JP2952957B2 - 連続表面処理装置 - Google Patents
連続表面処理装置Info
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- JP2952957B2 JP2952957B2 JP10644790A JP10644790A JP2952957B2 JP 2952957 B2 JP2952957 B2 JP 2952957B2 JP 10644790 A JP10644790 A JP 10644790A JP 10644790 A JP10644790 A JP 10644790A JP 2952957 B2 JP2952957 B2 JP 2952957B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は不活性ガスで満たした処理室内を布等の被処
理材を通過させつつ表面蒸着処理を行う連続表面処理装
置に関する。
理材を通過させつつ表面蒸着処理を行う連続表面処理装
置に関する。
一対の処理電極を収納した容器（処理室）内に不活性
ガスを充満させ、上記処理電極間でグロー放電を発生さ
せて、両処理電極間を通過する布等の被処理材表面に蒸
着処理を行う装置では、処理室内の大気を真空排気装置
で排気したのち、上記不活性ガスを送給してガス置換す
る。
ガスを充満させ、上記処理電極間でグロー放電を発生さ
せて、両処理電極間を通過する布等の被処理材表面に蒸
着処理を行う装置では、処理室内の大気を真空排気装置
で排気したのち、上記不活性ガスを送給してガス置換す
る。
このため、従来は、第５図に示す如く、処理室10の被
処理材導入口11、被処理材送出口12をロール対41A、41B
で塞ぐようにしているが、処理室内全体の圧力を所定の
圧力になるまで真空排気しなくてはならない上、被処理
材導入口11、被処理材送出口12からの真空漏れ分も排気
しなくてはならないので、、真空排気装置として、かな
り大形のものを必要とし、高価になるという問題があっ
た。
処理材導入口11、被処理材送出口12をロール対41A、41B
で塞ぐようにしているが、処理室内全体の圧力を所定の
圧力になるまで真空排気しなくてはならない上、被処理
材導入口11、被処理材送出口12からの真空漏れ分も排気
しなくてはならないので、、真空排気装置として、かな
り大形のものを必要とし、高価になるという問題があっ
た。
本発明は上記問題を解消するためになされたもので、
真空排気時には、完全真空シール状態で排気することが
でき、処理室内全体の真空排気を必要とせず、従来に比
し小型の真空排気装置を用いることができる連続表面処
理装置を提供することを目的とする。
真空排気時には、完全真空シール状態で排気することが
でき、処理室内全体の真空排気を必要とせず、従来に比
し小型の真空排気装置を用いることができる連続表面処
理装置を提供することを目的とする。
本発明は上記目的を達成するため、処理室内を真空排
気して処理ガスと置換し、被処理材を、大気圧以上の処
理ガスで満たされた上記処理室を通過させつつ該被処理
材の表面処理を行う表面処理装置において、 端面相互対接して処理室内に副室を区画可能な一対の
筒状可動体と、両可動体を同軸に支持する支持装置を設
け、一方の可動体は、上記処理室の被処理材導入口を真
空シール性を確保して摺動可能に貫通して外部に伸び、
他の可動体は上記処理室の被処理材送出口を真空シール
性を確保して摺動可能に貫通して外部に伸びる構造と
し、上記両可動体は、通常運転時、上記端面相互が所定
間隔を隔てる第１位置へ位置決めされ、真空排気時に
は、上記端面が真空シール性を確保して相互対接する第
２位置へ駆動される構成としたものである。
気して処理ガスと置換し、被処理材を、大気圧以上の処
理ガスで満たされた上記処理室を通過させつつ該被処理
材の表面処理を行う表面処理装置において、 端面相互対接して処理室内に副室を区画可能な一対の
筒状可動体と、両可動体を同軸に支持する支持装置を設
け、一方の可動体は、上記処理室の被処理材導入口を真
空シール性を確保して摺動可能に貫通して外部に伸び、
他の可動体は上記処理室の被処理材送出口を真空シール
性を確保して摺動可能に貫通して外部に伸びる構造と
し、上記両可動体は、通常運転時、上記端面相互が所定
間隔を隔てる第１位置へ位置決めされ、真空排気時に
は、上記端面が真空シール性を確保して相互対接する第
２位置へ駆動される構成としたものである。
請求項２では、通常運転時、被処理材が通過する間隙
を隔てて対向する一対の放電用処理電極を有する場合
に、両電極を、処理室外に設けた昇降装置により個別昇
