JP2919075B2 - 回路基板のウエーブはんだ付け方法及び装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術的背景 本発明はウエーブはんだ付け浴の表面に非酸化性雰囲
気を供給して液体はんだ表面上に酸化物の形成を阻止す
るための方法及び装置に関する。

ウエーブはんだ付け機械は従来手作業で行われていた
印刷回路基板上への部品のはんだ付けを自動的に行うた
め工業において長い間使用されている。通常のウエーブ
はんだ付け機械は印刷回路基板を予熱するための少なく
とも一つの予備加熱ゾーン、はんだ付けポットに入れら
れた溶融はんだで印刷回路基板の底部側を塗布すること
により基板へ部品をはんだ付けするための少なくとも一
つのはんだ付けゾーン、及びはんだを固化させるための
少なくとも一つの冷却ゾーンを備えている。上記はんだ
付け工程あるいは塗布工程は通常フラックスの存在下に
実施される。該フラックスは表面部において結合又は被
覆のために必要とされる印刷回路基板の底部の銅表面の
濡れ性を改善するために使用される。フラックスは通常
腐蝕性であり、これらフラックスの過剰あるいは残留は
ウエーブはんだ付け操作の後清浄されなくてはならな
い。

低残留非清浄フラックスあるいはフラックスレス方法
も開発されており、実質的に酸素不存在雰囲気下、例え
ば窒素下で、標準フラックスの不便さを伴わないウエー
ブはんだ付け方法の実施が可能である。

米国特許第3,705,457号には印刷回路基板の金属製表
面の酸化を避けるため不活性ガスを導入することを含む
最も初期のウエーブはんだ付け方法が開示されている。

米国特許第4,538,757号には、窒素及び水素を含む還
元性雰囲気下とし、及び周辺空気により雰囲気が置換さ
れるのを防ぐため機械の入り口及び出口に窒素カーテン
を設けるウエーブはんだ付け方法が開示されている。

米国特許第4,606,493号には、はんだ付け中に発生す
る熱に起因する電気的（通常は銅）接続の酸化を防止
し、かつ回路担体中に熱応力欠陥の発生を減少させるた
め、不活性雰囲気下で印刷回路基板をはんだ付けするた
めの方法及び装置が開示されている。この目的のため、
印刷回路基板の底部側に突き当たる多数の高速度ジェッ
トを供給するために不活性ガスがスリットを通して注入
される。その操作の条件として、不活性ガスジェットの
温度ははんだ付けポット中の溶融はんだの温度（600
℃）の約２倍の高さの温度にされる。

米国特許第4,646,958号には、窒素及び珪素、又は水
素及び珪素を含む雰囲気下で、フラックスレス又はフラ
ックスに左右されないシステムを達成するはんだリフロ
ーもしくははんだチップ方法が開示されている。

米国特許第4,821,947号には、フラックスを使用せず
に金属含有表面に溶融金属を塗布する方法が開示されて
いる。この方法は、金属含有表面に損傷が生じないよう
に、かつ金属含有表面に実装された部品のような材料に
損傷が生じないように十分に低い温度に保たれた不活性
雰囲気中で実施される。

米国特許第5,071,058号には、結合又は塗装に用いら
れる金属含有充填材料の酸化に必要とされるよりも大き
な酸化能力を有するが、しかし空気よりも低い酸化能力
を有する、制御された酸化性雰囲気で実施される結合／
塗装操作を実施するための方法が開示されている。ウエ
ーブはんだ付け方法の場合、不活性ガス雰囲気中の酸素
含有量は少なくとも10ppmであり、好ましくは少なくと
も500ppmである。

米国特許第5,121,875号には、印刷回路基板の予熱を
空気下で実施するウエーブはんだ付け機械のための短い
覆いが開示されている。この方法では、非清浄フラック
スが使用され、５％以下の酸素濃度がはんだポットには
よいとされる。

米国特許第4,921,156号には、はんだ付け室を備え、
該はんだ付け室中に保護性ガス雰囲気を注入する手段及
び溶融金属はんだのプール中に下方に突出する密閉スカ
ート手段を有する装置が開示されている。好ましくは該
保護性ガス雰囲気は窒素及び可能な限りいくつかの還元
剤を含有する。

米国特許第4,746,289号には、層流条件で非反応性雰
囲気下にパーツを処理する方法が開示されている。この
特許に開示される該層流条件は通常ウエーブはんだ付け
機械における不活性ガス注入に適用される。

要するに、実質的に酸素に左右されない雰囲気はいわ
ゆる十分に不活性化されたウエーブはんだ付けシステ
ム、及び浮滓減少限界システムにとって達成されてい
る。

十分に不活性化されたウエーブはんだ付けシステムは
現在トンネル型システムを使用している。この型のシス
テムは非常に費用が掛かり、取付けに時間が掛かる。こ
の型の機械はトンネルを使用するので、はんだ付け組立
て作業へのアクセスが大いに減じられる。要求される結
果を達成するためにはこの型のシステムは非常に高いガ
ス流れ速度（1500scfh以上）で操業しなければならな
い。これを行うことにより、不活性システムにおける酸
素ppmレベルは低く保持され、こうして要求される結果
を得る。流れ速度が減少すると、雰囲気は不安定とな
り、利益は失われる。十分に不活性化されたシステムの
最初の目標は約100ppm以下の酸素ppmレベルを保持す
る。次いでこれがはんだ付けのためのより大きな湿潤性
で最大の浮滓減少を達成する。

浮滓減少限界不活性化システムは十分に不活性化され
たシステムの問題を処理するために開発された。この設
計は取付けが容易であり、コストがより低下するという
ものである。このシステムの他の目標は減少された不活
性ガス流れ速度を有するということである。これらの目
標は達成されたかのようにみえるが、このシステムの達
成度は十分に不活性化されたシステムの達成度に比べて
非常に低い。限界不活性システムは発生する不活性に存
在する印刷回路基板に依存するので、実際の不活性化効
果は決して十分には達成されない。このようなシステム
の浮滓減少は湿潤性に何らかの改良が加えられても限界
ぎりぎりで一般的に最高でも70％（不活性ガスの存在し
ないはんだ付けポット操作に比べて）である。

浮滓減少限界不活性化システムの例は米国特許第5,20
3,489号及び米国特許第5,240,169号に見ることができ
る。ここの開示されるシステムのはんだウエーブははん
だ貯蔵槽中のウエーブポンプにより定まる。コンベアー
が回路基板を搬送すると、回路基板の下側がはんだ付け
ウエーブを通過する。図10に図示されるように、覆い板
（Ｃ）は貯蔵槽（Ｒ）の上部を横切って延びており、は
んだウエーブを遮蔽するため窪みが設けられている。各
はんだウエーブ側に、該覆いによりその上部、はんだ貯
蔵槽によりその底部、はんだウエーブによりその側部、
及び（ｉ）据付壁（はんだ付けポット又ははんだ付けポ
ットハウジングの）もしくは（ii）別のはんだウエーブ
（この場合部屋は二つのはんだウエーブの間に位置して
いる。）により反対側の側部が仕切られ部屋（CH）が形
成されている。各部屋ははんだウエーブ（SW）と覆い孔
の端部との間に形成された隙間（Ｇ）により限定された
ガス出口を備える。

