JP2811236B2 - 粒径分布測定装置 - Google Patents
粒径分布測定装置Info
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はレーザ光を例えば自動車
の燃料噴霧等の微粒子群に照射し、該微粒子群により回
折されたレーザ光を受光し、この回折パターンに基づい
て該微粒子群の径の分布を測定する粒径分布測定装置に
関する。
の燃料噴霧等の微粒子群に照射し、該微粒子群により回
折されたレーザ光を受光し、この回折パターンに基づい
て該微粒子群の径の分布を測定する粒径分布測定装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】所定の径を有する微粒子群にレーザ光を
照射し該微粒子群によるフランホーファー回折像を観察
したときその回折パターンと微粒子群の径とが一対一に
対応することに着目し、種々の径を有する微粒子群から
回折されたレーザ光の複合された回折パターンを所定の
アルゴリズムに基づいて解析することにより、微粒子群
の粒径の分布を知る方法が知られている（例えば「表
面」ｖｏｌ．２２ Ｎｏ．２（１９８４）８７（２７）
頁〜９４（３４）頁参照）。この方法では、上記回折パ
ターンが０次光のスポットを中心とした同心的なパター
ンであることから、例えば同心的な１５個の円環形状の
光センサを用いてその回折パターンを受光し、この回折
パターンを解析することにより粒径分布を求めるもので
ある。
照射し該微粒子群によるフランホーファー回折像を観察
したときその回折パターンと微粒子群の径とが一対一に
対応することに着目し、種々の径を有する微粒子群から
回折されたレーザ光の複合された回折パターンを所定の
アルゴリズムに基づいて解析することにより、微粒子群
の粒径の分布を知る方法が知られている（例えば「表
面」ｖｏｌ．２２ Ｎｏ．２（１９８４）８７（２７）
頁〜９４（３４）頁参照）。この方法では、上記回折パ
ターンが０次光のスポットを中心とした同心的なパター
ンであることから、例えば同心的な１５個の円環形状の
光センサを用いてその回折パターンを受光し、この回折
パターンを解析することにより粒径分布を求めるもので
ある。
【０００３】上記多数の円環状の光センサを用いる方法
は、これら多数の円環状光センサからなる光検出器の中
心が光軸と正確に一致するように厳密に位置調整をする
必要があるため、測定の前準備が大変であり、この前準
備を簡単化するために、上記多数の円環状の光センサか
らなる検出器に代えて例えばＣＣＤ等の固体撮像素子を
用いる。前準備としては、大雑把に位置合わせをするだ
けで、厳密な光軸中心は後に別途求めればよい。
は、これら多数の円環状光センサからなる光検出器の中
心が光軸と正確に一致するように厳密に位置調整をする
必要があるため、測定の前準備が大変であり、この前準
備を簡単化するために、上記多数の円環状の光センサか
らなる検出器に代えて例えばＣＣＤ等の固体撮像素子を
用いる。前準備としては、大雑把に位置合わせをするだ
けで、厳密な光軸中心は後に別途求めればよい。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで上記回折光の
パターンに基づいて粒径分布を求めるアルゴリズムは、
微粒子群中のある１つの微粒子で散乱回折されたレーザ
光が再度他の微粒子で散乱（回折）されるという多重散
乱が生じないことが前提とされており、したがって多重
散乱が多く生じると測定誤差となる。
パターンに基づいて粒径分布を求めるアルゴリズムは、
微粒子群中のある１つの微粒子で散乱回折されたレーザ
光が再度他の微粒子で散乱（回折）されるという多重散
乱が生じないことが前提とされており、したがって多重
散乱が多く生じると測定誤差となる。
【０００５】この多重散乱は完全に防止することは難し
く通常の測定でも多少なりとも生じるものであり、した
がってこの粒径分布の測定を行った際に求められた粒径
分布が許容誤差以内にあるか否かが問題とされることと
なる。本発明は、上記事情に鑑み、多重散乱の発生が許
