JPH04157339A - 粒径・速度測定装置 - Google Patents
粒径・速度測定装置Info
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- JPH04157339A JPH04157339A JP2280575A JP28057590A JPH04157339A JP H04157339 A JPH04157339 A JP H04157339A JP 2280575 A JP2280575 A JP 2280575A JP 28057590 A JP28057590 A JP 28057590A JP H04157339 A JPH04157339 A JP H04157339A
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- G01P3/68—Devices characterised by the determination of the time taken to traverse a fixed distance using optical means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明は、微小な粒子の粒径及び速度を測定するための
粒径・速度測定装置に関する。
粒径・速度測定装置に関する。
（従来の技術）
従来、微小粒子の粒径及び速度を測定する方法として、
被測定粒子による光の散乱を利用する方法があり、その
中の一つにフォトカウント法と呼ばれる方法がある。
被測定粒子による光の散乱を利用する方法があり、その
中の一つにフォトカウント法と呼ばれる方法がある。
第１０図に示すように、フォトカウント法を用いた粒径
・速度測定装置の主要部は照射光学系Ａおよび受光光学
系Ｂで構成されている。照射光学系Ａの光源１から出射
された光は、レンズ２を介して光ファイバ３に入り、測
定点近傍まで導かれた後に、角形導波管４に入射される
。さらに、光は、角形導波管４内を伝わり、これから出
射されてレンズ５及びプリズム６を介してＰ点に導かれ
る。レンズ５及びプリズム６は、角形導波管４の出口の
像がＰ点に結像される関係に配置されている。一方、受
光光学系Ｂにおいては、Ｐ点の像がレンズ７及びスリッ
ト８を介して光ファイバ９に入射される。レンズ７は、
スリット８の像をＰ点に結像する関係に配置されている
。
・速度測定装置の主要部は照射光学系Ａおよび受光光学
系Ｂで構成されている。照射光学系Ａの光源１から出射
された光は、レンズ２を介して光ファイバ３に入り、測
定点近傍まで導かれた後に、角形導波管４に入射される
。さらに、光は、角形導波管４内を伝わり、これから出
射されてレンズ５及びプリズム６を介してＰ点に導かれ
る。レンズ５及びプリズム６は、角形導波管４の出口の
像がＰ点に結像される関係に配置されている。一方、受
光光学系Ｂにおいては、Ｐ点の像がレンズ７及びスリッ
ト８を介して光ファイバ９に入射される。レンズ７は、
スリット８の像をＰ点に結像する関係に配置されている
。
第１１図に示すように、Ｐ点にて照射光学系Ａの光軸と
受光光学系Ｂの光軸とのなす角度θが９０″のとき、Ｐ
点の周りには照射光学系Ａおよび受光光学系Ｂによって
規定される立方体の測定視野Ｅが形成される。この場合
に、角形導波管４の存在によって、測定視野Ｅ内の光強
度分布は、第１２図に示すように一定に保たれる。
受光光学系Ｂの光軸とのなす角度θが９０″のとき、Ｐ
点の周りには照射光学系Ａおよび受光光学系Ｂによって
規定される立方体の測定視野Ｅが形成される。この場合
に、角形導波管４の存在によって、測定視野Ｅ内の光強
度分布は、第１２図に示すように一定に保たれる。
このような装置では、第１１図に示すように、測定視野
Ｅ内を被測定粒子Ｍが通過したとき、粒子Ｍによる散乱
光がレンズ７及びスリ・ソト８を介して光ファイバ９に
導かれる。次いで、光は、光ファイバ９から光電子増倍
管等を有する光検出器１０に導かれ、光検出器１０によ
って電気信号に変換される。すなわち、散乱光の強度に
対応した大きさの散乱光パルス信号Ｓに変換される。さ
らに、散乱光パルス信号Ｓは、図示しない信号処理装置
に導入される。この信号処理装置では、散乱光パルス信
号Ｓの大きさと粒径との間に所定の関係、例えば波長に
比して大きい径の粒子の場合は、散乱光パルｉ信号Ｓの
高さが粒径のほぼ二乗に比例するという関係があること