はんだウエーブの長さ方向に平行に延びているガス放
出パイプ（Ｐ）が各部屋内に配置されている。遮蔽ガス
は部屋（CH）内を不活性雰囲気にするためにガス放出パ
イプのオリフィスから放出される。遮蔽ガス流（Ｆ）は
出口を通って部屋内に出てくる。ガス流は回路基板が存
在するときガス（Ｇ）の上に仕組まれたウエーブ側の部
分を横切って不活性覆いが供給されるようにされてい
る。しかしながら、回路基板が存在しないときは、ガス
（Ｇ）から離れて曲がるウエーブの上部表面の部分（T
S）は周辺雰囲気にいくらでも存在する周囲の酸素に晒
され、このため浮滓が形成されてします。はんだ付け操
作の場合、そこにははんだポットに搬送される連続した
回路基板の間に幅広い特定の隙間が生じることとなり、
浮滓の形成を最小にするために連続した基板のはんだ付
けの間動かなくすることははんだウエーブポンプにとっ
て異常なことである。

さらに、部屋から出るガス流（Ｆ）の挙動は実際には
はんだウエーブ上に浮滓の形成を促進することになる。
これに関連して、一方の放出パイプ中のガスと部屋出口
上の雰囲気との間の圧力の相違はこれに反して比較的に
低い。結果として、出口方向に部屋内を移動するガスの
速度は比較的に遅い。この遅い移動に起因してガスは熱
いはんだウエーブにより十分に熱せられる。その結果、
ガス（Ｇ）から出る熱いガス流（Ｆ）は急速に上昇する
傾向を示し、はんだウエーブの下方に向かって雰囲気
（及びこれに含有される酸素）の冷却を引起こす自由渦
対流（CC）を発生させ、結果として浮滓の形成を生じさ
せる。

はんだ中の浮滓が形成される別の領域ははんだ貯蔵槽
に入るウエーブポンプのためのシャフトを動かす場所で
ある。シャフトの回転ははんだの撹拌を起こさせ、酸化
を促進させる。

はんだ中に形成された浮滓は結局はんだポットが浮滓
をはんだ貯蔵槽の上部からすくい取ることができるよう
に停止される要求レベル以上になると判断される。この
ような費用の掛かる停止が起こる頻度は浮滓の形成速度
に関連する。

それ故、現在達成されている以上に浮滓の形成速度を
最小にすることが要望されている。また、酸化性雰囲気
に晒される浴中のはんだ量を最小にすることが要望され
ている。

発明の概要 本発明は、回路基板のような部材をウエーブはんだ付
けすることを特徴とする方法及び装置に関するものであ
る。該方法は、はんだノズルから上方にはんだ付けウエ
ーブを出すこと、及び部材の少なくとも下面がはんだウ
エーブを通過するような通路に沿って部材を通過させる
ことを含む。遮蔽ガスは、部材の移動方向に関して限定
されたはんだウエーブの上方流及び下方流にそれぞれ配
置された第１及び第２のガス充気室内に供給される。各
ガス充気室は、側壁に形成されたオリフィス手段を持っ
た、はんだウエーブに対向して設けられた側壁を含む。
遮蔽ガスは、遮蔽ガスが１−30m/sの範囲の速度ではん
だウエーブに向かって移動するためにオリフィス手段か
ら出るように各ポンプ内で加圧される。

該方法の別の特徴は、遮蔽ガスは、遮蔽ガスが充気室
内を長さ方向に延びる配送管路に沿って案内されるよう
に各充気室に導入される。該ガスは配送管路の長さ方向
に沿って放出される。遮蔽ガスは、遮蔽ガスの速度が十
分に増大しかつはんだウエーブの方向に向かうように、
オリフィス手段を通過して各充気室から外方に向かって
導入される。

該方法のさらに別の特徴は、充気室側壁は側壁中に垂
直に間隔を設けられたオリフィス手段を有したはんだウ
エーブに面している。各充気室は側壁の上方部分がその
間に間隙を形成するためにはんだウエーブから水平に間
隔を形成するように配列され、はんだウエーブの上部表
面の上方部分が空隙上方に配置され、そこから湾曲され
ている。加圧された遮蔽ガスは、該遮蔽ガスがはんだウ
エーブの方向に通過させるためオリフィス手段から噴出
されるように充気室内に供給され、噴出ガスの少なくと
も上方部分ははんだウエーブの上部表面の位置に向かい
かつ横切るようにされている。

該方法のさらに別の特徴は、遮蔽ガスは、側壁からの
遮蔽ガスの放出の代わりに、あるいはこれに加えて、充
気室の上壁から噴出されてもよい。このような上方から
の放出遮蔽ガスはこのような下方からの空気を除去する
ために部材の下方に突き当たる。

本発明の装置の特徴は、はんだ貯蔵槽、はんだ貯蔵槽
中に配置されたはんだノズル、はんだノズルからはんだ
ウエーブに向かって噴出するためのポンプ、及びはんだ
ウエーブがその下方を通過するように部材を搬送するコ
ンベアを包含する。

第１及び第２のガス充気室は、搬送手段の通過方向に
限定されるように、それぞれはんだウエーブの上方流側
及び下方流側に接近して配置される。該手段は、各充気
室中に加圧された遮蔽ガスを送り込むために設けられる
ものである。各充気室ははんだウエーブに対向して側部
を包含する。各側部ははんだウエーブに向かい加圧され
た遮蔽ガスを放出するオリフィス手段を有する。該オリ
フィス手段は、加圧された遮蔽ガスがはんだウエーブに
向かって１−30m/sの範囲の速度ではんだ手段を通って
放出されるような寸法に設計されている。

該装置の別の特徴は、配送管路は、充気室が遮蔽ガス
で加圧されるように充気室中に遮蔽ガスを導入ため各充
気室内で縦に延びている。該側壁は、はんだウエーブに
向かってガスを放出するように配列され、遮蔽ガスの速
度が実質的に増大するように設計されたオリフィス手段
を包含する。

該装置のまた別の特徴は、はんだウエーブに対向して
配置された充気室の側部が遮蔽ガスを放出するため垂直
に開けられたオリフィス手段を有することである。充気
室の上方部分はその間にガスを形成するために各はんだ
ウエーブから間隔を設けられている。はんだウエーブの
上部表面の上方部分は空隙上方に配置され、そこから湾
曲されている。下方部のオリフィスは加圧された遮蔽ガ
スが直接に空隙の下方に位置するはんだウエーブに向か
うように配置されている。上方部のオリフィスは遮蔽ガ
スが直接に向かいかつ横切って空隙から湾曲されたはん
だウエーブの上部表面の部分に向かうように配置されて
いる。

また、該装置のさらに別の特徴は、部材を搬送するコ
ンベアがコンベア幅を変えることができ、異なる幅の部
材を収容することができるように設計されている。はん
だ貯蔵槽を覆う囲いは搬送される部材のための入口及び
出口を備えている。遮蔽ガスの雰囲気は囲いの中に設け
られる。カーテンが、コンベアにより占められていない
部分を覆うため少のなくとも一つの入口及び出口端に横
切って水平に延びている。カーテンの一方はコンベア幅
が設定される時にそこで移動できるようにするためコン
ベアの適当な部分に接続される。

また、該装置のさらにまた別の特徴は、モータ駆動シ
ャフトがポンプを運転するためにはんだ貯蔵槽中に下方
に延びている。固定中空スリーブは、スリーブを通して
延びるシャフトを有し、スリーブ内領域ではんだを撹拌
するのを制限するために、はんだ表面の下に下方に延び
ている。加圧された遮蔽ガスがスリーブ内で撹拌される
はんだを不活性にするためにスリーブ内に導入される。

該装置の他の特徴は、ウエーブはんだ付け装置に使用
するために適用される不活性雰囲気を備えた不活性組立
て体を包含する。該組立て体は、充気室の縦端に向い合
う間に延び、上部壁及び２つの下方に延びる側壁を有す
る充気室を包含する。側壁の少なくとも一つはそこに形
成されたオリフィス手段を包含する。ガス配送管路が充
気室中に遮蔽ガスを導入するため充気室内に縦方向に延
びている。

