JP2995171B2 - Masking film for plate production, method and apparatus for producing the film - Google Patents
Masking film for plate production, method and apparatus for producing the filmInfo
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- 230000000873 masking effect Effects 0.000 title claims description 52
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
Description
【0001】[0001]
【発明の属する分野】本発明は、光硬化性樹脂によって
刷版を製造する際に使用するマスキングフィルム、その
製法及びその製造装置に関するものである。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a masking film used for producing a printing plate using a photocurable resin, a method for producing the same, and an apparatus for producing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】段ボールシート紙や新聞の印刷に際し、
保存状態では液状だが、紫外線の照射により硬化する性
質の光硬化性樹脂にて形成された刷版が使用されてい
る。図12に示す「AB」の標章を印刷するための刷版
主体(91)をマウントフィルム(95)に貼り付けた刷版(9)
の、該刷版主体(91)の製法を説明する(標章は刷版表面
では裏返し標章(12)となって表れる)。図13は、刷版
主体(91)の制作に使用するネガフィルム(1)とマスキン
グフィルム(44)である。ネガフィルム(1)には前記標章
(12)に対応する透光パターン(11)が形成され、該透光パ
ターン(11)以外の斜線で示す部分は遮光面となってい
る。マスキングフィルム(44)は、透明フィルム(45)を半
遮光フィルム(46)と遮光フィルム(47)で挟んだ3層から
なり、半遮光フィルム(46)には前記ネガフィルム(1)の
透光パターン(11)よりも少し大きな透光パターン(48)が
形成され、遮光フィルム(47)には、半遮光フィルム(46)
の透光パターン(48)よりも大きな透光パターン(49)が形
成されている。2. Description of the Related Art When printing corrugated sheet paper or newspaper,
A printing plate formed of a photocurable resin that is liquid in a stored state, but is cured by irradiation of ultraviolet rays is used. A printing plate (9) in which a printing plate main body (91) for printing the mark "AB" shown in FIG. 12 is attached to a mounting film (95).
The method of manufacturing the printing plate main body (91) will be described (the mark appears as the inverted mark (12) on the printing plate surface). FIG. 13 shows a negative film (1) and a masking film (44) used for producing the printing plate main body (91). Negative film (1) has the above mark
A light-transmitting pattern (11) corresponding to (12) is formed, and the hatched portions other than the light-transmitting pattern (11) are light-shielding surfaces. The masking film (44) is composed of three layers in which a transparent film (45) is sandwiched between a semi-light-shielding film (46) and a light-shielding film (47). A light-transmitting pattern (48) slightly larger than the pattern (11) is formed, and the light-shielding film (47) includes a semi-light-shielding film (46).
A light transmitting pattern (49) larger than the light transmitting pattern (48) is formed.
【0003】図14に示す如く、透明テーブル(8)上に
ネガフィルム(1)及び透明フィルム(81)を載せ、透明フ
ィルム(81)上に堰(83)を設けて、堰(83)内に光硬化性樹
脂液(90)を流し込む。光硬化性樹脂液(90)に透明ベース
フィルム(82)及び前記マスキングフィルム(44)を被せ
る。テーブル(8)の下方及びマスキングフィルム(44)の
上からランプ(84)の光を照射する。光硬化性樹脂液(90)
が、ネガフィルム(1)の透光パターン(11)、マスキング
フィルム(44)の透光パターン(48)及び半遮光パターン(4
9)に対応して硬化し、ネガフィルム(1)の透光パターン
(11)に対応する部分は、標章(12)を表したレリーフ部(9
2)となり、透光パターン(48)に対応する部分は、レリー
フ部(92)を補強するマウント部(93)となり、半遮光パタ
ーン(49)に対応する部分は、薄手のベース部(94)とな
る。透明ベースフィルム(82)とベース部(94)を接着した
まま、余分の光硬化性樹脂液(90)を洗い流し、透明ベー
スフィルム(82)を適当な大きさに切り取り、マウントフ
ィルム(95)に接着する。As shown in FIG. 14, a negative film (1) and a transparent film (81) are placed on a transparent table (8), and a weir (83) is provided on the transparent film (81). A photocurable resin liquid (90) is poured into the container. A transparent base film (82) and the masking film (44) are put on the photocurable resin liquid (90). Light from a lamp (84) is irradiated from below the table (8) and from above the masking film (44). Photocurable resin liquid (90)
Are the light-transmitting pattern (11) of the negative film (1), the light-transmitting pattern (48) of the masking film (44), and the semi-light-shielding pattern (4).
Cured according to 9), the light transmission pattern of the negative film (1)
The part corresponding to (11) is the relief part (9
2), the portion corresponding to the light-transmitting pattern (48) is a mount portion (93) for reinforcing the relief portion (92), and the portion corresponding to the semi-light-shielding pattern (49) is a thin base portion (94). Becomes With the transparent base film (82) and the base portion (94) adhered, the excess photo-curable resin liquid (90) is washed off, the transparent base film (82) is cut into an appropriate size, and the mount film (95) is cut. Glue.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】上記マスキングフィル
ム(44)は、半遮光フイルム(46)に透光パターン(48)を形
成した後、該半遮光フィルム(46)及び遮光フィルム(47)
を透明フィルム(45)に接着し、半遮光フイルム(46)の透
光パターン(48)よりも大きな輪郭で遮光フィルム(47)を
切取って形成されている。遮光フィルムの切取り作業
は、手作業で行われており、品質が一定しない。切取り
大きさが大き過ぎると、製造した刷版のベース部(94)の
面積が大きくなり、高価な光硬化性樹脂液(90)の使用量
が増える。切取り大きさが小さすぎると、透明ベースフ
ィルム(82)との接合力が弱くなる。又、上記マスキング
フィルム(44)は、制作工程が多く、上記の様に手作業に
頼る部分もあり、制作能率が悪くコスト高を招来する。
3枚重ねのマスキングフィルム(44)は、厚くて扱い難
く、嵩張る。又、マスキングフィルム(44)には、フィル
ム切取りのために段差が生じ、フィルム表面の埃を拭い
取り難い。The masking film (44) is formed by forming a light-transmitting pattern (48) on a semi-light-shielding film (46), and then forming the semi-light-shielding film (46) and the light-shielding film (47).
