JP2970703B2 - 半導体レーザモジュール - Google Patents

半導体レーザモジュール

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JP2970703B2
JP2970703B2 JP3187921A JP18792191A JP2970703B2 JP 2970703 B2 JP2970703 B2 JP 2970703B2 JP 3187921 A JP3187921 A JP 3187921A JP 18792191 A JP18792191 A JP 18792191A JP 2970703 B2 JP2970703 B2 JP 2970703B2
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semiconductor laser
line
laser module
bonding wire
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和芳 佐藤
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Nippon Electric Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体レーザ駆動用の
信号ラインとバイアス回路を内蔵した半導体レーザモジ
ュールに関し、特に、高速光通信システム用光源として
用いられる半導体レーザモジュールに関する。
【0002】
【従来の技術】従来の半導体レーザモジュール側断面図
を図4に示す。
【0003】図4を参照して、半導体レーザ1、レーザ
光モニタ用フォトダイオード4、光ファイバ6への結合
用レンズ3、および、レーザ温度モニタ用サーミスタ2
はキャリア5に搭載されている。
【0004】チップインダクタ8を半田固定するセラミ
ック基板9は、キャリア5にロウ付け固定されている。
【0005】キャリア保持ブロック10は低熱電導率、
かつ、高誘電率の材料の一端面(上面)に金属板がロウ
付けされ、他端面(下面)がメタライズされており、そ
の他端面(下面)が気密パッケージ7の底面にロウ付け
されて一体構成になっている。レーザ搭載キャリア5は
その底面をキャリア保持ブロック10の一端面(上面)
に密着され、YAGレーザ(イットリウム・アルミニウ
ム・ガーネットレーザ)により溶接固定されている。
【0006】ペルチェ素子からなる電子冷却器13は、
電子冷却器13の底面に低融点半田B15(例えば、融
点143℃)を施し、半田を溶融した後冷却することに
よりメタライイされた気密パッケージ7に固定されてい
る。また、キャリア5はメタライズが施されており、電
子冷却器13の上面に低融点半田A14(例えば、融点
117℃)を施し、半田を溶融した後冷却することによ
って電子冷却器13の上面に固定されている。
【0007】キャリア5に搭載されたレーザ光モニタ用
フォトダイオード4、およびレーザ温度モニタ用サーミ
スタ2の各端子は、気密パッケージ7の各ラインに図5
に示すように接続される。
【0008】高速かつ高光出力が要求される半導体レー
ザモジュールでは信号用ラインとバイアス用ラインを別
に設け、信号用ラインには駆動回路とのインピーダンス
整合のための抵抗を配置する構成が用いられる。図5の
半導体レーザモジュールでは半導体レーザ1を駆動する
ための信号系ラインとして、半導体レーザは50Ω系に
設計されたマイクロストリップラインA17にボンディ
ングワイヤA16によって接続される。そして、マイク
ロストリップラインA17(50Ω系)はインピーダン
ス整合用薄膜抵抗18を介してマイクロストリップライ
ンB19(50Ω系)と接続される。
【0009】図6に示すように気密パッケージ7の側面
にはセラミックブロック27が設けられ、そのセラミッ
クブロック27の上面にはリード端子28がロウ付け固
定され、下面はマイクロストリップラインを形成するた
めに全面メタライズされている。マイクロストリップラ
インB19は、ボンディングワイヤB20によって50
Ω系マイクロストリップラインに設計されたラインA2
5に接続される。
【0010】また、半導体レーザ1を駆動するためのバ
イアス回路として、ボンディングワイヤA16によって
半導体レーザ1と接続されたマイクロストリップライン
A17はボンディングワイヤC21によってインダクタ
用パッドA22に接続される。そして、チップインダク
タ8を介してインダクタ用パッドB23に接続される。
インダクタ用パッド用B23はボンディングワイヤD
24によってリード端子28と接続しているラインB2
6に接続される。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】従来の半導体レーザモ
ジュール(図4)の気密パッケージを含めた電気的な等
価回路は図7で示される。
【0012】図7において、一点鎖線内は半導体レーザ
の等価回路を、また、二点鎖線内はインダクタの等価回
路を、また、三点鎖線内はラインBの等価回路を、ま
た、破線は、バイアス回路を表す。
【0013】このように、半導体レーザ1のアノードは
ボンディングワイヤの寄生インダクタンスLw2、キャリ
ア保持ブロックの寄生容量Ch1+抵抗Rh1、および、電
子冷却器13のインピーダンスZpとの並列回路によつ
て電気的に接地される。
【0014】また、半導体レーザの1のカソードは50
Ω系に設計されたマイクロストリップラインMSL1に
ボンディングワイヤのインダクタンスLw1によって接続
される。そして、マイクロストリップラインMSL2は
インピーダンス整合用薄膜抵抗R1 を介しマイクロスト
リップラインMSL3と接続し、さらに、ボンディング
ワイヤのインダクタンスLw4によってMSL3(ライン
A)に接続され、信号源SIG(Rs =50Ω)に接続
される。
【0015】そして、バイアス回路として、マイクロス
トリップラインMSL1はボンディングワイヤのインダ
クタンスLw4によって二点鎖線内の等価回路で表される
インダクタに接続される。そして、ボンディングワイヤ
