JP2964687B2 - ウェーハ外観検査装置及びその方法 - Google Patents
ウェーハ外観検査装置及びその方法Info
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- JP2964687B2 JP2964687B2 JP9649291A JP9649291A JP2964687B2 JP 2964687 B2 JP2964687 B2 JP 2964687B2 JP 9649291 A JP9649291 A JP 9649291A JP 9649291 A JP9649291 A JP 9649291A JP 2964687 B2 JP2964687 B2 JP 2964687B2
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 239000000284 extract Substances 0.000 claims description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 59
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は特にリソグラフィー工程
におけるウェーハ上に多数形成される集積回路パターン
を検査するウェーハ外観検査装置及びその方法に関す
る。
におけるウェーハ上に多数形成される集積回路パターン
を検査するウェーハ外観検査装置及びその方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種のウェーハ外観検査装置
は、図面には示さないが、ウェーハを搭載するステージ
と、キャリアからウェーハをステージに移載する搬送機
構と、ステージに搭載されたウェーハを観察する光学顕
微鏡とにより構成されている。
は、図面には示さないが、ウェーハを搭載するステージ
と、キャリアからウェーハをステージに移載する搬送機
構と、ステージに搭載されたウェーハを観察する光学顕
微鏡とにより構成されている。
【０００３】このウェーハ外観検査装置でリソグラフィ
ー工程におけるウェーハの外観検査を行う際は、まず、
ステージの操作を作業者の手動によって行ない、ウェー
ハ上に形成された多数の集積回路パターンの中から不特
定に集積回路パターンをウェーハス面内の上部，中央
部，下部，右部，左部より一定数の集積回路パターンを
選び、その集積回路パターンに対して外観検査、及びパ
ターン目ずれ量の測定が行なっていた。
ー工程におけるウェーハの外観検査を行う際は、まず、
ステージの操作を作業者の手動によって行ない、ウェー
ハ上に形成された多数の集積回路パターンの中から不特
定に集積回路パターンをウェーハス面内の上部，中央
部，下部，右部，左部より一定数の集積回路パターンを
選び、その集積回路パターンに対して外観検査、及びパ
ターン目ずれ量の測定が行なっていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この従来のウェーハ外
観検査装置を用いた外観検査方法では、ウェーハの上
部，下部，中央部，左部及び右部からそれぞれ一集積回
路パターンを選んで測定しているので、ウェーハ面内に
おける回路パターンの位置ずれ及びパターン縮少度のず
れは検査出来るが、１回の露光、すなわちワンショット
で複数の集積回路パターンが転写されるウェーハでは、
各集積回路パターン間の傾き及び歪みが測定することが
困難である。もし、これを測定するとなると、ワンショ
ット内の個々の集積回路パターンを位置決めし、個々の
集積回路パターンの目ずれ量を測定し、ウェーハ面内に
おける目ずれ量とワンショット内の個々の集積回路パタ
ーン間の傾き及び歪を推計する必要があり、多大な工数
の浪費するばかりか誤りを引き起すことになる。
観検査装置を用いた外観検査方法では、ウェーハの上
部，下部，中央部，左部及び右部からそれぞれ一集積回
路パターンを選んで測定しているので、ウェーハ面内に
おける回路パターンの位置ずれ及びパターン縮少度のず
れは検査出来るが、１回の露光、すなわちワンショット
で複数の集積回路パターンが転写されるウェーハでは、
各集積回路パターン間の傾き及び歪みが測定することが
困難である。もし、これを測定するとなると、ワンショ
ット内の個々の集積回路パターンを位置決めし、個々の
集積回路パターンの目ずれ量を測定し、ウェーハ面内に
おける目ずれ量とワンショット内の個々の集積回路パタ
ーン間の傾き及び歪を推計する必要があり、多大な工数
の浪費するばかりか誤りを引き起すことになる。
【０００５】本発明の目的は、かかる問題を解消すべ