Is adhered to a transparent film (45), and the light-shielding film (47) is cut out with a contour larger than the light-transmitting pattern (48) of the semi-light-shielding film (46). The work of cutting off the light-shielding film is performed manually, and the quality is not constant. If the cutout size is too large, the area of the base (94) of the manufactured printing plate becomes large, and the amount of the expensive photocurable resin liquid (90) used increases. If the cutout size is too small, the bonding strength with the transparent base film (82) will be weak. Further, the masking film (44) has many production steps, and some parts depend on manual work as described above, resulting in poor production efficiency and high cost.
The three-ply masking film (44) is thick, cumbersome and bulky. Further, a step is formed on the masking film (44) due to film cutting, and it is difficult to wipe off dust on the film surface.
【0005】本発明は、ネガフィルムの透光パターンを
基準に、マスキングフィルムの透光パターン、半遮光パ
ターンを機械的に決めて1枚のフィルム上に自動的にそ
れらのパターンを形成でき、以て前記従来の問題を解決
できるマスキングフィルム、該フィルムの製法及び製造
装置を明らかにするものである。According to the present invention, a light-transmitting pattern and a semi-light-shielding pattern of a masking film are mechanically determined based on the light-transmitting pattern of a negative film, and these patterns can be automatically formed on one film. Thus, a masking film capable of solving the above-mentioned conventional problems, a method of manufacturing the film, and a manufacturing apparatus are clarified.
【0006】[0006]
【課題を解決する手段】本発明のマスキングフィルム
(4)は、透光パターン(43)を包囲して略一定の幅で半遮
光パターン(42)を有し、該半遮光パターン(42)の外側は
遮光部(41)となっており、表面に段差のない単層の1枚
ものである。A masking film of the present invention
(4) has a semi-light-shielding pattern (42) with a substantially constant width surrounding the light-transmitting pattern (43), and the outside of the semi-light-shielding pattern (42) is a light-shielding portion (41), It is a single layer with no steps on the surface.
【0007】本発明のマスキングフィルムの製法は、光
を遮断するフィルムに透光パターン(11)を形成したネガ
フィルム(1)と半遮光フィルム(2)を重ねて、何れか一
方のフィルム上に感光フィルム(3)を重ね、感光フィル
ム(3)の反対側から光を照射しつつ、ネガフィルム(1)
と半遮光性フィルム(2)のセットと、感光フィルム(3)
とを円運動により相対的に変位させて、ネガフィルム
(1)の透光パターン(11)よりも大きな半遮光パターン(4
2)を感光フィルム(3)に形成し、次に、半遮光フィルム
(2)を外して、ネガフィルム(1)と感光フィルム(3)と
を前記円運動よりも小さい相対的な円運動によって、感
光フィルム(3)の半遮光パターン(42)内に該パターンよ
りも小さくネガフィルム(1)の透光パターン(11)よりも
大きな透光パターン(43)を形成することを特徴とする。
半遮光フィルム(2)は、フィルム全体が均等に半遮光性
となっているものであっても、或いは網点と呼ばれる点
を斑なくちりばめた網点フィルムであってもよい。The method of manufacturing a masking film according to the present invention is such that a negative film (1) having a light-transmitting pattern (11) formed thereon and a semi-light-shielding film (2) are superimposed on one another, and The photosensitive film (3) is stacked on the negative film (1) while irradiating light from the opposite side of the photosensitive film (3).
And a semi-light-shielding film (2) set, and a photosensitive film (3)
And relative displacement by circular motion
The semi-light-shielding pattern (4) which is larger than the light-transmitting pattern (11) of (1)
2) is formed on a photosensitive film (3), and then a semi-light-shielding film
(2) is removed and the negative film (1) and the photosensitive film (3) are moved relative to each other in the semi-light-shielding pattern (42) of the photosensitive film (3) by a relative circular motion smaller than the circular motion. A light-transmitting pattern (43) is formed which is smaller and larger than the light-transmitting pattern (11) of the negative film (1).
The semi-light-shielding film (2) may be a film in which the entire film is evenly semi-light-shielding, or a halftone film in which dots called dot are studded.
【0008】本発明のマスキングフィルム製造装置は、
フイルム載せ台(51)と、該載せ台(51)に載せられるべき
フィルムを支持して該フィルムを載せ台上で合成円運動
させる合成円運動装置(6)と、載せ台(51)上のフィルム
を照射するランプ(53)とによって構成され、合成円運動
装置(6)は、載せ台(51)と平行する面内で円運動する第
1ベース板(63)と、該第1ベース板(63)上に該ベース板
の円運動とは無関係に円運動する第2ベース板(72)と、
該第2ベース板(72)上に設けたフィルム取付部(74)と、
第1ベース板(63)に連繋された第1円運動駆動装置(20
0)と第2ベース板(72)に連繋された第2円運動駆動装置
(300)とからなり、第1円運動駆動装置(200)と第2円運
動駆動装置(300)の何れか一方の円運動駆動装置は、必
要に応じて一時的に円運動の機能を停止可能であること
を特徴とする。[0008] The masking film manufacturing apparatus of the present invention comprises:
A film mounting table (51), a synthetic circular motion device (6) for supporting a film to be mounted on the mounting table (51) and performing a synthetic circular motion on the mounting table, and The synthetic circular motion device (6) is constituted by a lamp (53) for irradiating a film, and comprises a first base plate (63) that circularly moves in a plane parallel to the mounting table (51); (63) a second base plate (72) on which a circular motion is performed independently of the circular motion of the base plate;
A film mounting portion (74) provided on the second base plate (72),
The first circular motion driving device (20) connected to the first base plate (63)
0) and a second circular motion driving device connected to the second base plate (72).
(300), and either one of the first circular motion driving device (200) and the second circular motion driving device (300) temporarily stops the circular motion function as necessary. It is characterized by being possible.
