。式中、Ｒ、Alkyl、Alke
nylおよび(F)は前記と同じ意味を表わす。
【００２７】
【化１０】
【００２８】
【化１１】
【００２９】
【化１２】
【００３０】
【化１３】
【００３１】
【化１４】
【００３２】一般式(1c)で表わされる４環化合物は、い
ずれも非常に高い透明点を有し、大きな弾性定数比を有
し、比較的大きな光学異方性値を示すので組成物の構成
成分として極めて重要である。４環化合物のより具体的
な例を、式(1c-1)〜(1c-33)に示す。式中、A1、A2、A
3、Alkyl、Alkenyl、Ｒおよび(F)は前記と同じ意味を表
わす。
ずれも非常に高い透明点を有し、大きな弾性定数比を有
し、比較的大きな光学異方性値を示すので組成物の構成
成分として極めて重要である。４環化合物のより具体的
な例を、式(1c-1)〜(1c-33)に示す。式中、A1、A2、A
3、Alkyl、Alkenyl、Ｒおよび(F)は前記と同じ意味を表
わす。
【００３３】
【化１５】
【００３４】
【化１６】
【００３５】
【化１７】
【００３６】また、一般式(１)中の分子構成要素のうち
環A1、A2およびA3の選択と組合わせ、連結基Z1、Z2およ
びZ3の選択と組合わせ、末端基Ｒおよびプロピオロニト
リル基の結合するフェニル環の置換基X1およびX2を選択
してプロピオロニトリル誘導体の物性値を所望の値に調
整することができるので、良好な特性を有する液晶組成
物の成分として好適に使用することができる。
環A1、A2およびA3の選択と組合わせ、連結基Z1、Z2およ
びZ3の選択と組合わせ、末端基Ｒおよびプロピオロニト
リル基の結合するフェニル環の置換基X1およびX2を選択
してプロピオロニトリル誘導体の物性値を所望の値に調
整することができるので、良好な特性を有する液晶組成
物の成分として好適に使用することができる。
【００３７】一般式(１)中、末端基Ｒがアルキル基また
はアルケニル基である前記例示した式1a-1〜5および15
〜19、1b-1〜5、16〜20および31〜34、ならびに1c-1〜1
3で表される化合物は、いずれも高い透明点、大きな弾
性定数比、大きな誘電異方性、大きな光学異方性値を有
し、液晶材料の構成要素として優れている。特に1a-3〜
5および17〜19、1b-3〜5、18〜20、33および34、ならび
に1c-3、4、7、8、11および12の化合物は大きな弾性定
および低い粘度を有していてＳＴＮ方式の表示材料とし
て有用である。
はアルケニル基である前記例示した式1a-1〜5および15
〜19、1b-1〜5、16〜20および31〜34、ならびに1c-1〜1
3で表される化合物は、いずれも高い透明点、大きな弾
性定数比、大きな誘電異方性、大きな光学異方性値を有
し、液晶材料の構成要素として優れている。特に1a-3〜
5および17〜19、1b-3〜5、18〜20、33および34、ならび
に1c-3、4、7、8、11および12の化合物は大きな弾性定
および低い粘度を有していてＳＴＮ方式の表示材料とし
て有用である。
【００３８】また、一般式(１)中、連結基Z1、Z2および
Z3のいずれかにエチレン基、１,４−ブチレン基または
１,４−ブテニレン基を含む前記例示した式1a-7、11、1
2、21、25および26、1b-6、10、11、21、25、26、36、4
0、41、47、53、54、56、60、61、65、71、72、74、78
および79、ならびに1c-15、19、20、26、32および33で
示される化合物は、いずれも高い相溶性と液晶表示に応
用する際に好ましい広いネマチック液晶相を有するので
有用である。
Z3のいずれかにエチレン基、１,４−ブチレン基または
１,４−ブテニレン基を含む前記例示した式1a-7、11、1
2、21、25および26、1b-6、10、11、21、25、26、36、4
0、41、47、53、54、56、60、61、65、71、72、74、78
および79、ならびに1c-15、19、20、26、32および33で
示される化合物は、いずれも高い相溶性と液晶表示に応
用する際に好ましい広いネマチック液晶相を有するので
有用である。
【００３９】一般式(１)中、高度に共役した部分構造を
有する化合物である前記例示した式1a-6、8、15〜19、2
0、22および26、1b-5、7、16〜20、22、26、30、31〜4
3、45、46、48、55、57、64、66および73〜81、ならび
に1c-5〜12、14、16、25、27で示される化合物は広い液
晶温度レンジと特に大きな光学異方性値を有し、セル厚
を薄くしたディスプレイ用の液晶材料として有用であ
る。特に1a-20および22、ならびに1b-20、22、35、37、
55、73および75は比類なく大きな光学異方性の値を有
し、高分子分散型液晶表示素子に用いられる材料の構成
要素としても有用である。
有する化合物である前記例示した式1a-6、8、15〜19、2
0、22および26、1b-5、7、16〜20、22、26、30、31〜4
3、45、46、48、55、57、64、66および73〜81、ならび
に1c-5〜12、14、16、25、27で示される化合物は広い液
晶温度レンジと特に大きな光学異方性値を有し、セル厚
を薄くしたディスプレイ用の液晶材料として有用であ
る。特に1a-20および22、ならびに1b-20、22、35、37、
55、73および75は比類なく大きな光学異方性の値を有
し、高分子分散型液晶表示素子に用いられる材料の構成
要素としても有用である。
【００４０】一般式(１)中、連結基Z1、Z2およびZ3のい
ずれかにオキシカルボニル基またはカルボニルオキシ基
を含むか、または環A1、A2およびA3のいずれかが１,３
−ジオキサン−２,５−ジイルまたは１,３−ピリミジン
−２,５−ジイルである前記例示した式1a-13、14、27お
よび28、1b-12、13、14、15、27、28、29、30、42、4
3、44、45、51、52、58、59、62、63、69、70、76、7
7、80および81、ならびに1c-12〜13、21、22、23、24で
示されるエステル誘導体、ピリミジン誘導体、ジオキサ
ン誘導体は特に大きな誘電異方性の値を有し、低電圧駆
動ディスプレイ用の液晶材料として優れている。さらに
シクロヘキサン環をその骨格に含む前記例示した式1a-1
〜14、1b-1〜30および46〜72、ならびに1c-1〜13は液晶
温度レンジが広く他の液晶との相溶性に優れている。
ずれかにオキシカルボニル基またはカルボニルオキシ基
を含むか、または環A1、A2およびA3のいずれかが１,３
−ジオキサン−２,５−ジイルまたは１,３−ピリミジン
−２,５−ジイルである前記例示した式1a-13、14、27お
よび28、1b-12、13、14、15、27、28、29、30、42、4
3、44、45、51、52、58、59、62、63、69、70、76、7
7、80および81、ならびに1c-12〜13、21、22、23、24で
示されるエステル誘導体、ピリミジン誘導体、ジオキサ
ン誘導体は特に大きな誘電異方性の値を有し、低電圧駆
動ディスプレイ用の液晶材料として優れている。さらに
シクロヘキサン環をその骨格に含む前記例示した式1a-1
〜14、1b-1〜30および46〜72、ならびに1c-1〜13は液晶
温度レンジが広く他の液晶との相溶性に優れている。
【００４１】一般式(１)で表わされるプロピオロニトリ
ル誘導体は、プロピオロニトリル基が結合するフェニル
環のプロピオロニトリル基に隣接位の炭素の一方または
両方をＦで置換することができ、このようなフッ素含有
化合物は誘電異方性値が大きいのでＳＴＮ用の液晶組成
物の構成要素としてその駆動電圧を低く設定する目的で
有用である。フェニル環がフッ素原子で置換されていな
い化合物はフッ素含有化合物に比較して高い透明点を液
晶組成物に持たせることができる。
ル誘導体は、プロピオロニトリル基が結合するフェニル
環のプロピオロニトリル基に隣接位の炭素の一方または
両方をＦで置換することができ、このようなフッ素含有
化合物は誘電異方性値が大きいのでＳＴＮ用の液晶組成
物の構成要素としてその駆動電圧を低く設定する目的で
有用である。フェニル環がフッ素原子で置換されていな
い化合物はフッ素含有化合物に比較して高い透明点を液
晶組成物に持たせることができる。
【００４２】本発明の一般式(１)で表されるプロピオロ
ニトリル誘導体は、下記Ａ〜Ｃに示すいずれかの方法で
合成することができる。 A−1．一般式(１)中のZ1、Z2およびZ3がいずれもエステ
ル結合 (カルボニルオキシ基またはオキシカルボニル基)ではな
い場合；一般式(１)中のZ1、Z2およびZ3がそれぞれ独立
して単結合、エチレン基、エテニレン基、エチニレン
基、メチレンオキシ基、オキシメチレン基、１,４−ブ
チレン基または１,４−ブテニレン基であり；n1、n2、
R、A1、A2、A3、X1およびX2は前記と同じ意味を表すプ
ロピオロニトリル誘導体は、下記一般式(4)で表され、
式中のX3がCl、BrまたはＩであり、n1、n2、R、A1、A
2、A3、Z1、Z2、Z3、X1およびX2は前記と同じ意味を表
すハロゲン化エチニレンをシアノ化剤を用いてシアノ化
することによって得られる。
ニトリル誘導体は、下記Ａ〜Ｃに示すいずれかの方法で
合成することができる。 A−1．一般式(１)中のZ1、Z2およびZ3がいずれもエステ
ル結合 (カルボニルオキシ基またはオキシカルボニル基)ではな
い場合；一般式(１)中のZ1、Z2およびZ3がそれぞれ独立
して単結合、エチレン基、エテニレン基、エチニレン
基、メチレンオキシ基、オキシメチレン基、１,４−ブ
チレン基または１,４−ブテニレン基であり；n1、n2、
R、A1、A2、A3、X1およびX2は前記と同じ意味を表すプ
ロピオロニトリル誘導体は、下記一般式(4)で表され、
式中のX3がCl、BrまたはＩであり、n1、n2、R、A1、A
2、A3、Z1、Z2、Z3、X1およびX2は前記と同じ意味を表
すハロゲン化エチニレンをシアノ化剤を用いてシアノ化
することによって得られる。
【００４３】
【化１８】
【００４４】この反応は通常非プロトン性極性溶媒中、
シアノ化剤として金属シアン化物、好ましくはシアン化
ナトリウム、シアン化銅、シアン化カリウムなどを用い
て行われる。金属シアン化物の使用量は基質に対して１
当量ないし大過剰の範囲であるが、後処理を考慮すると
１〜３当量の範囲が好ましい。非プロトン性極性溶媒と
してはテトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ア
セトニトリル、アセトン、ジオキサン、Ｎ−メチルピロ
リドン等が好ましく、特にテトラヒドロフラン、ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンが好収率が得ら
れるので好ましい。本反応の反応温度は室温から選択す
る溶媒の沸点の領域から選択されるが、反応が速やかに
進行する点で、溶媒の沸点近傍が好ましい。また本反応
は反応を速やかに進行せしめ、収率を上昇させる目的で
添加物を加えることもできる。添加物としては、臭化リ
チウム、塩化リチウム、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリ
ウム等の塩類が好ましく、添加物の添加量は反応基質の
１〜２００モル％の範囲から選択される。
シアノ化剤として金属シアン化物、好ましくはシアン化
ナトリウム、シアン化銅、シアン化カリウムなどを用い
て行われる。金属シアン化物の使用量は基質に対して１
当量ないし大過剰の範囲であるが、後処理を考慮すると
１〜３当量の範囲が好ましい。非プロトン性極性溶媒と
してはテトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ア
セトニトリル、アセトン、ジオキサン、Ｎ−メチルピロ
リドン等が好ましく、特にテトラヒドロフラン、ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンが好収率が得ら
れるので好ましい。本反応の反応温度は室温から選択す
る溶媒の沸点の領域から選択されるが、反応が速やかに
進行する点で、溶媒の沸点近傍が好ましい。また本反応
は反応を速やかに進行せしめ、収率を上昇させる目的で
添加物を加えることもできる。添加物としては、臭化リ
チウム、塩化リチウム、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリ
ウム等の塩類が好ましく、添加物の添加量は反応基質の
１〜２００モル％の範囲から選択される。
【００４５】本反応における原料物質である一般式(４)
で表されるハロゲン化エチニレンは、DE4027458号明細
書に記載の方法または下記反応式（式中、Z1、Z2、Z3、
n1、n2、Ｒ、A1、A2、A3、X1およびX2は前記と同じ意味
を表す）に示す方法を用いて、反応式中に一般式(５)で
表されるアルデヒド化合物から容易に合成することがで
きる。
で表されるハロゲン化エチニレンは、DE4027458号明細
書に記載の方法または下記反応式（式中、Z1、Z2、Z3、
n1、n2、Ｒ、A1、A2、A3、X1およびX2は前記と同じ意味
を表す）に示す方法を用いて、反応式中に一般式(５)で
表されるアルデヒド化合物から容易に合成することがで
きる。
【００４６】
【化１９】
【００４７】A−2．一般式(１)中のZ1、Z2およびZ3のい
ずれかがエステル結合 (カルボニルオキシ基またはオキシカルボニル基)である
場合；前記一般式(１)で表され、式中のZ1、Z2およびZ3
のいずれかがカルボニルオキシ基またはオキシカルボニ
ル基であり、他がそれぞれ独立して単結合、エチレン
基、エテニレン基、エチニレン基、メチレンオキシ基、
オキシメチレン基、１,４−ブチレン基または１,４−ブ
テニレン基であるプロピオロニトリル誘導体は、下記一
般式(６)で表されるカルボン酸化合物と一般式(７)で表
されるアルコール化合物とのエステル化反応、もしくは
下記一般式(８)で表されるアルコール化合物と一般式
(9)で表されるカルボン酸化合物（一般式(6)〜(9)にお
いて、n′1、n″1、n′2およびn″2は０または１、かつ
n′1＋n″1＝１、n′2＋n″2＝１であり、Ｒ、A1、A2、
A3、X1およびX2は前記と同じ意味を表す）とのエステル
化反応により得られる。このエステル化反応として、最
も一般的なトルエン、キシレン等の反応自体に不活性な
溶媒中、酸触媒の存在下に、共沸によって脱水させなが
ら行う方法、非プロトン性極性溶媒中、塩基の存在下に
ＤＣＣ等の脱水縮合剤を用いる方法などを採用すること
ができ、基質に適した方法を採用する。
ずれかがエステル結合 (カルボニルオキシ基またはオキシカルボニル基)である
場合；前記一般式(１)で表され、式中のZ1、Z2およびZ3
のいずれかがカルボニルオキシ基またはオキシカルボニ
ル基であり、他がそれぞれ独立して単結合、エチレン
基、エテニレン基、エチニレン基、メチレンオキシ基、
オキシメチレン基、１,４−ブチレン基または１,４−ブ
テニレン基であるプロピオロニトリル誘導体は、下記一
般式(６)で表されるカルボン酸化合物と一般式(７)で表
されるアルコール化合物とのエステル化反応、もしくは
下記一般式(８)で表されるアルコール化合物と一般式
(9)で表されるカルボン酸化合物（一般式(6)〜(9)にお
いて、n′1、n″1、n′2およびn″2は０または１、かつ