該装置の他の特徴は、底壁の下部に直接配置されたは
んだが晒されることがないように、底壁を有する充気室
を備えること及び該底壁を貯蔵槽の中のはんだ中に浸漬
することを包含する。

該充気室は好ましくは充気室の縦軸に水平又は垂直の
いずれかでほぼ直交するように調整される。

図面の簡単な説明 本発明の目的および利点は、以下の好ましい態様の詳
細な説明、および添付図面に図示する複数のの例により
明らかにされよう。

第１図は、回路基板が通過している本発明に関するは
んだポットを示す縦断面図である。

第２図は、本発明の一態様によるガス充気室を示す破
断透視図である。

第３図は、回路基板の移動方向に垂直に方向付けされ
かつウエーブポンプの駆動シャフトを通過する垂直面に
沿ったはんだポットを示す縦断面図である。

第４図は、加圧ガス充気室の１つを通過する垂直面に
沿った第３図と同様な図である。

第５図は、本発明によるガス充気室組立て体の第１の
態様を示す頂部透視図である。

第６図は、本発明によるガス充気室組立て体の第２の
態様を示す第４図と同様の図である。

第７図は、本発明によるガス充気室組立て体の第３の
態様を示す第４図と同様の図である。

第８図は、本発明による加圧されたガス充気室からの
ガス流の方向を示す破断概略図である。

第９図は、改良された充気室を示す第８図と同様の図
である。

第10図は、従来技術の配置を示す第８図と同様の図で
ある。

第11図は、本発明の第４の態様に従った回路基板が通
過しているはんだポットを示す縦断面図である。

第12図は、本発明による第４の態様を示す頂部透視図
である。

第13図は、本発明の第４の態様によるはんだポット及
びガス充気室を示す縦断面図である。

第14図は、本発明の第４の態様による加圧されたガス
充気室からのガス流の方向を示す破断概略図である。

第15図は、改良されたガス充気室を示す横断面図であ
る。

第16図は、本発明の第５の態様を示す第１図と同様の
図である。

第17図は、本発明による調整可能なガス充気室を示す
縦断面図である。

第18図は、第17図の18−18線断面を示す断面図であ
る。

第19図は、調整可能なガス充気室の第18図と同様の図
である。

第20、21及び22図は、それぞれ、第16図の態様におい
て用いるための改良された充気室を示す横断面図であ
る。

発明を実施するための最良の形態 第１図に図示されるように、はんだポット（10）はは
んだ貯蔵槽又は浴（11）を備え、その中に従来法と同じ
ように一対のはんだウエーブ（12、14）が、それぞれウ
エーブノズル（16、18）及び調整可能なポンプ（20、2
2）を有して設置されている。該ウエーブ（12）は、ど
の様な流れ特性を示しても良いが、渦巻きウエーブ、及
び層流ウエーブとすることができる。

該ウエーブ（12）は、該ウエーブ（14）の上流側に配
置されるが、少なくとも回路基板（26）の下側がはんだ
ウエーブ（12、14）中を十分に通過するように、搬送用
コンベア（30）により搬送される回路基板（26）の移動
（Ｔ）方向を基準にして定められる。移動（Ｔ）方向は
水平に対してある角度を持って上方に傾斜されている
が、必要に応じて水平とすることができる。

遮蔽ガスシステムは貯蔵槽中のはんだの酸化を防ぐた
めに設けられている。該システムは複数のガス充気室
（40、50、60）を包含している。第１のガス充気室（4
0）は第１のウエーブ（12）の上流に位置している（回
路基板の搬送方向に関連して定められる。）。第２のガ
ス充気室（50）はウエーブ（12、14）の間に位置してい
る。第３のガス充気室（60）は第２のウエーブ（14）の
下流に位置している。各充気室はそれぞれのはんだウエ
ーブから間隔が置れ、その間に水平間隙（Ｇ）を形成し
ている。

各ガス充気室は、３つの直立壁、すなわち１つの垂直
端壁、２つの垂直側壁、及び１つの上壁を包含してい
る。例えば、第５図にガス充気室（40、50）の第１及び
第２の壁が示されている。第１のガス充気室（40）は１
つの垂直端壁（42）、２つの垂直側壁（44、46）、及び
１つの上壁（48）を包含している。同様に、第２のガス
充気室（42）は１つの端壁（52）、２つの側壁（54、5
6）、及び１つの上壁（58）を包含している。

第１図に第３のガス充気室（60）の側壁（64、66）及
び上壁（68）が図示されている。ガス充気室（40、50、
60）はその底側が解放されていて、各充気室は部分的に
はんだの中に浸漬されており、充気室の床ははんだの表
面により限定されている。また、充気室（40）の端は、
端壁（42）に向かって解放されて位置し（第４図参
照）、貯蔵槽内に配置された固定された垂直壁（32）に
対して密閉されておかれている。充気室（40）の一端
は、支え金具（34）の手段によってはんだポットの壁
（33）に接続されており、その他端は支え金具（35）に
より壁（32）に接続されている。

同様の支え金具（図示せず）が壁（32、34）に他の充
気室（50、60）を接続するために備えられている。ガス
配送パイプ（47）が充気室（40）内に長手方向に延びて
いる。該パイプ（47）は壁（32）にしっかりと固定さ
れ、ガス供給ホース（36）に接続されている。該ホース
は加圧された遮蔽ガス源に接続されており、該ガスは不
活性ガス、例えば窒素、アルゴン、二酸化炭素、希ガス
もしくはその混合物、又は不活性ガスとH₂のような還元
性ガス、けい素水素化物のような水素化物との混合物等
である。配送パイプ（47）は、遮蔽ガスが充気室の長さ
方向に極く均一に放出できるように適当な出口を包含す
る。

他の充気室（50、60）の各々は、それぞれ各自のガス
配送パイプ（57、67）を備え、パイプ（47）と同様の方
法で機能している。

ガス充気室の各々はガスを放出するためガス放出オリ
フィスを長手方向に設けている。第１のガス充気室（4
0）は第１のウエーブ（12）に面するその側壁（46）に
形成されたオリフィス（45）を包含する。第２のガス充
気室（50）は第１のウエーブ（12）に面するその側壁
（54）に形成されたガスオリフィス（55）及び第２のウ
エーブ（14）に面するその側壁（56）にオリフィス（5
5′）を有する。第３のガス充気室（60）は第２のウエ
ーブ（14）に面するその側壁（64）にオリフィス（65）
を有する。これらオリフィスはウエーブの長さ方向に沿
ってガスを均一に分布させる。放出オリフィス（45、5
5、55′、65）は、水平に開けられたスリットの垂直に
配置された列として配列された水平に伸びたスリットを
含むものとして示されるが、他のどのような形態、例え
ば水平に配置された垂直なスリットも考えられる。重要
なことは、各ガス充気室の放出オリフィスの領域が、各
配送パイプ（47、57、67）により各充気室中に0.01−5
0.0の範囲の水圧を造るように、各充気室に供給される
ガス流の大きさとの関連において設計されることであ
る。そうすることにより、層流でもって放出される遮蔽
ガスが１−30m/s、好ましくは３−8m/sの範囲の高速度
を持つことになる・ さらに、第８図に、底部から上部へ各はんだウエーブ
に向かって高速度遮蔽ガスが向けられて配置された充気
室のガス放出オリフィスが示されている。こうして、ス
リット（45′）の最も低い列がウエーブの寄り低い部分
に対してガスが向けられる（水平もしくは水平に対して
ある角度をもって（第９図参照））。スリット（45″）
の中間の列がウエーブの中間部分に対してガスが向けら
れる。そして、スリット（45）の最上部の列がウエー
ブの上方部分に対してガスが向けられる。

