JP2857760B2 - プロポキシニトロベンゼン類の製法 - Google Patents
プロポキシニトロベンゼン類の製法Info
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Landscapes
- Epoxy Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、合成抗菌薬の製造中間体として有用なプロ
ポキシニトロベンゼン化合物のうち、エポキシ構造を有
する式（III）： で表される化合物の製法に関するものである。
ポキシニトロベンゼン化合物のうち、エポキシ構造を有
する式（III）： で表される化合物の製法に関するものである。
（従来の技術） オフロキサシン（OFLX）は優れた抗菌活性と体内動態
および高い安全性を有する合成抗菌剤であり広く使用さ
れている。また、その後の研究によりその化学活性体DR
−3355は、ラセミ体であるオフロキサシンよりさらに高
い抗菌活性と安全性を有し、抗菌剤としてより有用な化
合物であることが明らかとなった（特開昭57−46986号
および特開昭62−252790号参照）。
および高い安全性を有する合成抗菌剤であり広く使用さ
れている。また、その後の研究によりその化学活性体DR
−3355は、ラセミ体であるオフロキサシンよりさらに高
い抗菌活性と安全性を有し、抗菌剤としてより有用な化
合物であることが明らかとなった（特開昭57−46986号
および特開昭62−252790号参照）。
本発明者は、これらの化合物の有利な合成法について
研究を進めた結果本発明を完成した。
研究を進めた結果本発明を完成した。
（発明の構成） 本発明は、3,4−ジハロゲノニトロベンゼン誘導体
Ｉにアリル化合物Ａを反応させて２−アリルオキシ−3,
4−ジハロゲノニトロベンゼン誘導体IIを製造する方
法、3,4−ジハロゲノニトロベンゼン誘導体Ｉにオキ
シラン誘導体Ｂを反応させて２−オキシラニルメチルオ
キシ−3,4−ジハロゲノニトロベンゼンIIIを製造する方
法、3,4−ジハロゲノニトロベンゼン誘導体Ｉにプロ
ピレンオキサイドＣを反応させて2,3−ジハロゲノ−６
−ニトロ−［（２−ヒドロキシプロピル）オキシ］ベン
ゼンIVを製造する方法、２−アリルオキシ−3,4−ジ
ハロゲノニトロベンゼン誘導体IIを酸化して２−オキシ
ラニルメチルオキシ−3,4−ジハロゲノニトロベンゼンI
IIを製造する方法、および２−オキシラニルメチルオ
キシ−3,4−ジハロゲノニトロベンゼンIIIを還元して2,
3−ジハロゲノ−６−ニトロ−［（２−ヒドロキシプロ
ピル）オキシ］ベンゼンIVを製造する方法に関する。
Ｉにアリル化合物Ａを反応させて２−アリルオキシ−3,
4−ジハロゲノニトロベンゼン誘導体IIを製造する方
法、3,4−ジハロゲノニトロベンゼン誘導体Ｉにオキ
シラン誘導体Ｂを反応させて２−オキシラニルメチルオ
キシ−3,4−ジハロゲノニトロベンゼンIIIを製造する方
法、3,4−ジハロゲノニトロベンゼン誘導体Ｉにプロ
ピレンオキサイドＣを反応させて2,3−ジハロゲノ−６
−ニトロ−［（２−ヒドロキシプロピル）オキシ］ベン
ゼンIVを製造する方法、２−アリルオキシ−3,4−ジ
ハロゲノニトロベンゼン誘導体IIを酸化して２−オキシ
ラニルメチルオキシ−3,4−ジハロゲノニトロベンゼンI
IIを製造する方法、および２−オキシラニルメチルオ
キシ−3,4−ジハロゲノニトロベンゼンIIIを還元して2,
3−ジハロゲノ−６−ニトロ−［（２−ヒドロキシプロ
ピル）オキシ］ベンゼンIVを製造する方法に関する。
以下に反応式を示して本発明の詳細にていて述べる。
（式中Ｒは炭素数１〜10程度の低級アルキル基を意味す
る。例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、iso
−プロピル基、ｎ−ブチル基等である。X1およびX2は同
じまたは異なりフッ素あるいはその他のハロゲン原子を
意味する。Ｚは塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子あ
るいはメタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタン
スルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基
等の置換スルホニルオキシ基基または水酸基を意味す
る。以下同様である。） 次に本発明の各工程について具体的に述べる。
る。例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、iso
−プロピル基、ｎ−ブチル基等である。X1およびX2は同
じまたは異なりフッ素あるいはその他のハロゲン原子を
意味する。Ｚは塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子あ
るいはメタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタン
スルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基
等の置換スルホニルオキシ基基または水酸基を意味す
る。以下同様である。） 次に本発明の各工程について具体的に述べる。
式Ｉで表わされるハロゲノニトロベンゼン誘導体と
式Ｂで表わされるオキシラン誘導体を縮合させることに
より２−オキシラニルメチルオキシ−3,4−ジハロゲノ
ニトロベンゼンIIIを得ることができる。
式Ｂで表わされるオキシラン誘導体を縮合させることに
より２−オキシラニルメチルオキシ−3,4−ジハロゲノ
ニトロベンゼンIIIを得ることができる。
例えば、ハロゲノニトロベンゼン誘導体ＩにおいてＹ
が水酸基で、オキシラン誘導体ＢにおいてＺがハロゲン
原子あるいは置換スルホニルオキシ基の場合、塩基性条
件下、フェノール性水酸基の求核置換反応により縮合を
行うことができる。
が水酸基で、オキシラン誘導体ＢにおいてＺがハロゲン
原子あるいは置換スルホニルオキシ基の場合、塩基性条
件下、フェノール性水酸基の求核置換反応により縮合を
行うことができる。
また、ハロゲノニトロベンゼン誘導体ＩにおいてＹは
ハロゲン原子であり、オキシラン誘導体ＢにおいてＺが
水酸基である場合、塩基性条件下、芳香核に対するアル
コール性水酸基の求核置換反応により縮合を行うことが
できる。
ハロゲン原子であり、オキシラン誘導体ＢにおいてＺが
