JP2948366B2 - プラスチック成形体の部分めっき方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、プラスッチック成形体
への部分めっき方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ボタンなどのプラスチック成形体の表面
に、イニシャルなどの装飾を施す方法としては、所要の
色相の塗料を用いて印刷する方法が一般的である。しか
しながら、この方法には、ボタン表面に予め金属層が形
成されていると、その表面が平滑面であるため、塗膜層
が剥げ落ちて、外観の品位が低下しやすいという欠点が
ある。このような欠点は、プラスチック成形体の所定の
領域にのみ、選択的に金属層、特に、電解めっき金属層
を形成する方法があれば、解消するものである。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、選択的
に金属層を形成するための従来の方法は、いずれもマス
キング層を設けておくなど、極めて生産効率が低いもの
であるため、ボタンのように安価であることが求められ
る物品には、適用できないものであった。

【０００４】以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、
プラスチックめっき技術とレーザ加工技術を利用して、
生産効率を低下させることなく、所定領域にのみ電解め
っき層を形成可能なプラスチック成形体の部分めっき方
法を実現することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明のプラスチック成形体の部分めっき方法にお
いて、講じた手段は、プラスチックめっきによって形成
された無電解めっき層を、レーザ加工によってパターニ
ングした後に、電解めっき処理を行うことである。すな
わち、所定形状をしたプラスチック成形体をエッチング
液に浸漬して、その外周面を粗面化した後（粗面化工
程）、粗面化された成形体を活性化液に浸漬して、その
外周面に金属触媒核を付着させる（活性化工程）。次
に、この状態の成形体を無電解めっき液に浸漬して、そ
の外周面に無電解めっき層を形成した後に（無電解めっ
き工程）、無電解めっき層をレーザを利用して部分的に
くり抜いて、その部分で成形体表面が露出する状態とす
る（レーザ加工工程）。しかる後に、成形体の外周面に
残された無電解めっき層の上に電解めっきを施して、電
解めっき層を形成する（電解めっき工程）。

【０００６】

【作用】上記の構成からなる部分めっき方法において、
プラスチックめっきによって形成された無電解めっき層
に対し、レーザ加工を利用して無電解めっき層の非形成
領域を設けた状態で、電解めっきを施すと、無電解めっ
き層によって導電性を有する領域にのみ、電解めっき層
が成長し、無電解めっき層がくり抜かれた領域には、電
解めっき層が成長しない。ここで、無電解めっき層は、
あくまで電解めっきにおける給電部分であり、その厚さ
としては、例えば、約０．２μｍもあれば充分である。
従って、この無電解めっき層をレーザ加工によって、く
り抜くのに必要な加工時間は、極めて短いので、生産効
率を低下させることがない。

【０００７】

【実施例】次に、図面を参照して、本発明の実施例に係
るボタンへの部分めっき方法を、を説明する。

【０００８】図１は実施例のボタンの概略断面図であ
り、図２はその斜視図である。

【０００９】これらの図に示すように、ボタン１におい
て、その基体は、円板状の乳白色をしたＡＢＳ系樹脂か
らなる成形体１０であり、その表面１ａの側には装飾加
工部２としてイニシャル「Ｔ．Ｈ」が印されておいる。
一方、その裏面１ｂの側には、取付け孔３ａを備えるボ
タンの取付け部３を有する。この成形体１０の外周面
は、厚さが約０．２μｍの無電解Ｎｉめっき層４によっ
て覆われており、この無電解Ｎｉめっき層４の上には、
厚さが約１０μｍの電解Ｃｕめっき層５と、この電解Ｃ
ｕめっき層５の上の厚さが約５μｍの電解Ｎｉめっき層
６と、この電解Ｎｉめっき層６の上の厚さが約０．０３
μｍの電解Ａｕめっき層７とを有している。ここで、成
形体１０の表面側には、これらのめっき層が形成されて
いない領域があり、この領域が装飾加工部２である。こ
の装飾加工部２では、成形体１０の表面が露出している
状態にある。

【００１０】この構成のボタン１において、装飾加工部
２は、表面に印刷されたものと異なり、最表面層として
の電解Ａｕめっき層７の色相と、成形体１０の素地の色
相との違いによって形成されたものであるため、使用し
ていくうちに消えることがない。従って、その外観の品
位は長期間に渡って高い状態を維持される。