特に、スリット（45）の最上部の列からのガスは、
第８図に示されるように、間隙（Ｇ）の上を湾曲してお
かれたウエーブの上部表面（TS）の位置に向かいかつ横
切って向けらる。結果として、間隙（Ｇ）から上方に出
る高速度ガスはウエーブ上部表面の該部分（TS）の上部
を横切るように偏向されている。該偏曲ガスの高速度
は、比較的高い推進力を供給する。この比較的高い推進
力は、ウエーブから発散される熱的に発生する力により
ウエーブから取り出されて存在する。このようにする
と、ウエーブを通過する回路基板が存在しなくとも、実
質的な距離のためウエーブの輪郭に従う傾向があるウエ
ーブの上部表面の実質的な部分（全部ではない）はガス
により覆われるであろう。これは、第10図に示されるよ
うに、偏曲が生じないゆっくり移動するガスの場合には
起こらないことである。

さらに、本発明によるガスの高速度性は、ガスと熱い
はんだウエーブとの間の接触時間最小にするので、間隙
（Ｇ）に存在するガスは比較的冷たい。これは、第10図
に関連して上述したようにウエーブにより十分に加熱さ
れているゆっくりと移動する空気に比べて、渦巻き空気
流がウエーブの下方の冷えた雰囲気（及び可能性として
空気）を誘い出すことができる間隙の上部に生じている
傾向を減じるからであるということを意味する。

加えるに、スリットから高速度にガスを放出すること
により、該スリットは充気室に向かって濡らす傾向のあ
るはんだにより障害となりにくいからであろう。これ
は、はんだを効果的に押し退けることができないような
ゆっくりした速度でガスが存在する場合には起こりにく
いことである。

側壁（46、54、56、64）は平坦もしくは完全に垂直で
ある必要はないと判断されべきである。代わりに、これ
らは任意の方向（例えば第９図の破線参照）及び／又は
垂直に対して僅かな角度（例えば第９図の実線参照）に
曲げられることができる。要は、それらがそこから出た
ガス流がウエーブに接触できるように各はんだウエーブ
に対して普通に設置されていることが必要なだけであ
る。

ガス充気室の一つもしくは全ての上壁は、またガス放
出オリフィスを備えている。これについては、第５図に
示すように、それぞれ各側壁及び上壁に放出オリフィス
（49、59）を有する第１及び第２のガス充気室（40、5
0）が描かれている。これらオリフィス（49、59）から
上方に向かって放出されるガスは、回路基板により引き
込まれるかもしれない酸素含有空気をそこから除去する
ために回路基板の下側を支えている。これらオリフィス
の全域は、ガス速度が１−30m/s、より好ましくは３−8
m/sの範囲を備えるように設計されている。このような
ガス速度は、はんだを少しも掻き回すことなしに連れ込
む空気をはぎ取ることができる（第２及び第３充気室
（50、60）の場合）。上壁はは平坦であることはない
が、第９図の破線で示すような湾曲した形状を含めて他
の形状を取ることができる。

ガス充気室が一以上の壁に放出オリフィスを備えてい
る場合には、各壁から放出されたガスの速度を独立して
調整することができるので望ましい。これは各壁から放
出されるガスを分配する分配器を充気室内に備えること
によって達成することができる。例えば、第５図に示す
ように、第２充気室（50）中に分配器（70）が描かれて
いる。該分配器は３つの各ガス配送パイプ（図示なし）
により供給される３つの部屋（72、74、76）を形成して
いる。各放出開口（55、55′、59）から放出されるガス
は、独自に調整されたガス速度を有することができる。
同様にして、第１及び第３充気室（40、60）の一方もし
くは両方が独自に調整をもって二つの部屋に充気室が分
割された分配器を備えることができる。

必要ならば、遮蔽ガスは、第６図に示すように、側壁
だけから放出させることができ、第７図に示すように、
上壁だけから放出させることができる。第６図では、ガ
ス放出開口（45、55、55′）はガス充気室（40A、50A）
の側壁だけに形成されている。第７図では、放出開口
（47、59）はガス充気室（40B、50B）の上壁だけに形成
されている。

覆い（80）は、覆いの入口及び出口端上に位置された
入口及び出口カーテン（82、84）を有して、はんだ貯蔵
槽上に配置されることが好ましい。その場合、遮蔽ガス
ははんだウエーブ（12、14）に付近に置かれることが好
ましい。該カーテンは水平に重なりあった関係に作られ
た柔軟な材料でできた垂直な片を包含することができ
る。該片はコンベア及び回路基板がこれを横に押し退け
ることができるようにその上部だけが取り付けられてい
る。該覆いは好ましくははんだ付け操作が観察できるよ
うに好ましくはガラスでできた搬送中間部分（88）を包
含するカバー（86）を有する。該カバー（80）は必要な
らばカバーを持ち上げることができるように（90）に蝶
番いで止めることができる。

該カバー（80）は、ポンプ駆動シャフト（94）がそこ
を通して延びている、はんだ貯蔵槽の部分（92）に蝶番
いで止められる（第３図参照）。各ポンプ駆動シャフト
（94）はそれぞれモータ（96）によって運転される。駆
動シャフト（94）の回転作用によって撹拌されるはんだ
領域を不活性にするために、各駆動シャフトに固定され
た中空のスリーブ（100）が備えられている。該スリー
ブ（100）は円筒状の形状をし、貯蔵槽中のはんだの上
方水平面（102）より下方に延びている。各駆動シャフ
ト（94）はそれぞれ該スリーブを通して延びている。加
圧下にある遮蔽ガスは供給管（101）により該スリーブ
（100）の内部に供給され、ガスは該スリーブに形成さ
れた孔（103）を通して該スリーブ（100）に存在する。
それ故、回転する駆動シャフト（94）により撹拌される
はんだ貯蔵槽の唯一の場所は該スリーブ内に限定され、
該スリーブ（100）内に加圧下に維持された遮蔽ガスに
よって不活性にされる。

回路基板（26）用コンベア（30）は市販の支持体（11
0、110′）上を移動する（第３図参照）。すなわち、該
コンベアは一対の無端回転チェーン（30′、30″）を包
含する。該チェーン（30′）は、第３図の紙面に水平に
移動する翼（30′Ａ）（例えば観察者から見て横切るよ
うに）、及び紙面に直角に移動する翼（30′Ｂ）（例え
ば観察者向かうように）を包含する。同様に、コンベア
チェーン（30″）は、紙面に水平に及び直角に移動する
翼（30″Ａ、30″Ｂ）をそれぞれ包含する。コンベアの
配置は従来通りである。支持体（110）は、異なる幅の
会度基板を収容することができるようにするためコンベ
アチェーン（30′、30″）の間の空間を変えられるよう
に、公知の方法（ここに記載しない）により他の支持体
（110′）に向かってあるいは離れて水平に調整されて
いる壁（111）に取り付けられている。該支持体（110）
は、後述のカ±テン（82、84）から分離された水平なカ
ーテン（112）に取り付けられ、コンベア（30）により
占められていない入口及び／又は出口の部分覆うように
設けられている。該カーテン（112）の一方の端は、巻
き捩じれスプリング（113）により回転に傾きを持たせ
られている垂直ローラ（114）に組み付けられている。
該カーテンの他方の端は、支持体（110）に接続されて
いる。該支持体（110）がコンベア幅を変えるために水
平に調整されるとき、該カーテン（112）は自動的に巻
かれている（あるいは巻かれていない）。該カーテン
（112）を覆いの入口及び／又は出口に配置することが
できる。