水酸基である場合、塩基性条件下、芳香核に対するアル
コール性水酸基の求核置換反応により縮合を行うことが
できる。
これらの場合、反応に使用する塩基としては水素化ナ
トリウム、水素化リチウム、ナトリウムアミド、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基、トリエチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、1,8−ジアザビシク
ロ［5,4,0］−７−ウンデセン（DBU）、トリトンＢ等の
有機塩基、tert−ブトキシカリウム、ナトリウムエキサ
イド、ナトリウムメトキサイド等の金属アルコキシド
類、ブチルリチウム、フェニルリチウム等のリチウム試
薬を挙げることができ、１〜10当量程度用いることが好
ましい。
トリウム、水素化リチウム、ナトリウムアミド、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基、トリエチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、1,8−ジアザビシク
ロ［5,4,0］−７−ウンデセン（DBU）、トリトンＢ等の
有機塩基、tert−ブトキシカリウム、ナトリウムエキサ
イド、ナトリウムメトキサイド等の金属アルコキシド
類、ブチルリチウム、フェニルリチウム等のリチウム試
薬を挙げることができ、１〜10当量程度用いることが好
ましい。
反応に使用する溶媒としてはベンゼン、トルエン、キ
シレン、ｎ−ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メタノー
ル、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノー
ル、ｎ−ブタノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−
ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジクロル
メタン、ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素系溶
媒、その他ジメチルスルホキシド、スルホラン等を挙げ
ることができる。
シレン、ｎ−ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メタノー
ル、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノー
ル、ｎ−ブタノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−
ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジクロル
メタン、ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素系溶
媒、その他ジメチルスルホキシド、スルホラン等を挙げ
ることができる。
これらの縮合反応は−78℃から溶媒の沸点の温度範囲
で実施することが好ましく、反応時間は約10分間から数
日であり、時に無水条件下で実施することが望ましいこ
とがある。また、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム、
クラウンエーテル等を1/100〜当量程度添加すると、こ
れらの反応が促進されることがある。
で実施することが好ましく、反応時間は約10分間から数
日であり、時に無水条件下で実施することが望ましいこ
とがある。また、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム、
クラウンエーテル等を1/100〜当量程度添加すると、こ
れらの反応が促進されることがある。
ハロゲノニトロベンゼン誘導体Ｉおよびオキシラン誘
導体Ｂにおいて、ＹおよびＺがともに水酸基である場合
には１〜1.5当量のミツノブ試薬を用いて縮合を行うこ
とができる。
導体Ｂにおいて、ＹおよびＺがともに水酸基である場合
には１〜1.5当量のミツノブ試薬を用いて縮合を行うこ
とができる。
この場合、ミツノブ試薬とはアゾジカルボン酸ジエス
テル（ジメチルエステル、ジエチルエステル、ジイソプ
ロピルエステル、ジベンジルエステル等）とトリフェニ
ルホスフィンあるいはトリアルキルホスフィンとのコン
プレックスであり、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒中で、用時
に無水条件下で試薬を調製して、０℃〜50℃で反応する
ことが好ましい（O.Mitsunobu,Synthesis 1〜28 1981
Jan.参照）。
テル（ジメチルエステル、ジエチルエステル、ジイソプ
ロピルエステル、ジベンジルエステル等）とトリフェニ
ルホスフィンあるいはトリアルキルホスフィンとのコン
プレックスであり、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒中で、用時
に無水条件下で試薬を調製して、０℃〜50℃で反応する
ことが好ましい（O.Mitsunobu,Synthesis 1〜28 1981
Jan.参照）。
ハロゲノニトロベンゼン誘導体Ｉと式Ａで表わされ
るアリル化合物を、で述べた方法と同様にして縮合さ
せ、式IIで表わされる２−アリルオキシ−3,4−ジハロ
ゲノニトロベンゼンを得ることができる。
るアリル化合物を、で述べた方法と同様にして縮合さ
せ、式IIで表わされる２−アリルオキシ−3,4−ジハロ
ゲノニトロベンゼンを得ることができる。
２−アリルオキシ−3,4−ジハロゲノニトロベンゼ
ンIIを酸化して２−オキシラニルメチルオキシ−3,4−
ジハロゲノニトロベンゼンIIIを得ることができる。
ンIIを酸化して２−オキシラニルメチルオキシ−3,4−
ジハロゲノニトロベンゼンIIIを得ることができる。
このオキシラン環を形成させる場合の酸化剤として
は、ギ酸、酢酸等の低級脂肪酸から炭素数20程度の高級
脂肪酸の過酸化物、安息香酸、ｍ−クロル安息香酸等芳
香属カルボン酸の過酸化物、その他トリフルオロ酢酸の
過酸化物、過酸化水素、tert−ブタノールの過酸化物等
が挙げられる。使用する溶媒としてはクロロホルム、ジ
クロルメタン、ジクロルエタン等の塩素系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン等の炭化水素系溶媒、メタノール、エタノ