降可能に支持する構成とした。
を隔てて対向する一対の放電用処理電極を有する場合
に、両電極を、処理室外に設けた昇降装置により個別昇
降可能に支持する構成とした。
請求項３では、支持装置は、ローラ列からなる構成と
し、請求項４では、支持装置がローラ列とレール体から
なり、可動体の一方端部に該レール体上を転動する車輪
が設けられている構成とした。
し、請求項４では、支持装置がローラ列とレール体から
なり、可動体の一方端部に該レール体上を転動する車輪
が設けられている構成とした。
〔作用〕 本発明では、一対の可動体は、端面相互対接状態に位
置決めされると、処理室内に副室を区画するので、処理
室内全体の空間からこの副室分を除いた空間が真空排気
の対象となり、その分、排気すべき空気量が低減し、ま
た、処理室外部とは、完全に真空シールされた状態とな
るので、前記した真空漏れ分を排気する必要がないの
で、小型の真空排気装置で済ませることができる。
置決めされると、処理室内に副室を区画するので、処理
室内全体の空間からこの副室分を除いた空間が真空排気
の対象となり、その分、排気すべき空気量が低減し、ま
た、処理室外部とは、完全に真空シールされた状態とな
るので、前記した真空漏れ分を排気する必要がないの
で、小型の真空排気装置で済ませることができる。
以下、本発明の１実施例を図面を参照して説明する。
第１図および第２図において、Ａは被処理材、10は処
理室、11は処理室10の被処理材導入口、12は処理室10の
被処理材送出口である。13は所定長さを有する筒状の可
動体であって、処理室10の被処理材導入口11側外部に設
けられたローラ列14Aおよび処理室10の内部に設けられ
たローラ列14Bからなる支持装置14上に支持されて、被
処理材導入口11に全周で密に摺動可能に嵌合して該被処
理材導入口11を貫通している。被処理材導入口11は該導
入口11と可動体13との間に良好な真空シール性を持たせ
るために充分な巾Ｗを持たせてある。15は所定長さを有
する筒状の可動体であって、処理室10の被処理材送出口
12側外部に設けられたローラ列16Aおよび処理室10の内
部に設けられたローラ列16Bからなる支持装置16上に支
持されて、被処理材送出口12に全周で密に、摺動可能に
嵌合して該被処理材送出口12を貫通している。被処理材
導入口12は該導入口12と可動体15との間に良好な真空シ
ール性を持たせるために充分な巾Ｗを持たせてある。
理室、11は処理室10の被処理材導入口、12は処理室10の
被処理材送出口である。13は所定長さを有する筒状の可
動体であって、処理室10の被処理材導入口11側外部に設
けられたローラ列14Aおよび処理室10の内部に設けられ
たローラ列14Bからなる支持装置14上に支持されて、被
処理材導入口11に全周で密に摺動可能に嵌合して該被処
理材導入口11を貫通している。被処理材導入口11は該導
入口11と可動体13との間に良好な真空シール性を持たせ
るために充分な巾Ｗを持たせてある。15は所定長さを有
する筒状の可動体であって、処理室10の被処理材送出口
12側外部に設けられたローラ列16Aおよび処理室10の内
部に設けられたローラ列16Bからなる支持装置16上に支
持されて、被処理材送出口12に全周で密に、摺動可能に
嵌合して該被処理材送出口12を貫通している。被処理材
導入口12は該導入口12と可動体15との間に良好な真空シ
ール性を持たせるために充分な巾Ｗを持たせてある。
21Pおよび21Nは互いに対向する板状の処理電極であっ
て、処理電極21Pは支持ロッド22で支持され、この支持
ロッド22は処理室10の天井に設けた絶縁ブロック23内を
密に、摺動可能に貫通して処理室10外に伸び、上端に形
成された係合部22Aを絶縁物24を介して昇降機構29に連
結されている。この係合部22Aは受電部を兼ねており、
給電線25を介して高周波電源31に接続されている。処理
電極21Nも支持ロッド26に支持され、この支持ロッド26
は処理室10の床に設けたガイド筒部27を密に、摺動可能
に貫通して下に伸び、下端に形成された係合部26Aを昇
降機構30に連結されている。この係合部26Aは接地線28
でアースされている。
て、処理電極21Pは支持ロッド22で支持され、この支持
ロッド22は処理室10の天井に設けた絶縁ブロック23内を
密に、摺動可能に貫通して処理室10外に伸び、上端に形
成された係合部22Aを絶縁物24を介して昇降機構29に連
結されている。この係合部22Aは受電部を兼ねており、
給電線25を介して高周波電源31に接続されている。処理