容量以内かどうかを知ることのできる粒径分布測定装置
を提供することを目的とする。
く通常の測定でも多少なりとも生じるものであり、した
がってこの粒径分布の測定を行った際に求められた粒径
分布が許容誤差以内にあるか否かが問題とされることと
なる。本発明は、上記事情に鑑み、多重散乱の発生が許
容量以内かどうかを知ることのできる粒径分布測定装置
を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの本発明の第一の粒径分布測定装置は、レーザ光を微
粒子群に照射する照射光学系と、該微粒子群による回折
像を受光する固体撮像素子と、該固体撮像素子により受
光された回折像パターンに基づいて前記微粒子群の粒径
分布を求める演算手段とを備えた粒径分布測定装置にお
いて、前記微粒子群に照射される前の前記レーザ光の光
量と、前記微粒子群に照射された後の、該微粒子群によ
り回折されない０次光の光量もしくは該微粒子群により
回折された回折光の光量との比率をモニタするモニタ手
段を備えたことを特徴とするものである。
めの本発明の第一の粒径分布測定装置は、レーザ光を微
粒子群に照射する照射光学系と、該微粒子群による回折
像を受光する固体撮像素子と、該固体撮像素子により受
光された回折像パターンに基づいて前記微粒子群の粒径
分布を求める演算手段とを備えた粒径分布測定装置にお
いて、前記微粒子群に照射される前の前記レーザ光の光
量と、前記微粒子群に照射された後の、該微粒子群によ
り回折されない０次光の光量もしくは該微粒子群により
回折された回折光の光量との比率をモニタするモニタ手
段を備えたことを特徴とするものである。
【０００７】また、上記目的を達成するための本発明の
第二の粒径分布測定装置は、レーザ光を微粒子群に照射
する照射光学系と、該微粒子群による回折像を受光する
固体撮像素子と、該固体撮像素子により受光された回折
像パターンに基づいて前記微粒子群の粒径分布を求める
演算手段とを備えた粒径分布測定装置において、前記微
粒子群が存在しない状態における０次光の光量と、前記
微粒子群が存在する状態における０次光の光量もしくは
該微粒子群により回折された回折光の光量との比率をモ
ニタするモニタ手段を備えたことを特徴とするものであ
る。
第二の粒径分布測定装置は、レーザ光を微粒子群に照射
する照射光学系と、該微粒子群による回折像を受光する
固体撮像素子と、該固体撮像素子により受光された回折
像パターンに基づいて前記微粒子群の粒径分布を求める
演算手段とを備えた粒径分布測定装置において、前記微
粒子群が存在しない状態における０次光の光量と、前記
微粒子群が存在する状態における０次光の光量もしくは
該微粒子群により回折された回折光の光量との比率をモ
ニタするモニタ手段を備えたことを特徴とするものであ
る。
【０００８】ここで、上記第一、第二の粒径分布測定装
置において、前記モニタ手段によりモニタされた前記比
率に基づいて前記回折光が所定の比率を越えた場合に警
告を発する警告手段を備えることが好ましい。
置において、前記モニタ手段によりモニタされた前記比
率に基づいて前記回折光が所定の比率を越えた場合に警
告を発する警告手段を備えることが好ましい。
【０００９】
【作用】多重散乱が多いということは一回のみの散乱
（回折）をも含めた全体の散乱（回折）も多く、したが
って散乱されずに残る０次光が減少し、散乱（回折）さ
れた回折光が増加することを意味する。本発明はこの知
見に基づいて完成されたものであり、本発明の第一の粒
径分布測定装置においては微粒子群に照射される前のレ
ーザ光の光量と照射された後の０次光もしくは回折光の
光量との比率をモニタするモニタ手段を備えることによ
り、また本発明の第二の粒径分布測定装置においては微
粒子群の存在しない状態における０次光の光量と、微粒
子群が存在する状態における０次光もしくは回折光の光
量との比率をモニタするモニタ手段を備えることにより
多重散乱の程度を知るようにしたものであり、このこと
により求められた粒径分布が信頼のおけるものか否かが
判断される。