n′1＋n″1＝１、n′2＋n″2＝１であり、Ｒ、A1、A2、
A3、X1およびX2は前記と同じ意味を表す）とのエステル
化反応により得られる。このエステル化反応として、最
も一般的なトルエン、キシレン等の反応自体に不活性な
溶媒中、酸触媒の存在下に、共沸によって脱水させなが
ら行う方法、非プロトン性極性溶媒中、塩基の存在下に
ＤＣＣ等の脱水縮合剤を用いる方法などを採用すること
ができ、基質に適した方法を採用する。
【００４８】
【化２０】
【００４９】また別法として、前記一般式(６)で表され
るカルボン酸化合物または一般式(９)で表されるカルボ
ン酸化合物を反応に不活性な溶媒中、ハロゲン化チオニ
ル等のハロゲン化剤を用いて下記一般式(10)または(11)
（一般式(10)および(11)において、X4はCl、BrまたはＩ
を表し、n′1、n″1、n′2、n″2、Ｒ、A1、A2、A3、Z
1、Z2、Z3、X1およびX2は前記と同じ意味を表す）で表
される酸ハロゲン化物とした後、それぞれ前記一般式
(７)または一般式(８)で表されるアルコール化合物によ
ってエステル化し合成することもできる。この場合には
反応に不活性な溶媒中、無触媒あるいは塩基の存在下に
脱ハロゲン化水素処理して目的とする一般式(１)で表さ
れるプロピオロニトリル誘導体の１種を得る。
るカルボン酸化合物または一般式(９)で表されるカルボ
ン酸化合物を反応に不活性な溶媒中、ハロゲン化チオニ
ル等のハロゲン化剤を用いて下記一般式(10)または(11)
（一般式(10)および(11)において、X4はCl、BrまたはＩ
を表し、n′1、n″1、n′2、n″2、Ｒ、A1、A2、A3、Z
1、Z2、Z3、X1およびX2は前記と同じ意味を表す）で表
される酸ハロゲン化物とした後、それぞれ前記一般式
(７)または一般式(８)で表されるアルコール化合物によ
ってエステル化し合成することもできる。この場合には
反応に不活性な溶媒中、無触媒あるいは塩基の存在下に
脱ハロゲン化水素処理して目的とする一般式(１)で表さ
れるプロピオロニトリル誘導体の１種を得る。
【００５０】
【化２１】
【００５１】本反応における原料物質である前記一般式
(７)および(９)で表されるアルコール化合物は、後述す
るＣの方法を応用するかあるいはそれ自体公知の方法に
より容易に得られる。一方、前記一般式(６)および(８)
で表されるカルボン酸化合物は、たとえば特表平４−５
０１２７５号公報、特表平４−５０３５２３号公報また
は特開昭５９−１２２４４０号公報に記載の方法によっ
て得られる。
(７)および(９)で表されるアルコール化合物は、後述す
るＣの方法を応用するかあるいはそれ自体公知の方法に
より容易に得られる。一方、前記一般式(６)および(８)
で表されるカルボン酸化合物は、たとえば特表平４−５
０１２７５号公報、特表平４−５０３５２３号公報また
は特開昭５９−１２２４４０号公報に記載の方法によっ
て得られる。
【００５２】Ｂ．一般式(１)において分子内にプロピオ
ロニトリル基以外の不飽和結合を含まない場合；一般式
(１)で表され、式中のZ1、Z2およびZ3がそれぞれ独立し
て単結合、エチレン基、カルボニルオキシ基、オキシカ
ルボニル基、メチレンオキシ基、オキシメチレン基また
は１,４−ブチレン基、かつＲが飽和脂肪族炭化水素
基、酸素含有飽和脂肪族炭化水素基またはフッ素置換飽
和脂肪族炭化水素基であるプロピオロニトリル誘導体
は、下記一般式(12)で表されるシンナムニトリル誘導体
に臭素を反応させて下記一般式(13)で表されるジブロモ
化合物とした後、塩基を用いて脱臭化水素処理すること
により得ることができる（一般式(12)および(13)中にお
いて、n1、n2、A1、A2、A3、X1およびX2は前記と同じ意
味を表す）。一般式(12)で表されるシンナムニトリル誘
導体の一般式(13)で表されるジブロモ化合物への臭素化
反応は、たとえばクロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エチレン、ジクロロメタン等の反応に不活性な溶媒中、
常温下に、シンナムニトリル誘導体に対して１当量以上
の臭素を添加反応させる。前記一般式(13)で表されるジ
ブロモ化合物は、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ト
ルエン、ベンゼン等の反応自体に不活性な溶媒中、ジア
ザビシクロウンデセン、カリウムブトキシド、水素化ナ
トリウム等の塩基をジブロモ化合物に対して１当量以上
添加反応させることによって一般式(１)で表されるプロ
ピオロニトリル誘導体化合物とすることができる。一般
式(12)で表されるシンナムニトリル誘導体は、下記式(1
4)に示すように前記一般式(5)で表されるアルデヒド化
合物を非プロトン性極性溶媒中、ジエチルシアノメチル
ホスホネートと水素化ナトリウムを作用させることによ
って得られる。
ロニトリル基以外の不飽和結合を含まない場合；一般式
(１)で表され、式中のZ1、Z2およびZ3がそれぞれ独立し
て単結合、エチレン基、カルボニルオキシ基、オキシカ
ルボニル基、メチレンオキシ基、オキシメチレン基また
は１,４−ブチレン基、かつＲが飽和脂肪族炭化水素
基、酸素含有飽和脂肪族炭化水素基またはフッ素置換飽
和脂肪族炭化水素基であるプロピオロニトリル誘導体
は、下記一般式(12)で表されるシンナムニトリル誘導体
に臭素を反応させて下記一般式(13)で表されるジブロモ
化合物とした後、塩基を用いて脱臭化水素処理すること
により得ることができる（一般式(12)および(13)中にお
いて、n1、n2、A1、A2、A3、X1およびX2は前記と同じ意
味を表す）。一般式(12)で表されるシンナムニトリル誘
導体の一般式(13)で表されるジブロモ化合物への臭素化
反応は、たとえばクロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エチレン、ジクロロメタン等の反応に不活性な溶媒中、
常温下に、シンナムニトリル誘導体に対して１当量以上
の臭素を添加反応させる。前記一般式(13)で表されるジ
ブロモ化合物は、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ト
ルエン、ベンゼン等の反応自体に不活性な溶媒中、ジア
ザビシクロウンデセン、カリウムブトキシド、水素化ナ
トリウム等の塩基をジブロモ化合物に対して１当量以上
添加反応させることによって一般式(１)で表されるプロ
ピオロニトリル誘導体化合物とすることができる。一般
式(12)で表されるシンナムニトリル誘導体は、下記式(1
4)に示すように前記一般式(5)で表されるアルデヒド化
合物を非プロトン性極性溶媒中、ジエチルシアノメチル
ホスホネートと水素化ナトリウムを作用させることによ
って得られる。
【００５３】
【化２２】
【００５４】Ｃ．分子内に熱的に不安定な部分構造を含
まない場合；下記一般式(15)で表される酸ハロゲン化物
に、シアノメチレントリフェニルホスホランを、たとえ
ばベンゼン、トルエン、モノクロロベンゼン、ニトロベ
ンゼン等の反応に不活性な溶媒中で反応させて、下記一
般式(16)で表されるホスホラン誘導体（一般式(15)およ
び(16)中において、n1、n2、A1、A2、A3、Z1、Z2、Z3、
Ｒ、X1およびX2は前記一般式(１)の定義と同じ意味を表
す）を得た後、これを減圧下、たとえば２００〜３００
℃に加熱して、熱分解することにより一般式(1)で表さ
れるプロピオロニトリル誘導体を得ることができる。本
反応の原料である一般式(15)で表される酸ハロゲン化物
は、前記一般式(５)で示されるアルデヒド誘導体を酸化
して得られたカルボン酸誘導体をハロゲン化チオニル等
のハロゲン化剤と反応させることにより得ることができ
る。
まない場合；下記一般式(15)で表される酸ハロゲン化物
に、シアノメチレントリフェニルホスホランを、たとえ
ばベンゼン、トルエン、モノクロロベンゼン、ニトロベ
ンゼン等の反応に不活性な溶媒中で反応させて、下記一
般式(16)で表されるホスホラン誘導体（一般式(15)およ
び(16)中において、n1、n2、A1、A2、A3、Z1、Z2、Z3、
Ｒ、X1およびX2は前記一般式(１)の定義と同じ意味を表
す）を得た後、これを減圧下、たとえば２００〜３００
℃に加熱して、熱分解することにより一般式(1)で表さ
れるプロピオロニトリル誘導体を得ることができる。本
反応の原料である一般式(15)で表される酸ハロゲン化物
は、前記一般式(５)で示されるアルデヒド誘導体を酸化
して得られたカルボン酸誘導体をハロゲン化チオニル等
のハロゲン化剤と反応させることにより得ることができ
る。
【００５５】
【化２３】
【００５６】本発明のプロピオロニトリル誘導体の具体
例を、表１〜２４に示す。
例を、表１〜２４に示す。
【００５７】
【表１】
【００５８】
【表２】
【００５９】
【表３】
【００６０】
【表４】
【００６１】
【表５】
【００６２】
【表６】
【００６３】
【表７】
【００６４】
【表８】
【００６５】
【表９】
【００６６】
【表１０】
【００６７】
【表１１】
【００６８】
【表１２】
【００６９】
【表１３】
【００７０】
【表１４】
【００７１】
【表１５】
【００７２】
【表１６】
【００７３】
【表１７】
【００７４】
【表１８】
【００７５】
【表１９】
【００７６】
【表２０】
【００７７】
【表２１】
【００７８】
【表２２】
【００７９】
【表２３】
【００８０】
【表２４】
【００８１】本発明の液晶組成物は前記詳述した一般式
(１)で表されるプロピオロニトリル誘導体の少なくとも
１種を含有する少なくとも２成分からなる組成物であ
る。第二成分はプロピオロニトリル誘導体の別の１種で
もよいが、好ましくはプロピオロニトリル誘導体以外の
液晶性化合物の少なくとも１種からなる組成物である。
これらの組成物において前記プロピオロニトリル誘導体
を０.１〜９９.９重量％の割合で含有することが、優良
な特性を発現せしめるために好ましい。
(１)で表されるプロピオロニトリル誘導体の少なくとも
１種を含有する少なくとも２成分からなる組成物であ
る。第二成分はプロピオロニトリル誘導体の別の１種で
もよいが、好ましくはプロピオロニトリル誘導体以外の
液晶性化合物の少なくとも１種からなる組成物である。
これらの組成物において前記プロピオロニトリル誘導体
を０.１〜９９.９重量％の割合で含有することが、優良
な特性を発現せしめるために好ましい。
【００８２】さらに詳しくは、本発明の液晶組成物は、
第一成分として前記一般式(１)で表されるプロピオロニ
トリル誘導体の少なくとも１種を含有し、第二成分とし
て前記一般式(２)で表される化合物群から選択される少
なくとも１種および／または前記一般式(３)で表される
化合物群から選択される少なくとも１種を含有する組成
物である。
第一成分として前記一般式(１)で表されるプロピオロニ
トリル誘導体の少なくとも１種を含有し、第二成分とし
て前記一般式(２)で表される化合物群から選択される少
なくとも１種および／または前記一般式(３)で表される
化合物群から選択される少なくとも１種を含有する組成
物である。
【００８３】一般式(２)で表される化合物は、より具体
的には下記一般式(2a)、(2b)および(2c)（式中、a、Z
4、Z5、Ｒ1、X5および(F)は前記と同じ意味を表す）で
表される液晶性化合物である。
的には下記一般式(2a)、(2b)および(2c)（式中、a、Z
4、Z5、Ｒ1、X5および(F)は前記と同じ意味を表す）で
表される液晶性化合物である。
【００８４】
【化２４】
【００８５】上記一般式(2a)、(2b)および(2c)に含まれ
る化合物の好適な具体例として、それぞれ(2a-1)〜(2a-
15)、(2b-1)〜(2b-48)および(2c-1)〜(2c-55)を挙げる
ことができる。これらの式中においてR1は前記と同じ意
味を表す。
る化合物の好適な具体例として、それぞれ(2a-1)〜(2a-
15)、(2b-1)〜(2b-48)および(2c-1)〜(2c-55)を挙げる
ことができる。これらの式中においてR1は前記と同じ意
味を表す。
【００８６】
【化２５】
【００８７】
【化２６】
【００８８】
【化２７】
【００８９】
【化２８】
【００９０】
【化２９】
【００９１】
【化３０】
【００９２】
【化３１】
【００９３】
【化３２】
【００９４】
【化３３】
【００９５】これらの一般式(2a)〜(2c)で表される化合
物は、誘電率異方性値が正を示し、熱安定性や化学的安
定性が非常に優れている。
物は、誘電率異方性値が正を示し、熱安定性や化学的安
定性が非常に優れている。
【００９６】一般式(３)で表される化合物は、より具体
的には下記一般式(3a)、(3b)、(3c)、(3d)および(3e)で
表すことができる。
的には下記一般式(3a)、(3b)、(3c)、(3d)および(3e)で
表すことができる。
【００９７】
【化３４】
【００９８】前記一般式(3a)において、ｃおよびｅは０
または１、環A8は未置換もしくは末端基−ＣＮが結合し
た炭素原子を４位として３位および／または５位がＦで
置換された１,４−フェニレンまたはトランス−１,４−
シクロヘキシレン、環A6はトランス−１,４−シクロヘ
キシレン、１,４−フェニレンまたは１,３−ジオキサン
−２,５−ジイル、環A7はトランス−１,４−シクロヘキ
シレン、１,４−フェニレンまたは１,３−ピリミジン−
２,５−ジイル、連結基Z7およびZ8はエチレン基、カル
ボニルオキシ基または単結合を表し、末端基R2は炭素数
１〜１０の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数２〜１０の不
飽和脂肪族炭化水素基または鎖中に１以上のエーテル結
合を有する炭素数１〜１０の飽和または不飽和の脂肪族
炭化水素基を表す。一般式(3a)で表されるさらに具体的
な化合物を(3a-1)〜(3a-24)に示す。これらの式中にお
いてR2は上記と同じ意味を表す。
または１、環A8は未置換もしくは末端基−ＣＮが結合し
た炭素原子を４位として３位および／または５位がＦで
置換された１,４−フェニレンまたはトランス−１,４−
シクロヘキシレン、環A6はトランス−１,４−シクロヘ
キシレン、１,４−フェニレンまたは１,３−ジオキサン
−２,５−ジイル、環A7はトランス−１,４−シクロヘキ
シレン、１,４−フェニレンまたは１,３−ピリミジン−
２,５−ジイル、連結基Z7およびZ8はエチレン基、カル
ボニルオキシ基または単結合を表し、末端基R2は炭素数
１〜１０の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数２〜１０の不
飽和脂肪族炭化水素基または鎖中に１以上のエーテル結
合を有する炭素数１〜１０の飽和または不飽和の脂肪族
炭化水素基を表す。一般式(3a)で表されるさらに具体的
な化合物を(3a-1)〜(3a-24)に示す。これらの式中にお
いてR2は上記と同じ意味を表す。
【００９９】
【化３５】
【０１００】
【化３６】
【０１０１】前記一般式(3b)において、ｄは０または
１、R2は炭素数１〜１０のアルキル基、(F)はＦまたは
Ｈを表す。より具体的な化合物を(3b-1)〜(3b-3)に示
す。 これらの式中においてR2は上記と同じ意味を表す。
１、R2は炭素数１〜１０のアルキル基、(F)はＦまたは
Ｈを表す。より具体的な化合物を(3b-1)〜(3b-3)に示