【0009】[0009]
【効果】マスキングフィルム(4)は1枚ものであるか
ら、扱いが容易であり、嵩張らない。マスキングフィル
ム(4)の表面に段差がないため、埃を拭きとり易い。感
光フィルム(3)の必要部分を必要なだけ感光させること
により、マスキングフィルム(4)を形成できるため、従
来の3層のマスキングフィルムより薄くて扱い易く、
又、安価に制作できる。ネガフィルム(1)は、刷版のレ
リーフ部(92)を形成するために、もともと必要なもので
あり、半遮光フィルム(2)は繰り返し使用できるため、
マスキングフィルム(4)を形成するために、特別に加工
を加えたフイルムは必要とせず、又、フィルムに手作業
を加える必要もない。ネガフィルム(1)のレリーフ用透
光パターン(11)よりも大きな輪郭のマウント部用透光パ
ターン(43)及び該マウント部用透光パターン(43)を包囲
するベース部用半遮光パターン(42)を、合成した円運動
を伴いながら光照射して形成するため、透光パターン(1
1)に対するマウント部用透光パターン(43)及びベース部
用半遮光パターン(42)の大きさが一定し、マスキングフ
ィルム(4)の品質が一定する。[Effect] Since there is only one masking film (4), it is easy to handle and it is not bulky. Since there is no step on the surface of the masking film (4), it is easy to wipe off dust. The masking film (4) can be formed by exposing the necessary portions of the photosensitive film (3) as much as necessary, so that it is thinner and easier to handle than the conventional three-layer masking film.
Also, it can be produced at low cost. The negative film (1) is originally necessary for forming the relief portion (92) of the printing plate, and the semi-light-shielding film (2) can be used repeatedly.
No specially processed film is required to form the masking film (4), and no manual work is required on the film. The light-transmitting pattern for mounting portion (43) having a larger outline than the light-transmitting pattern for relief (11) of the negative film (1) and the semi-light-shielding pattern for base portion (42) surrounding the light-transmitting pattern for mounting portion (43). ) Is formed by irradiating light with a combined circular motion,
The size of the light-transmitting pattern (43) for the mount portion and the semi-light-shielding pattern (42) for the base portion with respect to 1) are constant, and the quality of the masking film (4) is constant.
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】フィルム 図8は、ネガフィルム(1)、半遮光フィルム(2)及びマ
スキングフィルムとなる感光フィルム(3)(生フィルム)
を示している。ネガフィルム(1)はリスフィルムで形成
され、前記刷版(9)の標章(12)に一致する透光パターン
(11)以外の部分は遮光面となっている。半遮光フィルム
(2)は、実施例では、網点を均一分布にちりばめた公知
の網点フィルムでるが、これに限らず、着色等によりフ
ィルム全体が均一の半遮光性を有するものでもよい。感
光フィルム(3)は、ディープフィルムと称されるポジ〜
ポジ、ネガ〜ネガの繰り返し作業が1工程でできる反転
リスフィルムであって、光の照射及び現像によって照射
箇所は光を素通りさせる特性を有す。図10は、完成し
たマスキングフィルム(4)を示しており、前記ネガフィ
ルム(1)の透光パターン(11)の輪郭を一定の幅で包囲す
る大きさのマウント部用透光パターン(43)と、該マウン
ト部用透光パターン(43)の外側を一定の幅で包囲するベ
ース部用半遮光パターン(42)が形成され、該半遮光パタ
ーン(42)の外側は遮光部(41)となっている。マスキング
フィルム(4)は、表面に段差のない1枚ものである。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Film FIG. 8 shows a negative film (1), a semi-light-shielding film (2), and a photosensitive film (3) (raw film) serving as a masking film.
Is shown. The negative film (1) is formed of a lith film and has a light transmitting pattern corresponding to the mark (12) of the printing plate (9).
Portions other than (11) are light-shielding surfaces. Semi-opaque film
(2) is a known halftone dot film in which halftone dots are interspersed in a uniform distribution in the embodiment, but is not limited thereto, and may be a film having a uniform semi-light-shielding property due to coloring or the like. The photosensitive film (3) is a positive film called a deep film.
This is a reversal lith film that can be repeatedly subjected to a positive, negative to negative repetition operation in one step, and has a property of allowing light to pass through light by irradiation and development. FIG. 10 shows the completed masking film (4), and a light-transmitting pattern (43) for a mounting portion having a size surrounding the contour of the light-transmitting pattern (11) of the negative film (1) with a constant width. A semi-light-shielding pattern for base portion (42) surrounding the outside of the light-transmitting pattern for mount portion (43) with a constant width is formed, and the light-shielding portion (41) is formed outside the semi-light-shielding pattern (42). Has become. The masking film (4) is a single film having no step on the surface.
【0011】マスキングフィルム製造装置 図1はマスキングフィルム製造装置(5)を示しており、
フィルム載せ台(51)の一端に、合成した円運動によって
フィルムを載せ台(51)上で揺動させる合成円運動装置
(6)が設けられ、ランプ(53)が高さ調節可能に配備され
ている。図9示す如く、載せ台(51)には多数の吸引孔(5
2)が規則的に開設され、載せ台(51)内は吸引筺となって
おり、載せ台(51)に接して載せたフィルムを吸着固定で
きる。合成円運動装置(6)は図2に示す如く、シリンダ
装置(62)(62)に連繋され定位置にて昇降可能な昇降板(6
1)上に、載せ台(51)に平行な面内でX方向及び該X方向
と直交するY方向にスライド可能に第1ベース板(63)を
配備し、該第1ベース板(63)上に、X方向及びY方向に
スライド可能に第2ベース板(72)を配備している。第2
ベース板(72)と該第2ベース板(72)に吸着するマグネッ
ト板(75)とによって、ネガフィルム(1)及び半遮光フィ
ルム(2)の端部を挟んで保持するフィルム保持部(74)を
構成している。[0011] The masking film manufacturing apparatus Figure 1 shows a masking film production apparatus (5),
Synthetic circular motion device that swings the film on the platform (51) by the combined circular motion on one end of the film platform (51)
(6) is provided, and a lamp (53) is provided so as to be adjustable in height. As shown in FIG. 9, a large number of suction holes (5
2) is regularly opened, and the inside of the mounting table (51) is a suction housing, so that the film placed in contact with the mounting table (51) can be fixed by suction. As shown in FIG. 2, the synthetic circular motion device (6) is connected to the cylinder devices (62) and (62) and can be raised and lowered at a fixed position.