（回折）をも含めた全体の散乱（回折）も多く、したが
って散乱されずに残る０次光が減少し、散乱（回折）さ
れた回折光が増加することを意味する。本発明はこの知
見に基づいて完成されたものであり、本発明の第一の粒
径分布測定装置においては微粒子群に照射される前のレ
ーザ光の光量と照射された後の０次光もしくは回折光の
光量との比率をモニタするモニタ手段を備えることによ
り、また本発明の第二の粒径分布測定装置においては微
粒子群の存在しない状態における０次光の光量と、微粒
子群が存在する状態における０次光もしくは回折光の光
量との比率をモニタするモニタ手段を備えることにより
多重散乱の程度を知るようにしたものであり、このこと
により求められた粒径分布が信頼のおけるものか否かが
判断される。
【００１０】また回折光が所定の比率以上に増えた場合
に警告を発する警告手段を備えることにより、多重散乱
が多すぎないか否か常に注意を払うことなく、求められ
た粒径分布が信頼のおけないものである場合にこのこと
が知覚され、したがってフールプルーフを考慮したより
使い勝手のよい装置となる。
に警告を発する警告手段を備えることにより、多重散乱
が多すぎないか否か常に注意を払うことなく、求められ
た粒径分布が信頼のおけないものである場合にこのこと
が知覚され、したがってフールプルーフを考慮したより
使い勝手のよい装置となる。
【００１１】
【実施例】以下、図面を参照して、本発明の実施例につ
いて説明する。図１は、本発明の一実施例に係る粒径分
布測定装置の概略構成図である。レーザ光源１から射出
されたレーザ光２は、そのレーザ光２の一部を反射する
ミラーに照射され、このミラー３に照射されたレーザ光
２のうちこのミラー３からの反射光は光検出器４でその
光量が検出され、その信号が演算回路５に入力される。
いて説明する。図１は、本発明の一実施例に係る粒径分
布測定装置の概略構成図である。レーザ光源１から射出
されたレーザ光２は、そのレーザ光２の一部を反射する
ミラーに照射され、このミラー３に照射されたレーザ光
２のうちこのミラー３からの反射光は光検出器４でその
光量が検出され、その信号が演算回路５に入力される。
【００１２】一方ミラー３を透過したレーザ光２はピン
ホール板６ａを含む照射光学系６により平行光とされ、
例えば自動車の燃料噴霧等に含まれる微粒子７に照射さ
れる。この微粒子群７に照射されたレーザ光２はその一
部が微粒子群７により回折された後レンズ８により集光
され、その一部はミラー９により反射されピンホール板
１０を０次光だけが通過しその光量が光検出器１１によ
り検出される。この光検出器１１の出力信号も演算回路
５に入力される。
ホール板６ａを含む照射光学系６により平行光とされ、
例えば自動車の燃料噴霧等に含まれる微粒子７に照射さ
れる。この微粒子群７に照射されたレーザ光２はその一
部が微粒子群７により回折された後レンズ８により集光
され、その一部はミラー９により反射されピンホール板
１０を０次光だけが通過しその光量が光検出器１１によ
り検出される。この光検出器１１の出力信号も演算回路
５に入力される。
【００１３】またミラー９を透過したレーザ光はＣＣＤ
１２の前面に照射され、微粒子群７による回折像パター
ンがこのＣＣＤ１２により受光される。図２はこのＣＣ
Ｄ１２の前面における回折像パターンの一例を表わした
図である。微粒子群７がある所定の径の微粒子のみから
構成されている場合は、ＣＣＤ１２上には例えば図２に
破線で示す回折パターン２１が生じ、微粒子群７が他の
所定の径の微粒子群のみから構成されている場合は図２
に一点鎖線で示す回折パターン２２を生じるが、ここで
は微粒子群７は種々の径を有する微粒子から構成されて
いるためこの微粒子群７により形成される回折パターン
２０は種々の径の微粒子による回折パターン（回折パタ
ーン２１、２２等）が重畳されたものとなる。
１２の前面に照射され、微粒子群７による回折像パター
ンがこのＣＣＤ１２により受光される。図２はこのＣＣ
Ｄ１２の前面における回折像パターンの一例を表わした
図である。微粒子群７がある所定の径の微粒子のみから