す。 これらの式中においてR2は上記と同じ意味を表す。
【０１０２】
【化３７】
【０１０３】前記一般式(3c)において、ｃ、ｄおよびｅ
は０または１、ただしｃ＋ｄ＋ｅは少なくとも１であ
り、環A6およびA7はそれぞれ独立してトランス−１,４
−シクロヘキシレンまたは１,４−フェニレン、連結基Z
6およびZ7はそれぞれ独立してカルボニルオキシ基また
は単結合、連結基Z8はカルボニルオキシ基またはエチニ
レン基、末端基R2は炭素数１〜１０のアルキル基、末端
基R3は−Ｆ、−OCF3、−OCHF2、−CF3または−CFH2、
(F)はＦまたはＨを表す。ただし末端基R3が−OCF3、−O
CHF2、−CF3または−CFH2の場合、(F)の少なくとも１は
Ｆである。一般式(3c)で表されるより具体的な化合物を
(3c-1)〜(3c-28)に示す。 これらの式中においてR2は上
記と同じ意味を表す。
は０または１、ただしｃ＋ｄ＋ｅは少なくとも１であ
り、環A6およびA7はそれぞれ独立してトランス−１,４
−シクロヘキシレンまたは１,４−フェニレン、連結基Z
6およびZ7はそれぞれ独立してカルボニルオキシ基また
は単結合、連結基Z8はカルボニルオキシ基またはエチニ
レン基、末端基R2は炭素数１〜１０のアルキル基、末端
基R3は−Ｆ、−OCF3、−OCHF2、−CF3または−CFH2、
(F)はＦまたはＨを表す。ただし末端基R3が−OCF3、−O
CHF2、−CF3または−CFH2の場合、(F)の少なくとも１は
Ｆである。一般式(3c)で表されるより具体的な化合物を
(3c-1)〜(3c-28)に示す。 これらの式中においてR2は上
記と同じ意味を表す。
【０１０４】
【化３８】
【０１０５】
【化３９】
【０１０６】前記一般式(3d)において、ｆは０または
１、環A5はトランス−１,４−シクロヘキシレン、１,３
−ピリミジン−２,５−ジイルまたは１,４−フェニレ
ン、環A8はトランス−１,４−シクロヘキシレンまたは
１,４−フェニレンであり、連結基Z6はエチニレン基、
カルボニルオキシ基、エチレン基、１,２−エチニレン
−３,４−エテニレン基または単結合、末端基R2およびR
3はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の飽和脂肪族炭化
水素基、炭素数２〜１０の不飽和脂肪族炭化水素基また
は鎖中に１以上のエーテル結合を有する炭素数１〜１０
の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基を表す。一般式
(3d)で表されるさらに具体的な化合物を(3d-1)〜(3d-8)
に示す。これらの式中においてＲ2は上記と同じ意味を
表す。
１、環A5はトランス−１,４−シクロヘキシレン、１,３
−ピリミジン−２,５−ジイルまたは１,４−フェニレ
ン、環A8はトランス−１,４−シクロヘキシレンまたは
１,４−フェニレンであり、連結基Z6はエチニレン基、
カルボニルオキシ基、エチレン基、１,２−エチニレン
−３,４−エテニレン基または単結合、末端基R2およびR
3はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の飽和脂肪族炭化
水素基、炭素数２〜１０の不飽和脂肪族炭化水素基また
は鎖中に１以上のエーテル結合を有する炭素数１〜１０
の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基を表す。一般式
(3d)で表されるさらに具体的な化合物を(3d-1)〜(3d-8)
に示す。これらの式中においてＲ2は上記と同じ意味を
表す。
【０１０７】
【化４０】
【０１０８】前記一般式(3e)において、ｅは０または
１、環A5はトランス−１,４−シクロヘキシレン、１,４
−フェニレンまたは１,３−ピリミジン-２,５−ジイ
ル、環A6はトランス−１,４−シクロヘキシレン、未置
換もしくは１以上のＦで置換された１,４−フェニレ
ン、または１,３−ピリミジン−２,５−ジイル、環A8は
トランス−１,４−シクロヘキシレンまたは１,４−フェ
ニレンであり、連結基Z6およびZ8はそれぞれ独立してカ
ルボニルオキシ基、エチレンまたは単結合、橋Z7はエテ
ニレン基、エチニレン基、カルボニルオキシ基または単
結合、末端基R2およびR3はそれぞれ独立して炭素数１〜
１０の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数２〜１０の不飽和
脂肪族炭化水素基または鎖中に１以上のエーテル結合を
有する炭素数１〜１０の飽和または不飽和の脂肪族炭化
水素基を表す。一般式(3e)で表されるさらに具体的な化
合物を(3e-1)〜(3e-13)に示す。これらの式中においてR
2は上記と同じ意味を表す。
１、環A5はトランス−１,４−シクロヘキシレン、１,４
−フェニレンまたは１,３−ピリミジン-２,５−ジイ
ル、環A6はトランス−１,４−シクロヘキシレン、未置
換もしくは１以上のＦで置換された１,４−フェニレ
ン、または１,３−ピリミジン−２,５−ジイル、環A8は
トランス−１,４−シクロヘキシレンまたは１,４−フェ
ニレンであり、連結基Z6およびZ8はそれぞれ独立してカ
ルボニルオキシ基、エチレンまたは単結合、橋Z7はエテ
ニレン基、エチニレン基、カルボニルオキシ基または単
結合、末端基R2およびR3はそれぞれ独立して炭素数１〜
１０の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数２〜１０の不飽和
脂肪族炭化水素基または鎖中に１以上のエーテル結合を
有する炭素数１〜１０の飽和または不飽和の脂肪族炭化
水素基を表す。一般式(3e)で表されるさらに具体的な化
合物を(3e-1)〜(3e-13)に示す。これらの式中においてR
2は上記と同じ意味を表す。
【０１０９】
【化４１】
【０１１０】前記一般式(3a）〜(3c)で表される化合物
は、誘電率異方性値が正でその値が大きく、組成物成分
として特にしきい値電圧を小さくする目的で使用され
る。また、粘度の調整、屈折率異方性値の調整および液
晶相温度範囲を広げる等の目的や、さらに急峻性を改良
する目的にも使用される。
は、誘電率異方性値が正でその値が大きく、組成物成分
として特にしきい値電圧を小さくする目的で使用され
る。また、粘度の調整、屈折率異方性値の調整および液
晶相温度範囲を広げる等の目的や、さらに急峻性を改良
する目的にも使用される。
【０１１１】また一般式(3d)および(3e)で表される化合
物は、誘電率異方性値が負かまたは若干正である化合物
である。特に一般式(3d)で表される化合物は、主として
粘度低下および/または屈折率異方性値調整の目的で使
用され、また、一般式(3e)で表される化合物は透明点を
高くする等のネマチックレンジを広げる目的および／ま
たは屈折率異方性値調整の目的で使用される。特にＳＴ
Ｎ表示方式および通常のＴＮ表示方式用の液晶組成物を
調製する場合には、不可欠な化合物である。
物は、誘電率異方性値が負かまたは若干正である化合物
である。特に一般式(3d)で表される化合物は、主として
粘度低下および/または屈折率異方性値調整の目的で使
用され、また、一般式(3e)で表される化合物は透明点を
高くする等のネマチックレンジを広げる目的および／ま
たは屈折率異方性値調整の目的で使用される。特にＳＴ
Ｎ表示方式および通常のＴＮ表示方式用の液晶組成物を
調製する場合には、不可欠な化合物である。
【０１１２】本発明の液晶組成物は、全組成物基準で前
記一般式(１)で表されるプロピオロニトリル誘導体から
選択される少なくとも１種０.１〜９９.９重量％、およ
び一般式(２)で表される化合物から選択される少なくと
も１種１〜９９重量％、好ましくは１０〜９７重量％、
さらに好ましくは４０〜９５重量％を含有する。
記一般式(１)で表されるプロピオロニトリル誘導体から
選択される少なくとも１種０.１〜９９.９重量％、およ
び一般式(２)で表される化合物から選択される少なくと
も１種１〜９９重量％、好ましくは１０〜９７重量％、
さらに好ましくは４０〜９５重量％を含有する。
【０１１３】本発明の別の液晶組成物、たとえば、通常
のＴＮ表示方式及びＳＴＮ表示方式用の液晶組成物の場
合には全組成物基準で前記一般式(1)で表されるプロピ
オロニトリル誘導体から選択される少なくとも１種０.
１〜９９.９重量％、一般式(３)で表される化合物から
選択される少なくとも１種１〜９９重量％、好ましくは
１０〜９７重量％、さらに好ましくは４０〜９５重量％
を含有する。またこの組成物においては一般式(３)で表
される化合物の一部を、一般式(２)で表される化合物と
置き換えてもよい。
のＴＮ表示方式及びＳＴＮ表示方式用の液晶組成物の場
合には全組成物基準で前記一般式(1)で表されるプロピ
オロニトリル誘導体から選択される少なくとも１種０.
１〜９９.９重量％、一般式(３)で表される化合物から
選択される少なくとも１種１〜９９重量％、好ましくは
１０〜９７重量％、さらに好ましくは４０〜９５重量％
を含有する。またこの組成物においては一般式(３)で表
される化合物の一部を、一般式(２)で表される化合物と
置き換えてもよい。
【０１１４】前記本発明の液晶組成物は、さらに、しき
い値電圧、液晶相温度範囲、屈折率異方性値、誘電率異
方性値および粘度等を調整する目的で、公知の化合物を
第三成分として含有することもできる。
い値電圧、液晶相温度範囲、屈折率異方性値、誘電率異
方性値および粘度等を調整する目的で、公知の化合物を
第三成分として含有することもできる。
【０１１５】本発明の液晶組成物をＴＦＴ液晶表示素子
に用いることによって、急峻性および視野角が改善され
る。また一般式(１)で表される化合物は低粘性化合物で
あるので、これを用いた液晶表示素子の応答速度が大幅
に改善される。
に用いることによって、急峻性および視野角が改善され
る。また一般式(１)で表される化合物は低粘性化合物で
あるので、これを用いた液晶表示素子の応答速度が大幅
に改善される。
【０１１６】本発明の液晶組成物は、それ自体慣用な方
法で調製される。一般には、種種の成分を高い温度で互
いに溶解させる方法がとられている。しかし、液晶が溶
解する有機溶媒に溶かし混合したのち、減圧下溶媒を留
去しても良い。
法で調製される。一般には、種種の成分を高い温度で互
いに溶解させる方法がとられている。しかし、液晶が溶
解する有機溶媒に溶かし混合したのち、減圧下溶媒を留
去しても良い。
【０１１７】また、本発明の液晶組成物を液晶表示素子
用の液晶材料として使用する場合、適当な添加物によっ
て意図する用途に応じた改良がなされ、最適化される。
このような添加物は当業者によく知られており、文献等
に詳細に記載されている。通常、液晶のらせん構造を誘
起して、必要なねじれ角を調整し、逆ねじれ(リバース
ツイスト)を防止するキラルドープ剤として、下記式(Ｃ
-1)〜(Ｃ-8)に示すような光学活性化合物が添加され
る。
用の液晶材料として使用する場合、適当な添加物によっ
て意図する用途に応じた改良がなされ、最適化される。
このような添加物は当業者によく知られており、文献等
に詳細に記載されている。通常、液晶のらせん構造を誘
起して、必要なねじれ角を調整し、逆ねじれ(リバース
ツイスト)を防止するキラルドープ剤として、下記式(Ｃ
-1)〜(Ｃ-8)に示すような光学活性化合物が添加され
る。
【０１１８】
【化４２】
【０１１９】また、メロシアニン系、スチリル系、アゾ
系、アゾメチン系、アゾキシ系、キノフタロン系、アン
トラキノン系およびテトラジン系等の二色系色素を添加
してゲストホスト(GH)モード用の液晶組成物として使用
できる。あるいは、ネマチック液晶をマイクロカプセル
化して作成したＮＣＡＰや液晶中に三次元網目状高分子
を作成したポリマーネットワーク液晶表示素子（PNLC
D）に代表されるポリマー分散型液晶表示素子（PDLCD）
用の液晶組成物としても使用できる。そのほか複屈折制
御（ECB）モードや動的散乱（DS）モード用の液晶組成
物としても使用できる。
系、アゾメチン系、アゾキシ系、キノフタロン系、アン
トラキノン系およびテトラジン系等の二色系色素を添加
してゲストホスト(GH)モード用の液晶組成物として使用
できる。あるいは、ネマチック液晶をマイクロカプセル
化して作成したＮＣＡＰや液晶中に三次元網目状高分子
を作成したポリマーネットワーク液晶表示素子（PNLC
D）に代表されるポリマー分散型液晶表示素子（PDLCD）
用の液晶組成物としても使用できる。そのほか複屈折制
御（ECB）モードや動的散乱（DS）モード用の液晶組成
物としても使用できる。
【０１２０】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説
明する。 Ａ．プロピオロニトリル誘導体の合成 実施例１ ３−フルオロ−４−シアノエチニル−１−
（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）ベンゼン
（化合物番号２）の合成 ３−フルオロ−４−エチニル−１−(トランス−４−プ
ロピルシクロヘキシル)ベンゼン１５mmolをテトラヒド
ロフラン５mlに溶解して−７８℃に冷却し、ｎ−ブチル
リチウム３０mmolを滴下した。滴下終了後、反応液をさ
らに２時間撹拌し、ヨウ素２０mmolのテトラヒドロフラ
ン３ml溶液を滴下した。滴下終了後、反応液を室温まで
昇温し、チオ硫酸ナトリウム水溶液に投じた。これをヘ
プタンで抽出し、得られた有機層を水洗した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた
黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用
いて単離精製し、無色結晶を得た。このものは各種機器
分析の結果、３−フルオロ−４−ヨードエチニル−１−
(トランス−４−プロピルシクロヘキシル)ベンゼンであ
ることを確認した。
明する。 Ａ．プロピオロニトリル誘導体の合成 実施例１ ３−フルオロ−４−シアノエチニル−１−
（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）ベンゼン
（化合物番号２）の合成 ３−フルオロ−４−エチニル−１−(トランス−４−プ
ロピルシクロヘキシル)ベンゼン１５mmolをテトラヒド
ロフラン５mlに溶解して−７８℃に冷却し、ｎ−ブチル
リチウム３０mmolを滴下した。滴下終了後、反応液をさ
らに２時間撹拌し、ヨウ素２０mmolのテトラヒドロフラ
ン３ml溶液を滴下した。滴下終了後、反応液を室温まで
昇温し、チオ硫酸ナトリウム水溶液に投じた。これをヘ
プタンで抽出し、得られた有機層を水洗した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた
黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用
いて単離精製し、無色結晶を得た。このものは各種機器
分析の結果、３−フルオロ−４−ヨードエチニル−１−
(トランス−４−プロピルシクロヘキシル)ベンゼンであ
ることを確認した。
【０１２１】得られた３−フルオロ−４−ヨードエチニ
ル−１−(トランス−４−プロピルシクロヘキシル)ベン
ゼン１０mmolをテトラヒドロフラン３mlに溶解し、シア
ン化銅１１mmolおよび臭化リチウム３mmolを加えて加熱
環流下に５時間撹拌した。反応液に塩化第二鉄の６N塩
酸飽和溶液１０mlを加えて室温下に１時間撹拌した。撹