を利用して粒径が算出される。
Ｅ内を被測定粒子Ｍが通過したとき、粒子Ｍによる散乱
光がレンズ７及びスリ・ソト８を介して光ファイバ９に
導かれる。次いで、光は、光ファイバ９から光電子増倍
管等を有する光検出器１０に導かれ、光検出器１０によ
って電気信号に変換される。すなわち、散乱光の強度に
対応した大きさの散乱光パルス信号Ｓに変換される。さ
らに、散乱光パルス信号Ｓは、図示しない信号処理装置
に導入される。この信号処理装置では、散乱光パルス信
号Ｓの大きさと粒径との間に所定の関係、例えば波長に
比して大きい径の粒子の場合は、散乱光パルｉ信号Ｓの
高さが粒径のほぼ二乗に比例するという関係があること
を利用して粒径が算出される。
（発明が解決しようとする課題）
しかしながら、従来の粒径・速度測定装置においては、
測定視野の周縁部を通過する粒子の散乱光パルス信号が
正しく測定されず、測定値に誤差を生じる。この測定値
誤差の発生原理について図面を参照しながら説明する。
測定視野の周縁部を通過する粒子の散乱光パルス信号が
正しく測定されず、測定値に誤差を生じる。この測定値
誤差の発生原理について図面を参照しながら説明する。
第１３図に示すように、粒子Ｍ、が測定視野Ｅの中央部
を通過した場合には、正しい散乱光パルス信号Ｓ１が得
られる。ところが、粒子Ｍ２が測定視野Ｅの周縁部を通
過した場合には、検出される散乱光パルス信号Ｓ２の高
さは正しい信号Ｓ。
を通過した場合には、正しい散乱光パルス信号Ｓ１が得
られる。ところが、粒子Ｍ２が測定視野Ｅの周縁部を通
過した場合には、検出される散乱光パルス信号Ｓ２の高
さは正しい信号Ｓ。
の高さ（Ｉ ｗａｘ ）よりも低くなる。このため、粒
子Ｍ、と粒子Ｍ２が実際には同じ粒径及び速度であって
も、信号処理装置における演算結果では粒子Ｍ２のほう
が粒子Ｍ１よりも小さくなり、δ−１定粒径に誤差を生
じる。
子Ｍ、と粒子Ｍ２が実際には同じ粒径及び速度であって
も、信号処理装置における演算結果では粒子Ｍ２のほう
が粒子Ｍ１よりも小さくなり、δ−１定粒径に誤差を生
じる。
また、検出した散乱光パルス信号のＳＮ比が大きくノイ
ズが多い場合には、きれいな波形が得られず、散乱光パ
ルス信号の幅から速度を算出する方法では測定誤差が大
きくなる。
ズが多い場合には、きれいな波形が得られず、散乱光パ
ルス信号の幅から速度を算出する方法では測定誤差が大
きくなる。
以上のように、従来の装置では、粒子がΔＰＩ定視野内
に正しく入らないまま通過した場合には、誤った測定結
果を出力してしまい、信頼性に欠けるという欠点がある
。
に正しく入らないまま通過した場合には、誤った測定結
果を出力してしまい、信頼性に欠けるという欠点がある
。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、粒
径・速度測定装置を提供することを目的とする。
径・速度測定装置を提供することを目的とする。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段）
本発明に係る粒径・速度測定装置は、インコヒーレント
な光源と、この光源から出射された光を測定視野に導く
光伝送系と、前記測定視野に到達する光、または、測定
視野を通過した光を部分的に透過するスリット状の部分
透過膜と、前記測定視野内を通過する粒子によって散乱
された光をパルス信号として検出する散乱光パルス信号
検出手段と、検出された散乱光パルス信号の波形が正常
であるか否かを判定し、正常な波形の散乱光パルス信号
のみを選別する判定選別手段と、判定選別された正常波
形のパルス信号に基づき粒子の粒径及び速度を求める演
算手段と、を有することを特徴とする。
な光源と、この光源から出射された光を測定視野に導く
光伝送系と、前記測定視野に到達する光、または、測定
視野を通過した光を部分的に透過するスリット状の部分
透過膜と、前記測定視野内を通過する粒子によって散乱
された光をパルス信号として検出する散乱光パルス信号
検出手段と、検出された散乱光パルス信号の波形が正常
であるか否かを判定し、正常な波形の散乱光パルス信号
のみを選別する判定選別手段と、判定選別された正常波
形のパルス信号に基づき粒子の粒径及び速度を求める演
算手段と、を有することを特徴とする。
スリット状の部分透過膜は、測定視野の前後のいずれの
位置に設けてもよい。すなわち、測定視野に光を照射す
る照射光学系に設けてもよく、測定視野からの光を受光