1) A first base plate (63) is provided on the first base plate (63) so as to be slidable in an X direction and a Y direction orthogonal to the X direction in a plane parallel to the mounting table (51). Above, a second base plate (72) is provided so as to be slidable in the X and Y directions. Second
A film holding portion (74) that holds the ends of the negative film (1) and the semi-light-shielding film (2) by the base plate (72) and the magnet plate (75) that is attracted to the second base plate (72). ).
【0012】昇降板(61)の上面にはローラ(64)にガイド
されてX方向スライド部材(65)が配備され、該X方向ス
ライド部材(65)の両端にY方向案内部材(66)(66)が設け
られている。第1ベース板(63)の下面には、上記Y方向
案内部材(66)をガイドするローラ(67)が設けられてい
る。第1ベース板(63)の上面にはローラ(69)にガイドさ
れてX方向スライド部材(68)が配備され、該X方向スラ
イド部材(68)の両端にY方向案内部材(71)(71)が設けら
れる。第2ベース板(72)の下面には、第1ベース板(63)
上のY方向案内部材(71)をガイドするローラ(73)が設け
られている。昇降板(61)の一端には第1ベース板(63)
を、X方向及びY方向に構成した円運動させる第1円運
動駆動装置(200)が設けられる。An X-direction slide member (65) is provided on the upper surface of the lifting / lowering plate (61) and guided by a roller (64), and Y-direction guide members (66) () are provided at both ends of the X-direction slide member (65). 66) is provided. A roller (67) for guiding the Y-direction guide member (66) is provided on a lower surface of the first base plate (63). An X-direction slide member (68) is provided on the upper surface of the first base plate (63) and guided by a roller (69), and Y-direction guide members (71) (71) are provided at both ends of the X-direction slide member (68). ) Is provided. A first base plate (63) is provided on the lower surface of the second base plate (72).
A roller (73) for guiding the upper Y-direction guide member (71) is provided. A first base plate (63) is provided at one end of the lifting plate (61).
Is provided with a first circular motion driving device (200) for making a circular motion in the X direction and the Y direction.
【0013】第1円運動駆動装置(200) 第1円運動駆動装置(200)は、昇降板(61)に吊り下げ支
持したモータ(210)の回転軸(220)を昇降板(61)に回転自
由に貫通させ、貫通端に図3に示す如く、ヘッド部(23
0)を設けている。ヘッド部(230)には偏心穴(240)が開設
され、該偏心穴(240)に軸受(250)を介して回転軸(220)
の回転に無関係に回転可能にキャップ(260)が取付られ
ている。キャップ(260)の上面の偏心位置に取付穴(270)
が開設され、周面に突片(201)が突設されている。前記
ヘッド部(230)には、ヘッド部(230)の反時計方向回転に
よって、キャップ(260)の突片(201)に当たる第1当り片
(280)と、時計方向回転によって突片(201)に当たる第2
当り片(290)が突設されている。図4に示す如く、第1
当り片(280)がキャップ(260)の突片(201)を押して反時
計方向に回転するとき、ヘッド部(230)の回転中心P1
に対してキャップ(260)上の取付穴(270)の中心P2は偏
心位置にある。図5に示す如く、第2当り片(290)がキ
ャップ(260)の突片(201)を押して時計方向に回転すると
き、ヘッド部(230)の回転中心P1とキャップ(260)上の
取付穴(270)の中心P2は、同一位置にある。第1ベー
ス板(63)を回転可能に貫通した枢軸(202)がキャップ(26
0)の取付穴(270)に嵌まって、第1円運動駆動装置(200)
と第1ベース板(63)が連繋される。第1ベース板(63)の
端部に第2円運動駆動装置(300)が連繋される。 First circular motion driving device (200) The first circular motion driving device (200) comprises a rotary shaft (220) of a motor (210) suspended and supported by a lifting plate (61). As shown in FIG. 3, the head portion (23
0) is provided. An eccentric hole (240) is opened in the head part (230), and the eccentric hole (240) is connected to the rotating shaft (220) through a bearing (250).
A cap (260) is attached so as to be rotatable regardless of the rotation of. Mounting hole (270) at eccentric position on top of cap (260)
Is opened, and a protruding piece (201) is provided on the peripheral surface. The head part (230) has a first contact piece which hits the protruding piece (201) of the cap (260) by the counterclockwise rotation of the head part (230).
(280) and the second that hits the protruding piece (201) by clockwise rotation.
A contact piece (290) is protruded. As shown in FIG.
When the contact piece (280) pushes the protruding piece (201) of the cap (260) and rotates counterclockwise, the rotation center P1 of the head part (230)
In contrast, the center P2 of the mounting hole (270) on the cap (260) is at an eccentric position. As shown in FIG. 5, when the second contact piece (290) rotates clockwise by pushing the protruding piece (201) of the cap (260), the rotation center P1 of the head part (230) and the mounting on the cap (260) are set. The center P2 of the hole (270) is at the same position. The pivot (202) rotatably penetrates the first base plate (63) and the cap (26).
0) into the mounting hole (270) of the first circular motion driving device (200).
And the first base plate (63) are connected. A second circular motion driving device (300) is connected to an end of the first base plate (63).
【0014】第2円運動駆動装置(300) 第2円運動駆動装置(300)は、第1ベース板(63)に吊り
下げ支持したモータ(310)の回転軸(320)を第1ベース板
(63)に回転自由に貫通させ、貫通端に図6に示す如く、
円板(330)を突設している。円板(330)上に大歯車(340)
と小歯車(350)を噛合して回転自由に配備し、第1ベー
ス板(63)上に、固定配備した内歯車(360)に小歯車(350)
を噛合する。大歯車(340)上に円板状の蓋板(370)をビス
止め固定し、蓋板(370)の偏心位置の取付穴(380)を開設
している。図7示す如く、回転軸(320)の回転により、
大歯車(340)は自転しつつ、回転軸(320)との偏心量を半
径とする円軌跡C1を描いて公転し、大歯車(340)上の
蓋板(370)の取付穴(380)は、該取付穴(380)の大歯車(34
0)に対する偏心量を半径とする円軌跡C2を描いて公転
する。第2ベース板(72)を回転可能に貫通した枢軸(30
1)が蓋板(370)の取付穴(380)に嵌まって、第2ベース板
(72)と第2円運動駆動装置(300)が連繋される。 Second circular motion driving device (300) The second circular motion driving device (300) comprises a first base plate (63) for rotating a shaft (320) of a motor (310) suspended and supported by a first base plate.