拌終了後、反応液をトルエンで抽出し、有機層を水洗し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮し
た。得られた褐色油状物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで単離精製し、無色油状物を得た。これをエタ
ノールから再結晶して無色結晶を得た。このものは各種
機器分析の結果、表題化合物であることを確認した。上
記と同様の方法により、表１〜２４に示す化合物のう
ち、化合物番号１〜５、１１〜１５、２１〜２９、４１
〜４５、５１〜５５、６１〜６５、７１〜７５、８１〜
８５、９１〜９５、１０１〜１０５、１１１〜１１４、
１２１〜１２５、１３１〜１３５および２２１〜２４０
の化合物を合成することができる。
ル−１−(トランス−４−プロピルシクロヘキシル)ベン
ゼン１０mmolをテトラヒドロフラン３mlに溶解し、シア
ン化銅１１mmolおよび臭化リチウム３mmolを加えて加熱
環流下に５時間撹拌した。反応液に塩化第二鉄の６N塩
酸飽和溶液１０mlを加えて室温下に１時間撹拌した。撹
拌終了後、反応液をトルエンで抽出し、有機層を水洗し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮し
た。得られた褐色油状物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで単離精製し、無色油状物を得た。これをエタ
ノールから再結晶して無色結晶を得た。このものは各種
機器分析の結果、表題化合物であることを確認した。上
記と同様の方法により、表１〜２４に示す化合物のう
ち、化合物番号１〜５、１１〜１５、２１〜２９、４１
〜４５、５１〜５５、６１〜６５、７１〜７５、８１〜
８５、９１〜９５、１０１〜１０５、１１１〜１１４、
１２１〜１２５、１３１〜１３５および２２１〜２４０
の化合物を合成することができる。
【０１２２】実施例２ ３−フルオロ−４−シアノエチ
ニル−１−(４−プロピルフェニル)カルボニルオキシベ
ンゼン（化合物番号１５３）の合成 ３−フルオロ−４−シアノフェノール１００mmolをジメ
チルホルムアミド２００mlに溶解し、溶液を氷冷下撹拌
しながら、ジメチルブチルシリルクロリド１１０mmolお
よびイミダゾール１１０mmolを加え、徐々に室温まで昇
温し、さらに３時間撹拌した。溶液を水に投じ、トルエ
ンで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に濃縮して無色油状物を得た。これを減圧下
に蒸留して、２−フルオロ−４−ジメチルブチルシリル
オキシベンゾニトリル１００mmolを得た。
ニル−１−(４−プロピルフェニル)カルボニルオキシベ
ンゼン（化合物番号１５３）の合成 ３−フルオロ−４−シアノフェノール１００mmolをジメ
チルホルムアミド２００mlに溶解し、溶液を氷冷下撹拌
しながら、ジメチルブチルシリルクロリド１１０mmolお
よびイミダゾール１１０mmolを加え、徐々に室温まで昇
温し、さらに３時間撹拌した。溶液を水に投じ、トルエ
ンで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に濃縮して無色油状物を得た。これを減圧下
に蒸留して、２−フルオロ−４−ジメチルブチルシリル
オキシベンゾニトリル１００mmolを得た。
【０１２３】得られた２−フルオロ−４−ジメチルブチ
ルシリルオキシベンゾニトリル７２mmolをトルエン１０
０mlに溶解し、−７０℃に冷却しながら、水素化ジイソ
ブチルアルミニウムのトルエン溶液（１Ｍ）１００mlを
滴下した。滴下終了後、反応液を同温で１時間撹拌した
後、塩化アンモニウム溶液に投じ、トルエンで抽出し
た。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧
下に濃縮して２−フルオロ−４−ジメチルブチルシリル
オキシベンズアルデヒド２６mmolを黄色油状物として得
た。このものは精製することなく次反応に使用した。得
られた２−フルオロ−４−ジメチルブチルシリルオキシ
ベンズアルデヒド２６mmolを塩化メチレン５０mlに溶解
し、トリフェニルホスフィン１１０mmolおよび四臭化炭
素５２mmolの塩化メチレン溶液を氷冷下に滴下し、さら
に同温で１時間撹拌した。反応液から未溶物を除去し、
減圧下に濃縮して黄色油状物を得た。これをシリカゲル
カラムクロマトを用いて精製し、２−フルオロ−４−ジ
メチルブチルシリルオキシフェニル−２,２−ジブロモ
エチレン２６mmolの無色油状物を得た。
ルシリルオキシベンゾニトリル７２mmolをトルエン１０
０mlに溶解し、−７０℃に冷却しながら、水素化ジイソ
ブチルアルミニウムのトルエン溶液（１Ｍ）１００mlを
滴下した。滴下終了後、反応液を同温で１時間撹拌した
後、塩化アンモニウム溶液に投じ、トルエンで抽出し
た。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧
下に濃縮して２−フルオロ−４−ジメチルブチルシリル
オキシベンズアルデヒド２６mmolを黄色油状物として得
た。このものは精製することなく次反応に使用した。得
られた２−フルオロ−４−ジメチルブチルシリルオキシ
ベンズアルデヒド２６mmolを塩化メチレン５０mlに溶解
し、トリフェニルホスフィン１１０mmolおよび四臭化炭
素５２mmolの塩化メチレン溶液を氷冷下に滴下し、さら
に同温で１時間撹拌した。反応液から未溶物を除去し、
減圧下に濃縮して黄色油状物を得た。これをシリカゲル
カラムクロマトを用いて精製し、２−フルオロ−４−ジ
メチルブチルシリルオキシフェニル−２,２−ジブロモ
エチレン２６mmolの無色油状物を得た。
【０１２４】１−(２−フルオロ−４−ジメチルブチル
シリルオキシフェニル)−２,２−ジブロモエチレン２６
mmolをテトラヒドロフラン５０mlに溶解し、−７０℃に
撹拌しながらｎ−ブチルリチウム（1.6Ｍ）１３４mlを
滴下した。滴下終了後、反応液を３時間撹拌した後、沃
素３０mmolのテトラヒドロフラン溶液１０mlを滴下し、
徐々に室温まで昇温した。撹拌終了後、溶液をチオ硫酸
ナトリウム溶液に投じ、ヘプタンで抽出した。有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮して
を褐色固体を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製して１−(２−フルオロ−４−ジメチル
ブチルシリルオキシフェニル)−２−ヨードエチン２５m
molを黄色固体として得た。１−(２−フルオロ−４−ジ
メチルブチルシリルオキシフェニル)−２−ヨードエチ
ン２５mmolをテトラヒドロフラン５０mlに溶解した後、
シアン化銅およびリチウムブロミドを加えて加熱環流
下、３時間反応させた。反応終了後、溶液を塩化鉄の塩
酸溶液に投じ、トルエンで抽出した。有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮して ２−フ
ルオロ−４−ヒドロキシフェニルプロピオロニトリル２
０mmolを無色固体として得た。
シリルオキシフェニル)−２,２−ジブロモエチレン２６
mmolをテトラヒドロフラン５０mlに溶解し、−７０℃に
撹拌しながらｎ−ブチルリチウム（1.6Ｍ）１３４mlを
滴下した。滴下終了後、反応液を３時間撹拌した後、沃
素３０mmolのテトラヒドロフラン溶液１０mlを滴下し、
徐々に室温まで昇温した。撹拌終了後、溶液をチオ硫酸
ナトリウム溶液に投じ、ヘプタンで抽出した。有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮して
を褐色固体を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製して１−(２−フルオロ−４−ジメチル
ブチルシリルオキシフェニル)−２−ヨードエチン２５m
molを黄色固体として得た。１−(２−フルオロ−４−ジ
メチルブチルシリルオキシフェニル)−２−ヨードエチ
ン２５mmolをテトラヒドロフラン５０mlに溶解した後、
シアン化銅およびリチウムブロミドを加えて加熱環流
下、３時間反応させた。反応終了後、溶液を塩化鉄の塩
酸溶液に投じ、トルエンで抽出した。有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮して ２−フ
ルオロ−４−ヒドロキシフェニルプロピオロニトリル２
０mmolを無色固体として得た。
【０１２５】２−フルオロ−４−ヒドロキシフェニルプ
ロピオロニトリル２０mmolと４−プロピル安息香酸クロ
リド２１mmolとを塩化メチレン５０mlに溶解し、氷冷下
撹拌しながらピリジン２５mmolを滴下し、さらに３時間
撹拌した。反応液に水を加えた後、トルエンで抽出した
。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に濃縮して褐色油状物を得た。これをシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製した後、エタノー
ルから再結晶して表題化合物８mmolを得た。上記と同様
の方法により、表１〜２４に記載の化合物のうち、化合
物番号１４１〜２２０の化合物を合成することができ
る。
ロピオロニトリル２０mmolと４−プロピル安息香酸クロ
リド２１mmolとを塩化メチレン５０mlに溶解し、氷冷下
撹拌しながらピリジン２５mmolを滴下し、さらに３時間
撹拌した。反応液に水を加えた後、トルエンで抽出した
。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に濃縮して褐色油状物を得た。これをシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製した後、エタノー
ルから再結晶して表題化合物８mmolを得た。上記と同様
の方法により、表１〜２４に記載の化合物のうち、化合
物番号１４１〜２２０の化合物を合成することができ
る。
【０１２６】実施例３ ４−〔２−〔トランス−４−
(３−ブテニル)シクロヘキシル〕エチル〕フェニルプロ
ピオロニトリル（化合物番号３２）の合成 ４−〔２−〔トランス−４−(３−ブテニル)シクロヘキ
シル〕エチル〕ベンゾニトリル４２mmolをトルエン１０
０mlに溶解し、氷冷下に撹拌しながら水素化イソブチル
アルミニウムのトルエン溶液(１M)４５mlを滴下した。
反応液を室温でさらに２時間撹拌した後、塩化アンモニ
ウム水溶液に投じ、トルエンで抽出した。有機層を水洗
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮
し、無色油状物として４−〔２−〔トランス−４−(３
−ブテニル)シクロヘキシル〕エチル〕ベンズアルデヒ
ド３５mmolを得た。このものは精製することなく次反応
に使用した。塩化メチレン１００mlに四臭化炭素１０mm
olおよびトリフェニルホスフィン１３８mmolを溶解した
中に、４−〔２−〔トランス−４−(３−ブテニル)シク
ロヘキシル〕エチル〕ベンズアルデヒド３５mmolの塩化
メチレン溶液を滴下した。滴下終了後、反応液を室温下
に３時間撹拌し、反応系から未溶物を除去して濃縮し
た。得られた褐色油状物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、２′,２′−ジブロモ−４−〔２−
〔トランス−４−(３−ブテニル)シクロヘキシル〕エチ
ル〕スチレン３０mmolを無色結晶として得た。
(３−ブテニル)シクロヘキシル〕エチル〕フェニルプロ
ピオロニトリル（化合物番号３２）の合成 ４−〔２−〔トランス−４−(３−ブテニル)シクロヘキ
シル〕エチル〕ベンゾニトリル４２mmolをトルエン１０
０mlに溶解し、氷冷下に撹拌しながら水素化イソブチル
アルミニウムのトルエン溶液(１M)４５mlを滴下した。
反応液を室温でさらに２時間撹拌した後、塩化アンモニ
ウム水溶液に投じ、トルエンで抽出した。有機層を水洗
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮
し、無色油状物として４−〔２−〔トランス−４−(３
−ブテニル)シクロヘキシル〕エチル〕ベンズアルデヒ
ド３５mmolを得た。このものは精製することなく次反応
に使用した。塩化メチレン１００mlに四臭化炭素１０mm
olおよびトリフェニルホスフィン１３８mmolを溶解した
中に、４−〔２−〔トランス−４−(３−ブテニル)シク
ロヘキシル〕エチル〕ベンズアルデヒド３５mmolの塩化
メチレン溶液を滴下した。滴下終了後、反応液を室温下
に３時間撹拌し、反応系から未溶物を除去して濃縮し
た。得られた褐色油状物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、２′,２′−ジブロモ−４−〔２−
〔トランス−４−(３−ブテニル)シクロヘキシル〕エチ
ル〕スチレン３０mmolを無色結晶として得た。
【０１２７】２′,２′−ジブロモ−４−〔２−〔トラ
ンス−４−(３−ブテニル)シクロヘキシル〕エチル〕ス
チレン３０mmolを テトラヒドロフラン１００mlに溶解
し、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（1.6Ｍ）３７.
５mlを氷冷下に滴下した。滴下終了後、反応液にヨウ素
のテトラヒドロフラン溶液を滴下し室温まで徐々に昇温
し、３時間撹拌した。反応終了後、溶液をチオ硫酸ナト
リウム溶液に投じ、へプタンで抽出した。有機層を水洗
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮
して褐色油状物を得た。これをシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製し、２−〔４−〔２−〔トランス−
４−(３−ブテニル)シクロヘキシル〕エチル〕フェニ
ル〕ヨードエチン１８mmolを無色結晶として得た。２−
〔４−〔２−〔トランス−４−(３−ブテニル)シクロヘ
キシル〕エチル〕フェニル〕ヨードエチン１３.７mmol
をテトラヒドロフランに溶解し、臭化リチウム１mmolお
よびシアン化銅２２mmolを加え加熱環流下、５時間反応
させた。反応終了後、溶液を塩化第二鉄の６Ｎ塩酸溶液
に投じ、トルエンで抽出した。有機層を水洗した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して褐色油
状物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで単離精製し、エタノールから再結晶して表題化合物
４.１mmolを得た。上記と同様の方法により、表１〜２
４に記載の化合物のうち、化合物番号６〜１０、１６〜
２０、３１〜３９、４６〜４９、５６〜５９、６６〜６
９、７６〜７９、８６〜９０、９６〜１００、１０６〜
１１０、１１６〜１１９、１２６、１２７、１２９、１
３０、１３６、１３７、１３９および１４０の化合物を
合成することができる。
ンス−４−(３−ブテニル)シクロヘキシル〕エチル〕ス
チレン３０mmolを テトラヒドロフラン１００mlに溶解
し、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（1.6Ｍ）３７.