ール等のアルコール系溶媒、その他酢酸エチル、ギ酸、
酢酸、トリフルオロ酢酸、水等が挙げられ、これらを組
み合せた混合溶媒中で反応を行うこともある。
は、ギ酸、酢酸等の低級脂肪酸から炭素数20程度の高級
脂肪酸の過酸化物、安息香酸、ｍ−クロル安息香酸等芳
香属カルボン酸の過酸化物、その他トリフルオロ酢酸の
過酸化物、過酸化水素、tert−ブタノールの過酸化物等
が挙げられる。使用する溶媒としてはクロロホルム、ジ
クロルメタン、ジクロルエタン等の塩素系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン等の炭化水素系溶媒、メタノール、エタノ
ール等のアルコール系溶媒、その他酢酸エチル、ギ酸、
酢酸、トリフルオロ酢酸、水等が挙げられ、これらを組
み合せた混合溶媒中で反応を行うこともある。
この酸化反応は−78℃から溶媒の沸点の温度範囲で実
施することが好ましく、反応時間は約10分間から数日で
あり、時に酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、水酸化ナト
リウム、炭酸ナトリウム等塩基の存在下実施することが
望ましいことがある。
施することが好ましく、反応時間は約10分間から数日で
あり、時に酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、水酸化ナト
リウム、炭酸ナトリウム等塩基の存在下実施することが
望ましいことがある。
またはで得られる２−オキシラニルメチルオキ
シ−3,4−ジハロゲノニトロベンゼンIIIのオキシラン環
を還元的に開裂して２−ヒドロキシプロピル基を形成さ
せて、2,3−ジハロゲノ−６−ニトロ−［（２−ヒドロ
キシプロピル）オキシ］ベンゼンIVとなし、これと同時
にあるいは続いてニトロ基も還元してアミノ基として、
2,3−ジハロゲノ−６−アミノ−［（２−ヒドロキシプ
ロピル）オキシ］ベンゼンＶに導くことができる。
シ−3,4−ジハロゲノニトロベンゼンIIIのオキシラン環
を還元的に開裂して２−ヒドロキシプロピル基を形成さ
せて、2,3−ジハロゲノ−６−ニトロ−［（２−ヒドロ
キシプロピル）オキシ］ベンゼンIVとなし、これと同時
にあるいは続いてニトロ基も還元してアミノ基として、
2,3−ジハロゲノ−６−アミノ−［（２−ヒドロキシプ
ロピル）オキシ］ベンゼンＶに導くことができる。
本製法において、オキシラン環の開裂による２−ヒド
ロキシプロピル基の形成およびニトロ基からアミノ基へ
の変換に用いられる還元反応としては、パラジウム−炭
素、ラネーニッケル、酸化合金等を触媒とする接触還元
（常圧から約50kg/cm2程度の加圧下で実施することが望
ましい）、水素化アルミニウムリチウム（LiAlH4）によ
る還元、水素化ホウ素ナトリウム（NaBH4）による還
元、ハイドロサルファイトによる還元、ジボラン（B
2H6）による還元等を挙げることができる。この場合、
反応に使用する溶媒としては、ベンゼン、トルエン、ｎ
−ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メタノール、エタノー
ル、１−プロパノール、２−プロパノール、ｎ−ブタノ
ール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテルテトラヒ
ドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン
等のエーテル系溶媒、ジクロルメタン、ジクロルエタ
ン、クロロホルム等の塩素系溶媒、その他ギ酸、酢酸、
トリフルオロ酢酸、水等を挙げることができ、これらを
組み合せた混合溶媒中で反応を行うこともある。
ロキシプロピル基の形成およびニトロ基からアミノ基へ
の変換に用いられる還元反応としては、パラジウム−炭
素、ラネーニッケル、酸化合金等を触媒とする接触還元
（常圧から約50kg/cm2程度の加圧下で実施することが望
ましい）、水素化アルミニウムリチウム（LiAlH4）によ
る還元、水素化ホウ素ナトリウム（NaBH4）による還
元、ハイドロサルファイトによる還元、ジボラン（B
2H6）による還元等を挙げることができる。この場合、
反応に使用する溶媒としては、ベンゼン、トルエン、ｎ
−ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メタノール、エタノー
ル、１−プロパノール、２−プロパノール、ｎ−ブタノ
ール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテルテトラヒ
ドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン
等のエーテル系溶媒、ジクロルメタン、ジクロルエタ
ン、クロロホルム等の塩素系溶媒、その他ギ酸、酢酸、
トリフルオロ酢酸、水等を挙げることができ、これらを
組み合せた混合溶媒中で反応を行うこともある。
これらの還元反応は−78℃から溶媒の沸点程度の温度
範囲で実施することが好ましく、反応時間は約10分間か
ら数日であり、時にボロントリフロライド・エーテルコ
ンプレックス（BF3・OEt2）塩化アルミニウム（AlC
l3）、四塩化チタン（TiCl4）、塩化マグネシウム（MgC
l2）等のルイス酸を添加することにより反応が促進され
ることがある。
範囲で実施することが好ましく、反応時間は約10分間か
ら数日であり、時にボロントリフロライド・エーテルコ
ンプレックス（BF3・OEt2）塩化アルミニウム（AlC
l3）、四塩化チタン（TiCl4）、塩化マグネシウム（MgC
l2）等のルイス酸を添加することにより反応が促進され
ることがある。
2,3−ジハロゲノ−６−アミノ−［（２−ヒドロキシ
プロピル）オキシ］ベンゼンＶを粗生成物のままあるい
は単離・精製後そのアミノ基をメチレンマロネート化し
て、2,3−ジハロゲノ−６−（2,2−ジアルコキシカルボ
ニルエテニル）アミノ−［（２−ヒドロキシプロピル）
オキシ］ベンゼンVIに導くことができる。
プロピル）オキシ］ベンゼンＶを粗生成物のままあるい
は単離・精製後そのアミノ基をメチレンマロネート化し
て、2,3−ジハロゲノ−６−（2,2−ジアルコキシカルボ
ニルエテニル）アミノ−［（２−ヒドロキシプロピル）
オキシ］ベンゼンVIに導くことができる。
このメチレンマロネート化は式VII Ｗ−CH＝Ｃ［COOR］２ VII （式中Ｗはメトキシ基、エトキシ基等の低級アルコキシ