【００１１】次に、この構成のボタン１の製造方法を説
明する。

【００１２】まず、ＡＢＳ樹脂からなる乳白色をした円
板状の成形体１０を準備する。

【００１３】次に、この成形体１０を、下記の組成を有
する約６５℃のエッチング液に、約１０分間浸漬する。

【００１４】エッチング液組成 無水クロム酸 約 ４００ｇ／リットル 硫酸 約 ４００ｇ／リットル これにより、成形体１０の外周面、すなわち、表面１ａ
及び裏面１ｂも含めて粗面化する。（粗面化工程）。

【００１５】次に、水洗、中和、水洗を行った後、成形
体１０を下記の組成を有する約３５℃のキャタリスト液
及びアクセレーター液に順次浸漬して、粗面化された成
形体１０の表面に、金属触媒核としてのパラジウムを付
着させる（活性化工程）。

【００１６】キャタリスト液組成 塩化パラジウム 約 ５０ｇ／リットル 塩酸（３５容量％） 約 ２００cc／リットル アクセレーター液組成 塩酸（３５容量％） 約 ２０cc／リットル 次に、成形体１０を、例えば、下記の組成を有するＮｉ
無電解めっき液に浸漬して、図３に示すように、成形体
１０の外周面全体に無電解Ｎｉめっき層４を形成する。
（無電解めっき工程）。

【００１７】Ｎｉ無電解めっき組成 硫酸ニッケル 約 ２０ｇ／リットル 酢酸ナトリウム 約 ５ｇ／リットル 次亜りん酸ナトリウム 約 １０ｇ／リットル クエン酸ナトリウム 約 ５ｇ／リットル 次に、成形体１０の表面１ａの側に対し、レーザビーム
を「Ｔ．Ｈ」のパターンに沿って照射することによっ
て、図４に示すように、無電解Ｎｉめっき層４を部分的
にくり抜いて、そこに成形体１０の表面を露出させる
（レーザ加工工程）。

【００１８】次に、成形体１０に残された無電解Ｎｉめ
っき層４のうち、目立たない部分、例えば、固定部３の
無電解Ｎｉめっき層４を給電部として利用し、以下の電
解めっき工程を行う。この電解めっき工程は、１回のみ
であってもよいが、ボタン１の用途等により、めっき液
種を変えて複数回行ってもよい。本例においては、以下
のとおり、３回の電解めっき工程を行って、図１に示す
ような３層の電解めっき層を形成する。

【００１９】まず、ボタン１の表面の光沢性を高めて、
その外観の品位を高めるために、第１の電解めっき工程
として、下記の組成を有する電解Ｃｕめっき液中で、成
形体１０に対し、電解Ｃｕめっき処理を行って、無電解
Ｎｉめっき層２の上に厚さが約１０μｍの電解Ｃｕめっ
き層５を形成する。ここで、電解Ｃｕめっき層５は、無
電解Ｎｉめっき層４の上のみに成長するため、無電解Ｎ
ｉめっき層４がくり抜かれた装飾加工部２には、電解Ｃ
ｕめっき層５が成長せず、成形体１０の表面が露出した
状態のままである（第１の電解めっき工程）。

【００２０】Ｃｕめっき組成 硫酸銅 約 ２００ｇ／リットル 硫酸 約 ５０ｇ／リットル 次に、第２の電解めっき工程として、下記の組成を有す
る電解Ｎｉめっき液中で、電解Ｎｉめっき処理を行っ
て、電解Ｃｕめっき層５の上にのみ、厚さが約５μｍの
電解Ｎｉめっき層６を形成する（第２の電解めっき工
程）。

【００２１】Ｎｉめっき組成 硫酸ニッケル 約 ３００ｇ／リットル 塩化ニッケル 約 ５０ｇ／リットル 最後に、第３の電解めっき工程として、下記の組成を有
するＡｕめっき液中で、電解Ａｕめっき処理を行って、
電解Ｎｉめっき層６の上にのみ、厚さが約０．０３μｍ
の電解Ａｕめっき層７を形成する（第３の電解めっき工
程）。

【００２２】Ａｕめっき組成 シアン化金カリウム 約 １０ｇ／リットル シアン化カリウム 約 ３５ｇ／リットル 炭酸カリウム 約 ３５ｇ／リットル 第二リン酸カリウム 約 ３５ｇ／リットル このようにして製造されたボタン１において、無電解Ｎ
ｉめっき層３の上には、電解Ｃｕめっき層５、電解Ｃｕ
めっき層５、及び電解Ａｕめっき層７が形成されるが、
無電解Ｎｉめっき層３がくり抜きされた装飾加工部２に
おいては、成形体１０の表面が露出した状態のままにあ
り、この領域は導電性がないので、各電解めっき層が形
成されない。従って、装飾加工部２としてのイニシャル
「Ｔ．Ｈ」が、各電解めっき層に対し刻みこまれた状態
に形成される。