５mlを氷冷下に滴下した。滴下終了後、反応液にヨウ素
のテトラヒドロフラン溶液を滴下し室温まで徐々に昇温
し、３時間撹拌した。反応終了後、溶液をチオ硫酸ナト
リウム溶液に投じ、へプタンで抽出した。有機層を水洗
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮
して褐色油状物を得た。これをシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製し、２−〔４−〔２−〔トランス−
４−(３−ブテニル)シクロヘキシル〕エチル〕フェニ
ル〕ヨードエチン１８mmolを無色結晶として得た。２−
〔４−〔２−〔トランス−４−(３−ブテニル)シクロヘ
キシル〕エチル〕フェニル〕ヨードエチン１３.７mmol
をテトラヒドロフランに溶解し、臭化リチウム１mmolお
よびシアン化銅２２mmolを加え加熱環流下、５時間反応
させた。反応終了後、溶液を塩化第二鉄の６Ｎ塩酸溶液
に投じ、トルエンで抽出した。有機層を水洗した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して褐色油
状物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで単離精製し、エタノールから再結晶して表題化合物
４.１mmolを得た。上記と同様の方法により、表１〜２
４に記載の化合物のうち、化合物番号６〜１０、１６〜
２０、３１〜３９、４６〜４９、５６〜５９、６６〜６
９、７６〜７９、８６〜９０、９６〜１００、１０６〜
１１０、１１６〜１１９、１２６、１２７、１２９、１
３０、１３６、１３７、１３９および１４０の化合物を
合成することができる。
【０１２８】実施例４ ３−フルオロ−４−〔２−(４
−プロピルフェニル)エチニル〕フェニルプロピオロニ
トリル（化合物番号３０）の合成 ３−フルオロ−４−ブロモヨードベンゼン３３mmol、ヨ
ウ化銅０.６mmolおよびジクロロビストリフェニルホス
フィンパラジウム１.１mmolをジエチルアミン１００ml
に溶解し、アルゴン気流下に撹拌しながら４−プロピル
フェニルアセチレン３３mmolを滴下した。滴下終了後、
さらに室温で２時間撹拌し、水中に投じた。これをへプ
タンで抽出した後、水洗し、減圧下に濃縮して褐色油状
物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で単離精製し、２−フルオロ−４−〔２−(４−プロピ
ルフェニル)エチニル〕ブロモベンゼン３３mmolを淡黄
色油状物として得た。２−フルオロ−４−〔２−(４−
プロピルフェニル)エチニル〕ブロモベンゼン３３mmo
l、ヨウ化銅１.２mmolおよびジクロロビストリフェニル
ホスフィンパラジウム１.２mmolをジエチルアミン１０
０mlに溶解し、アルゴン気流下に撹拌した。反応液にト
リメチルシリルアセチレン５０mmolのジエチルアミン溶
液２０mlを滴下し、室温下に５時間撹拌した。撹拌終了
後、反応液に水を加え、ヘプタンで抽出した。有機層を
水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に
濃縮して褐色油状物を得た。これをシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーを用いて単離精製し、１−〔２−フル
オロ−４−〔２−(４−プロピルフェニル)エチニル〕フ
ェニル〕−２−トリメチルシリルアセチレン７ｇを無色
固体として得た。
−プロピルフェニル)エチニル〕フェニルプロピオロニ
トリル（化合物番号３０）の合成 ３−フルオロ−４−ブロモヨードベンゼン３３mmol、ヨ
ウ化銅０.６mmolおよびジクロロビストリフェニルホス
フィンパラジウム１.１mmolをジエチルアミン１００ml
に溶解し、アルゴン気流下に撹拌しながら４−プロピル
フェニルアセチレン３３mmolを滴下した。滴下終了後、
さらに室温で２時間撹拌し、水中に投じた。これをへプ
タンで抽出した後、水洗し、減圧下に濃縮して褐色油状
物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で単離精製し、２−フルオロ−４−〔２−(４−プロピ
ルフェニル)エチニル〕ブロモベンゼン３３mmolを淡黄
色油状物として得た。２−フルオロ−４−〔２−(４−
プロピルフェニル)エチニル〕ブロモベンゼン３３mmo
l、ヨウ化銅１.２mmolおよびジクロロビストリフェニル
ホスフィンパラジウム１.２mmolをジエチルアミン１０
０mlに溶解し、アルゴン気流下に撹拌した。反応液にト
リメチルシリルアセチレン５０mmolのジエチルアミン溶
液２０mlを滴下し、室温下に５時間撹拌した。撹拌終了
後、反応液に水を加え、ヘプタンで抽出した。有機層を
水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に
濃縮して褐色油状物を得た。これをシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーを用いて単離精製し、１−〔２−フル
オロ−４−〔２−(４−プロピルフェニル)エチニル〕フ
ェニル〕−２−トリメチルシリルアセチレン７ｇを無色
固体として得た。
【０１２９】１−〔２−フルオロ−４−〔２−(４−プ
ロピルフェニル)エチニル〕フェニル〕−２−トリメチ
ルシリルアセチレン２２mmolおよび水酸化カリウム１０
ｇをエタノール１００mlおよび水１０mlに溶解し、４０
℃に撹拌しながら６時間撹拌した。撹拌終了後、反応液
を希塩酸に投じ、トルエンで抽出した。有機層を水洗し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮し
て、褐色油状物を得た。これをシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーを用いて単離精製し、２−フルオロ−４−
〔２−(４−プロピルフェニル)エチニル〕フェニルアセ
チレン５.７ｇを無色固体として得た。２−フルオロ−
４−〔２−(４−プロピルフェニル)エチニル〕フェニル
アセチレン２２mmolをテトラヒドロフラン５０mlに溶解
し−７８℃で撹拌しながらｎ−ブチルリチウム（1.6
Ｍ）３０mlを滴下した。滴下終了後、反応液を２時間撹
拌し、ヨウ素２８mmolのテトラヒドロフラン溶液５０ml
を滴下し、室温まで昇温した後、チオ硫酸ナトリウム溶
液に投じ、ヘプタンで抽出した。有機層を水洗した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して褐色
油状物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで単離精製して１−〔２−フルオロ−４−〔２−
(４−プロピルフェニル)エチニル〕フェニル〕−２−ヨ
ードアセチレン２２mmolを黄色結晶として得た。１−
〔２−フルオロ−４−〔２−(４−プロピルフェニル)エ
チニル〕フェニル〕−２−ヨードアセチレン２２mmol、
臭化リチウム２ｇおよびシアン化銅５６mmolをテトラヒ
ドロフラン１００mlに溶解し、加熱還流下、５時間撹拌
した。反応終了後、反応液を塩化第二鉄の6N塩酸溶液に
投じ、トルエンで抽出した。有機層を水洗した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して褐色油状
物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
を用いて単離精製し、エタノールから再結晶して表題化
合物０.６ｇを無色結晶として得た。上記と同様の方法
により、表１〜２４に記載の化合物のうち、化合物番号
３０、４０、５０、６０、７０、８０、１１５、１２
０、１２８および１３８の化合物を合成することができ
る。
ロピルフェニル)エチニル〕フェニル〕−２−トリメチ
ルシリルアセチレン２２mmolおよび水酸化カリウム１０
ｇをエタノール１００mlおよび水１０mlに溶解し、４０
℃に撹拌しながら６時間撹拌した。撹拌終了後、反応液
を希塩酸に投じ、トルエンで抽出した。有機層を水洗し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮し
て、褐色油状物を得た。これをシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーを用いて単離精製し、２−フルオロ−４−
〔２−(４−プロピルフェニル)エチニル〕フェニルアセ
チレン５.７ｇを無色固体として得た。２−フルオロ−
４−〔２−(４−プロピルフェニル)エチニル〕フェニル
アセチレン２２mmolをテトラヒドロフラン５０mlに溶解
し−７８℃で撹拌しながらｎ−ブチルリチウム（1.6
Ｍ）３０mlを滴下した。滴下終了後、反応液を２時間撹
拌し、ヨウ素２８mmolのテトラヒドロフラン溶液５０ml
を滴下し、室温まで昇温した後、チオ硫酸ナトリウム溶
液に投じ、ヘプタンで抽出した。有機層を水洗した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して褐色
油状物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで単離精製して１−〔２−フルオロ−４−〔２−
(４−プロピルフェニル)エチニル〕フェニル〕−２−ヨ
ードアセチレン２２mmolを黄色結晶として得た。１−
〔２−フルオロ−４−〔２−(４−プロピルフェニル)エ
チニル〕フェニル〕−２−ヨードアセチレン２２mmol、
臭化リチウム２ｇおよびシアン化銅５６mmolをテトラヒ
ドロフラン１００mlに溶解し、加熱還流下、５時間撹拌
した。反応終了後、反応液を塩化第二鉄の6N塩酸溶液に
投じ、トルエンで抽出した。有機層を水洗した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して褐色油状
物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
を用いて単離精製し、エタノールから再結晶して表題化
合物０.６ｇを無色結晶として得た。上記と同様の方法
により、表１〜２４に記載の化合物のうち、化合物番号
３０、４０、５０、６０、７０、８０、１１５、１２
０、１２８および１３８の化合物を合成することができ
る。
【０１３０】Ｂ．液晶組成物 本発明のプロピオロニトリル誘導体を含有する液晶組成
物のネマチック相転移温度(ＴNI)、２０℃における粘度
(η20)、２５℃における屈折率異方性(Δｎ)２５℃にお
ける誘電率異方性(Δε)およびしきい値電圧(Ｖth)を測
定した実施例を以下に示す。
物のネマチック相転移温度(ＴNI)、２０℃における粘度
(η20)、２５℃における屈折率異方性(Δｎ)２５℃にお
ける誘電率異方性(Δε)およびしきい値電圧(Ｖth)を測
定した実施例を以下に示す。
【０１３１】実施例中、化合物の化学構造を下記の略号
を用いて表すが、末端基がアルキル基の場合には炭素数
のみを表示した。 Hx：トランス−１,４−シクロヘキシレン Be：１,４−フェニレン Be(F)およびBe(F,F)：3位F置換および3,5位F置換１,４
−フェニレン Py：１,３−ピリミジン−２,５−ジイル Do：１,３−ジオキサン−２,５−ジイル Tr：エチニレン基
を用いて表すが、末端基がアルキル基の場合には炭素数
のみを表示した。 Hx：トランス−１,４−シクロヘキシレン Be：１,４−フェニレン Be(F)およびBe(F,F)：3位F置換および3,5位F置換１,４
−フェニレン Py：１,３−ピリミジン−２,５−ジイル Do：１,３−ジオキサン−２,５−ジイル Tr：エチニレン基
【０１３２】実施例５ 3-Hx-Be(F)-Tr-CN(化合物No.2) 17.0％ 3-Hx-Be-CN 15.0％ 3-Hx-Be-OC2H5 5.0％ 3-Hx-Hx-4 11.0％ 3-Hx-Hx-5 5.0％ 5-Hx-Hx-2 4.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 10.0％ 3-Hx-Hx-Be-3 16.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-2 5.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-2 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-4 4.0％ ＴNI＝104.8〔℃〕 η＝14.0〔mPa・s〕 Δｎ＝0.137 Δε＝7.8 Ｖth＝2.23〔V〕
【０１３３】実施例６ 3-Hx-Be(F)-Tr-CN(化合物No.2) 15.0％ CH3CH=CHC2H4-Be-COO-Be(F,F)-CN 3.0％ 3-Hx-Be-CN 14.0％ 3-Hx-Be-OC2H5 7.0％ 3-Hx-Hx-4 11.0％ 3-Hx-Hx-5 5.0％ 5-Hx-Hx-2 4.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 10.0％ 3-Hx-Hx-Be-3 16.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-2 3.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-2 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-4 4.0％ ＴNI＝100.2〔℃〕 η＝14.7〔mPa・s〕 Δｎ＝0.132 Δε＝8.8 Ｖth＝2.13〔V〕
【０１３４】実施例７ CH2=CHC2H4-Hx-Be-Tr-CN(化合物No.7) 10.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-CN (化合物No.2) 9.0％ CH2=CHC2H4-Hx-Be-CN 10.0％ CH3CH=CHC2H4-Hx-Be-CN 13.0％ 3-Hx-Hx-4 11.0％ 3-Hx-Hx-5 10.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 10.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-2 7.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-3 7.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-4 7.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 6.0％ ＴNI＝111.7〔℃〕 η＝15.6〔mPa・s〕 Δｎ＝0.164 Δε＝8.1 Ｖth＝2.20〔V〕
【０１３５】実施例８ CH2=CHC2H4-Hx-Be(F,F)-Tr-CN(化合物No.8) 8.0％ 3-Hx-Be-CN 20.0％ CH2=CHC2H4-Hx-Be-CN 9.0％ 3-Hx-Hx-4 9.0％ 2-Be-Tr-Be-1 10.0％ 2-Be-Tr-Be-3 8.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 8.0％ 3-Hx-Hx-Be-OCH3 5.0％ 3-Hx-Hx-Be-F 4.0％ 3-Hx-Hx-Be-3 7.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-2 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-4 4.0％ ＴNI＝81.3〔℃〕 η＝13.1〔mPa・s〕 Δｎ＝0.155 Δε＝7.1 Ｖth＝1.96〔V〕
【０１３６】実施例９ 3-Be-COO-Be(F)-Tr-CN (化合物No.153) 12.0％ 3-Hx-Be-COO-Be(F)-Tr-CN (化合物No.162) 8.0％ C3H7OCH2-Be-COO-Be(F)-CN 12.0％ 2-Hx-Be-CN 12.0％ 3-Hx-Be-CN 19.0％ 3-Hx-Be-OC2H5 7.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 7.0％ 3-Hx-Hx-Be-OCH3 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-2 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 3.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-4 3.0％ 2-Hx-Hx-Be-CN 4.0％ 3-Hx-Hx-Be-CN 5.0％ ＴNI＝91.4〔℃〕 η＝33.7〔mPa・s〕 Δｎ＝0.163 Δε＝20.9 Ｖth＝1.13〔V〕
【０１３７】実施例１０ 3-Be-Tr-Be(F)-Tr-CN(化合物No.30) 10.0％ 3-Hx-Be-CN 20.0％ 1-Be-Tr-Be-3 8.0％ 2-Be-Tr-Be-1 10.0％ 2-Be-Tr-Be-OCH3 1.6％ 3-Be-Tr-Be-OCH3 1.6％ 4-Be-Tr-Be-OCH3 1.6％ 4-Be-Tr-Be-OC2H5 1.6％ 5-Be-Tr-Be-OCH3 1.6％ 3-Hx-Hx-Be-1 11.0％ 3-Hx-Hx-Be-3 9.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-2 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-4 4.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-2 6.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-3 6.0％ ＴNI＝98.1〔℃〕 η＝16.3〔mPa・s〕 Δｎ＝0.220 Δε＝7.3 Ｖth＝2.07〔V〕