基、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、ジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノ基等を意味し、Ｒはメチル、エ
チル等の低級アルキル基を意味する）で表わされる化合
物の等モル以上を用いて、メタノール、エタノール等の
アルコール系溶媒あるいはその他適当な溶媒中で加熱還
流するか、無溶媒で両者を80〜180℃程度に加熱撹拌す
ることにより行うことができる。
基、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、ジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノ基等を意味し、Ｒはメチル、エ
チル等の低級アルキル基を意味する）で表わされる化合
物の等モル以上を用いて、メタノール、エタノール等の
アルコール系溶媒あるいはその他適当な溶媒中で加熱還
流するか、無溶媒で両者を80〜180℃程度に加熱撹拌す
ることにより行うことができる。
式Ｉで表わされるハロゲノニトロベンゼン誘導体に
おいてＹが水酸基であるとき（ジハロゲノニトロフェノ
ールであるとき）これと式Ｃで表わされるプロピレンオ
キサイドを、時に酸、塩基等の縮合剤を用いて縮合する
ことにより、2,3−ジハロゲノ−６−ニトロ−［（２−
ヒドロキシプロピル）オキシ］ベンゼンIVを得ることが
できる。
おいてＹが水酸基であるとき（ジハロゲノニトロフェノ
ールであるとき）これと式Ｃで表わされるプロピレンオ
キサイドを、時に酸、塩基等の縮合剤を用いて縮合する
ことにより、2,3−ジハロゲノ−６−ニトロ−［（２−
ヒドロキシプロピル）オキシ］ベンゼンIVを得ることが
できる。
この反応で使用される縮合剤としては、酢酸、トリフ
ルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン
酸、トリフルオロメタンスルホン酸、濃硫酸等の有機酸
および無機酸、ボロントリフロライド・エーテルコンプ
レックス、塩化アルミニウム、四塩化チタン、塩化マグ
ネシウム等のルイス酸、メチルマグネシウムクロライ
ド、エチルマグネシウムクロライド、フェニルマグネシ
ウムクロライド等のグリニア試薬、水素化ナトリウム、
水素化リチウム、ナトリウムアミド、水酸化ナトリウ
ム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、
炭酸ナトリウム等の無機塩基、トリエチルアミン、ジイ
ソプロピルエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ［5,4,
0］−７−ウンデセン（DBU）、トリトンＢ、ピリジン、
キノリン、イソキノリン等の有機塩基、tert−ブトキシ
カリウム、ナトリウムエトキサイド、ナトリウムメトキ
サイド等の金属アルコキサイド類、その他ブチルリチウ
ム、フェニルリチウム等を挙げることができ、触媒量か
ら等モル以上の範囲で適宜用いることが好ましい。ま
た、これらの縮合剤を用いること無く縮合させることも
可能である。
ルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン
酸、トリフルオロメタンスルホン酸、濃硫酸等の有機酸
および無機酸、ボロントリフロライド・エーテルコンプ
レックス、塩化アルミニウム、四塩化チタン、塩化マグ
ネシウム等のルイス酸、メチルマグネシウムクロライ
ド、エチルマグネシウムクロライド、フェニルマグネシ
ウムクロライド等のグリニア試薬、水素化ナトリウム、
水素化リチウム、ナトリウムアミド、水酸化ナトリウ
ム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、
炭酸ナトリウム等の無機塩基、トリエチルアミン、ジイ
ソプロピルエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ［5,4,
0］−７−ウンデセン（DBU）、トリトンＢ、ピリジン、
キノリン、イソキノリン等の有機塩基、tert−ブトキシ
カリウム、ナトリウムエトキサイド、ナトリウムメトキ
サイド等の金属アルコキサイド類、その他ブチルリチウ
ム、フェニルリチウム等を挙げることができ、触媒量か
ら等モル以上の範囲で適宜用いることが好ましい。ま
た、これらの縮合剤を用いること無く縮合させることも
可能である。
反応に使用する溶媒としてはベンゼン、トルエン、キ
シレン、ｎ−ヘキサン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−
ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジクロル
メタン、ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素系溶
媒、その他ジメチルスルホキシド、スルホラン、２−プ
ロパノール、tert−ブタノール、酢酸エチル等を挙げる
ことができるが、無溶媒で反応を行うことも可能であ
る。
シレン、ｎ−ヘキサン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−
ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジクロル
メタン、ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素系溶
媒、その他ジメチルスルホキシド、スルホラン、２−プ
ロパノール、tert−ブタノール、酢酸エチル等を挙げる
ことができるが、無溶媒で反応を行うことも可能であ
る。
この縮合反応は−78℃から300℃程度の温度範囲で実
施することが好ましく、反応時間は約10分間から数日で
あり、時に無水条件下で実施することが望ましいことが
ある。
施することが好ましく、反応時間は約10分間から数日で
あり、時に無水条件下で実施することが望ましいことが
ある。
またこの場合、得られる2,3−ジハロゲノ−６−ニト
ロ−［（２−ヒドロキシプロピル）オキシ］ベンゼンIV
を、粗生成物のまま、または単離・精製後、先に述べた
ニトロ基を還元する方法およびアミノ基をメチレンマロ
ネート化する方法に準拠して処理し、2,3−ジハロゲノ
−６−アミノ−［（２−ヒドロキシプロピル）オキシ］
ベンゼンＶを得て、2,3−ジハロゲノ−６−（2,2−ジア