電極21Nも支持ロッド26に支持され、この支持ロッド26
は処理室10の床に設けたガイド筒部27を密に、摺動可能
に貫通して下に伸び、下端に形成された係合部26Aを昇
降機構30に連結されている。この係合部26Aは接地線28
でアースされている。
この構成において、処理電極21Pと21N間にグロー放電
を生起させて、両電極間を通過する被処理材Ａの表裏に
蒸着処理を行う通常進展時は、可動体13と15は第１図に
示す第１位置に位置決められ、図示しない係止機構で該
位置に保持される。即ち、可動体13と15は各々の一方端
部13B、15Bが被処理材導入口11、被処理材送出口12近傍
に臨む位置まで退避しており、処理電極21P、21Nは各々
下降、上昇駆動された所要の放電間隙Ｇを隔てている。
本実施例では、この放電間隙Ｇは可動体13、15の外径よ
り大きくない値となっている。
を生起させて、両電極間を通過する被処理材Ａの表裏に
蒸着処理を行う通常進展時は、可動体13と15は第１図に
示す第１位置に位置決められ、図示しない係止機構で該
位置に保持される。即ち、可動体13と15は各々の一方端
部13B、15Bが被処理材導入口11、被処理材送出口12近傍
に臨む位置まで退避しており、処理電極21P、21Nは各々
下降、上昇駆動された所要の放電間隙Ｇを隔てている。
本実施例では、この放電間隙Ｇは可動体13、15の外径よ
り大きくない値となっている。
処理室10内を不活性ガスで置換する作業工程において
は、第２図に示す如く、処理電極21P、21Nを各々上昇、
下降させて、両者の対向間隔を可動体13、15の外径より
充分に大きくしたのち、可動体13、15を、両者の一方端
面13B、15Bが相互に圧接して真空シール性が確保される
第２位置まで、処理室10内へ押し込み、図示しない上記
係止機構でこの位置に保持する。可動体13と15の肉厚は
上記圧接により真空シール性を確保するに充分な肉厚を
持たせてある。これにより、処理室10内は該処理室内面
と可動体13、15の外周面とで囲まれ、外部に対して実質
上完全に真空シールされた室Ｘと、可動体13、15が作る
筒状の室（以下、副室という）Ｙに区分される。この可
動体13と15の第２位置への位置決めが終わると、図示し
ない真空排気装置を駆動して、室Ｘ内の大気を排気し、
該室Ｘ内の圧力が所定圧力まで低下すると、図示しない
不活性ガスタンクから室Ｘ内に送給する。室Ｘ内の不活
性ガスのガス圧が大気圧以上の所定圧力まで上昇する
と、不活性ガスの送給を継続しながら、可動体13、15を
前記した第１位置へ向けて、徐々に移動させ、処理電極
21P、21Nも放電間隙Ｇを隔てる位置まで移動させる。か
くして、処理室10内を不活性ガスで置換する。
は、第２図に示す如く、処理電極21P、21Nを各々上昇、
下降させて、両者の対向間隔を可動体13、15の外径より
充分に大きくしたのち、可動体13、15を、両者の一方端
面13B、15Bが相互に圧接して真空シール性が確保される
第２位置まで、処理室10内へ押し込み、図示しない上記
係止機構でこの位置に保持する。可動体13と15の肉厚は
上記圧接により真空シール性を確保するに充分な肉厚を
持たせてある。これにより、処理室10内は該処理室内面
と可動体13、15の外周面とで囲まれ、外部に対して実質
上完全に真空シールされた室Ｘと、可動体13、15が作る
筒状の室（以下、副室という）Ｙに区分される。この可
動体13と15の第２位置への位置決めが終わると、図示し
ない真空排気装置を駆動して、室Ｘ内の大気を排気し、
該室Ｘ内の圧力が所定圧力まで低下すると、図示しない
不活性ガスタンクから室Ｘ内に送給する。室Ｘ内の不活
性ガスのガス圧が大気圧以上の所定圧力まで上昇する
と、不活性ガスの送給を継続しながら、可動体13、15を
前記した第１位置へ向けて、徐々に移動させ、処理電極
21P、21Nも放電間隙Ｇを隔てる位置まで移動させる。か
くして、処理室10内を不活性ガスで置換する。
このように、本実施例では、可動体13と15で副室Ｙを
区画し、室Ｘを外部に対して完全真空シール状態にして
真空排気を行うので、真空排気装置は、前記した従来の
真空漏れ分を範囲しなくても済み、かつ排気対象は室Ｘ
だけてなる。
区画し、室Ｘを外部に対して完全真空シール状態にして
真空排気を行うので、真空排気装置は、前記した従来の
真空漏れ分を範囲しなくても済み、かつ排気対象は室Ｘ
だけてなる。
第３図および第４図は本発明の他の実施例を示したも
ので、ローラ列14Aに代えて、レール体14Cを用いるとと
もに可動体13の外側端部にフランジ13Aを形成して該フ