【０１３８】実施例１１ 3-Hx-Be(F)-Tr-CN(化合物No.2) 10.0％ 2-Hx-Be(F)-CN 10.0％ 3-Hx-Be(F)-CN 10.0％ 3-Hx-Be-OC2H5 10.0％ 3-Hx-Hx-4 10.0％ 2-Be-Tr-Be-OCH3 10.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 8.0％ 3-Hx-Hx-Be-3 16.0％ 3-Hx-Hx-Be-OCH3 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-2 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 4.0％ 3-Hx-Hx-Be-CN 4.0％ ＴNI＝88.7〔℃〕 η＝16.1〔mPa・s〕 Δｎ＝0.136 Δε＝7.7 Ｖth＝1.86〔V〕
【０１３９】実施例１２ CH2=CHC2H4-Hx-Be(F,F)-Tr-CN(化合物No.8) 8.0％ CH3CH=CHC2H4-Be-COO-Be(F,F)-CN 4.0％ C3H7OCH2-Be-COO-Be(F)-CN 8.0％ 2-Hx-Be(F)-CN 8.0％ 5-Py-Be-F 3.0％ 3-Py-Be(F)-F 3.0％ 3-Hx--Be-OC2H5 10.0％ 3-Hx-Hx-4 10.0％ 2-Be-Tr-Be-OCH3 10.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 10.0％ 3-Hx-Hx-Be-3 14.0％ 3-Hx-Hx-Be-OCH3 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-2 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 4.0％ ＴNI＝69.2〔℃〕 η＝17.6〔mPa・s〕 Δｎ＝0.133 Δε＝10.3 Ｖth＝1.40〔V〕
【０１４０】実施例１３ CH2=CHC2H4-Hx-Be(F,F)-Tr-CN(化合物No.8) 10.0％ 3-Hx-Be-CN 20.0％ 3-Hx-Be(F)-CN 5.0％ 2-Hx-Hx-Be(F)-CN 7.0％ 3-Hx-Hx-Be(F)-CN 7.0％ 3-Hx-Hx-4 10.0％ 3-Hx-Be-OC2H5 11.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 7.0％ 3-Hx-Hx-Be-OCH3 4.0％ 3-Hx-Hx-Be-3 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-2 3.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 3.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-4 3.0％ CH3OCH2-Hx-Be-Be-Hx-3 6.0％ ＴNI＝101.0〔℃〕 η＝20.3〔mPa・s〕 Δｎ＝0.134 Δε＝9.1 Ｖth＝1.91〔V〕
【０１４１】実施例１４ 3-Be-Tr-Be(F)-Tr-CN(化合物No.30) 13.0％ 3-Hx-Be-CN 15.0％ CH2=CHC2H4-Hx-Be-CN 9.0％ CH3CH=CHC2H4-Be-COO-Be(F,F)-CN 2.0％ 3-Hx-Hx-COO-CH3 2.0％ 3-Hx-Hx-4 9.0％ 2-Be-Tr-Be-1 10.0％ 2-Be-Tr-Be-3 6.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 5.0％ 3-Hx-Hx-Be-OCH3 5.0％ 3-Hx-Be-Be-F 5.0％ 3-Hx-Hx-Be-3 15.0％ 3-Hx-COO-Be-COO-Be-2 2.0％ 3-Hx-COO-Be-COO-Be-F 2.0％ ＴNI＝84.2〔℃〕 η＝16.6〔mPa・s〕 Δｎ＝0.170 Δε＝8.7 Ｖth＝1.69〔V〕
【０１４２】実施例１５ 3-Be-COO-Be(F)-Tr-CN (化合物No.153) 11.0％ CH2=CHC2H4-Hx-Be-Tr-CN(化合物No. 7) 11.0％ 3-Hx-Be-OC2H5 3.0％ 2-Be-Tr-Be-OCH3 6.8％ 3-Be-Tr-Be-OCH3 6.8％ 4-Be-Tr-Be-OCH3 6.8％ 4-Be-Tr-Be-OC2H5 6.8％ 5-Be-Tr-Be-OCH3 6.8％ 3-Hx-Hx-Be-OCH3 3.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-2 2.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 3.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-4 3.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-2 6.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-3 6.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-4 6.0％ 2-Py-Be-Hx-3 4.0％ 3-Py-Be-Hx-3 4.0％ 3-Py-Be-Be-2 4.0％ ＴNI＝108.8〔℃〕 η＝27.4〔mPa・s〕 Δｎ＝0.246 Δε＝9.6 Ｖth＝1.93〔V〕
【０１４３】実施例１６ CH2=CHC2H4-Hx-Be-Tr-CN (化合物No. 7) 9.0％ 3-Hx-Be-COO-Be(F)-Tr-CN(化合物No.162) 10.0％ CH3CH=CHC2H4-Hx-Be-CN 9.0％ 3-Hx-Be-CN 14.0％ CH3OCH2-Hx-Be-CN 8.0％ C2H5OCH2-Hx-Be-CN 4.0％ 3-Hx-Hx-4 10.0％ CH3OCH2-Hx-Hx-5 8.0％ 2-Be-Tr-Be-OCH3 11.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 8.0％ 3-Hx-Hx-Be-3 9.0％ ＴNI＝84.0〔℃〕 η＝16.8〔mPa・s〕 Δｎ＝0.143 Δε＝12.0 Ｖth＝1.64〔V〕
【０１４４】実施例１７ 3-Be-COO-Be(F)-Tr-CN(化合物No.153) 12.0％ CH3CH=CHC2H4-Be-COO-Be(F,F)-CN 6.0％ C3H7OCH2-Be-COO-Be(F)-CN 6.0％ 2-Hx-Be-CN 12.0％ 3-Hx-Be-CN 16.0％ 2-Hx-Hx-Be-CN 4.0％ 3-Hx-Hx-Be-CN 5.0％ 4-Hx-Hx-Be-CN 4.0％ 5-Hx-Hx-Be-CN 4.0％ 3-Hx-Be-OC2H5 10.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 7.0％ 3-Hx-Hx-Be-OCH3 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-2 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 3.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-4 3.0％ ＴNI＝90.4〔℃〕 η＝28.5〔mPa・s〕 Δｎ＝0.155 Δε＝19.0 Ｖth＝1.20〔V〕
【０１４５】実施例１８ 3-Be-COO-Be(F)-Tr-CN(化合物No.153) 10.0％ C3H7OCH2-Be-COO-Be(F)-CN 8.0％ C5H11OCH2-Be-COO-Be(F)-CN 4.0％ CH3CH=CHC2H4-Be-COO-Be(F,F)-CN 10.0％ C2H5OCH2-Hx-Be-COO-Be(F)-CN 2.0％ 3-Hx-Be(F)-COO-Be(F)-CN 2.0％ 2-Hx-Be-COO-Be(F,F)-CN 2.0％ 3-Hx-Hx-COO-Be-F 5.0％ 5-Hx-Hx-COO-Be-F 4.0％ 3-Hx-Be-COO-Be-F 6.0％ 3-Hx-Be-OC2H5 10.0％ 3-Hx-Hx-4 10.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 8.0％ 3-Hx-Hx-Be-3 10.0％ 3-Hx-Hx-Be-OCH3 4.0％ 3-Hx-Be(F)-CH=CH-Be-2 5.0％ ＴNI＝99.0〔℃〕 η＝36.8〔mPa・s〕 Δｎ＝0.135 Δε＝23.6 Ｖth＝1.10〔V〕
【０１４６】実施例１９ CH2=CHC2H4-Hx-Be-Tr-CN(化合物No.7) 10.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-CN (化合物No.2) 7.0％ 2-Hx-Be(F)-CN 10.0％ 3-Hx-Be(F)-CN 10.0％ 5-Hx-Be(F)-CN 9.0％ 2-Be-COO-Be-CN 10.0％ 3-Be-COO-Be-CN 4.0％ 2-Hx-Hx-Be(F)-CN 9.0％ 3-Hx-Hx-Be(F)-CN 12.0％ 3-Py-Be-Be-F 8.0％ 2-Hx-Hx-Be-CN 3.0％ 3-Hx-Hx-Be-CN 3.0％ 3-Hx-Be-COO-Be-Be-CN 3.0％ 5-Hx-Hx-COO-Be-Be-CN 2.0％ ＴNI＝91.5〔℃〕 η＝52.8〔mPa・s〕 Δｎ＝0.164 Δε＝19.3 Ｖth＝1.00〔V〕
【０１４７】実施例２０ 3-Hx-Be(F)-Tr-CN (化合物No.2) 13.0％ CH2=CHC2H4-Hx-Be(F,F)-Tr-CN(化合物No.8) 10.0％ 2-Be-Be-CN 8.0％ 4-Be-Be-CN 6.0％ 3-Hx-Hx-Be-F 5.0％ 2-Hx-Hx-Be-CN 4.0％ 3-Hx-Hx-Be-CN 6.0％ 5-Py-Be-F 6.0％ 3-Py-Be-Be-F 6.0％ 2-Be-Tr-Be-OCH3 2.0％ 2-Hx-Hx-Be-1 6.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 8.0％ 3-Hx-Hx-Be-3 15.0％ 3-Hx-Hx-Be-OCH3 5.0％ ＴNI＝105.6〔℃〕 η＝21.6〔mPa・s〕 Δｎ＝0.169 Δε＝11.3 Ｖth＝1.66〔V〕
【０１４８】実施例２１ 3-Hx-Be-COO-Be(F)-Tr-CN(化合物No.162) 11.0％ 3-Hx-Be-OC2H5 14.0％ 3-Hx-Be-OC4H9 13.0％ 3-Py-Be-4 3.1％ 4-Py-Be-4 3.1％ 6-Py-Be-4 3.2％ 3-Py-Be-5 3.2％ 4-Py-Be-5 3.2％ 6-Py-Be-5 3.2％ 6-Py-Be-OC5H11 4.0％ 6-Py-Be-OC6H13 4.0％ 6-Py-Be-OC7H15 4.0％ 6-Py-Be-OC8H17 4.0％ 2-Hx-Hx-Be-1 4.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 8.0％ 3-Hx-Hx-Be-3 10.0％ 3-Hx-Hx-Be-OCH3 5.0％ ＴNI＝78.8〔℃〕 η＝35.3〔mPa・s〕 Δｎ＝0.130 Δε＝5.4 Ｖth＝2.47〔V〕
【０１４９】実施例２２ 3-Be-COO-Be(F)-Tr-CN(化合物No.153) 10.0％ 3-Do-Be-CN 10.0％ 4-Do-Be-CN 12.0％ 5-Do-Be-CN 8.0％ 5-Py-Be(F)-F 10.0％ 2-Py-Be-2 1.4％ 3-Py-Be-2 1.3％ 4-Py-Be-2 1.3％ 3-Hx-COO-Be-OC4H9 5.0％ 4-Hx-COO-Be-OC2H5 3.7％ 3-Hx-COO-Be-OC2H5 3.1％ 1O-Be-COO-Be-2 2.5％ 5-Hx-COO-Be-1 3.7％ 4-Hx-COO-Be-4 5.0％ 3-Hx-Hx-Be-OCH3 4.0％ 3-Hx-Hx-Be-3 13.0％ 2-Py-Be-Hx-3 6.0％ ＴNI＝63.5〔℃〕 η＝30.2〔mPa・s〕 Δｎ＝0.123 Δε＝15.6 Ｖth＝1.25〔V〕
【０１５０】実施例２３ 3-Be-COO-Be(F)-Tr-CN (化合物No.153) 6.0％ CH2=CHC2H4-Hx-Be-Tr-CN(化合物No. 7) 4.0％ 3-Be-COO-Be(F)-CN 8.0％ 5-Py-Be-CN 8.0％ CH2=CH-Hx-Be-CN 4.0％ CH3CH=CH-Hx-Be-CN 4.0％ 5-Hx-Hx-CH=CH2 10.0％ 3-Hx-Hx-C2H4CH=CH2 7.0％ 3-Hx-Hx-C2H4CH=CHCH3 7.0％ CH2=CH-Hx-Hx-Be-1 8.0％ CH2=CHC2H4-Hx-Hx-Be-1 15.0％ 3-Hx-Hx-COO-Be(F)-F 5.0％ 3-Hx-Be-Tr-Be-1 5.0％ 3-Hx-Be-Tr-Be-2 5.0％ 3-Hx-Be-Tr-Be-3 4.0％ ＴNI＝101.0〔℃〕 η＝15.8〔mPa・s〕 Δｎ＝0.143 Δε＝11.1 Ｖth＝1.86〔V〕
【０１５１】実施例２４ CH2=CHC2H4-Hx-Be-Tr-CN(化合物No.7) 5.0％ 7-Hx-Be(F,F)-F 4.0％ 3-Hx-C2H4-Hx-Be(F,F)-F 12.0％ 4-Hx-C2H4-Hx-Be(F,F)-F 10.0％ 5-Hx-C2H4-Hx-Be(F,F)-F 10.0％ 3-Hx-Hx-Be(F,F)-F 10.0％ 3-Hx-Hx-C2H4-Be(F,F)-F 11.0％ 5-Hx-Hx-C2H4-Be(F,F)-F 10.0％ 3-Hx-Be-Be(F,F)-F 12.0％ 5-Hx-Be-Be(F,F)-F 12.0％ 3-Hx-Hx-Be-Be(F,F)-F 2.0％ 5-Hx-Hx-C2H4-Be-Be(F,F)-F 2.0％ ＴNI＝78.9〔℃〕 η＝26.9〔mPa・s〕 Δｎ＝0.097 Δε＝9.2 Ｖth＝1.53〔V〕
【０１５２】実施例２５ CH2=CHC2H4-Hx-Be(F,F)-Tr-CN(化合物No.8) 15.0％ 7-Hx-Be(F,F)-F 5.0％ 3-Hx-C2H4-Hx-Be(F,F)-F 9.0％ 4-Hx-C2H4-Hx-Be(F,F)-F 8.0％ 5-Hx-C2H4-Hx-Be(F,F)-F 8.0％ 3-Hx-Hx-C2H4-Be(F,F)-F 10.0％ 3-Hx-Be-Be(F,F)-F 9.0％ 5-Hx-Be-Be(F,F)-F 9.0％ 3-Hx-Hx-Be(F,F)-F 6.0％ 4-Hx-Hx-Be(F,F)-F 5.0％ 3-Hx-Be-COO-Be(F,F)-F 3.0％ 5-Hx-Be-COO-Be(F,F)-F 3.0％ 3-Hx-Hx-COO-Be(F,F)-F 10.0％ ＴNI＝68.2〔℃〕 η＝25.4〔mPa・s〕 Δｎ＝0.105 Δε＝13.7 Ｖth＝1.17〔V〕
【０１５３】実施例２６ 3-Hx-Be(F)-Tr-CN (化合物No. 2) 7.0％ 3-Hx-Be-COO-Be(F)-Tr-CN(化合物No.162) 6.0％ 5-Hx-C2H4-Be(F)-F 4.0％ 7-Hx-Be(F)-F 7.0％ 2-Hx-Hx-Be(F)-F 9.0％ 3-Hx-Hx-Be(F)-F 9.0％ 5-Hx-Hx-Be(F)-F 9.0％ 2-Hx-C2H4-Hx-Be(F)-F 4.0％ 3-Hx-C2H4-Hx-Be(F)-F 2.0％ 5-Hx-C2H4-Hx-Be(F)-F 4.0％ 3-Hx-C2H4-Hx-Be(F,F)-F 6.0％ 4-Hx-C2H4-Hx-Be(F,F)-F 5.0％ 5-Hx-C2H4-Hx-Be(F,F)-F 5.0％ 3-Hx-Hx-Be(F,F)-F 8.0％ 3-Hx-Hx-C2H4-Be(F,F)-F 8.0％ 5-Hx-Hx-C2H4-Be(F,F)-F 7.0％ ＴNI＝82.4〔℃〕 η＝25.0〔mPa・s〕 Δｎ＝0.093 Δε＝7.6 Ｖth＝1.60〔V〕
【０１５４】実施例２７ 3-Be-Tr-Be(F)-Tr-CN(化合物No.30) 10.0％ 3-Hx-Be-Cl 7.0％ 4-Hx-C2H4-Be-Be(F)-F 3.0％ 2-Hx-Be-Be(F)-F 6.0％ 3-Hx-Be-Be(F)-F 6.0％ 5-Hx-Be-Be(F)-F 12.0％ 2-Hx-Hx-Be-Cl 5.0％ 4-Hx-Hx-Be-Cl 10.0％ 5-Hx-Hx-Be-Cl 4.0％ 3-Hx-Be-Be(F,F)-F 17.0％ 5-Hx-Be-Be(F,F)-F 12.0％ 5-Hx-C2H4-Be-Be(F,F)-F 5.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 3.0％ ＴNI＝93.7〔℃〕 η＝24.9〔mPa・s〕 Δｎ＝0.160 Δε＝7.8 Ｖth＝1.60〔V〕
【０１５５】実施例２８ 3-Be-COO-Be(F)-Tr-CN(化合物No.153) 5.0％ 5-Hx-COO-Be-F 2.0％ 7-Hx-COO-Be-F 2.0％ 2-Hx-Hx-Be(F)-F 10.0％ 3-Hx-Hx-Be(F)-F 10.0％ 5-Hx-Hx-Be(F)-F 10.0％ 2-Hx-Be-Be(F)-F 7.0％ 3-Hx-Be-Be(F)-F 7.0％ 5-Hx-Be-Be(F)-F 14.0％ 2-Hx-Be-Be-F 4.0％ 3-Hx-Be-Be-F 4.0％ 5-Hx-Be-Be-F 3.0％ 3-Hx-Be-Be(F,F)-F 5.0％ 5-Hx-Be-Be(F,F)-F 10.0％ 3-Hx-Be-OC2H5 7.0％ ＴNI＝87.4〔℃〕 η＝25.7〔mPa・s〕 Δｎ＝0.121 Δε＝7.8 Ｖth＝1.72〔V〕