する受光光学系に設けてもよい。
位置に設けてもよい。すなわち、測定視野に光を照射す
る照射光学系に設けてもよく、測定視野からの光を受光
する受光光学系に設けてもよい。
（作用）
本発明に係る粒径・速度測定装置では、光伝送系にスリ
ット状の部分透過膜を設けているので、これに光を透過
させると、縞状の光束となって測定視野に到達する。測
定視野内に粒子を導入し、縞状の光束を横切らせると、
光が存在するところでは散乱光が得られ、光が存在しな
いところでは散乱光が得られない。散乱光を検出し、こ
れを電気信号に変換して散乱光パルス信号とする。この
ような散乱光パルス信号を判定選別手段により所定の基
準波形と比較し、基準波形に合致するもののみを選別す
る。基準波形は、粒子がｎ１定視野の中央部を通過した
ときに得られる散乱光パルス信号の波形及び波数に対応
している。この基準波形を予め設定しておき、検出波形
を基準波形と比較することにより、被測定粒子が測定視
野内を正しく通過したか否かを判定する。粒子が正しく
通過したと判定した場合には、そのパルス信号から得ら
れる情報を演算に用い、正しく通過していないと判定し
た場合には、そのパルス信号は棄却する。
ット状の部分透過膜を設けているので、これに光を透過
させると、縞状の光束となって測定視野に到達する。測
定視野内に粒子を導入し、縞状の光束を横切らせると、
光が存在するところでは散乱光が得られ、光が存在しな
いところでは散乱光が得られない。散乱光を検出し、こ
れを電気信号に変換して散乱光パルス信号とする。この
ような散乱光パルス信号を判定選別手段により所定の基
準波形と比較し、基準波形に合致するもののみを選別す
る。基準波形は、粒子がｎ１定視野の中央部を通過した
ときに得られる散乱光パルス信号の波形及び波数に対応
している。この基準波形を予め設定しておき、検出波形
を基準波形と比較することにより、被測定粒子が測定視
野内を正しく通過したか否かを判定する。粒子が正しく
通過したと判定した場合には、そのパルス信号から得ら
れる情報を演算に用い、正しく通過していないと判定し
た場合には、そのパルス信号は棄却する。
パルス信号から得られる情報には、パルスの波数及び波
形、並びにバースト信号の周波数が含まれている。パル
スの波数およびパルス高さからは粒径を求める。また、
バースト信号の周波数と測定視野の幅からは、粒子の速
度を求める。測定視野を正しく通過した粒子の散乱光パ
ルス信号だけがデータとして使用されることになるので
、高精度の粒径測定が可能となり、さらに、ＳＮ比の悪
い信号のときでも、精度よく速度を測定することができ
る。
形、並びにバースト信号の周波数が含まれている。パル
スの波数およびパルス高さからは粒径を求める。また、
バースト信号の周波数と測定視野の幅からは、粒子の速
度を求める。測定視野を正しく通過した粒子の散乱光パ
ルス信号だけがデータとして使用されることになるので
、高精度の粒径測定が可能となり、さらに、ＳＮ比の悪
い信号のときでも、精度よく速度を測定することができ
る。
（実施例）
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施例につ
いて具体的に説明する。
いて具体的に説明する。
第１図に示すように、粒径・速度測定装置は、照射光学
系Ａ１受光光学系Ｂ並びに処理系Ｃで構成されている。
系Ａ１受光光学系Ｂ並びに処理系Ｃで構成されている。
照射光学系Ａの光源１にはインコヒーレントな光源を用
いる。光源１から出射された光は、レンズ２を介して光
ファイバ３に入り、測定点近傍まで導かれた後に、角形
導波管４に入射される。角形導波管４の出口側端面には
第１のスリット１５が設けられている。第１のスリット
１５の下流側にはプリズム６が配置され、レンズ５を介
してプリズム６に光が投射されるようになっている。レ
ンズ５及びプリズム６は、角形導波管４の出口の像がＰ
点に結像される関係に配置されている。
いる。光源１から出射された光は、レンズ２を介して光
ファイバ３に入り、測定点近傍まで導かれた後に、角形
導波管４に入射される。角形導波管４の出口側端面には
第１のスリット１５が設けられている。第１のスリット
１５の下流側にはプリズム６が配置され、レンズ５を介
してプリズム６に光が投射されるようになっている。レ
ンズ５及びプリズム６は、角形導波管４の出口の像がＰ
点に結像される関係に配置されている。
図示しない粒子供給源から測定視野Ｅ内に被測定粒子Ｍ
