JP2811648B2 - 固体電解コンデンサの製造方法 - Google Patents
固体電解コンデンサの製造方法Info
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Description
電解質として用いた固体電解コンデンサの製造方法に関
する。
電解コンデンサとして、特開昭60−244017号公
報又は特開昭63−181308号公報に開示されたも
のがある。
面化した弁作用金属を化成し酸化皮膜を形成して得た陽
極体を陽極として電解液に浸漬して通電し、前記酸化皮
膜上に形成した電解重合膜を固体電解質として用いるも
のであるが、酸化皮膜が絶縁物であるため、陰極と効果
的な通電が行われず、酸化皮膜の欠陥部あるいは陰極と
の距離が近いところに電流が集中し、固体電解質として
の均一な電解重合膜を得ることが極めて困難であった。
浸漬し、しかる後、酸化剤溶液に浸漬することによる化
学酸化重合手段を講じ、陽極体上に予め化学重合膜を形
成し、この化学重合膜を陽極として電解液中で電解酸化
重合を行い、化学重合膜上に効果的に電解重合膜を形成
するようにしている。
合には、化学酸化重合の際に導電性の化学重合膜が直接
欠陥部に接触するため、ショ−ト不良の原因となってい
る。そのため、特開平2−260516号公報に開示さ
れているように、化学重合膜形成後に再化成処理を行う
方法がある。
重合膜が直接接触しているため、非常に化成性が悪く、
逆に電流集中による酸化皮膜や化学重合膜の劣化を招く
場合もあり、一般に行われている再化成処理を化学重合
膜形成後に行なっても、耐圧不良,ショ−ト不良,LC
不良の抜本的対策には成り得なかった。
って得られる固体電解コンデンサは、小形高性能化の要
請に応えたものとして注目に値するが、酸化皮膜に欠陥
部がある場合、ショ−ト不良,LC不良が生じるため、
製造過程において歩留りが非常に低くなってしまうとい
う問題をかかえていた。
で、導電性高分子膜を固体電解質として用いた固体電解
コンデンサのショ−ト不良,LC不良などを防止できる
固体電解コンデンサの製造方法を提供することを目的と
するものである。
ンサの製造方法は、弁作用金属に形成した酸化皮膜上に
化学酸化重合により化学重合膜を形成した後、この化学
重合膜上に電解酸化重合により電解重合膜を形成する固
体電解コンデンサの製造方法において、前記酸化皮膜上
に化学重合膜を形成したのち、化成液中で電流密度,印
加電圧をそれぞれ0.05〜0.5A/dm2 ,箔化成
電圧の1/2〜1倍に制御して電圧を印加することを特
徴とするものである。
で化学重合膜の再化成処理が行われるため、酸化皮膜欠
陥部の修復が非常にスム−ズに行われ、ショ−ト不良,
LC不良などが完全に防止できるとともに、耐電圧の格
段の向上を図ることができる。
び/又は電圧が箔化成電圧以上の範囲で化学酸化重合後
再化成を行った場合には、酸化皮膜欠陥部に電流が集中
し、箔表面の破壊・腐食がおこるとともに、箔表面の化
学重合膜が破壊され、耐圧,LCをはじめ、tanδ,
ESR,容量達成率など各特性がいずれも著しく悪化す
る。
以下及び/又は電圧が箔化成電圧の1/2以下の範囲で
化学酸化重合後再化成を行った場合、ほとんど皮膜欠陥
部の修復が行われないため、ショ−ト不良,LC不良に
対する対策とはならない。
なわち、エッチングによって表面積を拡大し化成工程を
行い表面に酸化皮膜を形成した、印加電圧50Vで、例
えば高純度アルミニウムからなる陽極箔に陽極リ−ド線
を取着し、次に、この陽極箔をピロ−ル又はチオフェン
あるいはフラン/エタノ−ル水溶液に浸漬した後、更
に、支持電解質としてパラトルエンスルホン酸テトラエ
チルアンモニウムなどを含む過硫酸アンモニウム水溶液
に浸漬して化学酸化重合を施し、酸化皮膜上に導電性高
分子からなる化学重合膜を形成する。
などを溶質とする化成液中に浸漬し、電流密度0.05
〜0.5A/dm2 ,化成電圧の1/2〜1倍の電圧を
印加することで効率的に皮膜欠陥部の再化成を行う。そ
して支持電解質及びピロ−ル,チオフェン,フランなど
のモノマ−を含む電解酸化重合液中に浸漬し電解酸化重
合を施し、化学重合膜上に導電性高分子からなる電解重
合膜を生成し、しかる後コロイダルカ−ボンに浸漬−銀