巻き上げ式カーテン（113）を用いる代わりに、支持
体（110）が調節された場合、アコーデオンのような方
法で延ばしたり、縮めたりして使用できる折り畳み式カ
ーテン、例えば蛇腹のような部材を用いることができ
る。

操作において、回路基板（26）ははんだ貯蔵槽にコン
ベアで搬送される。該回路基板は、公知の方法でフラッ
クスで前処理されかつ加熱されていても良い。該回路基
板は入口カーテン（82）を通過し、覆い（80）に入るの
で、第１の加圧されたガス充気室（40）の上スリット
（49）から定法に放出される遮蔽ガスは、基板がガス流
を通過する時の空気の同伴を除去するため回路基板の下
側を浸漬する。最初の加圧されたガス充気室を通過した
後、回路基板の下側は第１のはんだウエーブ（12）を通
過し、常法によりはんだを塗装される。次いで、回路基
板の下側は連続的に次の箇所を通過する。（ｉ）第２の
加圧されたガス充気室（50）の上スリット（59）から放
出された遮蔽ガスの空気除去流、（ii）第２はんだウエ
ーブ、及び（iii）第３の加圧されたガス充気室（60）
の上スリットから放出された遮蔽ガスの空気除去流。第
２及び第３の加圧されたガス充気室（50、60）の上スリ
ットから流れる空気除去流の速度は、回路基板の下側か
らはんだを取り去ったり移動させたりするのには十分な
大きさではない。

はんだ中の浮滓の形成ははんだから空気を除去する適
当な方法で最小にされる。すなわち、ガス充気室（40、
50、60）の上スリットから放出された遮蔽ガスの空気除
去流ははんだ近辺に漂う酸素濃度を最小にされる。この
ようにして、覆い（80）により保持された遮蔽雰囲気を
達成する。

さらに、はんだウエーブ表面は、３つの加圧されたガ
ス充気室の側スリット（55及び55′）から放出される遮
蔽ガスにより十分に保護される。これらガス流は加圧さ
れた充気室比較的に高速度で放出され、間隙（Ｇ）の上
を湾曲しておかれたウエーブの上部表面の部分（TS）の
位置に向かいかつ横切って向うように充気室から少なく
とも一つの上ガス流により偏曲されている。該ガスは、
回路基板が存在しなくとも、ウエーブ表面（TS）を効果
的に不活性にする。

間隙（Ｇ）に向かうガスの高速性は、間隙（Ｇ）か
ら、ゆっくる移動するガスの場合よりも冷却された撹拌
したガスを発生させる。それ故、循環対流がウエーブの
下方に酸素含有雰囲気を引っ張り込む傾向は少ない。

一例として、本発明により運転される充気室は、側壁
の約１パーセントの表面領域を占める側壁中にオリフィ
スを有した。100scfhの流量が約0.06inの水圧を作るた
めに充気室中に達成された。300scfhの流量では、約0.5
インチの水圧及び約18m/sの速度が達成された。

これは、100scfhの流量のために、0.0001インチの水
圧が約0.24m/sの間隙ガス速度を与えるように計算され
た、第10図による不活性システムの同じ流量として計算
された値に比較される。300scfhの流速には、圧力は0.0
008インチの水圧に計算され、約0.72m/sの間隙ガス速度
であった。第10図の構造では、ガス速度はガスが間隙
（制限を定める）に接近するほど増大すると判断され
る。このように、第10図の部屋（CH）内のガス流は0.24
m/s及び0.72m/sの値より低くすらあろう。これらの値は
それぞれ目下特許請求した本発明における約6m/s及び18
m/sの速度と比べることができる。

ガス充気室内の遮蔽ガスの比較的高い圧力は、そこか
らどのようにでも酸素を追い出すことを助ける。

ウエーブポンプの回転駆動シャフト（94）により撹拌
されるはんだは、スリーブ（100）内に加圧された遮蔽
ガスにより覆われているので、酸化されないであろう。

第11−15図に示される、本発明の第４の態様では、充
気室の各々は、上壁、底壁、及び少なくとも３つの縦
壁、すなわち１つの垂直端壁及び２つの垂直側壁を包含
する。例えば、第12図には、第１及び第２のガス充気室
（240、250）が占めされている。第１のガス充気室（24
0）は１つの垂直端壁（242）、２つの垂直側壁（244、2
46）、１つの底壁（243）及び１つの上壁（248）を包含
する。同様に、第２のガス充気室（250）は１つの端壁
（252）、２つの側壁（254、256）、１つの底壁（243）
及び１つの上壁（258）を包含する。第11図には、第３
ガス充気室（260）の側壁（264、266）、底壁（263）及
び上壁（268）が示されている。上壁（248、258、268）
は常に近接するはんだウエーブの上側の下もしくはそこ
に配置されている。はんだ浴の高さは充気室の全ての底
壁がはんだに常に沈められるように調整される。このよ
うに底壁を沈めることにより、充気室の下に配置された
全てのはんだは酸素から遮蔽されるのを確実にし、はん
だの全表面を不活性にする必要を無くする。

端壁（242）に対峙して配置された充気室（240）の端
は開口され（第13図参照）、貯蔵槽内に配置された固定
された垂直壁（233）に対して密閉して設置されてい
る。充気室（240）の一端は支え（235）の手段によりは
んだポットの壁（233）に取り付けられ、他端は支え（2
35）により壁（233）に取り付けられている。

別法として、第17図において後述するように、充気室
の両端は、充気室の内部が完全に密閉されるように壁を
包含することができる。

充気室（240）内で長手方向に延びているのは、遮蔽
ガスで充気室（240）の内部を加圧するためのガス搬送
パイプ（247）である。該パイプ（247）は壁（232）に
固定され、ガス供給管（236）に接続され、該管は加圧
された遮蔽ガス源に接続されている。搬送パイプ（24
7）は、充気室の長さ方向に沿って極均一に遮蔽ガスが
放出できるように適切な出口を包含する。

他の各充気室（250及び260）はパイプ（247）と同様
に機能する自分自身のガス配送パイプ（257、267）を備
えている。

ガス充気室の各々はガスを放出するためのガス放出オ
リフィスを長手方向に配置している。第１の充気室（24
0）は、第１の壁（212）に面しているその側壁（246）
に形成されたオリフィス（245）、及び（場合に因り）
上壁（248）にオリフィス（245′）（第12、14図参照）
を包含し、第２の充気室（250）は、第１及び第２ウエ
ーブ（12、14）に面している側壁（254、256）に形成さ
れたオリフィス（255）をそれぞれ、及び（場合に因
り）上壁（258）にオリフィス（255′）有し、第３の充
気室（260）は、第２の壁（214）に面しているその側壁
（264）に形成されたオリフィス（265）、及び（場合に
因り）上壁（268）にオリフィス（265′）を有する。該
オリフィス（245、255、265）はウエーブの長さに沿う
ガスの均一な分布をつくる。

放出オリフィスは、水平に設けられたスリットの垂直
に設けられた列として配置された水平に延びたスリット
を包含するものとして示されているが、水平に設けられ
た垂直なスリットにように、これらは他のどのような形
状を取ることができる。細長スリットの代わりに、オリ
フィスは円形、楕円形又は他の任意の形状であることが
できる。