ルコキシカルボニルエテニル）アミノ−［（２−ヒドロ
キシプロピル）オキシ］ベンゼンVIに変換することがで
きる。
ロ−［（２−ヒドロキシプロピル）オキシ］ベンゼンIV
を、粗生成物のまま、または単離・精製後、先に述べた
ニトロ基を還元する方法およびアミノ基をメチレンマロ
ネート化する方法に準拠して処理し、2,3−ジハロゲノ
−６−アミノ−［（２−ヒドロキシプロピル）オキシ］
ベンゼンＶを得て、2,3−ジハロゲノ−６−（2,2−ジア
ルコキシカルボニルエテニル）アミノ−［（２−ヒドロ
キシプロピル）オキシ］ベンゼンVIに変換することがで
きる。
上述の製法において、式Ｂで表わされるオキシラン誘
導体および式Ｃで表わされるプロピレンオキサイドにつ
いては、その光学活性体を容易に入手することができる
［参考文献 J.Org.Chem.43,4876（1978）、同52,3710
（1986）、Angew.Chem.Int.Ed.Engl.17,937（1978）、S
ynthesis 316（1982）、J.Org.Chem.46,3348（1981）、
Can.J.Chem.57,233（1979）］。それらの光学活性体を
用いることにより式III、式IV、式Ｖおよび式VIで表わ
される化合物の光学活性体を得ることができる。
導体および式Ｃで表わされるプロピレンオキサイドにつ
いては、その光学活性体を容易に入手することができる
［参考文献 J.Org.Chem.43,4876（1978）、同52,3710
（1986）、Angew.Chem.Int.Ed.Engl.17,937（1978）、S
ynthesis 316（1982）、J.Org.Chem.46,3348（1981）、
Can.J.Chem.57,233（1979）］。それらの光学活性体を
用いることにより式III、式IV、式Ｖおよび式VIで表わ
される化合物の光学活性体を得ることができる。
参考例１ 2,3−ジフルオロ−６−ニトロ−（2,3−エポキシプロピ
ルオキシ）ベンゼン（III:X1＝X2＝Ｆ） 2,3−ジフルオロ−６−ニトロフェノール（I:Y＝OH、
X1＝X2＝Ｆ）35.02gを無水ジメチルホルムアミド（DM
F）350mlに溶解、K2CO327.64gを加え85〜90℃で20分間
撹拌した後、KI3gとエピクロルヒドリン18.50gを加え同
温で３時間撹拌する。K2CO34.61gおよびエピクロルヒド
リン6.17gを１〜２時間毎に３回追加し、さらに同温で
一夜撹拌する。
ルオキシ）ベンゼン（III:X1＝X2＝Ｆ） 2,3−ジフルオロ−６−ニトロフェノール（I:Y＝OH、
X1＝X2＝Ｆ）35.02gを無水ジメチルホルムアミド（DM
F）350mlに溶解、K2CO327.64gを加え85〜90℃で20分間
撹拌した後、KI3gとエピクロルヒドリン18.50gを加え同
温で３時間撹拌する。K2CO34.61gおよびエピクロルヒド
リン6.17gを１〜２時間毎に３回追加し、さらに同温で
一夜撹拌する。
反応後、DMFを留去し残渣を酢酸エチルに溶解、水、N
aHCO3水、水の順に洗い、乾燥（MgSO4）後、留去して得
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィに付し、油
状物質として標記のオキシラニルメチル体22.92g収率4
9.6％を得た。（特開昭59−1489号参照） NMR（CDCl3）δ： 2.68〜2.95（2H,m,オキシラン環のメチレン） 3.33〜3.52（1H,m,オキシラン環のメチン） 4.12〜4.62（2H,m,−Ｏ−ＣＨ ２−オキシラン環） 7.09（1H,d,d,d,J＝7.2,9and 9Hzニトロ基メタ位の核
プロトン） 7.76（1H,d,d,d,J＝2.4,5.4and 7.2Hzニトロ基オル
ト位核プロトン） 参考例２ 2,3−ジフルオロ−６−ニトロ−［（Ｒ）−2,3−エポキ
シプロピルオキシ］ベンゼン（III:X1＝X2＝Ｆ） 2,3−ジフルオロ−６−ニトロフェノール（I:Y＝OH X
1＝X2＝Ｆ）700.4mgを無水DMF4mlに溶解後、K2CO3304.1
mgを加え70℃で30分間撹拌する。触媒量の18−クラウン
−６−エーテル、KI242.4mgおよび（Ｒ）−グリシジル
トシレート1gを加え同温で６時間加熱撹拌する。
aHCO3水、水の順に洗い、乾燥（MgSO4）後、留去して得
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィに付し、油
状物質として標記のオキシラニルメチル体22.92g収率4
9.6％を得た。（特開昭59−1489号参照） NMR（CDCl3）δ： 2.68〜2.95（2H,m,オキシラン環のメチレン） 3.33〜3.52（1H,m,オキシラン環のメチン） 4.12〜4.62（2H,m,−Ｏ−ＣＨ ２−オキシラン環） 7.09（1H,d,d,d,J＝7.2,9and 9Hzニトロ基メタ位の核
プロトン） 7.76（1H,d,d,d,J＝2.4,5.4and 7.2Hzニトロ基オル
ト位核プロトン） 参考例２ 2,3−ジフルオロ−６−ニトロ−［（Ｒ）−2,3−エポキ
シプロピルオキシ］ベンゼン（III:X1＝X2＝Ｆ） 2,3−ジフルオロ−６−ニトロフェノール（I:Y＝OH X
1＝X2＝Ｆ）700.4mgを無水DMF4mlに溶解後、K2CO3304.1
mgを加え70℃で30分間撹拌する。触媒量の18−クラウン
−６−エーテル、KI242.4mgおよび（Ｒ）−グリシジル
トシレート1gを加え同温で６時間加熱撹拌する。
反応後、酢酸エチルを加え有機層を水洗、乾燥（MgSO
4）後、留去して得た残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィに付し、ベンゼン流分より油状物質として標記
の縮合体507mg、収率55％を得た。
4）後、留去して得た残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィに付し、ベンゼン流分より油状物質として標記
の縮合体507mg、収率55％を得た。
NMR（CDCl3）δ： 2.72（1H,d,d,J＝2.7and 4.8Hz,エポキシプロピル基
の３位のプロトン） 2.89（1H,d,d,J＝4.8and 4.8Hz,エポキシプロピル基
３位のプロトン） 3.42（1H,巾18Hzの多重線，エポキシプロピル基２位
のメチレンプロトン） 4.21（1H,d,d,d,J＝1.2,6.0and 7.2Hz,エポキシプロ