ランジ13Aの下側にレール体14Cに係合する車輪32を持つ
車輪機構を設け、また、ローラ列16Aに代えて、レール
体16Cを用いるとともに可動体15の外側端部にフランジ1
5Aを形成して該フランジ15Aの下側にレール体16Cに係合
する車輪33を持つ車輪機構を設けている点において、第
１図および第２図の構成と相違する。
ので、ローラ列14Aに代えて、レール体14Cを用いるとと
もに可動体13の外側端部にフランジ13Aを形成して該フ
ランジ13Aの下側にレール体14Cに係合する車輪32を持つ
車輪機構を設け、また、ローラ列16Aに代えて、レール
体16Cを用いるとともに可動体15の外側端部にフランジ1
5Aを形成して該フランジ15Aの下側にレール体16Cに係合
する車輪33を持つ車輪機構を設けている点において、第
１図および第２図の構成と相違する。
この構成においては、可動体13のフランジ13Aと被処
理材導入口とが圧接し、可動体15のフランジ15Aと導入
口12とが圧接する位置で、可動体13と15の一方端面13
B、15Bが相互に圧接する構成として、真空シール性を確
保するようにしている。
理材導入口とが圧接し、可動体15のフランジ15Aと導入
口12とが圧接する位置で、可動体13と15の一方端面13
B、15Bが相互に圧接する構成として、真空シール性を確
保するようにしている。
なお、上記各実施例はグロー放電を利用して被処理材
Ａの連続表面処理を行うものについて説明したが、本発
明は、被処理材導入口と送出口を有する処理室内をガス
置換して、連続表面処理を例えば化学的に行う他の装置
に実施して同様の効果を得ることができる。
Ａの連続表面処理を行うものについて説明したが、本発
明は、被処理材導入口と送出口を有する処理室内をガス
置換して、連続表面処理を例えば化学的に行う他の装置
に実施して同様の効果を得ることができる。
4.発明の効果 本発明は以上説明した通り、被処理材導入口と送出口
を貫通して伸び、処理室内で端面相互を接離可能な一対
の可動体を設けたことにより、真空排気時、この一対の
可動体で処理室内を区分して、実質上、完全な真空シー
ル状態で真空排気を行うことができ、しかも真空排気が
必要な空間が従来の場合に比べて大幅に狭くなるので、
真空排気装置として大形のものを使用しなくても済む利
点がある。
を貫通して伸び、処理室内で端面相互を接離可能な一対
の可動体を設けたことにより、真空排気時、この一対の
可動体で処理室内を区分して、実質上、完全な真空シー
ル状態で真空排気を行うことができ、しかも真空排気が
必要な空間が従来の場合に比べて大幅に狭くなるので、
真空排気装置として大形のものを使用しなくても済む利
点がある。
第１図は本発明の実施例の通常運転時の状態を示す縦断
面図、第２図は上記実施例の真空排気時の状態を示す縦
断面図、第３図は本発明の他の実施例の通常運転時の状
態を示す縦断面図、第４図は第３図の実施例の真空排気
時の状態を示す縦断面図、第５図は従来の表面処理装置
のシール構造を説明するための縦断面図である。 10……処理室、11……被処理材導入口、12……被処理材
送出口、13、15……可動体、14A、14B、16A、16B……ロ
ーラ列、14C、16C……レール体、21P、21N……処理電
極、29、30……昇降機構。32、33……車輪、
面図、第２図は上記実施例の真空排気時の状態を示す縦
断面図、第３図は本発明の他の実施例の通常運転時の状
態を示す縦断面図、第４図は第３図の実施例の真空排気
時の状態を示す縦断面図、第５図は従来の表面処理装置
のシール構造を説明するための縦断面図である。 10……処理室、11……被処理材導入口、12……被処理材
送出口、13、15……可動体、14A、14B、16A、16B……ロ
ーラ列、14C、16C……レール体、21P、21N……処理電
極、29、30……昇降機構。32、33……車輪、
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｆ２７Ｄ 7/06 Ｆ２７Ｄ 7/06 Ｂ (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C23C 14/00 - 14/58 C23C 16/00 - 16/56 D06B 5/02 D06B 19/00 F27B 9/00 - 9/40 F27D 7/00 - 7/06
Claims (4)
- 【請求項１】処理室内を真空排気して処理ガスと置換
し、被処理材を、大気圧以上の処理ガスで満たされた上
記処理室を通過させつつ該被処理材の表面処理を行う表
面処理装置において、 端面相互対接して上記処理室内に副室を区画可能一対の