構成されている場合は、ＣＣＤ１２上には例えば図２に
破線で示す回折パターン２１が生じ、微粒子群７が他の
所定の径の微粒子群のみから構成されている場合は図２
に一点鎖線で示す回折パターン２２を生じるが、ここで
は微粒子群７は種々の径を有する微粒子から構成されて
いるためこの微粒子群７により形成される回折パターン
２０は種々の径の微粒子による回折パターン（回折パタ
ーン２１、２２等）が重畳されたものとなる。
【００１４】図１に示すＣＣＤ１２により受光され電気
信号に変換された回折パターンは、演算回路５に入力さ
れ、この演算回路５では、この回折パターンを表わす信
号に基づいて、例えば図３に一例を示すように各粒径ｄ
を有する粒子の粒径分布Ｎが求められる。図４（Ａ）、
（Ｂ）は、０次光をカットするためのマスクと回折光を
減衰させるためのフィルタを施したガラス板が表面に貼
付されたＣＣＤの一例を表わした正面図である。
信号に変換された回折パターンは、演算回路５に入力さ
れ、この演算回路５では、この回折パターンを表わす信
号に基づいて、例えば図３に一例を示すように各粒径ｄ
を有する粒子の粒径分布Ｎが求められる。図４（Ａ）、
（Ｂ）は、０次光をカットするためのマスクと回折光を
減衰させるためのフィルタを施したガラス板が表面に貼
付されたＣＣＤの一例を表わした正面図である。
【００１５】本実施例ではＣＣＤ１２は、図４（Ａ）の
左上端に０次光が照射されるようにその概略の光軸調整
が行われることが予定されており、したがって０次光を
カットするマスク２３がＣＣＤ１２の表面の左上端に貼
付される。また回折パターンは、図２に示すように平均
的には光軸中心（０次光の照射位置）に近い領域ほどそ
の光量が大きく、光軸中心から離れるにしたがってその
光量は減衰する。そこで本実施例ではマスク２３に隣接
する、図４の左上の領域に一様な濃度のＮＤフィルタ２
４が貼付されている。
左上端に０次光が照射されるようにその概略の光軸調整
が行われることが予定されており、したがって０次光を
カットするマスク２３がＣＣＤ１２の表面の左上端に貼
付される。また回折パターンは、図２に示すように平均
的には光軸中心（０次光の照射位置）に近い領域ほどそ
の光量が大きく、光軸中心から離れるにしたがってその
光量は減衰する。そこで本実施例ではマスク２３に隣接
する、図４の左上の領域に一様な濃度のＮＤフィルタ２
４が貼付されている。
【００１６】ここで、ＣＣＤ１２の左端はマスク２３で
覆われており０次光は受光されないため、本実施例では
回折光パターンが光軸中心を中心とした回転対象である
ことを利用し、演算手段５（図１参照）において、ＣＣ
Ｄ１２で受光された回折パターンを所定のしきい値で２
値化処理することにより、例えば図４に破線で示す円弧
２５が求められ、この円弧２５の中心点０が求められ、
これによりその中心点が光軸中心０とされる。演算手段
７では、上記のように光軸中心０を求めた後、回折パタ
ーンのうちＮＤフィルタ２４により減衰された分が補正
され、この補正された回折パターンに基づいて微粒子群
７の粒径分布が求められる。この求められた粒径分布を
表わす信号はＣＲＴディスプレイ１３に送られ、このＣ
ＲＴディスプレイ１３の表示画面上に、例えば図３に示
すようなグラフ、もしくは一覧表の形式で粒径分布が表
示される。
覆われており０次光は受光されないため、本実施例では
回折光パターンが光軸中心を中心とした回転対象である
ことを利用し、演算手段５（図１参照）において、ＣＣ
Ｄ１２で受光された回折パターンを所定のしきい値で２
値化処理することにより、例えば図４に破線で示す円弧
２５が求められ、この円弧２５の中心点０が求められ、
これによりその中心点が光軸中心０とされる。演算手段
７では、上記のように光軸中心０を求めた後、回折パタ
ーンのうちＮＤフィルタ２４により減衰された分が補正
され、この補正された回折パターンに基づいて微粒子群
７の粒径分布が求められる。この求められた粒径分布を
表わす信号はＣＲＴディスプレイ１３に送られ、このＣ
ＲＴディスプレイ１３の表示画面上に、例えば図３に示