ピル基１位のプロトン） 4.53（1H,d,d,d,J＝1.2,3.6and 4.8Hz,エポキシプロ
ピル基１位のプロトン） 7.07（1H,d,d,d,J＝7.2,9.0and 9.6Hz,4位核プロト
ン） 7.74（1H,d,d,d,J＝2.4,5.4and 7.2Hz,5位核プロト
ン） 参考例３ 2,3−ジフルオロ−６−ニトロ−［（Ｒ）−2,3−エポキ
シプロピルオキシ］ベンゼン（III:X1＝X2＝Ｆ） ラセミ体を得た方法に準じ、2,3−ジフルオロ−６−
ニトロフェノール17.98g、K2CO314.19g、KI3.32gおよび
（Ｒ）−エピクロルヒドリン10gを無水DMF中85〜90℃で
反応し標記の（Ｒ）−2,3−エポキシプロピル体8.06g収
率34％を得た。油状物質NMRは参考例２で得たものと一
致した。
の３位のプロトン） 2.89（1H,d,d,J＝4.8and 4.8Hz,エポキシプロピル基
３位のプロトン） 3.42（1H,巾18Hzの多重線，エポキシプロピル基２位
のメチレンプロトン） 4.21（1H,d,d,d,J＝1.2,6.0and 7.2Hz,エポキシプロ
ピル基１位のプロトン） 4.53（1H,d,d,d,J＝1.2,3.6and 4.8Hz,エポキシプロ
ピル基１位のプロトン） 7.07（1H,d,d,d,J＝7.2,9.0and 9.6Hz,4位核プロト
ン） 7.74（1H,d,d,d,J＝2.4,5.4and 7.2Hz,5位核プロト
ン） 参考例３ 2,3−ジフルオロ−６−ニトロ−［（Ｒ）−2,3−エポキ
シプロピルオキシ］ベンゼン（III:X1＝X2＝Ｆ） ラセミ体を得た方法に準じ、2,3−ジフルオロ−６−
ニトロフェノール17.98g、K2CO314.19g、KI3.32gおよび
（Ｒ）−エピクロルヒドリン10gを無水DMF中85〜90℃で
反応し標記の（Ｒ）−2,3−エポキシプロピル体8.06g収
率34％を得た。油状物質NMRは参考例２で得たものと一
致した。
参考例４ 2,3−ジフルオロ−６−ニトロ−［2,3−エポキシプロピ
ルオキシ］ベンゼン（III:X1＝X2＝Ｆ） 水素化ナトリウム（60％）1.00gを無水トルエン20ml
に懸濁、氷冷撹拌中グリシドール1.85gを滴下、無水ト
ルエン16mlで洗いこむ（ほとんどまじらない）。滴下
後、ナトリウム塩がブロック化するので室温ではげしく
撹拌して粉砕する（25分）。再度氷冷して2,3,4−トリ
フルオロニトロベンゼン3.54gを無水トルエン20mlに溶
解し滴下し、氷室で一夜撹拌する。反応後、氷水を加
え、有機層を重曹水および水で洗う。乾燥（MgSO4）後
留去して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
に付し目的化合物793mgを得た。NMR標品と一致。
ルオキシ］ベンゼン（III:X1＝X2＝Ｆ） 水素化ナトリウム（60％）1.00gを無水トルエン20ml
に懸濁、氷冷撹拌中グリシドール1.85gを滴下、無水ト
ルエン16mlで洗いこむ（ほとんどまじらない）。滴下
後、ナトリウム塩がブロック化するので室温ではげしく
撹拌して粉砕する（25分）。再度氷冷して2,3,4−トリ
フルオロニトロベンゼン3.54gを無水トルエン20mlに溶
解し滴下し、氷室で一夜撹拌する。反応後、氷水を加
え、有機層を重曹水および水で洗う。乾燥（MgSO4）後
留去して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
に付し目的化合物793mgを得た。NMR標品と一致。
参考例５ 2,3−ジフルオロ−６−ニトロ−［2,3−エポキシプロピ
ルオキシ］ベンゼン（III:X1＝X2＝Ｆ） トリフェニルホスフィン3.93gとアゾジカルボン酸ジ
エチルエステル2.61gを無水テトラヒドロフラン（THF）
30ml中、氷冷下20分間撹拌する（ミツノブ試薬の調
製）。2,3−ジフルオロ−６−ニトロフェノール1.75gお
よびグリシドール815mgを無水THF20mlに溶解した溶液を
加え、室温で一夜撹拌する。
ルオキシ］ベンゼン（III:X1＝X2＝Ｆ） トリフェニルホスフィン3.93gとアゾジカルボン酸ジ
エチルエステル2.61gを無水テトラヒドロフラン（THF）
30ml中、氷冷下20分間撹拌する（ミツノブ試薬の調
製）。2,3−ジフルオロ−６−ニトロフェノール1.75gお
よびグリシドール815mgを無水THF20mlに溶解した溶液を
加え、室温で一夜撹拌する。
反応後、THFを留去し、残渣にベンゼンを加え、NaHCO
3水溶液および水で洗う。有機層を脱水（Na2SO4）後留
去して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィに
付し、表題化合物590mgを得た。NMR標品と一致。
3水溶液および水で洗う。有機層を脱水（Na2SO4）後留
去して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィに
付し、表題化合物590mgを得た。NMR標品と一致。
実施例１ 2,3−ジフルオロ−６−ニトロ−（２−プロペニルオキ
シ）ベンゼン（II:X1＝X2＝Ｆ）および2,3−ジフルオロ
−６−ニトロ−（2,3−エポキシプロピルオキシ）ベン
ゼン（III:X1＝X2＝Ｆ） 水素化ナトリウム（60％）1.00gを無水トルエン20ml
に懸濁、氷冷下撹拌中に、アリルアルコール1.54gを無
水トルエン16mlに溶解した溶液を滴下し、同温で15分
間、室温で20分間撹拌する。得られた溶液を、2,3,4−
トリフルオロニトロベンゼン3.54gを無水トルエン20ml
に溶解した溶液中に氷冷下滴下し、同温で一夜撹拌す
る。反応後氷水を加え有機層を水洗、乾燥（MgSO4）後
留去して2,3−ジフルオロ−６−ニトロ−（２−プロペ
ニルオキシ）ベンゼンの粗体を得る。
シ）ベンゼン（II:X1＝X2＝Ｆ）および2,3−ジフルオロ
−６−ニトロ−（2,3−エポキシプロピルオキシ）ベン
ゼン（III:X1＝X2＝Ｆ） 水素化ナトリウム（60％）1.00gを無水トルエン20ml
に懸濁、氷冷下撹拌中に、アリルアルコール1.54gを無
水トルエン16mlに溶解した溶液を滴下し、同温で15分
間、室温で20分間撹拌する。得られた溶液を、2,3,4−
トリフルオロニトロベンゼン3.54gを無水トルエン20ml
に溶解した溶液中に氷冷下滴下し、同温で一夜撹拌す
る。反応後氷水を加え有機層を水洗、乾燥（MgSO4）後