が所望の粒子数、速度、方向の条件で導入されるように
なっている。
が所望の粒子数、速度、方向の条件で導入されるように
なっている。
一方、受光光学系Ｂにおいては、Ｐ点の像がレンズ７及
び第２のスリット８を介して光ファイバ９に入射される
ようになっている。レンズ７は、第２のスリット８の像
がＰ点に結像する関係に配置されている。測定視野Ｅは
、このＰ点を含み、ある体積領域をもってＰ点の周囲に
形成される。
び第２のスリット８を介して光ファイバ９に入射される
ようになっている。レンズ７は、第２のスリット８の像
がＰ点に結像する関係に配置されている。測定視野Ｅは
、このＰ点を含み、ある体積領域をもってＰ点の周囲に
形成される。
Ｐ点にて照射光学系Ａの光軸と受光光学系Ｂの光軸との
なす交差角度θが、例えば９０″のとき、Ｐ点の周りに
は照射光学系Ａおよび受光光学系Ｂによって規定される
直方体の測定視野Ｅが形成される。一般に、交差角度θ
が小さくなるに伴い、散乱光の検出感度が増大する。本
実施例では、交差角度θを３０″に設定しである。
なす交差角度θが、例えば９０″のとき、Ｐ点の周りに
は照射光学系Ａおよび受光光学系Ｂによって規定される
直方体の測定視野Ｅが形成される。一般に、交差角度θ
が小さくなるに伴い、散乱光の検出感度が増大する。本
実施例では、交差角度θを３０″に設定しである。
処理系Ｃの光検出器１０は、受光光学系Ｂの光ファイバ
９の出口側に設けられ、検出光は光検出器１０により電
気信号に変換されるようになっている。
９の出口側に設けられ、検出光は光検出器１０により電
気信号に変換されるようになっている。
光検出器１０の出力側は増幅器１１を介して波形記憶装
置１２の入力側に接続され、波形記憶装置１２の出力側
は演算装置１３の入力側に接続されている。波形記憶装
置１２には、基準波形を予め記憶させである。ＩＸｉ準
波形波形粒子が測定視野の中央部を通過したときに得ら
れる散乱光パルス信号の波形及び波数に対応している。
置１２の入力側に接続され、波形記憶装置１２の出力側
は演算装置１３の入力側に接続されている。波形記憶装
置１２には、基準波形を予め記憶させである。ＩＸｉ準
波形波形粒子が測定視野の中央部を通過したときに得ら
れる散乱光パルス信号の波形及び波数に対応している。
演算装置１３では、波形記憶袋ＦＩｊ、１２から呼び出
した基準波形と、検出波形とを比較することにより、被
測定粒子が測定視野Ｅを正しく通過したが否がを判定す
る。なお、演算装置１３の出力側には表示装置１４が接
続されている。
した基準波形と、検出波形とを比較することにより、被
測定粒子が測定視野Ｅを正しく通過したが否がを判定す
る。なお、演算装置１３の出力側には表示装置１４が接
続されている。
第９図は、波長に比して粒径が大きい場合について、横
軸に粒径をとり、縦軸に散乱光パルス信号の高さ（相対
値）をとって、光軸の交差角度θが検出感度に及ぼす影
響を示すグラフ図である。
軸に粒径をとり、縦軸に散乱光パルス信号の高さ（相対
値）をとって、光軸の交差角度θが検出感度に及ぼす影
響を示すグラフ図である。
図から明らかなように、散乱光パルス信号の高さは粒径
のほぼ二乗に比例する。演算装置１３では、このような
両者の相関関係を利用して粒径を求める。また、交差角
度θが９０″のときより３０’のときのほうが、散乱光
パルス信号の高さは高くなり、検出精度は大幅に増大す
る。
のほぼ二乗に比例する。演算装置１３では、このような
両者の相関関係を利用して粒径を求める。また、交差角
度θが９０″のときより３０’のときのほうが、散乱光
パルス信号の高さは高くなり、検出精度は大幅に増大す
る。
第２図に示すように、第１のスリット１５は、角形の膜
状をなし、その面上に二列帯状のマスク１６が形成され
ている。マスク１６の部分は光を遮り、→スフ１６を除
く窓１７の部分は光透過性を有する。マスク１６及び窓
１７は等間隔に設けられている。また、マスク１６は、
スリット１５の端部から端部まで幅が一様に設けられて
いる。
状をなし、その面上に二列帯状のマスク１６が形成され
ている。マスク１６の部分は光を遮り、→スフ１６を除
く窓１７の部分は光透過性を有する。マスク１６及び窓
１７は等間隔に設けられている。また、マスク１６は、
スリット１５の端部から端部まで幅が一様に設けられて
いる。
第３図を参照しながら、角形導波管４および第１のスリ
ット１５の機能を説明する。角形導波管４が無い状態で
は、ファイバ３から放射された光は、第２図中の破線で