ペ−スト塗布して陰極層を設け、この陰極層の部分に陰
極リ−ドを取着し、最後に外装を施してなるものであ
る。
造方法によれば、適切な電圧及び電流密度で化学重合膜
形成後の再化成処理が行われるため、皮膜修復がスム−
ズに行われ、ショ−ト不良,LC不良などが完全に防止
できるとともに、本発明の範囲外で化学酸化重合後再化
成が行われた場合や、再化成が行われない場合に比して
格段に使用電圧の拡大を図ることができる。
び/又は電圧が箔化成電圧以上の範囲で化学酸化重合後
再化成を行った場合には、皮膜欠陥部に電流が集中し、
箔表面に腐食がおこるとともに、箔表面の化学重合膜が
破壊され、耐圧、LCをはじめtanδ,ESR,容量
達成率など各特性がいずれも著しく悪化する。また、逆
に電流密度が0.05A/dm2 以下及び/又は電圧が
箔化成電圧の1/2以下の範囲で化学酸化重合後、再化
成を行った場合には、ほとんど皮膜欠陥部の修復が行わ
れないため、ショ−ト不良,LC不良に対する対策とは
ならない。
膜を形成したアルミニウムからなる陽極箔を用いた本発
明によって得られた固体電解コンデンサと、従来例によ
って得られた固体電解コンデンサの諸特性比較について
述べる。
及び従来例Cによる定格10V−3μFの固体電解コン
デンサの諸特性を示すものである。
ものは、試料100個の平均値で、( )内はバラツキ
を示す。実施例A (1)化学酸化重合条件 ピロ−ルエタノ−ル溶液に化成処理したアルミニウム陽
極箔を5分間浸漬後、支持電解質としてトルエンスルホ
ン酸テトラエチルアンモニウム0.05mol/lを含
む0.1mol/l過硫酸アンモニウム水溶液に5分間
浸漬。 (2)電解酸化重合条件 ピロ−ルモノマ−1mol/l及び支持電解質としてパ
ラトルエンスルホン酸ナトリウム1mol/lを含むア
セトニトリルからなる電解液中に浸漬し、定電流酸化重
合(1mA/cm2 ,30分)を行う。 (3)化学酸化重合後再化成条件 0.15M−アジピン酸アンモニウム水溶液中で再化成
(0.1A/dm2 ,30V,10分)を行う。従来例B (1)化学酸化重合条件 実施例Aと同じ (2)電解酸化重合条件 実施例Aと同じ (3)化学酸化重合後再化成条件 0.15M−アジピン酸アンモニウム水溶液中で再化成
(1A/dm2 ,50V,10分)を行う。従来例C (1)化学酸化重合条件 実施例Aと同じ (2)電解酸化重合条件 実施例Aと同じ (3)化学酸化重合後再化成条件 0.15M−アジピン酸アンモニウム水溶液中で再化成
(0.01A/dm2 ,30V,10分)を行う。
ものは、従来例B及び従来例Cに係るものと比較してL
C特性が著しく改善されるとともに、ショ−ト不良の格
段の改善効果がみられる。また、従来例でtanδにみ
られるような、他の特性の悪化要因にもなっていないこ
とがわかる。
ニウム箔を用いたものを例示して説明したが、タンタル
箔、ニオブ箔などの弁作用金属箔を用いたものにも適用
できる。
0Vのものを例示して説明したが、これに限定されるも
のではない。
成処理が妥当な電圧及び電流密度で行われるため、皮膜
修復がスム−ズに成され、ショ−ト不良、LC不良など
が完全に防止できるとともに、本発明の範囲外で再化成
が行なわれた場合や、再化成が行なわれない場合に比
べ、格段に使用電圧の拡大が図れる。
Claims (1)
- 【請求項1】 弁作用金属に形成した酸化皮膜上に化学
酸化重合により化学重合膜を形成した後、この化学重合
膜上に電解酸化重合により電解重合膜を形成する固体電
解コンデンサの製造方法において、酸化皮膜上に化学重
合膜を形成した後、化成液中でコンデンサ素子に電流密
度:0.05〜0.5A/dm2 ,印加電圧:化成電圧
の1/2〜1倍の電圧を印加することを特徴とする固体
電解コンデンサの製造方法。
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Publications (2)
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| JPH0590081A JPH0590081A (ja) | 1993-04-09 |
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