のインダクタンスLw5によって三点鎖線内に示したイン
ダクタンスLsと寄生容量Cs1からなる等価回路で表さ
れるラインBに接続される。また、インダクタ用の2つ
のパッドは寄生容量Cp1、Cp2で表される。
【0016】図4においてラインBの長さを4mm、幅を
1mmセラミックブロックの厚さを1mm、比誘電率を9.
6としたときLs =1.7nH、Cs1=0.7pFとなる。
【0017】従来の半導体レーザモジュールではバイア
ス回路内の寄生容量Cp1、Cp2、Cb 、および、Cs1
よって図8に示すように小信号周波数特性が劣化すると
いう問題点がある。
【0018】本発明の目的は、小信号周波数特性の帯域
制限を大幅に改善することができる半導体レーザモジュ
ールの構成を提供することにある。
【0019】
【問題点を解決するための手段】本発明は、半導体レー
ザと、光ファイバと、前記半導体レーザから出射された
光を前記光ファイバに結合する結合手段と、外部回路と
の接続のための配線パターンを上面に設けた誘電体ブロ
ックを備えた気密パッケージを有し、該気密パッケージ
に少なくとも前記半導体レーザと半導体レーザ駆動用バ
イアス回路を内蔵した半導体レーザモジュールにおい
て、前記誘電体ブロックの少なくとも前記バイアス回路
と結ぶ配線パターンに対応して前記誘導体ブロックの下
面に形成された金属膜が除去されていることを特徴とし
ている。
【0020】
【実施例】次に本発明の半導体レーザモジュールについ
て図面を参照して説明する。
【0021】図1は本発明の半導体レーザモジュールの
一実施例を示す側断面図である。なお従来例と同一の構
成要素には説明を省略する。
【0022】気密パッケージ7内のセラミックブロック
27には外部回路との接続のためのリード端子28がロ
ウ付け固定されており、リード端子28を含むバイアス
ラインの下面のメタライズは除去してある。
【0023】本実施例の半導体レーザモジュール(図
1)の気密パッケージ全体を含めた電気的な等価回路は
図2で示される。
【0024】図2において、一点鎖線内は、半導体レー
ザの等価回路を、また、二点鎖線内は、インダクタの等
価回路を、また、破線は、バイアス回路を、また、三点
鎖線内はラインBの等価回路を、また、破線は、バイア
ス回路を表す。
【0025】半導体レーザ1を駆動するバイアス回路と
して、マイクロストリップラインMSL1はボンディン
グワイヤのインダクタンスLw4によって二点鎖線内の等
価回路で表されるインダクタに接続される。そして、ボ
ンディングワイヤのインダクタンスLw5によって三点鎖
線内の等価回路で表されるラインBに接続される。
【0026】このとき等価回路内のラインBの寄生容量
はみえなくなる。
【0027】このように気密パッケージ内のセラミック
ブロックに配したバイアスラインの下面のメタライズを
除去することによりバイアス回路内の寄生容量を低減で
き、図3に示すように小信号周波数特性を−3dBの周波
数帯域として2.9GHz となり、図8に示した従来の半
導体レーザモジュールの周波数帯域2.5GHz に対し、
大幅に改善できる。
【0028】
【発明の効果】以上説明したように本発明の半導体レー
ザモジュールでは、気密パッケージ内のセラミックブロ
ックに配したバイアスラインの下面のメタライズを除去
したから、バイアス回路内の寄生容量を除去でき、変調
特性を大幅に改善できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体レーザモジュールの一実施例を
示す側断面図である。
【図2】図1に示す半導体レーザモジュールの等価回路
を示す図である。
【図3】本発明の半導体レーザモジュールにおける小信
号周波数特性の一例を示す図である。
【図4】従来の半導体レーザモジュールを示す図であ
る。
【図5】図4に示す半導体レーザモジュールの内部接続
を示す図である。
【図6】図4に示す半導体レーザモジュールの側断面図
である。
【図7】図4に示す半導体レーザモジュールの等価回路
を示す図である。
【図8】従来の半導体レーザモジュールにおける小信号
周波数特性の一例を示す図である。
【符号の説明】
1 半導体レーザ 2 サーミスタ 3 レンズ 4 モニタ用フォトダイオード 5 レーザ搭載キャリア 6 光ファイバ 7 気密パッケージ 8 インダクタ 9 セラミック基板 10 キャリア保持ブロック 11 基板固定ブロック 12 空洞部 13 電子冷却器 14 低融点半田A 15 低融点半田B 16 ボンディングワイヤA 17 マイクロストリップラインA 18 インピーダンス整合用薄膜抵抗 19 マイクロストリップラインB 20 ボンディングワイヤC 21 ボンディングワイヤC 22 インダクタ用パッドA 23 インダクタ用パッドB 24 ボンディングワイヤD 25 ラインA 26 ラインB 27 セラミックブロック 28 リード端子 29 メタライズ部 30 メタライズ除去部

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体レーザと、光ファイバと、前記半
    導体レーザから出射された光を前記光ファイバに結合す
    る結合手段と、外部回路との接続のための配線パターン
    を上面に設けた誘電体ブロックを備えた気密パッケージ
    とを有し、該気密パッケージに少なくとも前記半導体レ
    ーザと半導体レーザ駆動用バイアス回路を内蔵した半導
    体レーザモジュールにおいて、前記誘電体ブロックの配
    線パターンに対応して前記誘電体ブロックの下面に形成
    された金属膜が除去されていることを特徴とする半導体
    レーザモジュール。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載された半導体レーザモジ
    ュールにおいて、前記金属膜は前記誘電体ブロック上の
    前記バイアス回路と連結される配線パターンに対応して
    除去されることを特徴とする半導体レーザモジュール。
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