示すように円錐状に広がり、Ｄ−Ｄ断面においては第３
図中の破線で示すようにガウス分布の光強度となる。角
形導波管４及び第１スリツト１５が有る状態では、ファ
イバ３から放射された光は、第２図中の実線で示すよう
に導波管４内を伝わり、Ｄ−Ｄ断面においては第３図中
の実線で示すように同一高さ（光強度）及び幅の三つの
パルス光が得られる。
ット１５の機能を説明する。角形導波管４が無い状態で
は、ファイバ３から放射された光は、第２図中の破線で
示すように円錐状に広がり、Ｄ−Ｄ断面においては第３
図中の破線で示すようにガウス分布の光強度となる。角
形導波管４及び第１スリツト１５が有る状態では、ファ
イバ３から放射された光は、第２図中の実線で示すよう
に導波管４内を伝わり、Ｄ−Ｄ断面においては第３図中
の実線で示すように同一高さ（光強度）及び幅の三つの
パルス光が得られる。
第４図を参照しながら、測定視野Ｅについて説明する。
角形導波管４および第１スリツト１５を通過した光は、
第４図に示すように、測定視野Ｅ内で縞状を呈する。す
なわち、２本の遮光領域１８（図中の斜線部）及び３本
の光透過領域１９が交互に並ぶようになる。
第４図に示すように、測定視野Ｅ内で縞状を呈する。す
なわち、２本の遮光領域１８（図中の斜線部）及び３本
の光透過領域１９が交互に並ぶようになる。
次に、第５図乃至第７図を参照しながら、粒子Ｍが測定
視野Ｅの種々異なる箇所を通過したときの判定方法につ
いて説明する。
視野Ｅの種々異なる箇所を通過したときの判定方法につ
いて説明する。
被測定粒子Ｍは、測定視野Ｅの縞状光１９の長手方向に
対して直交する方向から測定視野Ｅに導入される。粒子
Ｍが、第４図中の行路Ｉに示すように測定視野Ｅの中央
部を正しく通過するときは、第５図に示すように、検出
器１０により同−幅及び高さの三つの散乱光パルス信号
が検出される。
対して直交する方向から測定視野Ｅに導入される。粒子
Ｍが、第４図中の行路Ｉに示すように測定視野Ｅの中央
部を正しく通過するときは、第５図に示すように、検出
器１０により同−幅及び高さの三つの散乱光パルス信号
が検出される。
この検出波形は、波形記憶装置１１に予め記憶されてい
る基準波形に合致するので、演算装置１゛３において粒
径および速度を求める演算データとして用いられる。
る基準波形に合致するので、演算装置１゛３において粒
径および速度を求める演算データとして用いられる。
粒子Ｍが、第４図中の行路■に示すように通過するとき
は、第６図に示すように、検出された散乱光パルス信号
は同−幅及び高さではあるが、波数は二つだけである。
は、第６図に示すように、検出された散乱光パルス信号
は同−幅及び高さではあるが、波数は二つだけである。
この検出波形は、基準波形に合致しないので、演算デー
タとしては用い７ぽい。
タとしては用い７ぽい。
粒子Ｍが、第４図中の行路■に示すように通過するとき
は、第７図に示すように、検出された散乱光パルス信号
の波数は三つであるが、３番目のパルスの幅が狭くなる
。この検出波形は、基準波形に合致しないので、演算デ
ータとしては用いない。
は、第７図に示すように、検出された散乱光パルス信号
の波数は三つであるが、３番目のパルスの幅が狭くなる
。この検出波形は、基準波形に合致しないので、演算デ
ータとしては用いない。
このようにして基準波形に合致するデータのみを選別し
て演算に用いるので、従来装置よりも粒径および速度の
測定結果の信頼性が向上する。特に、測定視野Ｅの周縁
領域を粒子Ｍが通過したときには、パルス幅及び波数の
変動を容易に検出し、これらのデータを棄却することが
できるので、高精度の測定結果を得ることが可能となる
。
て演算に用いるので、従来装置よりも粒径および速度の
測定結果の信頼性が向上する。特に、測定視野Ｅの周縁
領域を粒子Ｍが通過したときには、パルス幅及び波数の
変動を容易に検出し、これらのデータを棄却することが
できるので、高精度の測定結果を得ることが可能となる
。
次に、第２の実施例について説明する。第２の実施例が
第１の実施例と共通する部分の説明は省略する。
第１の実施例と共通する部分の説明は省略する。
第２実施例の第１スリツト（図示せず）においては、マ
スクの長さをスリットの一辺の長さより短くし、マスク
の長手方向の両端部にも窓が設けである。このように第
１スリツトを形成すると、第８図に示すように、測定視
野Ｅの遮光部２８の長手方向両端部にも光が透過される