【０１５６】実施例２９ CH2=CHC2H4-Hx-Be(F,F)-Tr-CN(化合物No.8) 7.0％ 5-Hx-Be-F 12.0％ 6-Hx-Be-F 9.0％ 2-Hx-Hx-Be-OCF3 7.0％ 3-Hx-Hx-Be-OCF3 11.0％ 4-Hx-Hx-Be-OCF3 7.0％ 5-Hx-Hx-Be-OCF3 10.0％ 3-Hx-Be-Be(F)-F 13.0％ 5-Hx-Be-Be(F)-F 10.0％ 3-Hx-Hx-C2H4-Be-OCF3 4.0％ 5-Hx-Hx-C2H4-Be-OCF3 4.0％ 3-Hx-Be(F)-Be-Hx-3 2.0％ 5-Hx-Be(F)-Be-Hx-3 2.0％ 5-Hx-Be(F)-Be-Hx-5 2.0％ ＴNI＝99.4〔℃〕 η＝16.1〔mPa・s〕 Δｎ＝0.109 Δε＝6.1 Ｖth＝1.94〔V〕
【０１５７】実施例３０ 3-Hx-Be(F)-Tr-CN(化合物No.2) 6.0％ 5-Hx-Be-F 5.0％ 7-Hx-Be-F 6.0％ 2-Hx-Hx-Be-OCF3 8.0％ 3-Hx-Hx-Be-OCF3 9.0％ 5-Hx-Hx-Be-OCF3 11.0％ 3-Hx-Hx-Be-OCF2H 5.0％ 5-Hx-Hx-Be-OCF2H 4.0％ 3-Hx-Hx-Be(F,F)-OCF2H 7.0％ 5-Hx-Hx-Be(F,F)-OCF2H 13.0％ 3-Hx-Hx-C2H4-Be(F)-F 11.0％ 5-Hx-Hx-C2H4-Be(F)-F 5.0％ 3-Hx-Hx-COO-Be(F)-F 5.0％ 5-Hx-Hx-COO-Be(F)-F 5.0％ ＴNI＝101.0〔℃〕 η＝21.1〔mPa・s〕 Δｎ＝0.093 Δε＝7.0 Ｖth＝2.11〔V〕
【０１５８】実施例３１ 3-Be-COO-Be(F)-Tr-CN (化合物No.153) 10.0％ 3-Hx-Be-COO-Be(F)-Tr-CN(化合物No.162) 5.0％ 3-Hx-Be(F)-CN 5.0％ CH2=CH-Hx-Be-CN 10.0％ CH3CH=CH-Hx-Be-CN 10.0％ 2-Be-Tr-Be-OCH3 10.0％ 3-Hx-Be-OC2H5 10.0％ CH2=CHC2H4-Hx-Hx-3 5.0％ CH2=CH-Hx-Hx-4 5.0％ CH2=CH-Hx-Hx-Be-1 10.0％ CH3CH=CHC2H4-Hx-Be-Be-2 10.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 10.0％ ＴNI＝83.1〔℃〕 η＝19.0〔mPa・s〕 Δｎ＝0.151 Δε＝10.3 Ｖth＝1.40〔V〕
【０１５９】実施例３２ CH3CH=CH-Hx-Hx-Be-Tr-CN(化合物No.87) 10.0％ CH2=CHC2H4-Hx-Be-CN 11.0％ CH3CH=CHC2H4-Hx-Be-CN 10.0％ CH3OCH2-Hx-Be-CN 10.0％ 2-Hx-Be-CN 5.0％ 3-Hx-Be-CN 5.0％ 3-Hx-Hx-4 11.0％ 2-Be-Tr-Be-OCH3 4.2％ 3-Be-Tr-Be-OCH3 4.2％ 4-Be-Tr-Be-OCH3 4.2％ 4-Be-Tr-Be-OC2H5 4.2％ 5-Be-Tr-Be-OCH3 4.2％ 3-Hx-Hx-Be-CN 5.0％ 5-Hx-Hx-Be-CN 5.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 4.0％ 3-Hx-Hx-Be-F 3.0％
【０１６０】実施例３３ 5-Be-COO-Be(F,F)-Tr-CN(化合物No.155) 12.0％ CH3CH=CHC2H4-Be-COO-Be(F,F)-CN 6.0％ C3H7OCH2-Be-COO-Be(F)-CN 6.0％ 2-Hx-Be-CN 12.0％ 3-Hx-Be-CN 19.0％ 2-Hx-Hx-Be-CN 4.0％ 3-Hx-Hx-Be-CN 5.0％ 4-Hx-Hx-Be-CN 4.0％ 5-Hx-Hx-Be-CN 4.0％ 3-Hx-Be-OC2H5 7.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 7.0％ 3-Hx-Hx-Be-OCH3 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-2 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 3.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-4 3.0％
【０１６１】実施例３４ CH3O-Be-COO-Be(F)-Tr-CN (化合物No.151) 4.0％ 5-Hx-CH=CH-Hx-Be-Tr-CN (化合物No. 63) 3.0％ CH2=CH-Hx-CH=CH-Hx-Be-Tr-CN(化合物No.66) 3.0％ 3-Hx-Be-CN 20.0％ 1-Be-Tr-Be-3 5.0％ 2-Be-Tr-Be-1 10.0％ 3-Hx-Hx-4 11.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 11.0％ 3-Hx-Hx-Be-3 9.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-2 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-4 4.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-2 6.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-3 6.0％
【０１６２】実施例３５ 3-Be-COO-Be(F,F)-Tr-CN(化合物No.154) 6.0％ 5-Be-COO-Be(F,F)-Tr-CN(化合物No.155) 4.0％ 3-Hx-Be(F,F)-Tr-CN (化合物No. 3) 5.0％ 3-Hx-Be-CN 17.0％ 3-Hx-Be-OC2H5 4.0％ 3-Hx-Hx-4 11.0％ 3-Hx-Hx-5 5.0％ 2-Hx-Hx-Be-1 2.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 10.0％ 3-Hx-Hx-Be-3 15.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-2 5.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-3 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-2 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-4 4.0％
【０１６３】実施例３６ CH2=CH-Hx-Be-Tr-CN 15.0％ 3-Hx-Be-CN 20.0％ 5-Hx-Be-CN 31.0％ 7-Hx-Be-CN 21.0％ 7-Hx-Be-Be-CN 13.0％ ＴNI＝75.0〔℃〕 η＝23.6〔mPa・s〕 Δｎ＝0.155 Δε＝13.1 Ｖth＝1.58〔V〕
【０１６４】実施例３７ 3-Hx-Be(F,F)-Tr-CN 15.0％ 3-Hx-Be-CN 20.0％ 5-Hx-Be-CN 31.0％ 7-Hx-Be-CN 21.0％ 7-Hx-Be-Be-CN 13.0％ ＴNI＝66.0〔℃〕 η＝26.4〔mPa・s〕 Δｎ＝0.145 Δε＝15.2 Ｖth＝1.44〔V〕
【０１６５】実施例３８ CH2=CH-Hx-Be-Tr-CN 5.0％ CH3CH=CHC2H4-Be-COO-Be(F,F)-CN 5.0％ 3-Hx-Be-CN 20.0％ 1-Be-Tr-Be-3 5.0％ 2-Be-Tr-Be-1 10.0％ 3-Hx-Hx-4 11.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 11.0％ 3-Hx-Hx-Be-3 9.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-2 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-4 4.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-2 6.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-3 6.0％ ＴNI＝94.8〔℃〕 η＝14.0〔mPa・s〕 Δｎ＝0.166 Δε＝7.2 Ｖth＝2.13〔V〕
【０１６６】上記組成物１００部にキラルドープ剤Ｃ−
４を０.８部添加したときのピッチは１１.２μmであっ
た。
４を０.８部添加したときのピッチは１１.２μmであっ
た。
【０１６７】実施例３９ CH2=CH-Hx-Be-Tr-CN 7.0％ 5-Py-Be-F 4.0％ 3-Py-Be(F)-F 4.0％ 2-Be-Be-CN 5.0％ 4-Be-Be-CN 4.0％ 2-Py-Be-2 2.0％ 3-Py-Be-2 2.0％ 4-Py-Be-2 2.0％ 6-Py-Be-OC5H11 3.0％ 6-Py-Be-OC6H13 3.0％ 6-Py-Be-OC7H15 3.0％ 6-Py-Be-OC8H17 3.0％ 3-Py-Be-Be-F 6.0％ 4-Py-Be-Be-F 6.0％ 5-Py-Be-Be-F 6.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 6.0％ 3-Hx-Hx-Be-3 6.0％ 2-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-2 4.0％ 2-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 4.0％ 2-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-4 5.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-2 5.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 5.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-4 5.0％ ＴNI＝97.7〔℃〕 η＝33.1〔mPa・s〕 Δｎ＝0.206 Δε＝6.6 Ｖth＝2.24〔V〕
【０１６８】実施例４０ CH2=CH-Hx-Be-Tr-CN 7.0％ C2H5OCH2-Be-COO-Be(F)-CN 5.0％ C3H7OCH2-Be-COO-Be(F)-CN 12.0％ C5H11OCH2-Be-COO-Be(F)-CN 4.0％ CH3CH=CHC2H4-Be-COO-Be(F,F)-CN 14.0％ 3-Hx-Be-OC2H5 10.0％ 3-Hx-Hx-4 3.0％ 3-Hx-Hx-Be-F 3.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 3.0％ 3-Hx-Hx-Be-OCH3 4.0％ 3-Hx-Be-COO-Be-F 4.0％ 3-Hx-Hx-COO-Be-F 7.0％ 5-Hx-Hx-COO-Be-F 7.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-2 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-4 4.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-2 5.0％ ＴNI＝88.9〔℃〕 η＝38.9〔mPa・s〕 Δｎ＝0.150 Δε＝28.1 Ｖth＝1.01〔V〕
【０１６９】実施例４１ CH2=CH-Hx-Be-Tr-CN 7.0％ 2-Hx-Be-CN 5.0％ 3-Hx-Be-CN 12.0％ 3-Hx-Be-OC2H5 12.0％ 2-Be-Tr-Be-1 3.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 8.0％ 3-Hx-Hx-Be-F 4.0％ 3-Hx-Hx-Be-OCH3 5.0％ 3-Hx-Hx-Be-3 10.0％ 3-Hx-Hx-COO-Be-F 4.0％ 5-Hx-Hx-COO-Be-F 4.0％ 2-Hx-Hx-Be(F)-F 7.0％ 3-Hx-Hx-Be(F)-F 7.0％ 5-Hx-Hx-Be(F)-F 7.0％ 3-Hx-Hx-Be(F,F)-F 5.0％ ＴNI＝100.9〔℃〕 η＝18.1〔mPa・s〕 Δｎ＝0.110 Δε＝6.0 Ｖth＝2.15〔V〕
【０１７０】実施例４２ CH2=CH-Hx-Be-Tr-CN 5.0％ 3-Hx-Be(F,F)-Tr-CN 5.0％ 3-Be-COO-Be(F)-CN 8.0％ 3-Hx-Be-CN 8.0％ CH2=CH-Hx-Be-CN 8.0％ CH3CH=CH-Hx-Be-CN 3.0％ 3-Hx-Be-OC2H5 3.0％ 3-Hx-Hx-C2H4CH=CH2 14.0％ 3-Hx-Hx-C2H4CH=CHCH3 7.0％ CH2=CHC2H4-Hx-Hx-Be-1 10.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 5.0％ 3-Hx-Hx-COO-Be-F 7.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-2 6.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 6.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-4 5.0％ ＴNI＝96.2〔℃〕 η＝14.9〔mPa・s〕 Δｎ＝0.141 Δε＝10.7 Ｖth＝1.98〔V〕
【０１７１】実施例４３ 3-Hx-Be(F,F)-Tr-CN 5.0％ C2H5OCH2-Be-COO-Be(F)-CN 5.0％ C3H7OCH2-Be-COO-Be(F)-CN 5.0％ C4H9OCH2-Be-COO-Be(F)-CN 5.0％ C5H11OCH2-Be-COO-Be(F)-CN 5.0％ 2-Hx-Hx-Be(F)-C 15.0％ 3-Hx-Hx-Be(F)-C 15.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-2 4.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-3 4.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-4 4.0％ 3-Hx-Hx-Be-1 8.0％ 3-Hx-Hx-Be-OCH3 4.0％ ＴNI＝79.8〔℃〕 η＝82.9〔mPa・s〕 Δｎ＝0.166 Δε＝32.0 Ｖth＝0.84〔V〕
【０１７２】実施例４４ 3-Hx-Be(F,F)-Tr-CN 7.0％ C2H5OCH2-Be-COO-Be(F)-CN 5.0％ C3H7OCH2-Be-COO-Be(F)-CN 12.0％ C5H11OCH2-Be-COO-Be(F)-CN 4.0％ CH3CH=CHC2H4-Be-COO-Be(F,F)-CN 10.0％ 3-Hx-Hx-COOCH3 10.0％ 3-Hx-Be-OC2H5 16.0％ 7-Hx-COO-Be-F 2.0％ 3-Hx-Hx-COO-Be-F 2.0％ 5-Hx-Hx-COO-Be-F 2.0％ 3-Hx-Be-COO-Be-F 4.0％ C2H5OCH2-Hx-Be-COO-Be(F)-CN 2.0％ 3-Hx-Be(F)-COO-Be(F)-CN 2.0％ 3-Hx-Be-COO-Be(F,F)-CN 2.0％ 3-Hx-Hx-Be-F 4.0％ 3-Hx-Hx-Be-OCH3 4.0％ 3-Hx-Hx-Be-3 8.0％ 3-Hx-COO-Be-COO-Be-F 2.0％ 3-Hx-COO-Be-COO-Be-1 2.0％ ＴNI＝70.1〔℃〕 η＝36.0〔mPa・s〕 Δｎ＝0.121 Δε＝25.9 Ｖth＝0.95〔V〕
【０１７３】実施例４５ CH2=CH-Hx-Be-Tr-CN 6.0％ 2-Hx-Hx-Be(F)-F 2.0％ 3-Hx-Hx-Be(F)-F 2.0％ 5-Hx-Hx-Be(F)-F 2.0％ 2-Hx-Be-Be(F)-F 6.0％ 3-Hx-Be-Be(F)-F 6.0％ 5-Hx-Be-Be(F)-F 4.0％ 2-Hx-C2H4-Be-Be(F)-F 9.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Be(F)-F 9.0％ 3-Hx-Be-Be(F,F)-F 25.0％ 5-Hx-Be-Be(F,F)-F 19.0％ CH3OCH2-Hx-Be-Be-Hx-4 5.0％ CH3OCH2-Hx-Be-Be-Hx-4 5.0％ ＴNI＝97.3〔℃〕 η＝34.1〔mPa・s〕 Δｎ＝0.141 Δε＝8.1 Ｖth＝1.85〔V〕
【０１７４】実施例４６ CH2=CH-Hx-Be-Tr-CN 6.0％ 3-Hx-Be(F,F)-Tr-CN 6.0％ 3-Hx-C2H4-Hx-Be(F,F)-F 7.0％ 5-Hx-C2H4-Hx-Be(F,F)-F 8.0％ 3-Hx-Hx-Be(F,F)-F 10.0％ 4-Hx-Hx-Be(F,F)-F 5.0％ 3-Hx-Hx-C2H4-Be(F,F)-F 3.0％ 5-Hx-Hx-C2H4-Be(F,F)-F 3.0％ 3-Hx-Be-Be(F,F)-F 15.0％ 5-Hx-Be-Be(F,F)-F 15.0％ 3-Hx-Be-COO-Be(F,F)-F 2.0％ 4-Hx-Be-COO-Be(F,F)-F 2.0％ 5-Hx-Be-COO-Be(F,F)-F 2.0％ 3-Hx-Hx-COO-Be(F,F)-F 10.0％ 4-Hx-Hx-COO-Be(F,F)-F 3.0％ 5-Hx-Hx-COO-Be(F,F)-F 3.0％ ＴNI＝79.0〔℃〕 η＝29.5〔mPa・s〕 Δｎ＝0.110 Δε＝13.7 Ｖth＝1.57〔V〕