留去して2,3−ジフルオロ−６−ニトロ−（２−プロペ
ニルオキシ）ベンゼンの粗体を得る。
これををジクロルメタン100mlに溶解し、ｍ−クロロ
過安息香酸（80％）4.75gを加え室温で一夜撹拌する。
反応液を３％Na2CO3水溶液および水で洗い、乾燥（MgSO
4）後留去して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィに付し、2,3−ジフルオロ−６−ニトロ−（2,3−
エポキシプロピルオキシ）ベンゼン3.36g（収率73％）
を得た。NMR標品と一致 参考例６ 2,3−ジフルオロ−６−（2,2−ジエトキシカルボニルエ
テニル）アミノ−［（２−ヒドロキシプロピル）オキ
シ］ベンゼン（VI:X1＝X2＝Ｆ、Ｒ＝Et） 実施例１で得たオキシラニルメチル体1.16gをメタノ
ール35mlに溶解、５％Pd−C1.0gを触媒として加え室
温、常圧にて接触水添する（計５時間）。反応後触媒を
濾去、溶媒を留去して2,3−ジフルオロ−６−アミノ−
（2,3−エポキシプロピルオキシ）ベンゼンの粗体を
得、単離精製すること無くこれにジエチル・エトキシメ
チレンマロネート（EMME）1.19gを加え、140℃で常圧で
30分減圧下エタノールを除きながら30分、さらに常圧で
30分加熱撹拌する（反応終了時のTLCでは加圧下接触水
添した時に副生した一級アルコール体の生成は認められ
ない）。反応後シリカゲルカラムクロマトグラフィに付
し目的化合物VI1.32g（収率71％）を得た。このもののN
MRスペクトルは別法で得たものと一致した。
過安息香酸（80％）4.75gを加え室温で一夜撹拌する。
反応液を３％Na2CO3水溶液および水で洗い、乾燥（MgSO
4）後留去して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィに付し、2,3−ジフルオロ−６−ニトロ−（2,3−
エポキシプロピルオキシ）ベンゼン3.36g（収率73％）
を得た。NMR標品と一致 参考例６ 2,3−ジフルオロ−６−（2,2−ジエトキシカルボニルエ
テニル）アミノ−［（２−ヒドロキシプロピル）オキ
シ］ベンゼン（VI:X1＝X2＝Ｆ、Ｒ＝Et） 実施例１で得たオキシラニルメチル体1.16gをメタノ
ール35mlに溶解、５％Pd−C1.0gを触媒として加え室
温、常圧にて接触水添する（計５時間）。反応後触媒を
濾去、溶媒を留去して2,3−ジフルオロ−６−アミノ−
（2,3−エポキシプロピルオキシ）ベンゼンの粗体を
得、単離精製すること無くこれにジエチル・エトキシメ
チレンマロネート（EMME）1.19gを加え、140℃で常圧で
30分減圧下エタノールを除きながら30分、さらに常圧で
30分加熱撹拌する（反応終了時のTLCでは加圧下接触水
添した時に副生した一級アルコール体の生成は認められ
ない）。反応後シリカゲルカラムクロマトグラフィに付
し目的化合物VI1.32g（収率71％）を得た。このもののN
MRスペクトルは別法で得たものと一致した。
参考例７ 2,3−ジフルオロ−（2,2−ジエトキシカルボニルエテニ
ル）アミノ−［（Ｒ）−２−ヒドロキシプロピルオキ
シ］ベンゼン（VI:X1＝X2＝Ｆ、Ｒ＝Et） 参考例２で得た化合物505mgをメタノール17mlに溶
解、５％Pd−C300mgを加え、常温、常圧にて水添する
（約3.5時間）。反応後触媒を濾去し、溶媒を留去して
2,3−ジフルオロ−６−アミノ−［（Ｒ）−２−ヒドロ
キシプロピルオキシ］ベンゼンの粗体を得る。これとEM
ME518mgを無溶媒で120℃に加熱、常圧で20分間、減圧で
20分間再度常圧で20分間撹拌する。放冷後、シリカゲル
カラムクロマトグラフィに付し、ベンゼン・酢酸エチル
5:1流分よりメチレンマロネート化体VI514mg（収率63
％）を得た。標品と一致 トリフェニルホスフィンとアゾジカルボン酸ジエチル
を無水THF中氷冷下20分間撹拌した（ミツノブ試薬の調
製）。これに上記のメチレンマロネート化体VIを無水TH
Fに溶解した溶液を加え室温で一夜撹拌した。THFを留去
て得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィに付し
（Ｓ）−ジメチル・（7,8−ジフルオロ−３−メチル−
3,4−ジヒドロ−2H−［1,4］ベンゾオキサジン−４−イ
ル）メチレンマロネートを得た。このものの光学純度は
92％e.e.であった。
ル）アミノ−［（Ｒ）−２−ヒドロキシプロピルオキ
シ］ベンゼン（VI:X1＝X2＝Ｆ、Ｒ＝Et） 参考例２で得た化合物505mgをメタノール17mlに溶
解、５％Pd−C300mgを加え、常温、常圧にて水添する
（約3.5時間）。反応後触媒を濾去し、溶媒を留去して
2,3−ジフルオロ−６−アミノ−［（Ｒ）−２−ヒドロ
キシプロピルオキシ］ベンゼンの粗体を得る。これとEM
ME518mgを無溶媒で120℃に加熱、常圧で20分間、減圧で
20分間再度常圧で20分間撹拌する。放冷後、シリカゲル
カラムクロマトグラフィに付し、ベンゼン・酢酸エチル
5:1流分よりメチレンマロネート化体VI514mg（収率63
％）を得た。標品と一致 トリフェニルホスフィンとアゾジカルボン酸ジエチル
を無水THF中氷冷下20分間撹拌した（ミツノブ試薬の調
製）。これに上記のメチレンマロネート化体VIを無水TH
Fに溶解した溶液を加え室温で一夜撹拌した。THFを留去
て得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィに付し
（Ｓ）−ジメチル・（7,8−ジフルオロ−３−メチル−
3,4−ジヒドロ−2H−［1,4］ベンゾオキサジン−４−イ
ル）メチレンマロネートを得た。このものの光学純度は
92％e.e.であった。
参考例８ 2,3−ジフルオロ−（2,2−ジエトキシカルボニルエテニ
ル）アミノ−（２−ヒドロキシプロピルオキシ）ベンゼ
ン（VI:X1＝X2＝Ｆ、Ｒ＝Et） 2,3−ジフルオロ−６−ニトロフェノール2.5g、プロ
ピレンオキサイド2.3mlおよびピリジン0.11mlを無水ト
ルエン5mlに溶解、封管中50℃で72時間加温撹拌する。
反応液を酢酸エチルに溶解し、NaHCO3水溶液および水で
洗い、乾燥（MgSO4）後留去して2,3−ジフルオロ−６−
ニトロ−（２−ヒドロキシプロピルオキシ）ベンゼンの
粗体2.17gを得る。これをエタノール25mlに溶解し、５
％Pd−C450mgを触媒として加え、常圧で接触還元に付
す。反応後触媒を濾去、溶媒を留去して2,3−ジフルオ