(63) is freely penetrated, and as shown in FIG.
A disk (330) protrudes. Large gear (340) on disk (330)
And the small gear (350) are meshed with each other and freely rotatable. The small gear (350) is fixed on the first gear (360) on the first base plate (63).
Mesh. A disc-shaped cover plate (370) is screwed and fixed on the large gear (340), and a mounting hole (380) at an eccentric position of the cover plate (370) is opened. As shown in FIG. 7, by the rotation of the rotation shaft (320),
The large gear (340) revolves while drawing a circular locus C1 having a radius equal to the amount of eccentricity with the rotating shaft (320) while rotating, and the mounting hole (380) for the cover plate (370) on the large gear (340). Is the gear (34) of the mounting hole (380).
Revolve around a circular locus C2 whose radius is the amount of eccentricity with respect to 0). A pivot (30) that rotatably penetrates the second base plate (72)
1) fits into the mounting hole (380) of the lid plate (370), and the second base plate
(72) and the second circular motion driving device (300) are connected.
【0015】マスキングフィルム(4)の製造方法 [ベース部用半遮光パターン(42)の形成]図8、図9に
示す如く、マスキングフィルム製造装置(5)の載せ台(5
1)上に、感光フィルム(3)を載せ、吸着固定する。感光
フィルム(3)の上に、半遮光フィルム(2)、更にその上
にネガフィルム(1)を載せる。先にネガフィルム(1)を
載せ、その上から半遮光フィルム(2)を載せてもよい。
半遮光フィルム(2)とネガフィルム(1)の端部を合成円
運動装置(6)の第2ベース板(72)上に、マグネット板(7
5)によって保持する。第1円運動駆動装置(200)及び第
2円運動駆動装置(300)を正回転させ、ランプ(53)の光
をフィルムに照射する。図4に示す如く、第1円運動駆
動装置(200)のキャップ(260)の取付穴(270)はモータ回
転軸(220)の中心P1に対して偏心回転する。従って第
1ベース板(63)はX方向及びY方向を合成した円運
動を行う。第1ベース板(63)上の、第2ベース板(7
2)は、該第1ベース板(63)の円運動と、回転軸(320)と
大歯車(340)との偏心量を半径とする円軌跡C1を描く
円運動と、大歯車(340)と蓋板(370)の取付穴(380)との
偏心量を半径とする円軌跡C2を描く円運動とを合成し
た円運動を行う。第2ベース板(72)に支持されたネガフ
ィルム(1)及び半遮光フィルム(2)が上記第2ベース板
(72)と同じ円運動を行い、その間にネガフィルム(1)の
透光パターン(11)及び半遮光フィルム(2)を介して感光
フィルム(3)に光が照射されることにより、感光フィル
ム(3)には、ネガフィルム(1)の透光パターン(11)を全
体的に大きくした様な半遮光パターン(42)が形成され
る。 Manufacturing method of masking film (4) [Formation of semi-light-shielding pattern (42) for base portion] As shown in FIGS. 8 and 9, the mounting table (5) of the masking film manufacturing apparatus (5) is used.
1) Place the photosensitive film (3) on the top and fix it by suction. A semi-light-shielding film (2) is placed on the photosensitive film (3), and a negative film (1) is further placed thereon. The negative film (1) may be placed first, and the semi-light-shielding film (2) may be placed thereon.
Place the ends of the semi-light-shielding film (2) and the negative film (1) on the second base plate (72) of the synthetic circular motion device (6).
Hold by 5). The first circular motion driving device (200) and the second circular motion driving device (300) are rotated forward to irradiate the light of the lamp (53) onto the film. As shown in FIG. 4, the mounting hole (270) of the cap (260) of the first circular motion driving device (200) rotates eccentrically with respect to the center P1 of the motor rotation shaft (220). Therefore, the first base plate (63) performs a circular motion combining the X direction and the Y direction. On the first base plate (63), the second base plate (7
2) a circular motion of the first base plate (63), a circular motion describing a circular locus C1 having a radius of eccentricity between the rotating shaft (320) and the large gear (340), and a large gear (340). A circular motion that combines a circular motion that draws a circular locus C2 with the radius of the eccentricity of the cover plate (370) and the mounting hole (380) is performed. The negative film (1) and the semi-light-shielding film (2) supported by the second base plate (72) are
The same circular motion as that of (72) is performed, and during that time, the photosensitive film (3) is irradiated with light via the light-transmitting pattern (11) of the negative film (1) and the semi-light-shielding film (2), whereby In (3), a semi-light-shielding pattern (42) is formed such that the light-transmitting pattern (11) of the negative film (1) is enlarged as a whole.
【0016】[マウント部用透光パターン(43)の形成] 次に、合成円運動装置(6)から半遮光フィルム(2)だけ
を外し、第1円運動駆動装置(200)を逆回転させ(ヘッド
部(230)を時計方向回転)、第2円運動駆動装置(300)は
前記同様にして正回転させ、ランプ(53)の光をフィルム
に照射する。図5に示す如く、第1円運動駆動装置(20
0)のキャップ(260)の取付穴(270)の中心P2はモータ回
転軸(220)の中心P1に一致する。従って第1ベース板
(63)は定位置で静止したままとなる。第1ベース板(63)
上の、第2ベース板(72)は、回転軸(320)と大歯車(340)
との偏心量を半径とする円軌跡C1を描く円運動と、大
歯車(340)と蓋板(370)の取付穴(380)との偏心量を半径
とする円軌跡C2を描く円運動とを合成した円運動を行
う。第1ベース板(63)が停止している分、第2ベース板
(72)の合成円運動の範囲は小さくなる。ネガフィルム
(1)が、第2ベース板(72)と一緒に合成円運動を行い、
その間にネガフィルム(1)の透光パターン(11)を素通り
した光が感光フィルム(3)に照射されることにより、感
光フィルム(3)の前記半遮光パターン(42)内に、該パタ
ーン(42)と透光パターン(11)の中間を通る輪郭の透光パ
ターン(43)が形成され、マスキングフィルム(4)が完成
する。[Formation of Transparent Pattern (43) for Mount Section] Next, only the semi-light-shielding film (2) is removed from the synthetic circular motion device (6), and the first circular motion drive device (200) is reversely rotated. (The head part 230 is rotated clockwise), the second circular motion driving device 300 rotates forward in the same manner as described above, and the light of the lamp 53 is applied to the film. As shown in FIG. 5, the first circular motion driving device (20
The center P2 of the mounting hole (270) of the cap (260) coincides with the center P1 of the motor rotation shaft (220). Therefore, the first base plate
(63) remains stationary in place. First base plate (63)
Above, the second base plate (72) is composed of a rotating shaft (320) and a large gear (340).