すようなグラフ、もしくは一覧表の形式で粒径分布が表
示される。
【００１７】また、２つの光検出器４、１１で検出され
た光量は、演算手段５でその比率ηが求められる。ここ
でこの比率７は光検出器４により検出された微粒子群７
に照射される前のレーザ光２の光量をＥ１、光検出器１
１により検出された微粒子群７に照射された後の該微粒
子群により回折されない０次光の光量をＥ２としたと
き、η＝Ｅ２／Ｅ１で定義される。演算回路７内ではこ
の比率ηが所定のしきい値Ｔｈ１と比較され、η＜Ｔｈ
１であった場合にブザー１４に信号が送られ、警告音が
発せられる。この比率ηが所定のしきい値Ｔｈ１より低
いということは微粒子群７に照射されたレーザ光２の光
量に対する、この微粒子群７により回折された光の比率
が大きいことを表わし、したがってこの場合多重散乱も
許容レベルを越えていることに対応している。
た光量は、演算手段５でその比率ηが求められる。ここ
でこの比率７は光検出器４により検出された微粒子群７
に照射される前のレーザ光２の光量をＥ１、光検出器１
１により検出された微粒子群７に照射された後の該微粒
子群により回折されない０次光の光量をＥ２としたと
き、η＝Ｅ２／Ｅ１で定義される。演算回路７内ではこ
の比率ηが所定のしきい値Ｔｈ１と比較され、η＜Ｔｈ
１であった場合にブザー１４に信号が送られ、警告音が
発せられる。この比率ηが所定のしきい値Ｔｈ１より低
いということは微粒子群７に照射されたレーザ光２の光
量に対する、この微粒子群７により回折された光の比率
が大きいことを表わし、したがってこの場合多重散乱も
許容レベルを越えていることに対応している。
【００１８】尚、上記実施例では、ピンホール板１０及
び光検出器１１を備えて０次光の光量をモニタするよう
にしたが、これに代えて、図４に示すマスク２３として
０次光を完全にカットするマスクではなくＣＣＤ１２で
０次光の光量を正しく測定できる程度の高濃度のフィル
タを配置し、ＣＣＤ１２で０次光の光量をモニタするよ
うにしてもよい。
び光検出器１１を備えて０次光の光量をモニタするよう
にしたが、これに代えて、図４に示すマスク２３として
０次光を完全にカットするマスクではなくＣＣＤ１２で
０次光の光量を正しく測定できる程度の高濃度のフィル
タを配置し、ＣＣＤ１２で０次光の光量をモニタするよ
うにしてもよい。
【００１９】また０次光の光量をモニタすることに代
え、ＣＣＤ１２により、もしくは他の光検出器を備えて
回折光の全光量をモニタするようにしてもよい。この場
合、光検出器４で検出された光量に対する回折光の光量
の比率が所定のしきい値以上であった場合に警告を発す
ることとなる。またミラー３、光検出器４を備えて微粒
子群７に照射される前のレーザ光２の光量を検出するこ
とに代え、微粒子群７が存在しない状態における０次光
の光量Ｅ４を光検出器１１で検出すると共に微粒子群７
が存在する状態における０次光の光量Ｅ５を光検出器１
１で検出し、それらの光量比ξ＝Ｅ５／Ｅ４があるしき
い値Ｔｈ２よりも低いとき、多重散乱が許容レベルを越
えていると判定してもよい。この方式は、微粒子群７の
存在しない時と存在するときの２回測定を行う必要があ
るがミラー３や光検出器４が不要であること、照射光学
系６の汚れ等の影響がキャンセルされ、したがってより
正確な判定を行うことができること等の長所を有する。
なお、この方式においても、前述した方式と同様に光検
出器１１に代えてＣＣＤ１２で０次光の検出を行っても
よく、また微粒子群７が存在する時に検出する光は０次
光ではなく回折光であってもよい。
え、ＣＣＤ１２により、もしくは他の光検出器を備えて
回折光の全光量をモニタするようにしてもよい。この場
合、光検出器４で検出された光量に対する回折光の光量
の比率が所定のしきい値以上であった場合に警告を発す
ることとなる。またミラー３、光検出器４を備えて微粒
子群７に照射される前のレーザ光２の光量を検出するこ
とに代え、微粒子群７が存在しない状態における０次光
の光量Ｅ４を光検出器１１で検出すると共に微粒子群７
が存在する状態における０次光の光量Ｅ５を光検出器１