光透過部２９が存在するようになる。
スクの長さをスリットの一辺の長さより短くし、マスク
の長手方向の両端部にも窓が設けである。このように第
１スリツトを形成すると、第８図に示すように、測定視
野Ｅの遮光部２８の長手方向両端部にも光が透過される
光透過部２９が存在するようになる。
このように測定視野Ｅを形成すると、粒子Ｍが測定視野
Ｅの端部を通過した際に、例えば、粒子の半分がａＰＪ
定視野Ｅを通過した場合などには、波形のピークが１つ
しか測定されないため、粒子が測定視野Ｅ内の正しい領
域を通過したが否がを容易に判定することができる。
Ｅの端部を通過した際に、例えば、粒子の半分がａＰＪ
定視野Ｅを通過した場合などには、波形のピークが１つ
しか測定されないため、粒子が測定視野Ｅ内の正しい領
域を通過したが否がを容易に判定することができる。
なお、上記実施例では、照射光学系Ａに部分透過膜とし
て第１スリツトを設けたが、本発明はこれのみに限らず
、受光光学系Ｂに設ける第２スリツト８を縞状に加工形
成することにより、同様の効果を得ることができる。
て第１スリツトを設けたが、本発明はこれのみに限らず
、受光光学系Ｂに設ける第２スリツト８を縞状に加工形
成することにより、同様の効果を得ることができる。
［発明の効果］
本発明によれば、被測定粒子が測定視野を通過する際に
発生する散乱光パルス信号の波形および波数から、粒子
が測定視野内を正しく通過したが否かを判定し、正しく
通過したときのデータのみを選別し、演算に用いること
ができるので、高精度に粒径および速度を測定すること
ができる。
発生する散乱光パルス信号の波形および波数から、粒子
が測定視野内を正しく通過したが否かを判定し、正しく
通過したときのデータのみを選別し、演算に用いること
ができるので、高精度に粒径および速度を測定すること
ができる。
第１図は本発明の実施例に係る粒径・流速測定装置の概
要を示すブロック図、第２図は角形導波管及びスリット
を模式的に示す縦断面図、第３図はＤ−Ｄ断面における
光強度分布図、第４図は第１実施例のΔ―１定視野を示
す概要図、第５図乃至第７図はそれぞれ散乱光パルス信
号を示す波形図、第８図は第２実施例の測定視野を示す
概要図、第９図は散乱光パルス信号の高さと粒径との相
関を示すグラフ図、第１０図は従来の粒径・流速測定装
置の概要を示すブロック図、第１１図及び第１２図はそ
れぞれフォトカウント法の原理を説明するための図、第
１３図は従来の装置による測定誤差の発生過程を説明す
るための図である。 Ａ・・・照射光学系、Ｂ・・・受光光学系、Ｃ・・・処
理系、Ｅ・・・測定視野、Ｐ・・・測定点、４・・・角
形導波管、６・・・プリズム、８．１５・・・スリット
、１０・・・光検出器、１２・・・波形記憶装置、１３
・・・演算装置、１８．２８・・・遮光部、１９．２９
・・・光透過部。 １９射光学系 し 第１図 第２図 第３図 第４図 ↑ 第６図 第７図 第８図 Ａ照射光学系 し 第１０図 角膜導波管４の東 第１１図 長さ 第１２図
要を示すブロック図、第２図は角形導波管及びスリット
を模式的に示す縦断面図、第３図はＤ−Ｄ断面における
光強度分布図、第４図は第１実施例のΔ―１定視野を示
す概要図、第５図乃至第７図はそれぞれ散乱光パルス信
号を示す波形図、第８図は第２実施例の測定視野を示す
概要図、第９図は散乱光パルス信号の高さと粒径との相
関を示すグラフ図、第１０図は従来の粒径・流速測定装
置の概要を示すブロック図、第１１図及び第１２図はそ
れぞれフォトカウント法の原理を説明するための図、第
１３図は従来の装置による測定誤差の発生過程を説明す
るための図である。 Ａ・・・照射光学系、Ｂ・・・受光光学系、Ｃ・・・処
理系、Ｅ・・・測定視野、Ｐ・・・測定点、４・・・角
形導波管、６・・・プリズム、８．１５・・・スリット
、１０・・・光検出器、１２・・・波形記憶装置、１３
・・・演算装置、１８．２８・・・遮光部、１９．２９
・・・光透過部。 １９射光学系 し 第１図 第２図 第３図 第４図 ↑ 第６図 第７図 第８図 Ａ照射光学系 し 第１０図 角膜導波管４の東 第１１図 長さ 第１２図
Claims (1)
- インコヒーレントな光源と、この光源から出射された
光を測定視野に導く光伝送系と、前記測定視野に到達す
る光、または、測定視野を通過した光を部分的に透過す
るスリット状の部分透過膜と、前記測定視野内を通過す
る粒子によって散乱された光をパルス信号として検出す
る散乱光パルス信号検出手段と、検出された散乱光パル