く、ワンショット内の集積回路間の目ずれ及びウェーハ
面内における集積回路パターンの目ずれを短時間で容易
に検査出来るウェーハ外観検査装置及びその方法を提供
することである。
く、ワンショット内の集積回路間の目ずれ及びウェーハ
面内における集積回路パターンの目ずれを短時間で容易
に検査出来るウェーハ外観検査装置及びその方法を提供
することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、ウェー
ハ面を観察する顕微鏡と、前記ウェーハを載置するステ
ージと、このステージを移動するコントローラと、複数
の集積回路パターンを有する一露光領域のそれぞれの位
置と前記一露光領域内の各前記集積回路パターンの位置
を予め記憶するとともに前記コントローラを制御する制
御部とを備え、前記一露光領域のいづれかを抽出し前記
顕微鏡の視野内に位置決めするように前記コントローラ
を制御する制御部とを備え、位置決めされた前記一露光
領域の位置と予じめ記憶された前記位置との目ずれ量と
前記一露光領域内の前記集積回路パターンの位置と予じ
め記憶された前記位置との目ずれ量を測定するウェーハ
外観検査装置である。
ハ面を観察する顕微鏡と、前記ウェーハを載置するステ
ージと、このステージを移動するコントローラと、複数
の集積回路パターンを有する一露光領域のそれぞれの位
置と前記一露光領域内の各前記集積回路パターンの位置
を予め記憶するとともに前記コントローラを制御する制
御部とを備え、前記一露光領域のいづれかを抽出し前記
顕微鏡の視野内に位置決めするように前記コントローラ
を制御する制御部とを備え、位置決めされた前記一露光
領域の位置と予じめ記憶された前記位置との目ずれ量と
前記一露光領域内の前記集積回路パターンの位置と予じ
め記憶された前記位置との目ずれ量を測定するウェーハ
外観検査装置である。
【０００７】本発明の他の特徴は、ウェーハ面を観察す
る顕微鏡と、前記ウェーハを載置するステージと、この
ステージを移動するコントローラと、複数の集積回路パ
ターンを有する一露光領域のそれぞれの位置と前記一露
光領域内の各前記集積回路パターンの位置を予め記憶す
るとともに前記コントローラを制御する制御部とを備え
ることを特徴とするウェーハ外観検査装置において、位
置決めされた前記一露光領域の位置と予じめ記憶された
前記位置との目ずれ量を測定し、しかる後前記一露光領
域内の前記集積回路パターンの位置と予じめ記憶された
前記位置との目ずれ量を測定するウェーハ外観検査方法
である。
る顕微鏡と、前記ウェーハを載置するステージと、この
ステージを移動するコントローラと、複数の集積回路パ
ターンを有する一露光領域のそれぞれの位置と前記一露
光領域内の各前記集積回路パターンの位置を予め記憶す
るとともに前記コントローラを制御する制御部とを備え
ることを特徴とするウェーハ外観検査装置において、位
置決めされた前記一露光領域の位置と予じめ記憶された
前記位置との目ずれ量を測定し、しかる後前記一露光領
域内の前記集積回路パターンの位置と予じめ記憶された
前記位置との目ずれ量を測定するウェーハ外観検査方法
である。
【０００８】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【０００９】図１は本発明の一実施例を示すウェーハ外
観検査装置のブロック図である。このウェーハ外観検査
装置は、図１に示すように、ウェーハ面にバックミラー
４及びレンズ３を介して光を投射する光源部１とウェー
ハ８より反射光で拡大像を結ぶレンズ３及び３ａとを備
える光学顕微鏡と、ウェーハ８を搭載するステージ２
と、ステージ２にウェーハ８を移載する搬送機構５と、
ステージ２の移動を制御するコントローラ７と、検査を
行うべきパターン領域のウェーハ８面ウェーハの位置を
記憶するとともにコントローラにステージ移動を指令す
る制御部６とを有オている。図２は図１のウェーハ外観
検査装置の動作を説明するためのウェーハ面を示す図で
ある。次に、このウェーハ外観検査装置の動作及びウェ
ーハ外観検査方法について説明する。最初に外観検査を
行う前の準備作業としてまず、図２に示すように、ウェ
ーハ８に形成されるウェーハ８の左端側，中央部，上端
側，右端側及び下端側のワンショット領域１０内にある
集積回路パターン９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｄ及び９ｅを選
択し、制御部６にその座標値を記憶させる。次に、ワン
ショットでの露光における目ずれ量を測定するために、
ワンショット領域１０内における 集積回路パターンを
その領域の右左及び上下にある集積回路パターン１１