重要なことは、はんだウエーブに面する各側壁の放出
オリフィスの領域が、各配送パイプ（247、257、267）
により各充気室中に水圧0.01−50.0インチの範囲の圧力
をつくるために各充気室に供給されるガス流の大きさと
結合するように設計されることであり、及びそこから放
出される遮蔽ガスが１−30m/s、より好ましくは３−8m/
sの範囲に高速度えお有してはんだウエーブに向かって
層流になるようにすることである。

さらに第14図に示すように、各充気室の側壁のガス放
出オリフィスは、高速度遮蔽ガスがその底から上まで各
はんだウエーブに直接向かうように配置される。このよ
うにして、スリット（245）のより低い列はウエーブの
より低い部分に向かってガスを向け（水平もしくは水平
に対してある角度をもって）、及びスリット（245）の
最も高い列はウエーブのより高い部分に向かってガスを
向ける。

殊に、スリット（245）のより高い列からのガスは、
第14図に示されるように、間隙（Ｇ）上で間隙から湾曲
して配置されたウエーブの上表面（TS）の部分に向かい
かつ横切って向けられている。結果として、間隙（Ｇ）
から上方に出される高速度ガスはウエーブ上表面の部分
（TS）の上を横切って通過するように反らされている。

結果として、同じ効果が第１の態様の場合にも生じ
る。すなわち、ウエーブの上表面はガスにより覆われて
いるので、渦巻き空気流が間隙上に到達する傾向がより
減じられ、充気室のスリットが妨害するのをより減じ
る。

該側壁（246、254、256、264）は水平もしくは完全に
垂直である必要はない。代わりに、これらは任意の方向
及び／又はある角度をもった垂直に曲げられこともでき
ると判断される。側壁から出るガス流がウエーブに接触
できるように、側壁が各はんだウエーブに概ね対向する
ということだけが必要である。第15図にみるように、充
気室（250B）の側壁の各々は上方及び下方の部分（254
B′、254B″、256′、256″）を有する。該上方部分（2
54B′、256′）は各はんだウエーブの上に向かって不活
性ガスを向けるために下方部分に対して角度を持ってい
る。すなわち、各上方部分は垂直及び水平の部分を有す
る方向に面しており、該水平の部分は隣接するはんだウ
エーブ方向に向けられている。

充気室（250B）はまた、２つの副室（250B′、250
B″）中の内側の部屋に充気室を分離する非開口分配器
（270）を備え、各副室はガス配送パイプ（2576′、25
7″）を有している。各パイプ（257′、257″）により
供給されるガスを別々に調節することにより、充気室の
各側から出るガスの速度は互いに関連して変えることが
できるので、これらの速度はそれぞれ渦巻き流及び層流
はんだウエーブを不活性にする要求に適用される。

該側及び上壁は不活性ガスがはんだウエーブ方向に向
けられる限り、中高にあるいは中窪みに曲げられたよう
に、任意の適当な形状を取ることができる。

先に示したように、必要ならば、ガス充気室の一つあ
るいは全ての上壁は、ガス放出オリフィスを備えてい
る。これらオリフィスから上方に放出されたガスは、回
路基板により取り込まれた酸素含有空気をそこから取り
去るために回路基板の下側に当たる。これら上オリフィ
スの全領域はガス速度が１−30m/s、より好ましくは３
−8m/sの範囲を占めるように設計されている。こうし
て、はんだを少しも乱すことなくガス速度は混入する空
気をはぎ取ることができる（第１及び第３充気室（25
0、260）の場合）。

それぞれのガス充気室（240、250、260）は、隣接の
ウエーブに対して平行に伸びる水平軸（280）の周囲に
適合し得るように搭載することができ（第17−19図参
照）、さらに垂直に又は平行にも適合し得るように搭載
することができる。特に、ガス充気室（240）は、前述
の頂部壁、底部壁、末端部壁及び側部壁に加えて、第17
図において、内部ねじ山を有するロックナット（jamnu
t）（282）に溶接されるところの追加の末端部壁（24
2′）を有しているように示されている。ガス配送パイ
プ（247）の外部周辺に溶接されているのは、はんだポ
ットの壁（232）内に形成された垂直のスロット（286）
を貫通して伸びている第１のスリーブ部（284A）を包含
するところの管継手（284）である。スリーブ部（284
A）は、外部ネジ山を包含している。管継手は、それに
回転器具（例えば、レンチ）が適用され得るところの多
角形ナット（284B）、及びそれに管（236）が備え付け
られているところの管受容スリーブ部（284C）をさらに
含む。

ガス充気室（240）は、ロックナット（282）を管継手
（284）のスリーブ部（284A）上にねじ込むことによ
り、ガス配送パイプ（247）上に搭載されている。ガス
配送パイプ（247）の自由な末端は、充気室の反対側の
末端壁（242）に固定された支持カラー（287）内に緩く
受容される。

次いで、充気室は、ガス配送パイプ（247）をスロッ
ト（286）内で上昇させるか又は下降させることによ
り、はんだポット内の所望の高さに配置される。また、
充気室は、側壁（246）がはんだウエーブに対して所望
の配向になるまで充気室を軸（280）の周囲で回転させ
ることにより、所望の角度の配向に配置される（例え
ば、側壁は、第14図の完全な線で示されるように垂直に
配向されるか、又は第14図の仮想の線で示されるように
垂直に対して傾いて配向される。）次に、ガス配送パイ
プ（247）は、充気室を壁（232）にむけて軸方向に引
き、シーリングワッシャー（288）をロックナット（28
2）と壁（232）との間にきつく挟み込むように、ナット
（284B）を回転させることにより回転され、それによ
り、充気室が適正な位置に安全に保持される。第14図の
仮想の線で示される充気室の角度の配向は、その側壁が
それぞれのはんだウエーブに向い合うところの第２の充
気室（250）に関連して行われないであろう。なぜなら
ば、その一方の側壁が垂直に対して所望の角度に傾く
と、他の側は適切に傾かないだろうからである。もし、
角度調整が必要な場合は、第２の充気室（250）は、第
１の充気室及び第３の充気室（240,260）と同様の構造
の２つの別々の充気室で形成されるであろう。

第１の充気室と第３の充気室を軸（280）の周りに回
転させられることを可能にするために、第11図に示され
るように、わずかな水平の空間が、これら充気室のそれ
ぞれとはんだポットの隣接する壁との間に提供される。
もし角度調整が提供されない場合は、充気室は、はんだ
ポットのそれぞれの壁とフラッシュに配置されるであろ
う。

垂直のスロット（286）内で垂直に調節可能である代
りに、第19図に示されるように、充気室は水平スロット
（286A）内に水平に調節可能にし得る。もちろん、充気
室を軸（280）の周りに角度をつけて調節する能力は維
持されるであろう。従って、第19図の構造は、スロット
（286A）が垂直ではなく水平であることを除けば、第17
及び18図のそれと同一であろう。

充気室を３方向、すなわち垂直方向、水平方向及び角
度方向に調節可能にすることが要求され、適切な搭載配
置（図示せず）が提供され得る。第１の態様に関連して
述べたように、はんだポットには、カバー及び伸縮自在
のカーテンを提供することができる。

第５の態様の操作は、第１の態様に関連して述べたも
のと同じである。充気室の底部壁がはんだ貯蔵所内に浸
されているために、はんだ貯蔵所の表面は、空気から隔
離されることにより酸化に対して保護される。

さらに、はんだウエーブの表面は、ギャップ（Ｇ）か
ら離れて曲るウエーブの頂上表面部（TS）と接触し、か
つそこを貫通して移動するところの３つの圧縮されたガ
ス充気室のサイドスリット（245、255、265）から射出
される遮蔽ガスにより酸化に対して保護される。そのガ
スにより、たとえサーキットボードがなくてもウエーブ
表面（TS）の有効な不活性化を生じさせる。