ス信号の波形が正常であるか否かを判定し、正常な波形
の散乱光パルス信号のみを選別する判定選別手段と、判
定選別された正常波形のパルス信号に基づき粒子の粒径
及び速度を求める演算手段と、を有することを特徴とす
る粒径・速度測定装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2280575A JPH04157339A (ja) | 1990-10-20 | 1990-10-20 | 粒径・速度測定装置 |
| DE69108682T DE69108682T2 (de) | 1990-10-20 | 1991-08-21 | Vorrichtung zur Messung des Durchmessers und der Geschwindigkeit eines Teilchens. |
| EP91307676A EP0487189B1 (en) | 1990-10-20 | 1991-08-21 | Particle diameter and velocity measuring apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2280575A JPH04157339A (ja) | 1990-10-20 | 1990-10-20 | 粒径・速度測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04157339A true JPH04157339A (ja) | 1992-05-29 |
Family
ID=17626945
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2280575A Pending JPH04157339A (ja) | 1990-10-20 | 1990-10-20 | 粒径・速度測定装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0487189B1 (ja) |
| JP (1) | JPH04157339A (ja) |
| DE (1) | DE69108682T2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002257706A (ja) * | 2001-03-01 | 2002-09-11 | Otsuka Denshi Co Ltd | 光散乱測定プローブ |
| JP2003121337A (ja) * | 2001-08-07 | 2003-04-23 | Sysmex Corp | 粒子径の計測装置と計測方法 |
| JP2004170484A (ja) * | 2002-11-18 | 2004-06-17 | Yuji Matsuura | ビームホモジナイザ |
| JP2013217941A (ja) * | 2008-01-30 | 2013-10-24 | Palo Alto Research Center Inc | 検知結果の時間変化から情報を取得する方法 |
| JP2017534886A (ja) * | 2014-10-09 | 2017-11-24 | エコール シュペリュール ドゥ フィジーク エ ドゥ シミ アンドゥストゥリエール ドゥ ラ ヴィーユ ドゥ パリ − ウーエスペーセーイー パリテック | 流体試料中のナノ粒子を光学的に検出する方法および装置 |
| CN111089986A (zh) * | 2019-11-25 | 2020-05-01 | 中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所 | 一种基于光纤传像束的粒子图像测速装置 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4326979C2 (de) * | 1993-08-11 | 1998-02-12 | Dantec Invent Measurement Tech | Laser-Doppler-Gerät sowie Verfahren zum Betreiben eines solchen Gerätes |