And a circular motion that draws a circular locus C1 having a radius equal to the eccentricity of the large gear (340) and the mounting hole (380) of the cover plate (370). Perform a circular motion composed of As the first base plate (63) is stopped, the second base plate
The range of the resultant circular motion of (72) becomes smaller. Negative film
(1) performs a synthetic circular motion together with the second base plate (72),
In the meantime, the light that has passed through the light-transmitting pattern (11) of the negative film (1) is applied to the photosensitive film (3), so that the semi-light-shielding pattern (42) of the photosensitive film (3) has the pattern ( A light transmitting pattern (43) having a contour passing between the light transmitting pattern (11) and the light transmitting pattern (11) is formed, and the masking film (4) is completed.
【0017】尚、実施例では、マウント部用透光パター
ン(43)はネガフィルム(1)の透光パターン(11)より約5
mm幅で大きくなり、ベース部用半遮光パターン(42)は、
マウント部用透光パターン(43)より10mm幅で大きくな
っている。従って、第1円運動駆動装置(200)、第2円
運動駆動装置(300)によるフィルムの振り幅は、その様
に決められている。第1円運動駆動装置(200)及び第2
円運動駆動装置(300)の振り幅の調整を可能とすること
ができ、第1円運動駆動装置(200)では、図3に示すご
とく、ヘッド部(230)の偏心穴(240)の周りに、1又は複
数の小穴(203)を開設しておき、第1当り片(280)、第2
当り片(290)を差込み式にして、所望の小穴(203)に差し
替えれば、第1ベース板(63)の振り幅を変えることがで
きる。第2円運動駆動装置(300)では、蓋板(370)の自転
中心P4に対して、偏心距離の異なる複数の取付穴(38
0)(図面では1個だけ)を開設し、第2ベース板(72)の取
付枢軸(301)を嵌め変えればよい。In the embodiment, the light transmitting pattern (43) for the mounting portion is about 5 times smaller than the light transmitting pattern (11) of the negative film (1).
mm width, the semi-light-shielding pattern for base (42)
It is 10 mm wider than the translucent pattern (43) for the mount. Accordingly, the swing width of the film by the first circular motion driving device (200) and the second circular motion driving device (300) is determined as such. First circular motion drive (200) and second
It is possible to adjust the swing width of the circular motion driving device (300). In the first circular motion driving device (200), as shown in FIG. 3, around the eccentric hole (240) of the head portion (230). In addition, one or more small holes (203) are opened, the first contact piece (280), the second
The swing width of the first base plate (63) can be changed by inserting the contact piece (290) into a plug-in type and replacing it with a desired small hole (203). In the second circular motion driving device (300), a plurality of mounting holes (38) having different eccentric distances with respect to the rotation center P4 of the cover plate (370).
0) (only one in the drawing) may be opened, and the mounting pivot (301) of the second base plate (72) may be changed.
【0018】刷版の製法 図11に示す如く、透明テーブル(8)上にネガフィルム
(1)及び透明フィルム(81)を載せ、透明フィルム(81)上
に堰(83)を設けて、堰(83)内に光硬化性樹脂液(90)を流
し込む。光硬化性樹脂液(90)に透明ベースフィルム(82)
及び前記マスキングフィルム(4)を被せる。テーブル
(8)の下方及びマスキングフィルム(4)の上からランプ
(84)の光を照射する。光硬化性樹脂液(90)が、ネガフィ
ルム(1)の透光パターン(11)、マスキングフィルム(4)
の透光パターン(43)及び半遮光パターン(42)に対応して
硬化し、ネガフィルム(1)の透光パターン(11)に対応す
る部分は、標章(12)を表したレリーフ部(92)となり、透
光パターン(43)に対応する部分は、レリーフ部(92)を補
強するマウント部(93)となり、半遮光パターン(42)に対
応する部分は、薄手のベース部(94)となる。透明ベース
フィルム(82)とベース部(94)を接着したまま、余分の光
硬化性樹脂液(90)を洗い流し、透明ベースフィルム(82)
を適当な大きさに切り取り、マウントフィルム(95)に接
着する。[0018] As shown in process 11 of the plate, a negative film on a transparent table (8)
(1) and the transparent film (81) are mounted, a weir (83) is provided on the transparent film (81), and the photocurable resin liquid (90) is poured into the weir (83). Transparent base film (82) in photocurable resin liquid (90)
And the masking film (4). table
Lamp below (8) and above masking film (4)
The light of (84) is irradiated. The photo-curable resin liquid (90) is used for the light-transmitting pattern (11) of the negative film (1) and the masking film (4).
The part corresponding to the light-transmitting pattern (11) of the negative film (1) is cured according to the light-transmitting pattern (43) and the semi-light-shielding pattern (42), and the relief portion (12) representing the mark (12) is formed. 92), the portion corresponding to the light-transmitting pattern (43) is a mount portion (93) for reinforcing the relief portion (92), and the portion corresponding to the semi-light-shielding pattern (42) is a thin base portion (94). Becomes With the transparent base film (82) and the base portion (94) adhered, the excess photocurable resin liquid (90) is washed away, and the transparent base film (82)
Is cut into a suitable size and adhered to the mounting film (95).