ａ，１１ｂ，１１ｃ及び１１ｄに選び、その座標値を制
御部に記憶させる。
観検査装置のブロック図である。このウェーハ外観検査
装置は、図１に示すように、ウェーハ面にバックミラー
４及びレンズ３を介して光を投射する光源部１とウェー
ハ８より反射光で拡大像を結ぶレンズ３及び３ａとを備
える光学顕微鏡と、ウェーハ８を搭載するステージ２
と、ステージ２にウェーハ８を移載する搬送機構５と、
ステージ２の移動を制御するコントローラ７と、検査を
行うべきパターン領域のウェーハ８面ウェーハの位置を
記憶するとともにコントローラにステージ移動を指令す
る制御部６とを有オている。図２は図１のウェーハ外観
検査装置の動作を説明するためのウェーハ面を示す図で
ある。次に、このウェーハ外観検査装置の動作及びウェ
ーハ外観検査方法について説明する。最初に外観検査を
行う前の準備作業としてまず、図２に示すように、ウェ
ーハ８に形成されるウェーハ８の左端側，中央部，上端
側，右端側及び下端側のワンショット領域１０内にある
集積回路パターン９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｄ及び９ｅを選
択し、制御部６にその座標値を記憶させる。次に、ワン
ショットでの露光における目ずれ量を測定するために、
ワンショット領域１０内における 集積回路パターンを
その領域の右左及び上下にある集積回路パターン１１
ａ，１１ｂ，１１ｃ及び１１ｄに選び、その座標値を制
御部に記憶させる。
【００１０】このように準備されたウェーハ外観検査装
置で、ウェーハを検査するには、まず、被検査ウェーハ
を収納したウェーハキャリアを搬送開始位置へ載置す
る。ここで、ウェーハキャリア内のウェーハ８は搬送機
構５によって１枚ずつ自動的にステージ２上へと搬送さ
れる。次に、各品種ごとに前もって制御部６に記憶され
ている集積回路パターン９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｄ及び９
ｅの座標値によりウェーハ８は顕微鏡視野内にコントロ
ーラ７で位置決めされ、順次、顕微鏡によって目ずれを
測定し、ウェーハ８面内の集積回路パターンの目ずれを
検査する。次に、制御部６に記憶された集積回路パター
ン１１ａ，１１ｂ，１１ｃ及び１１ｄの座標値を読み出
し、コントローラ７でステージ２を移動させ、集積回路
パターン１１ａ，１１ｂ，１１ｃ及び１１ｄを顕微鏡視
野内に位置決めし、順次、目ずれ量を測定し、ワンショ
ット領域内における集積回路パターンの検査を行う。
置で、ウェーハを検査するには、まず、被検査ウェーハ
を収納したウェーハキャリアを搬送開始位置へ載置す
る。ここで、ウェーハキャリア内のウェーハ８は搬送機
構５によって１枚ずつ自動的にステージ２上へと搬送さ
れる。次に、各品種ごとに前もって制御部６に記憶され
ている集積回路パターン９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｄ及び９
ｅの座標値によりウェーハ８は顕微鏡視野内にコントロ
ーラ７で位置決めされ、順次、顕微鏡によって目ずれを
測定し、ウェーハ８面内の集積回路パターンの目ずれを
検査する。次に、制御部６に記憶された集積回路パター
ン１１ａ，１１ｂ，１１ｃ及び１１ｄの座標値を読み出
し、コントローラ７でステージ２を移動させ、集積回路
パターン１１ａ，１１ｂ，１１ｃ及び１１ｄを顕微鏡視
野内に位置決めし、順次、目ずれ量を測定し、ワンショ
ット領域内における集積回路パターンの検査を行う。
【００１１】検査が終了したウェーハ８は、搬送機構５
によりウェーハキャリアに収納され、次のウェーハ８が
ステージ２に載置される。このように、順次、ウェーハ
が載置され、自動的に検査すべき集積回路パターンが顕
微鏡視野内に位置決めされ、作業者は単に顕微鏡で観察
することにより、ウェーハ面内の集積回路パターンの目
ずれ及びワンショット内の集積回路パターンの目ずれを
検査することが出来る。
によりウェーハキャリアに収納され、次のウェーハ８が
ステージ２に載置される。このように、順次、ウェーハ
が載置され、自動的に検査すべき集積回路パターンが顕
微鏡視野内に位置決めされ、作業者は単に顕微鏡で観察
することにより、ウェーハ面内の集積回路パターンの目
ずれ及びワンショット内の集積回路パターンの目ずれを
検査することが出来る。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ウェーハ
を搭載するステージを移動させるコントローラを指令制
御する制御部に記憶部を設け、ウェーハ面内の外側及び
中央に転写される集積回路パターンと一露光領域内にあ