ロ−６−アミノ−（２−ヒドロキシプロピルオキシ）ベ
ンゼンの粗体を得る。これにEMME2.42gを加え、常圧で3
0分間、減圧で発生するエタノールを除きながら30分
間、さらに常圧で30分間、120℃で加熱撹拌する。、反
応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィに付し、
標題化合物2.19gを得た。標品と一致
ル）アミノ−（２−ヒドロキシプロピルオキシ）ベンゼ
ン（VI:X1＝X2＝Ｆ、Ｒ＝Et） 2,3−ジフルオロ−６−ニトロフェノール2.5g、プロ
ピレンオキサイド2.3mlおよびピリジン0.11mlを無水ト
ルエン5mlに溶解、封管中50℃で72時間加温撹拌する。
反応液を酢酸エチルに溶解し、NaHCO3水溶液および水で
洗い、乾燥（MgSO4）後留去して2,3−ジフルオロ−６−
ニトロ−（２−ヒドロキシプロピルオキシ）ベンゼンの
粗体2.17gを得る。これをエタノール25mlに溶解し、５
％Pd−C450mgを触媒として加え、常圧で接触還元に付
す。反応後触媒を濾去、溶媒を留去して2,3−ジフルオ
ロ−６−アミノ−（２−ヒドロキシプロピルオキシ）ベ
ンゼンの粗体を得る。これにEMME2.42gを加え、常圧で3
0分間、減圧で発生するエタノールを除きながら30分
間、さらに常圧で30分間、120℃で加熱撹拌する。、反
応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィに付し、
標題化合物2.19gを得た。標品と一致
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07D 303/22 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (3)
- 【請求項１】式（Ｉ） （式中、X1およびX2は、各々独立に、ハロゲン原子を表
し、Ｙは、水酸基、またはハロゲン原子を表す） で表される化合物に、式（Ａ） （式中、Ｚは、ハロゲン原子、置換スルホニルオキシ基
または水酸基を表す） で表される化合物を、 Ｙがハロゲン原子である化合物であるときは、Ｚは水
酸基である化合物を、塩基存在下に、 Ｙが水酸基である化合物であるときは、Ｚは置換スル
ホニルオキシ基、もしくはハロゲン原子である化合物
を、塩基存在下に、 または、 Ｙが水酸基である化合物であって、Ｚも水酸基である
化合物を、ミツノブ試薬の存在下に、 反応させ、式（II） （式中、X1およびX2は、各々独立に、ハロゲン原子を表
す） で表される化合物とし、この化合物を酸化することを特
徴とする、式（III） （式中、X1およびX2は、各々独立に、ハロゲン原子を表
す） で表される化合物の製法。 - 【請求項２】Ｙがハロゲン原子であり、Ｚが水酸基であ
る請求項１記載の製法。 - 【請求項３】X1およびX2が、各々フッ素原子である請求
項１又は請求項２記載の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1037989A JP2857760B2 (ja) | 1989-02-17 | 1989-02-17 | プロポキシニトロベンゼン類の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1037989A JP2857760B2 (ja) | 1989-02-17 | 1989-02-17 | プロポキシニトロベンゼン類の製法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10205928A Division JP3002978B2 (ja) | 1998-07-22 | 1998-07-22 | プロポキシニトロベンゼン類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02218648A JPH02218648A (ja) | 1990-08-31 |
| JP2857760B2 true JP2857760B2 (ja) | 1999-02-17 |
Family
ID=12512978
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1037989A Expired - Lifetime JP2857760B2 (ja) | 1989-02-17 | 1989-02-17 | プロポキシニトロベンゼン類の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2857760B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0603404B1 (en) * | 1992-05-15 | 1999-03-17 | Mitsui Chemicals, Inc. | Process for producing glycide derivative |
| AU674542B2 (en) * | 1992-10-07 | 1997-01-02 | Derivados Del Etilo, S.A. | Process for obtaining benzoxazines useful for the synthesis of ofloxacin, levofloxacin and derivatives thereof |
| HUE035391T2 (en) * | 2012-06-11 | 2018-05-02 | Tacurion | Process for the preparation of 4,4,7-trifluoro-1,2,3,4-tetrahydro-5H-1-benzazepine compound and intermediate of synthesis |
-
1989
- 1989-02-17 JP JP1037989A patent/JP2857760B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 新実験化学講座１５「酸化と還元▲Ｉ▼−２」丸善株式会社（昭和５１年９月２０日発行）、第６９８〜６９９頁 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02218648A (ja) | 1990-08-31 |
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