【0019】本発明方法の実施に際し、透明な載せ台(5
1)上に、ネガフィルム(1)と半遮光フィルム(2)を固定
し、第1円運動駆動装置(200)と第2円運動駆動装置(30
0)とによって、感光フィルム(3)を合成円運動させつつ
載せ台(51)の下方から光を照射し、感光フィルム(3)に
ベース部用半遮光パターン(42)を形成し、次に、半遮光
フィルム(2)を外して、ネガフィルム(1)だけを載せ台
(51)に固定し、感光フィルム(3)を第2円運動駆動装置
(300)によって合成円運動させ、感光フィルム(3)にマ
ウント部用透光パターン(43)を形成して、マスキングフ
ィルム(4)を完成することができる。In carrying out the method of the present invention, a transparent mounting table (5
1) A negative film (1) and a semi-light-shielding film (2) are fixed thereon, and a first circular motion driving device (200) and a second circular motion driving device (30) are fixed.
0), the photosensitive film (3) is irradiated with light from below the mounting table (51) while moving in a synthetic circular motion to form a semi-light-shielding pattern (42) for the base portion on the photosensitive film (3). Remove the semi-light-shielding film (2) and place only the negative film (1).
(51), and the photosensitive film (3) is driven by a second circular motion driving device.
By performing a synthetic circular motion by (300), a light-transmitting pattern (43) for a mount portion is formed on the photosensitive film (3), whereby a masking film (4) can be completed.
【0020】本発明の実施に際し、第1ベース板(63)円
運動用の第1円運動駆動装置(200)と第2ベース板(72)
円運動用の第2円運動駆動装置(300)を入れ替えてもよ
い。又、感光フィルム(3)にマウント部用透光パターン
(43)を形成する工程で、第1円運動駆動装置(200)の円
運動機能を停止する代わりに、第2円運動駆動装置(30
0)の円運動機能を停止する様にしてもよい。In practicing the present invention, a first circular motion driving device (200) for circular motion of the first base plate (63) and a second base plate (72).
The second circular motion drive device (300) for circular motion may be replaced. Also, a light-transmitting pattern for the mounting part is formed on the photosensitive film
In the step of forming (43), instead of stopping the circular motion function of the first circular motion drive device (200), the second circular motion drive device (30) is formed.
The circular motion function of 0) may be stopped.
【0021】上記の如く、本発明のマスキングフィルム
(4)は1枚ものであるから、扱いが容易であり、嵩張ら
ない。マスキングフィルム(4)の表面に段差がないた
め、埃を拭き取り易い。感光フィルム(3)の必要部分を
感光させることにより、マスキングフィルム(4)を形成
できるため、従来の3層のマスキングフィルムより薄く
て扱い易く、又、安価に制作できる。マスキングフィル
ム(4)の制作には、感光フィルム(3)の他に、ネガフィ
ルム(1)と半遮光フィルム(2)が必要であるが、ネガフ
ィルム(1)は、刷版のレリーフ部(92)を形成するために
もともと必要なものであり、半遮光フィルム(2)は繰り
返し使用できるため、マスキングフィルム(4)を形成す
るために、特別に加工を加えたフイルムを必要とせず、
又、特別に手作業による加工を加える必要もない。ネガ
フィルム(1)のレリーフ用透光パターン(11)よりも大き
な輪郭のマウント部用透光パターン(43)及び該マウント
部用透光パターン(43)を包囲するベース部用半遮光パタ
ーン(42)を、合成した円運動を伴いながら光照射して形
成するため、透光パターン(11)に対するマウント部用透
光パターン(43)及びベース部用半遮光パターン(42)の大
きさが一定し、マスキングフィルム(4)の品質が一定す
る。本発明は上記実施例の構成に限定されることなく、
特許請求の範囲で種々の変形か可能である。As described above, the masking film of the present invention
Since (4) is a single sheet, it is easy to handle and is not bulky. Since there is no step on the surface of the masking film (4), it is easy to wipe off dust. Since the masking film (4) can be formed by exposing a required portion of the photosensitive film (3) to light, it is thinner and easier to handle than a conventional three-layer masking film, and can be produced at low cost. For the production of the masking film (4), a negative film (1) and a semi-light-shielding film (2) are necessary in addition to the photosensitive film (3). 92) is originally necessary to form the masking film (2), and since the semi-light-shielding film (2) can be used repeatedly, no specially processed film is required to form the masking film (4).
Also, there is no need to perform any special manual processing. The light-transmitting pattern for mounting portion (43) having a larger outline than the light-transmitting pattern for relief (11) of the negative film (1) and the semi-light-shielding pattern for base portion (42) surrounding the light-transmitting pattern for mounting portion (43). ) Is formed by irradiating light with a combined circular motion, so that the size of the light-transmitting pattern for mount portion (43) and the semi-light-shielding pattern for base portion (42) with respect to the light-transmitting pattern (11) are constant. The quality of the masking film (4) is constant. The present invention is not limited to the configuration of the above embodiment,
Various modifications are possible within the scope of the claims.
【図1】マスキングフィルム製造装置の斜面図である。FIG. 1 is a perspective view of a masking film manufacturing apparatus.
【図2】合成円運動装置の斜面図である。FIG. 2 is a perspective view of the synthetic circular exercise device.
【図3】第1円運動駆動装置の分解斜面図である。FIG. 3 is an exploded perspective view of the first circular motion driving device.
【図4】第1円運動駆動装置の機能を停止させた状態の
ヘッド部キャップの位置関係を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing a positional relationship of a head cap in a state where the function of the first circular motion drive device is stopped.
【図5】第1円運動駆動装置を機能させた状態のヘッド
部とキャップの位置関係を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing a positional relationship between a head portion and a cap in a state where the first circular motion driving device is functioning.
【図6】第2円運動駆動装置の分解斜面図である。FIG. 6 is an exploded perspective view of the second circular motion drive device.
【図7】第2円運動駆動装置の合成円運動の説明図であ
る。FIG. 7 is an explanatory diagram of a combined circular motion of the second circular motion drive device.
【図8】ネガフィルム、半遮光フィルム、感光フィルム
の斜面図である。FIG. 8 is a perspective view of a negative film, a semi-light-shielding film, and a photosensitive film.
【図9】載せ台上に3枚のフィルムをセットした状態の
断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of a state where three films are set on a mounting table.