１で検出し、それらの光量比ξ＝Ｅ５／Ｅ４があるしき
い値Ｔｈ２よりも低いとき、多重散乱が許容レベルを越
えていると判定してもよい。この方式は、微粒子群７の
存在しない時と存在するときの２回測定を行う必要があ
るがミラー３や光検出器４が不要であること、照射光学
系６の汚れ等の影響がキャンセルされ、したがってより
正確な判定を行うことができること等の長所を有する。
なお、この方式においても、前述した方式と同様に光検
出器１１に代えてＣＣＤ１２で０次光の検出を行っても
よく、また微粒子群７が存在する時に検出する光は０次
光ではなく回折光であってもよい。
【００２０】また、図１に示す実施例ではブザー１４で
警告音を発する構成としたが、本発明では警告音を発す
ることに限定されるものではなく、例えば警告用ランプ
を備えてそのランプが点灯もしくは点滅されるようにし
てもよく、ＣＲＴディスプレイ１３の表示画面上に警告
用の文字を表示し、もしくは点滅させるようにしてもよ
い。
警告音を発する構成としたが、本発明では警告音を発す
ることに限定されるものではなく、例えば警告用ランプ
を備えてそのランプが点灯もしくは点滅されるようにし
てもよく、ＣＲＴディスプレイ１３の表示画面上に警告
用の文字を表示し、もしくは点滅させるようにしてもよ
い。
【００２１】さらに本発明においては警告手段を備える
ことは必ずしも必要ではなく、例えばＣＲＴディスプレ
イ１３上に図３に示すようなグラフと共に上記比率ηや
比率ξ等を表示し、求められた粒径分布が信頼のおける
ものか否かの判断は測定者に委ねるようにしてもよいも
のである。
ことは必ずしも必要ではなく、例えばＣＲＴディスプレ
イ１３上に図３に示すようなグラフと共に上記比率ηや
比率ξ等を表示し、求められた粒径分布が信頼のおける
ものか否かの判断は測定者に委ねるようにしてもよいも
のである。
【００２２】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の第
一の粒径分布測定装置は、微粒子群に照射される前のレ
ーザ光の光量と微粒子群に照射された後の０次光もしく
は回折光の光量との比率をモニタするようにしたため、
また本発明の第二の粒径分布測定装置は、微粒子群が存
在しない状態における０次光の光量と、微粒子群が存在
する状態における０次光もしくは回折光の光量との比率
をモニタするようにしたため、多重散乱の発生が許容さ
れるレベル以内か否かを知ることができる。また、この
比率に基づいて多重散乱の発生が許容レベルを越えてい
るときに警告するように構成した場合、より使い易い装
置となる。
一の粒径分布測定装置は、微粒子群に照射される前のレ
ーザ光の光量と微粒子群に照射された後の０次光もしく
は回折光の光量との比率をモニタするようにしたため、
また本発明の第二の粒径分布測定装置は、微粒子群が存
在しない状態における０次光の光量と、微粒子群が存在
する状態における０次光もしくは回折光の光量との比率
をモニタするようにしたため、多重散乱の発生が許容さ
れるレベル以内か否かを知ることができる。また、この
比率に基づいて多重散乱の発生が許容レベルを越えてい
るときに警告するように構成した場合、より使い易い装
置となる。
【図１】本発明の一実施例に係る粒径分布測定装置の概
略構成図である。
略構成図である。
【図２】ＣＣＤ前面における回折像パターンの一例を表
わした図である。
わした図である。
【図３】測定された粒径分布の一例を表わした図であ
る。
る。
【図４】０次光をカットするためのマスクと回折光を減
衰させるためのフィルタが施されたガラス板が表面に貼
付されたＣＣＤの一例を表わした正面図である。
衰させるためのフィルタが施されたガラス板が表面に貼
付されたＣＣＤの一例を表わした正面図である。
１ レーザ光源 ２ レーザ光 ３、９ ミラー ４、１１ 光検
出器 ５ 演算回路 ６ 照射光学系 ６ａ ピンホール板 ７ 微粒子群 ８ レンズ １０ ピンホー
ル板 １２ ＣＣＤ １３ ＣＲＴデ
ィスプレイ １４ ブザー ２３ マスク ２４ ＮＤフィルタ