筒状可動体と、両可動体を同軸に支持する支持装置を有
し、一方の可動体は、上記処理室の被処理材導入口を真
空シール性を確保して摺動可能に貫通して外部に伸び、
他方の可動体は上記処理室の被処理材送出口を真空シー
ル性を確保して摺動可能に貫通して外部に伸び、上記両
可動体は、通常運転時、上記端面相互が所定間隔を隔て
る第１位置へ位置決めされ、上記真空排気時には、上記
端面が真空シール性を確保して相互対接する第２位置へ
駆動されることを特徴とする連続表面処理装置。 - 【請求項２】通常運転時、被処理材が通過する間隙を隔
てて対向する一対の放電用処理電極を有する場合におい
て、両処理電極が、処理室外に設けた昇降機構により個
別昇降可能に支持されていることを特徴とする請求項１
記載の連続表面処理装置。 - 【請求項３】支持装置は、処理室の被処理材導入口・送
出口外部に設けたローラ列と被処理材導入口・送出口内
部に設けたローラ列からなることを特徴とする請求項１
または２記載の連続表面処理装置。 - 【請求項４】支持装置は、処理室の被処理材導入口・送
出口内部に設けたローラ列と、処理室の被処理材導入口
・送出口外部に設けたレール体からなり、可動体の一方
端部に該レール体上を転動可能な車輪を持つ車輪機構を
有することを特徴とする請求項１または２記載の連続表
面処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10644790A JP2952957B2 (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | 連続表面処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10644790A JP2952957B2 (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | 連続表面処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH046273A JPH046273A (ja) | 1992-01-10 |
| JP2952957B2 true JP2952957B2 (ja) | 1999-09-27 |
Family
ID=14433873
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10644790A Expired - Fee Related JP2952957B2 (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | 連続表面処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2952957B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101468373B1 (ko) * | 2013-05-01 | 2014-12-03 | 주식회사 뉴파워 프라즈마 | 탄소 섬유 제조를 위한 열처리 장치 및 이를 구비한 탄소 섬유 제조 시스템 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8361229B2 (en) * | 2010-04-22 | 2013-01-29 | Primestar Solar, Inc. | Seal configuration for a system for continuous deposition of a thin film layer on a substrate |
-
1990
- 1990-04-24 JP JP10644790A patent/JP2952957B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101468373B1 (ko) * | 2013-05-01 | 2014-12-03 | 주식회사 뉴파워 프라즈마 | 탄소 섬유 제조를 위한 열처리 장치 및 이를 구비한 탄소 섬유 제조 시스템 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH046273A (ja) | 1992-01-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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