【０１７５】実施例４７ CH2=CH-Hx-Be-Tr-CN 10.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-CN 5.0％ 3-Hx-Be(F,F)-Tr-CN 2.0％ CH3CH=CHC2H4-Be-COO-Be(F,F)-CN 6.0％ 3-Hx-Be-OC2H5 4.0％ 3-Hx-Hx-CH=CF2 18.0％ 5-Hx-Hx-CH=CF2 20.0％ CF2=CH-Hx-Hx-Be-1 8.0％ CF2=CHC2H4-Hx-Hx-Be-1 10.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-2 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-4 4.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-2 5.0％ ＴNI＝100.4〔℃〕 η＝11.2〔mPa・s〕 Δｎ＝0.136 Δε＝7.9 Ｖth＝2.14〔V〕
【０１７６】実施例４８ CH2=CH-Hx-Be-Tr-CN 2.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-CN 11.0％ 3-Hx-Be(F,F)-Tr-CN 2.0％ CH3CH=CHC2H4-Be-COO-Be(F,F)-CN 6.0％ CH2=CHC2H4-Hx-Hx-CH=CF2 35.0％ 5-Hx-Hx-CH=CF2 3.0％ CF2=CH-Hx-Hx-Be-1 8.0％ CF2=CHC2H4-Hx-Hx-Be-1 18.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-2 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-3 4.0％ 3-Hx-C2H4-Be-Tr-Be-4 4.0％ 3-Hx-Be(F)-Tr-Be-2 3.0％ ＴNI＝100.7〔℃〕 η＝10.7〔mPa・s〕 Δｎ＝0.132 Δε＝8.1 Ｖth＝2.09〔V〕
【０１７７】Ｃ．特性比較試験 実施例４９ 第一成分の異なる下記組成１および組成２について、特
性比較試験を行った。各化合物は前記と同じ略号を用い
て表示した。 組成成分 組成１ 組成２ 3-Hx-Be-Tr-CN １５wt％ -- 3-Hx-Be(F)-Tr-CN(化合物No.2) -- １５wt％ 3-Hx-Be-CN ２０wt％ ２０wt％ 5-Hx-Be-CN ３１wt％ ３１wt％ 7-Hx-Be-CN ２１wt％ ２１wt％ 5-Hx-Be-Be-CN １３wt％ １３wt％
性比較試験を行った。各化合物は前記と同じ略号を用い
て表示した。 組成成分 組成１ 組成２ 3-Hx-Be-Tr-CN １５wt％ -- 3-Hx-Be(F)-Tr-CN(化合物No.2) -- １５wt％ 3-Hx-Be-CN ２０wt％ ２０wt％ 5-Hx-Be-CN ３１wt％ ３１wt％ 7-Hx-Be-CN ２１wt％ ２１wt％ 5-Hx-Be-Be-CN １３wt％ １３wt％
【０１７８】測定結果を下記に示す。 特性項目 組成 １ 組成 ２ ＴNI 〔℃〕 ７６.８ ７２.７ η 〔mPa・s〕 ２６.５ ２３.０ Δｎ 〔-〕 ０.１５０ ０.１５０ Δε 〔-〕 １２.０ １３.５ Ｖth 〔V〕 １.６３ １.４３
【０１７９】
【発明の効果】本発明によれば、液晶成分としての優れ
た性質、すなわち、広い液晶温度レンジ、他の液晶との
良好な相溶性、低粘性、大きな誘電率異方性といった性
質を保ちながら、大きな弾性定数比を与えることが可能
な新規液晶性化合物、これを含む液晶組成物および該組
成物から構成される液晶表示素子を提供することができ
る。
た性質、すなわち、広い液晶温度レンジ、他の液晶との
良好な相溶性、低粘性、大きな誘電率異方性といった性
質を保ちながら、大きな弾性定数比を与えることが可能
な新規液晶性化合物、これを含む液晶組成物および該組
成物から構成される液晶表示素子を提供することができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０９Ｋ 19/12 Ｃ０９Ｋ 19/12 19/14 19/14 19/18 19/18 19/20 19/20 19/30 19/30 19/34 19/34 19/42 19/42 19/44 19/44 19/46 19/46 Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ (72)発明者 蜂谷 典久 千葉県市原市青葉台２丁目５番地 (72)発明者 中川 悦男 千葉県市原市五井8890番地 (56)参考文献 特開 昭60−169455（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−188358（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−19756（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−190958（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−139353（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−110527（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−8056（ＪＰ，Ａ) 国際公開97／36847（ＷＯ，Ａ) Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｐ．Ｃｒｙ ｓｔ．，111［３−４］ （1984） Ｐ. 329−Ｐ．346 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07C 255/35 C07C 255/37 C07C 255/38 C07D 239/26 C07D 319/06 C09K19 ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (32)
- 【請求項１】 一般式(１) 【化１】 （式中、n1およびn2は、それぞれ独立して０または１で
あり；A1、A2およびA3は、それぞれ独立して１,４−フ
ェニレン、１個または２個のフッ素原子で置換された
１,４−フェニレン、トランス−１,４−シクロヘキシレ
ン、１,３−ジオキサン−２,５−ジイルまたは１,３−
ピリミジン−２,５−ジイルを表し；Z1、Z2およびZ3
は、それぞれ独立して単結合、エチレン基、エテニレン
基、エチニレン基、カルボニルオキシ基、オキシカルボ
ニル基、メチレンオキシ基、オキシメチレン基、１,４
−ブチレン基または１,４−ブテニレン基を表し；Ｒ
は、炭素数１〜１０の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数２
〜１０の不飽和炭化水素基、鎖中に１以上のエーテル結
合(-O-)を有する炭素数１〜１０の飽和または不飽和の
脂肪族炭化水素基、または鎖中に１以上のフッ素原子を
含む炭素数１〜１０の飽和または不飽和のフッ素置換脂
肪族炭化水素基を表し；そしてX1およびX2は、それぞれ
独立してＦ、ClまたはＨを表す、ただし、n1＝n2＝０、
Z1が単結合、エチレン基、カルボニルオキシ基またはオ
キシカルボニル基、かつＲがアルキル基またはアルコキ
シ基の場合、ならびにn1＝１、n2＝０または１、Z1およ
びZ2が単結合またはエチレン基、Z3がエチレン基、かつ
Ｒがアルキル基またはアルコキシ基の場合には、X1、X2
の少なくとも一方はＦまたはClである)で表わされるプ
ロピオロニトリル誘導体。 - 【請求項２】 一般式(１)中、n1＝n2＝０である請求項
１記載のプロピオロニトリル誘導体。 - 【請求項３】 一般式(１)中、n1＝１、n2＝０である請
求項１記載のプロピオロニトリル誘導体。 - 【請求項４】 一般式(１)中、n1＝n2＝１である請求項
１記載のプロピオロニトリル誘導体。 - 【請求項５】 一般式(１)中、Ｒが炭素数２〜１０のア
ルケニル基である請求項１記載のプロピオロニトリル誘
導体。 - 【請求項６】 一般式(１)中、Ｒが炭素数２〜１０のア
ルケニル基であり、かつX1およびX2が共にＨである請求
項１記載のプロピオロニトリル誘導体。 - 【請求項７】 一般式(１)中、n1＝n2＝０であり、Ｒが
炭素数２〜１０のアルケニル基である請求項１記載のプ
ロピオロニトリル誘導体。 - 【請求項８】 一般式(１)中、n1＝１、n2＝０であり、
Ｒが炭素数２〜１０のアルケニル基である請求項１記載
のプロピオロニトリル誘導体。 - 【請求項９】 一般式(１)中、n1＝n2＝０であり、Z1が
単結合、Ｒが炭素数２〜１０のアルケニル基である請求
項１記載のプロピオロニトリル誘導体。 - 【請求項１０】 一般式(１)中、n1＝１、n2＝０であ
り、Z1が単結合、Ｒが炭素数２〜１０のアルケニル基で
ある請求項１記載のプロピオロニトリル誘導体。 - 【請求項１１】 一般式(１)中、X1およびX2のいずれか
一方または両方がＦおよび／またはClであり、Ｒが炭素
数１〜１０のアルキル基である請求項１記載のプロピオ
ロニトリル誘導体。 - 【請求項１２】 一般式(１)中、Z1、Z2およびZ3のうち
いずれか一つがエチレン基、１,４−ブチレン基、オキ
シメチレン基またはメチレンオキシ基であり、他が単結
合またはエチレン基である請求項１記載のプロピオロニ
トリル誘導体。 - 【請求項１３】 一般式(１)中、n1＝n2＝０であり、Z1
がエチレン基、１,４−ブチレン基、オキシメチレン基
またはメチレンオキシ基である請求項１記載のプロピオ
ロニトリル誘導体。 - 【請求項１４】 一般式(１)中、n1＝１、n2＝０であ
り、Z1およびZ2のいずれか一方がエチレン基、１,４−
ブチレン基、オキシメチレン基またはメチレンオキシ基
であり、他方が単結合またはエチレン基である請求項１
記載のプロピオロニトリル誘導体。 - 【請求項１５】 一般式(１)中、n1＝n2＝１であり、Z
1、Z2およびZ3のうちいずれか一つがエテニレン基、１,
４−ブテニレン基またはエチニレン基であり、他が単結
合またはエチレン基である請求項１記載のプロピオロニ
トリル誘導体。 - 【請求項１６】 一般式(１)中、n1＝n2＝０であり、Z1
がエテニレン基、１,４−ブテニレン基またはエチニレ
ン基である請求項１記載のプロピオロニトリル誘導体。 - 【請求項１７】 一般式(１)中、n1＝１、n2＝０であ
り、Z1およびZ2のいずれか一方がエテニレン基、１,４
−ブテニレン基またはエチニレン基であり、他方が単結
合またはエチレン基である請求項１記載のプロピオロニ
トリル誘導体。 - 【請求項１８】 一般式(１)中、n1＝n2＝１であり、Z
1、Z2およびZ3のうちいずれか一つがカルボニルオキシ
基またはオキシカルボニル基、他が単結合またはエチレ
ン基である請求項１記載のプロピオロニトリル誘導体。 - 【請求項１９】 一般式(１)中、n1＝n2＝１であり、Z
1、Z2およびZ3のうちいずれか一つはカルボニルオキシ
基またはオキシカルボニル基、他が単結合またはエチレ
ン基であり、X1およびX2のいずれか一方または両方がＦ
である請求項１記載のプロピオロニトリル誘導体。 - 【請求項２０】 一般式(１)中、n1＝n2＝０であり、Z1
がカルボニルオキシ基またはオキシカルボニル基である
請求項１記載のプロピオロニトリル誘導体。 - 【請求項２１】 一般式(１)中、n1＝n2＝０であり、Z1
がカルボニルオキシ基またはオキシカルボニル基であ
り、X1およびX2のいずれか一方または両方がＦである請
求項１記載のプロピオロニトリル誘導体。 - 【請求項２２】 一般式(１)中、n1＝１、n2＝０であ
り、Z1、Z2のいずれか一方がカルボニルオキシ基または
オキシカルボニル基、他方が単結合またはエチレン基で
ある請求項１記載のプロピオロニトリル誘導体。 - 【請求項２３】 一般式(１)中、n1＝１、n2＝０であ
り、Z1、Z2のどちらか一方がカルボニルオキシ基または
オキシカルボニル基、他方が単結合またはエチレン基で
あり、X1およびX2のいずれか一方または両方がＦである
請求項１記載のプロピオロニトリル誘導体。 - 【請求項２４】 一般式(１)中、n1＝n2＝０であり、A1
がトランス−１,４−シクロヘキシレンである請求項１
記載のプロピオロニトリル誘導体。 - 【請求項２５】 一般式(１)中、n1＝n2＝０であり、A1
がフッ素置換１,４−フェニレンである請求項１記載の
プロピオロニトリル誘導体。 - 【請求項２６】 一般式(１)中、n1＝１、n2＝０であ
り、A1および／またはA2がトランス−１,４−シクロヘ
キシレンである請求項１記載のプロピオロニトリル誘導
体。 - 【請求項２７】 一般式(１)中、n1＝１、n2＝０であ
り、A1および／またはA2が１,４−フェニレンである請
求項１記載のプロピオロニトリル誘導体。 - 【請求項２８】 請求項１記載の一般式(１)で表わされ
るプロピオロニトリル誘導体から選択される少なくとも
１種を含有する少なくとも二成分からなることを特徴と
する液晶組成物。 - 【請求項２９】 第一成分が請求項１記載の一般式(１)
で表わされるプロピオロニトリル誘導体から選択される
少なくとも１種、および第二成分が一般式(２) 【化２】 （式中、ａは１または２、ｂは０または１であり、A4は
トランス−１,４−シクロヘキシレン、または未置換も
しくは１個または２個のＦで置換された１,４−フェニ
レン；Z4およびZ5は、それぞれ独立してエチレン基、エ
テニレン基または単結合；R1は炭素数１〜１０のアルキ
ル基；X5は−Ｆ、−CF3、−OCF3、−OCF2Hまたは−Cl；
(F)はＦまたはＨを表す）で表わされる化合物群から選
択される少なくとも１種からなることを特徴とする液晶
組成物。 - 【請求項３０】 第一成分が請求項１記載の一般式(１)
で表わされるプロピオロニトリル誘導体から選択される
少なくとも１種、および第二成分が、一般式(３) R2-(-A5-Z6-)c-(-A6-Z7-)d-(-A7-Z8-)e-A8-(-COO-)f-R3 (３) （式中、ｃ、ｄ、ｅおよびｆはそれぞれ独立して０また
は１であり、A5、A6およびA7はそれぞれ独立してトラン
ス−１,４−シクロヘキシレン、未置換もしくは１個ま
たは２個のＦで置換された１,４−フェニレン、１,３−
ジオキサン−２,５−ジイルまたは１,３−ピリミジン−
２,５−ジイル、A8はトランス−１,４−シクロヘキシレ
ン、または未置換もしくは１個または２個のＦで置換さ
れた１,４−フェニレン；Z6、Z7およびZ8は、それぞれ
独立してエチレン基、エテニレン基、エチニレン基、１
−ブテン−３−イニレン基、カルボニルオキシ基または
単結合；R2は鎖中に１以上のエーテル結合を有していて
もよい炭素数１０までの飽和または不飽和の脂肪族炭化
水素基、R3は−CN、−Ｆ、−OCF3、−OCF2H、−CF3、−
CF2H、−CFH2または鎖中に１以上のエーテル結合を有し
ていてもよい炭素数１０までの飽和または不飽和の脂肪
族炭化水素基である）で表わされる化合物よりなる群か
ら選択される少なくとも１種からなることを特徴とする
液晶組成物。 - 【請求項３１】 第一成分が請求項１記載の一般式(１)
で表わされるプロピオロニトリル誘導体より選択される
少なくとも１種、ならびに第二成分が請求項２９記載の
一般式(２)で表わされる化合物および請求項３０記載の
一般式(３)で表わされる化合物よりなる群から選択され
る少なくとも１種からなることを特徴とする液晶組成
物。 - 【請求項３２】 請求項２８から３１のいずれかに記載
の液晶組成物を用いて構成される液晶表示素子。
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|---|---|---|---|
| JP9186008A JP2807670B2 (ja) | 1996-06-28 | 1997-06-27 | プロピオロニトリル誘導体、液晶組成物および液晶表示素子 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18700496 | 1996-06-28 | ||
| JP8-187004 | 1996-06-28 | ||
| JP9186008A JP2807670B2 (ja) | 1996-06-28 | 1997-06-27 | プロピオロニトリル誘導体、液晶組成物および液晶表示素子 |
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|---|---|
| JPH1095761A JPH1095761A (ja) | 1998-04-14 |
| JP2807670B2 true JP2807670B2 (ja) | 1998-10-08 |
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|---|---|---|---|
| JP9186008A Expired - Lifetime JP2807670B2 (ja) | 1996-06-28 | 1997-06-27 | プロピオロニトリル誘導体、液晶組成物および液晶表示素子 |
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-
1997
- 1997-06-27 JP JP9186008A patent/JP2807670B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
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|---|
| Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｐ．Ｃｒｙｓｔ．，１１１［３−４］ （１９８４） Ｐ．３２９−Ｐ．３４６ |
Also Published As
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|---|---|
| JPH1095761A (ja) | 1998-04-14 |
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