間隙（Ｇ）に向けて移動するガスが高速であることに
より、スロット（Ｇ）から生じるガスが、低速で移動す
るガスの場合に比べて冷たい。従って、酸素含有雰囲気
をウエーブに向けて下方に引き得るところの円状対流の
流れが生じる傾向がより少ない。

第16図に示される本発明の他の態様は、充気室（24
0、250、260）がはんだ貯蔵所に浸されていないこと以
外は、第11図に関連して開示されたものと同様である。
それぞれの充気室の底部壁は、むしろ、はんだ貯蔵所の
表面（Ｂ）上に離されて配置され、底部壁及びはんだ表
面（Ｂ）との間に形成されるスペース（Ｓ）内に不活性
化ガスを射出するために、開口部（245、255、265
）が提供されている。上記ガス速度は、好ましくはサ
イド開口部から発せされるガス速度より遅く、それらガ
ス速度は、ガス開口部のそれぞれのセットの全領域を制
御することにより独立して制御され得る。

代替として、充気室は、第２の充気室（250C）につい
ての第20図に示されるように、ガス非透過性分割器（27
0）を提供され得る。分割器（270″）は、充気室（25
0）の内室を４つの副室（272、274、276、278）に分割
し、それぞれの副室にはそれ自体のガス配送パイプ（25
7）が提供されている。それぞれの管（257）により供給
されるガスの量を制御することにより、（及び／又は、
前に述べたように、開口部のサイズを制御することによ
り）、それぞれの壁から噴射されるガス速度は独立して
制御され得る。

それぞれの副室に別々のガス配送パイプを提供する代
りに、１つのサブチェンバーにガスをデリバリーするた
めに、単一のガス配送パイプ（257）を提供することが
できる。例えば、第21図を参照すると、充気室（250D）
の内部を２つの副室（272A、276A）に分割するところの
開口された（すなわちガス透過性の）分割器（270″）
が提供される。ガス配送パイプ（257）は、副室（272
A）内に配置され、ガスが、頂部壁及び側壁、並びに分
割器（270″）内にも形成された開口部を通り、その副
室から放出される。分割器内の開口部の全面積は、デリ
バリー管からのガス流の速度に関連して設計され、副室
（272A）内に所望の圧力をかける。頂上壁及び側壁それ
ぞれから発せられるガスの速度は、そこに提供される開
口部のサイズにより制御され得る。

第21図の分割器（270″）及び底部壁（253）のそれぞ
れの開口部のサイズは、副室（276A）内に所望のガス圧
力を提供し、かつ底部壁から発せられるガスの所望の速
度が提供されるように設計することができる。したがっ
て、底部壁から排出されるガスの速度は、所望の低い値
に下げることができる。

第22図は、３つの副室（452、454、456）を包含する
ガス充気室（450）の他の態様を示している。それぞれ
の副室は、非透過性分割器（458）により互いに他の副
室から分離されている。それぞれの副室は、ガス流及び
速度を独立して制御する。それ自体のガス配送パイプ
（452P、454P、456P）を有する。特に、下方副室（45
6）の壁を通り放出されるガスの速度は、充気室の底部
壁（460）と溶融はんだの表面（422）との間の距離が小
さいことを考慮すると、他の副室（452、454）から放出
されるガスの速度より小さくすることができる。

本発明をその好ましい態様に関して述べてきたが、砕
いて気に述べられていない付加、削除、変更及び置換
を、添付の請求の範囲に定義される本発明の精神及び範
囲から逸脱することなく行いうることは、当業者により
理解されるであろう。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 コナース、ロバート・ダブリュ アメリカ合衆国、イリノイ州 60558、 ウエステン・スプリングス、フィフティ ーフォース・プレイス 617 (72)発明者 ジャコビー、フレデリック・ダブリュ アメリカ合衆国、イリノイ州 60540、 ネパービル、ハントレイ・ドライブ 1086 (72)発明者 ジュアシック、ベンジャミン・ジェイ アメリカ合衆国、イリノイ州 60532、 リスル、ストンヘブン・ウエイ 2182 (72)発明者 ロットマン、フレデリック フランス国、75004 パリ、リュ・デ ゥ・ラ・ベルリー 40 (72)発明者 マクキーン、ケビン・ピー アメリカ合衆国、イリノイ州 60540、 ネパービル、ウエスト・ジェファーソ ン・アベニュー 321 (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) H05K 3/34