出器 ５ 演算回路 ６ 照射光学系 ６ａ ピンホール板 ７ 微粒子群 ８ レンズ １０ ピンホー
ル板 １２ ＣＣＤ １３ ＣＲＴデ
ィスプレイ １４ ブザー ２３ マスク ２４ ＮＤフィルタ
Claims (3)
- 【請求項１】 レーザ光を微粒子群に照射する照射光学
系と、該微粒子群による回折像を受光する固体撮像素子
と、該固体撮像素子により受光された回折像パターンに
基づいて前記微粒子群の粒径分布を求める演算手段とを
備えた粒径分布測定装置において、前記微粒子群に照射
される前の前記レーザ光の光量と、前記微粒子群に照射
された後の、該微粒子群により回折されない０次光の光
量もしくは該微粒子群により回折された回折光の光量と
の比率をモニタするモニタ手段を備えたことを特徴とす
る粒径分布測定装置。 - 【請求項２】 レーザ光を微粒子群に照射する照射光学
系と、該微粒子群による回折像を受光する固体撮像素子
と、該固体撮像素子により受光された回折像パターンに
基づいて前記微粒子群の粒径分布を求める演算手段とを
備えた粒径分布測定装置において、前記微粒子群が存在
しない状態における０次光の光量と、前記微粒子群が存
在する状態における０次光の光量もしくは該微粒子群に
より回折された回折光の光量との比率をモニタするモニ
タ手段を備えたことを特徴とする粒径分布測定装置。 - 【請求項３】 前記モニタ手段によりモニタされた前記
比率に基づいて前記回折光が所定の比率を越えた場合に
警告を発する警告手段を備えたことを特徴とする請求項
１又は２記載の粒径分布測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3063217A JP2811236B2 (ja) | 1991-03-27 | 1991-03-27 | 粒径分布測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3063217A JP2811236B2 (ja) | 1991-03-27 | 1991-03-27 | 粒径分布測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04297852A JPH04297852A (ja) | 1992-10-21 |
| JP2811236B2 true JP2811236B2 (ja) | 1998-10-15 |
Family
ID=13222819
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3063217A Expired - Fee Related JP2811236B2 (ja) | 1991-03-27 | 1991-03-27 | 粒径分布測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2811236B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2956653B2 (ja) * | 1996-12-16 | 1999-10-04 | 日本電気株式会社 | パーティクルモニター装置 |
| GB2429058B (en) * | 2004-03-06 | 2008-12-03 | Michael Trainer | Method and apparatus for determining the size and shape of particles |
| JP6473580B2 (ja) * | 2013-07-29 | 2019-02-20 | 学校法人 東洋大学 | 粒径測定装置および粒径測定方法 |
-
1991
- 1991-03-27 JP JP3063217A patent/JP2811236B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04297852A (ja) | 1992-10-21 |
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