【図10】本発明のマスキングフィルムの斜面図であ
る。FIG. 10 is a perspective view of a masking film of the present invention.
【図11】同上のマスキングフィルムを使用した刷版の
製法の説明図である。FIG. 11 is an explanatory diagram of a printing plate manufacturing method using the above masking film.
【図12】刷版の斜面図である。FIG. 12 is a perspective view of a printing plate.
【図13】従来例のネガフィルムとマスキングフィルム
の斜面図である。FIG. 13 is a perspective view of a conventional negative film and masking film.
【図14】同上のマスキングフィルムを使用した刷版の
製法の説明図である。FIG. 14 is an explanatory diagram of a method of manufacturing a printing plate using the above masking film.
(1) ネガフィルム (11) 透光パターン (2) 半遮光フィルム (3) 感光フィルム (4) マスキングフィルム (41) 遮光部 (42) 半遮光パターン (43) 透光パターン (5) マスキングフィルム製造装置 (6) 合成円運動装置 (63) 第1ベース板 (72) 第2ベース板 (200) 第1円運動駆動装置 (300) 第2円運動駆動装置 (1) Negative film (11) Light-transmitting pattern (2) Semi-light-shielding film (3) Photosensitive film (4) Masking film (41) Light-shielding part (42) Semi-light-shielding pattern (43) Light-transmitting pattern (5) Manufacturing of masking film Device (6) Synthetic circular motion device (63) First base plate (72) Second base plate (200) First circular motion drive device (300) Second circular motion drive device
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Claims (4)
で半遮光パターン(42)を有し、該半遮光パターン(42)の
外側は遮光部(41)となっており、表面に段差のない単層
の1枚もののマスキングフィルム。1. A semi-light-shielding pattern (42) having a substantially constant width surrounding a light-transmitting pattern (43), and a light-shielding portion (41) outside the semi-light-shielding pattern (42). A single-layer masking film with no steps on the surface.
1)を形成したネガフィルム(1)と半遮光フィルム(2)を
重ねて、何れか一方のフィルム上に感光フィルム(3)を
重ね、感光フィルム(3)の反対側から光を照射しつつ、
ネガフィルム(1)と半遮光性フィルム(2)のセットと、
感光フィルム(3)とを円運動により相対的に変位させ
て、ネガフィルム(1)の透光パターン(11)よりも大きな
半遮光パターン(42)を感光フィルム(3)に形成し、次
に、半遮光フィルム(2)を外して、ネガフィルム(1)と
感光フィルム(3)とを前記円運動よりも小さい相対的な
円運動によって、感光フィルム(3)の半遮光パターン(4
2)内に該パターンよりも小さくネガフィルム(1)の透光
パターン(11)よりも大きな透光パターン(43)を形成する
ことを特徴とするマスキングフィルムの製法。2. A light-transmitting pattern (1)
The negative film (1) formed with 1) and the semi-light-shielding film (2) are overlapped, the photosensitive film (3) is overlapped on one of the films, and light is irradiated from the opposite side of the photosensitive film (3). ,
A set of a negative film (1) and a semi-light-shielding film (2),
The photosensitive film (3) is relatively displaced by a circular motion to form a semi-light-shielding pattern (42) on the photosensitive film (3) larger than the light-transmitting pattern (11) of the negative film (1). The semi-light-shielding film (2) is removed, and the negative film (1) and the photosensitive film (3) are moved relative to each other by a relative circular motion smaller than the circular motion.
2) A method for producing a masking film, wherein a light-transmitting pattern (43) smaller than the pattern and larger than the light-transmitting pattern (11) of the negative film (1) is formed.
る請求項2に記載のマスキングフィルムの製法。3. The method for producing a masking film according to claim 2, wherein the semi-light-shielding film (2) is a halftone dot film.
載せられるべきフィルムを支持して該フィルムを載せ台
上で合成円運動させる合成円運動装置(6)と、載せ台(5
1)上のフィルムを照射するランプ(53)とによって構成さ
れ、合成円運動装置(6)は、載せ台(51)と平行する面内
で円運動する第1ベース板(63)と、該第1ベース板(63)
上に該ベース板の円運動とは無関係に円運動する第2ベ
ース板(72)と、該第2ベース板(72)上に設けたフィルム
取付部(74)と、第1ベース板(63)に連繋された第1円運
動駆動装置(200)と第2ベース板(72)に連繋された第2
円運動駆動装置(300)とからなり、第1円運動駆動装置
(200)と第2円運動駆動装置(300)の何れか一方の円運動
駆動装置は、必要に応じて一時的に円運動の機能を停止
可能であることを特徴とするマスキングフィルムの製造
装置。4. A film mounting table (51), a synthetic circular motion device (6) for supporting a film to be mounted on the mounting table (51), and performing a synthetic circular motion on the film on the mounting table. (Five
1) A synthetic circular motion device (6) constituted by a lamp (53) for irradiating the upper film, and a first base plate (63) circularly moving in a plane parallel to the mounting table (51); First base plate (63)
A second base plate (72) that makes a circular motion independently of the circular motion of the base plate, a film mounting portion (74) provided on the second base plate (72), and a first base plate (63 ) And a second circular motion driving device (200) connected to the second base plate (72).
The first circular motion driving device comprising a circular motion driving device (300)
(200) and the second circular motion driving device (300), wherein the circular motion driving device can temporarily stop the function of the circular motion if necessary. .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10065968A JP2995171B2 (en) | 1998-03-17 | 1998-03-17 | Masking film for plate production, method and apparatus for producing the film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10065968A JP2995171B2 (en) | 1998-03-17 | 1998-03-17 | Masking film for plate production, method and apparatus for producing the film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11265054A JPH11265054A (en) | 1999-09-28 |
| JP2995171B2 true JP2995171B2 (en) | 1999-12-27 |
Family
ID=13302318
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10065968A Expired - Lifetime JP2995171B2 (en) | 1998-03-17 | 1998-03-17 | Masking film for plate production, method and apparatus for producing the film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2995171B2 (en) |
-
1998
- 1998-03-17 JP JP10065968A patent/JP2995171B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11265054A (en) | 1999-09-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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