Claims (30)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】はんだウエーブ（12又は14）がはんだノズ
   ル（16又は18）から上方に噴出され、部材（26）が該部
   材の少なくとも下側がはんだウエーブを通過するように
   通路に沿って通過され、遮蔽ガスが部材の移動方向に限
   定されるようにはんだウエーブの上方流及び下方流にそ
   れぞれ配置された第１及び第２のガス充気室（40、50、
   60、240、250、260又は450）内に供給される部材（26）
   をウエーブはんだ付けする方法において、各ガス充気室
   ははんだウエーブに対向して設けられた側壁（46、54、
   56、64、246、254、256又は265）を含有し、側壁に形成
   されたオリフィス手段（45、45、55、55′、245、24
   5″、255、255′）を有し、及び該遮蔽ガスは遮蔽ガス
   が１−30m/sの範囲の速度ではんだウエーブに向かって
   オリフィス手段を噴出するように各充気室内で加圧され
   ることを特徴とする上記方法。
2. 【請求項２】側壁が各ガス充気室の一方から他方へ水平
   方向に延び、加圧された遮蔽ガスが充気室内を長手方向
   に延びているガス配送管路（45、57、67、247、257、25
   7′、257″、452P、454P）に沿って導かれ、配送管路に
   沿う位置から充気室中に遮蔽ガスを放出することを特徴
   とする請求の範囲第１項記載の方法。
3. 【請求項３】各充気室の上部分は各はんだウエーブから
   それらの間に間隙（Ｇ）を形成するために開けられてお
   り、はんだウエーブの上表面の上方部分は上方に配置さ
   れ間隙（Ｇ）から偏曲されており、オリフィス手段を出
   るガスの少なくとも上方部分は間隙から偏曲されるはん
   だウエーブの上表面の部分に向かい横切った方向にある
   ことを特徴とする請求の範囲第１項記載の方法。
4. 【請求項４】該側壁は各充気室の一方から他方へ長手方
   向に延びており、遮蔽ガスは該側壁に形成された長手方
   向に設けられたオリフィスを噴出することを特徴とする
   請求の範囲第１項記載の方法。
5. 【請求項５】該側壁は各充気室の一方から他方へ長手方
   向に延びており、遮蔽ガスは該側壁に形成された垂直方
   向に設けられたオリフィスを噴出することを特徴とする
   請求の範囲第１項記載の方法。
6. 【請求項６】遮蔽ガスは垂直方向及び長手方向に別々に
   設けられたオリフィスから噴出することを特徴とする請
   求の範囲第１項記載の方法。
7. 【請求項７】該オリフィス手段は第１のオリフィス手段
   からなり、及びさらに下側から入り込んだ空気を除去す
   るために部材の下側に相対するガス充気室の少なくとも
   一つの上壁（48、58、68、248、258、268）に形成され
   た第２のオリフィス手段（49、59、69、249、269）から
   遮蔽ガスを放出する工程を包含することを特徴とする請
   求の範囲第１項記載の方法。
8. 【請求項８】遮蔽ガスはガス充気室の２つの第２のオリ
   フィス手段から放出することを特徴とする請求の範囲第
   ７項記載の方法。
9. 【請求項９】はんだウエーブは第１のはんだウエーブか
   らなり、及びさらに部材の移動方向に限定されて第２の
   ガス充気室が第１と第２のはんだウエーブの間に位置す
   るように第１のはんだウエーブの下方流の位置に第２の
   はんだウエーブを上方に出すこと、放出された遮蔽ガス
   が１−30m/sの範囲の速度に第２のはんだウエーブに向
   かって移動するように第２のガス充気室の側壁のオリフ
   ィス手段から加圧された遮蔽ガスが放出されること、第
   ２のはんだウエーブの下方流に配置された第３のガス充
   気室内の遮蔽ガスを加圧すること、及び放出された遮蔽
   ガスが１−30m/sの範囲の速度に第２のはんだウエーブ
   に向かって移動するように第３のガス充気室の側壁に形
   成されたオリフィスから遮蔽ガスを放出する工程を包含
   することを特徴とする請求の範囲第１項記載の方法。
10. 【請求項１０】該遮蔽ガスが側壁に加えて少なくとも一
    つの付加的壁を有する充気室に供給され、該付加的壁は
    遮蔽ガスを出すためのオリフィス手段を供え、及び遮蔽
    ガスの速度は独立して調整されている異なるオリフィス
    手段を与えられることを特徴とする請求の範囲第１項又
    は第９項記載の方法。
11. 【請求項１１】上記速度が３−8m/sであることを特徴と
    する請求の範囲第１項記載の方法。
12. 【請求項１２】はんだ貯蔵槽（10）、該はんだ貯蔵槽に
    配備されたはんだノズル（16、18）、該はんだノズルか
    らはんだウエーブに向かって噴出するためのポンプ（2
    0、22）、部材の下側がはんだウエーブを通過するよう
    に部材を搬送するコンベア（30）、及び搬送手段の移動
    方向に限定されるようにはんだウエーブの下方流及び上
    方流にそれぞれ近接して配置された第１及び第２のガス
    充気室（40、50、60、240、250、260又は450）、各充気
    室に加圧された遮蔽ガスを搬送する手段（47、57、67、
    247、257、257′、257″、452P、454P）を包含する部材
    をウエーブはんだ付けする装置において、各充気室はは
    んだウエーブに対峙する側部分（46、54、56、64、24
    6、254、256又は264）を含有し、各側部ははんだウエー
    ブに向かって加圧された遮蔽ガスを放出するためのオリ
    フィス手段（45、45、55、55′、245、245″、255、2
    55′）を有し、該オリフィス手段は遮蔽ガスが１−30m/
    sの範囲の速度ではんだウエーブに向かってオリフィス
    手段を放出されるように寸法設計されていることを特徴
    とする装置。
13. 【請求項１３】各充気室の上方部分は各はんだウエーブ
    からそれらの間に間隙（Ｇ）を形成するために開けて設
    けられており、上方に配置されたはんだウエーブの上表
    面の部分を持ち、間隙から偏曲されており、オリフィス
    の低方のもの（45′、45″）は間隙の下に位置したはん
    だウエーブの向かって加圧された遮蔽ガスを直接配置さ
    れ、オリフィスの高方のもの（45）は間隙から偏曲さ
    れるはんだウエーブの上表面の部分に向かい横切って間
    隙の下に位置したはんだウエーブの向かって加圧された
    遮蔽ガスを直接配置されているものであることを特徴と
    する請求の範囲第12項記載の装置。
14. 【請求項１４】モータ駆動シャフト（94）は貯蔵槽中に
    下方に向けて延び、ポンプに運転できるように接続され
    ており、固定された中空のスリーブ（100）がスリーブ
    内の領域にはんだの跳ね返りを制限するようにその中に
    伸びるシャフトを有してはんだ表面の下に伸びているこ
    とを特徴とする請求の範囲第12項記載の装置。
15. 【請求項１５】覆い（80）は、貯蔵槽を覆い、該覆いが
    コンベアが覆いを通ってコンベアが通過することができ
    るようにするために入口及び出口端を有し、カーテン
    （112）が水平に延び、コンベアにより占められていな
    い部分を覆うように入口及び／又は出口端に設けられ、
    カーテンの一端は、適当なコンベア部分に接続され、コ
    ンベア幅に適用してそこで移動できるようになっている
    ことを特徴とする請求の範囲第12項記載の装置。
16. 【請求項１６】カーテンの反対側は、適当なコンベア部
    分に接続されたその端の移動方向により、巻き上げもし
    くは巻き戻しのため傾斜ローラ（114）に組み込まれて
    いることを特徴とする請求の範囲第15項記載の装置。
17. 【請求項１７】充気室は、複数の壁を有し、壁の一つは
    側部分を規定し、少なくとも一つの他の壁は遮蔽ガスを
    出す幾つかのオリフィス手段を包含し、異なるオリフィ
    ス手段に供給されるガスの速度を独自に調整するための
    手段を有することを特徴とする請求の範囲第12項記載の
    装置。
18. 【請求項１８】各充気室は、底壁（243、253、263、46
    0）を包含することを特徴とする請求の範囲第12項記載
    の装置。
19. 【請求項１９】該底壁は密閉され、貯蔵槽中のはんだ中
    に沈められていることを特徴とする請求の範囲第12項記
    載の装置。
20. 【請求項２０】充気室は、２つのオリフィスを含む側壁
    部を有し、及び遮蔽ガスをそこに配送する各副室に延び
    た、各側壁部により区画された副室に充気室を分割する
    分配器（70、270、270′）を有することを特徴とする請
    求の範囲第12項記載の装置。
21. 【請求項２１】該各側壁部はオリフィスを含む上方部
    （254B′、256B′）はともに垂直及び水平に傾斜し、は
    んだウエーブの上に向かってかつ横切って遮蔽ガスを放
    出するようにすることを特徴とする請求の範囲第20項記
    載の装置。
22. 【請求項２２】側壁部のオリフィスを含む部ははんだウ
    エーブの上に向かってかつ横切って遮蔽ガスを放出する
    ようにともに垂直及び水平に傾斜していることを特徴と
    する請求の範囲第12項記載の装置。
23. 【請求項２３】ガス充気室は、連れて入った空気を除去
    するために部材の下側に対して上方から遮蔽ガスを放出
    するためのオリフィス手段を有する上壁部（48、58、6
    8、248、258、268）を包含し、及びそれぞれ側壁部及び
    上壁部で協同する副室中の内部充気室を分割するため充
    気室中に配置された分配器（70、270′）を包含してい
    ることを特徴とする請求の範囲第12項記載の装置。
24. 【請求項２４】充気室中に加圧されたガスを導入する手
    段は各副室に流れるガスを分離し、分配器はガス不浸透
    性であることを特徴とする請求の範囲第23項記載の装
    置。
25. 【請求項２５】加圧されたガスを導入する手段は各副室
    内に近接するはんだウエーブに実質的に平行に延びて配
    置されたガス配送管路を包含することを特徴とする請求
    の範囲第23項記載の装置。
26. 【請求項２６】該分配器はガス不浸透性であることを特
    徴とする請求の範囲第23項記載の装置。
27. 【請求項２７】充気室は水平に設置されることを特徴と
    する請求の範囲第12項記載の装置。
28. 【請求項２８】充気室は垂直に設置されることを特徴と
    する請求の範囲第12項記載の装置。
29. 【請求項２９】充気室ははんだウエーブに実質的に平行
    に延びている軸（280）に対し回転して設置されている
    ことを特徴とする請求の範囲第12項記載の装置。
30. 【請求項３０】加圧された遮蔽ガスを導入する手段は上
    記軸に限定されているガス配送パイプ（247）を包含す
    ることを特徴とする請求の範囲第28項記載の装置。