【００２３】ここで、装飾加工部２は、各電解めっき層
が、レーザを利用してくり抜き部が形成された無電解め
っき層４によって形成領域が規定された結果として形成
されたものであり、各めっき層全体がレーザ加工により
くり抜きされたものではない。すなわち、レーザ加工に
よりくり抜きされたのは、厚さが約０．２μｍの無電解
めっき層４のみであり、きり抜く厚さが薄いため、レー
ザ加工に要する時間も短く済む。従って、生産効率を低
下させることがないので、レーザ加工工程をボタン１の
ように安価なものの製造にも適用できる。しかも、装飾
加工部２と各めっき層の境界部を観察すると、その見切
り面がきれいである。

【００２４】なお、エッチング液、活性化液、無電解め
っき液は、上記の液組成に限定されるものではなく、例
えば、無電解Ｎｉめっきに代えて、無電解Ｃｕめっき等
を行ってもよい。

【００２５】また、電解めっき工程においても、めっき
種類には限定のないものであり、例えば、電解Ａｕめっ
きに代えて、電解黒クロムめっきでもよい。すなわち、
各めっき種類、各処理液の組成等は、製造すべきボタン
の種類、製造すべき成形品の種類、用途等により、設定
されるべき性質のものである。

【００２６】さらに、各工程において、または、各工程
の間に水洗、乾燥等の処理をおこなってもよく、加え
て、形成した最表面層に対して、各種の後処理を行って
もよいものである。

【００２７】そして、成形体の材質としては、ＡＢＳ系
樹脂に限らず、アクリル系、ポリカーボネート系、ポリ
アセタール系、ポリイミド系、ノリル系、ポリプロピレ
ン系、その他、プラスチックめっきが可能な材質であれ
ば、いずれの材質であってもよい。

【００２８】

【発明の効果】以上のとおり、本発明においては、レー
ザ加工工程において、プラスチックめっきによって形成
された無電解めっき層を部分的にくり抜いた後に、電解
めっき工程を行うことを特徴としている。従って、本発
明によれば、部分的に残された無電解めっき層によっ
て、電解めっき層が形成される領域が規定されているの
で、以下の効果を奏する。マスキング層等を形成するこ
となく、部分的に無電解めっき層を形成することができ
る。しかも、レーザ加工は、無電解めっき層のみに対し
て行うため、その加工時間が短い。従って、生産効率が
低下しないので、この方法を採用できる範囲が広く、ボ
タンのように低価格の製品の製造にも適用できる。ま
た、電解めっき層は、無電解めっき層の形成領域に沿っ
て成長するので、電解めっき層の形成領域と非形成領域
との境界における見切り面の品位が高い。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例に係るボタンの断面図である。

【図２】本発明の実施例に係るボタンの斜視図である。

【図３】本発明の実施例に係るボタンの製造方法の一部
を示す工程断面図である。

【図４】本発明の実施例に係るボタンの製造方法の一部
を示す工程断面図である。

【符号の説明】

１・・・ボタン ２・・・装飾加工部 ４・・・無電解Ｎｉめっき層 ５・・・電解Ｃｕめっき層 ６・・・電解Ｎｉめっき層 ７・・・電解Ａｕめっき層

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 所定形状をしたプラスチック成形体をエ
   ッチング液に浸漬して、その外周面を粗面化する粗面化
   工程と、 粗面化された前記成形体を活性化液に浸漬して、その外
   周面に金属触媒核を付着させる活性化工程と、 前記金属触媒核を付着させた前記成形体を無電解めっき
   液に浸漬して、その外周面に無電解めっき層を形成する
   無電解めっき工程と、 前記成形体の外周面に形成された前記無電解めっき層を
   レーザを利用して部分的にくり抜いて、その部分の前記
   成形体表面を露出させるレーザ加工工程と、 前記成形体に対し、その外周面に残された前記無電解め
   っき層を利用して電解めっきを施し、この無電解めっき
   層の上に電解めっき層を形成する電解めっき工程とを有
   することを特徴とするプラスチック成形体の部分めっき
   方法。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の方法を用いたことを特
   徴とするプラスチック製ボタンの部分めっき方法。