| DE10202999B4 (de) * | 2002-01-26 | 2004-04-15 | Palas Gmbh Partikel- Und Lasermesstechnik | Verfahren und Vorrichtung zum Messen der Größenverteilung und Konzentration von Partikeln in einem Fluid |
| GB2422193B (en) * | 2004-12-24 | 2008-07-16 | Campbell Scient Ltd | A weather measurement device for determining the speed in a first direction of hydrometeors |
| DE102009030691A1 (de) * | 2009-06-26 | 2010-12-30 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Partikelmesskopf, Partikelmessvorrichtung und Partikelmessverfahren zur Messung der Partikelfracht von Fluiden |
| CN111811995B (zh) * | 2020-07-17 | 2022-04-15 | 中国地质大学（北京） | 模拟粗糙单-交叉裂隙多相渗流的可视化试验方法及系统 |
| CN112014272B (zh) * | 2020-08-10 | 2021-07-23 | 北京大学 | 一种纳米粒子传感器及纳米粒子检测方法 |
| CN114441418A (zh) * | 2022-01-28 | 2022-05-06 | 天津凌视科技有限公司 | 用于高速流动微粒的成像系统、成像方法及可读存储介质 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4251733A (en) * | 1978-06-29 | 1981-02-17 | Hirleman Jr Edwin D | Technique for simultaneous particle size and velocity measurement |
-
1990
- 1990-10-20 JP JP2280575A patent/JPH04157339A/ja active Pending
-
1991
- 1991-08-21 DE DE69108682T patent/DE69108682T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-08-21 EP EP91307676A patent/EP0487189B1/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2004170484A (ja) * | 2002-11-18 | 2004-06-17 | Yuji Matsuura | ビームホモジナイザ |
| JP2013217941A (ja) * | 2008-01-30 | 2013-10-24 | Palo Alto Research Center Inc | 検知結果の時間変化から情報を取得する方法 |
| JP2017534886A (ja) * | 2014-10-09 | 2017-11-24 | エコール シュペリュール ドゥ フィジーク エ ドゥ シミ アンドゥストゥリエール ドゥ ラ ヴィーユ ドゥ パリ − ウーエスペーセーイー パリテック | 流体試料中のナノ粒子を光学的に検出する方法および装置 |
| CN111089986A (zh) * | 2019-11-25 | 2020-05-01 | 中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所 | 一种基于光纤传像束的粒子图像测速装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69108682T2 (de) | 1995-08-17 |
| EP0487189A2 (en) | 1992-05-27 |
| DE69108682D1 (de) | 1995-05-11 |
| EP0487189A3 (en) | 1992-12-02 |
| EP0487189B1 (en) | 1995-04-05 |
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