る外側の集積回路パターンをあらかじめ抽出し、前記記
憶部に前記集積回路パターンの位置を記憶させることに
よって、ウェーハ面内及び一露光領域内における集積回
路パターンの目ずれを短時間で容易に検査出来るウェー
ハ外観検査装置が得られるという効果がある。
を搭載するステージを移動させるコントローラを指令制
御する制御部に記憶部を設け、ウェーハ面内の外側及び
中央に転写される集積回路パターンと一露光領域内にあ
る外側の集積回路パターンをあらかじめ抽出し、前記記
憶部に前記集積回路パターンの位置を記憶させることに
よって、ウェーハ面内及び一露光領域内における集積回
路パターンの目ずれを短時間で容易に検査出来るウェー
ハ外観検査装置が得られるという効果がある。
【図１】本発明の一実施例を示すウェーハ外観検査装置
のブロック図である。
のブロック図である。
【図２】図１のウェーハ外観検査装置の動作を説明する
ためのウェーハ面を示す図である。
ためのウェーハ面を示す図である。
１ 光源部 ２ ステージ ３，３ａ レンズ ４ ハーフミラー ５ 搬送機構 ６ 制御部 ７ コントローラ ８ ウェーハ
Claims (2)
- 【請求項１】 ウェーハ面を観察する顕微鏡と、前記ウ
ェーハを載置するステージと、このステージを移動する
コントローラと、複数の集積回路パターンを有する一露
光領域のそれぞれの位置と前記一露光領域内の各前記集
積回路パターンの位置を予め記憶するとともに前記コン
トローラを制御する制御部とを備え、前記一露光領域の
いづれかを抽出し前記顕微鏡の視野内に位置決めするよ
うに前記コントローラを制御する制御部とを備え、位置
決めされた前記一露光領域の位置と予じめ記憶された前
記位置との目ずれ量と前記一露光領域内の前記集積回路
パターンの位置と予じめ記憶された前記位置との目ずれ
量を測定することを特徴とするウェーハ外観検査装置。 - 【請求項２】 ウェーハ面を観察する顕微鏡と、前記ウ
ェーハを載置するステージと、このステージを移動する
コントローラと、複数の集積回路パターンを有する一露
光領域のそれぞれの位置と前記一露光領域内の各前記集
積回路パターンの位置を予め記憶するとともに前記コン
トローラを制御する制御部とを備えることを特徴とする
ウェーハ外観検査装置において、位置決めされた前記一
露光領域の位置と予じめ記憶された前記位置との目ずれ
量を測定し、しかる後前記一露光領域内の前記集積回路
パターンの位置と予じめ記憶された前記位置との目ずれ
量を測定すること特徴とするウェーハ外観検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9649291A JP2964687B2 (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | ウェーハ外観検査装置及びその方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9649291A JP2964687B2 (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | ウェーハ外観検査装置及びその方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04326544A JPH04326544A (ja) | 1992-11-16 |
| JP2964687B2 true JP2964687B2 (ja) | 1999-10-18 |
Family
ID=14166585
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9649291A Expired - Fee Related JP2964687B2 (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | ウェーハ外観検査装置及びその方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2964687B2 (ja) |
-
1991
- 1991-04-26 JP JP9649291A patent/JP2964687B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04326544A (ja) | 1992-11-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19990713 |
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