JP2995370B2 - 集積回路メモリ用の保持電圧回路とその方法 - Google Patents

集積回路メモリ用の保持電圧回路とその方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ダイナミックランダム
アクセスメモリ(DRAM)において電圧を供給即ち印
加する際に通過させる回路に関し、特に、DRAMメモ
リセルのキャパシタプレートに中間電圧を供給するため
に結合された電源回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】本発明はDRAMを対象としたものであ
るが、スタティックRAM及びその他の半導体メモリ、
そして、直交方向に沿って多くの場合サブアレイの集合
体内に網状に配されたメモリセルのアレイを有するその
他の集積回路にも、応用範囲を見出し得るものである。
一般的に、セルは、ワード線に直交するビット線によっ
て規定されるカラム(列)に沿っている。例えば、DR
AMの概要的な説明には、「ダイナミックRAM用冗長
機構」という題のイートンジュニア等の米国特許第43
89715号明細書、そしてSRAMの概要的説明に
は、「非同期的に平衡され、プリチャージされたスタテ
ィックRAM」という題のサッド、ハーディ及びハイト
レーの米国特許第4355377号明細書を参照された
い。
【0003】このようなメモリでは、「ビット線プリチ
ャージ及び平衡回路」という題のハーディ等の米国特許
第4494221号明細書のように、平衡及びプリチャ
ージ回路に、関心が向けられている。
【0004】今日の形式のDRAMにおいて共通な1組
の代表的信号を示した図1について説明する。最上部の
波形は、RAS BAR と呼ばれるローアドレスストローブの
反転信号を図示したものである。RAS BAR が低レベルの
時、メモリはアクティブ期間にあるが、RAS BAR が高レ
ベルの時、メモリはプリチャージ期間となる。メモリで
は1秒当たり何回もこれら2種類の期間が交互に現われ
る。
【0005】よく知られているように、DRAMは揮発
性であり、ダイナミックである。即ち、典型的に、デー
タは、キャパシタ上に少量の電荷となって、記憶され
る。この電荷は種々の機構のいずれかから漏れ出してお
り、そのためデータが失われていく。この破滅的な結果
を防止するために、キャパシタを含むメモリセルを繰り
返し読み出しそしてリフレッシュしている。メモリセル
を読み出す時、何のデータがセルに記憶されていたのか
を判断するようにセンス増幅器が動作し、そのデータを
セルに再び書込む。読み出し及びリフレッシュを行わな
いと、データは失われてしまう。
【0006】センス増幅器は、通常、1つまたは一対の
ビット線に結合されている。これらのビット線を時々ビ
ット線及びビットバー線と呼ぶことがある。メモリの中
には、特にSRAMでは、データの相補的状態を、メモ
リセルまたは一対の相補的なメモリセルに記憶する。リ
フレッシュ動作中に用いられる、このような相補的デー
タが記憶されているか否かについてのセンス動作には、
リフレッシュすべきメモリセルに接続されているビット
線を所定の値にセットすることが含まれている。
【0007】この値は、一般的に、「プリチャージ電
圧」または「平衡電圧」と呼ばれている。平衡電圧は、
ビット線をプリチャージさせるもので、図1の2番目の
波形は、この平衡電圧即ちφeqとも呼ばれている信号を
図示している。φeqは、RAS BAR に対して少し右にずれ
ていることが、見て取れよう。RAS BAR が低レベルに落
ちたすぐ後に、φeqも低レベルに落ちている。また、RA
S BAR が高状態(Vcc)に上昇した数ナノ秒後、これは
プリチャージ期間の開始を示しているが、この時点でφ
eqが、典型的に電源電圧Vccに上昇する。
【0008】復元期間は、通常、数ナノ秒かかるもので
あり、図1の3番目の波形はφrcである。φrcの立ち下
がりエッジは、φeqの立ち上がりエッジとほぼ同時また
はわずか10ナノ秒後に発生する。
【0009】ビット線をプリチャージ及び平衡化する回
路は、よく知られているものである。図2は、DRAM
アレイの簡素化した部分における、従来技術の方法を表
わしている。1本のカラムは、ビットバー線11aと対
をなすビット線10aを含んでいる。それらの各々は、
夫々ヒューズ12a、13aを介して、センス増幅器1
4aに接続されている。各ビット線に沿って、ヒューズ
12、13を介してセンス増幅器に結合された、複数の
メモリセル15M、及び、DRAMでは、同じく結合さ
れた各ビット線に対するダミーセル15Dが配置され
る。
【0010】各メモリセル15Mは、例示するように、
1つのトランジスタと1つのキャパシタを備えている。
キャパシタの一方のプレートは、Vssに結合されてい
る。他方のプレートは、トランジスタを介してビット線
に接続されており、このトランジスタの導電率制御可能
な経路を、ワード線WLの電圧によって制御するように
している。ワード線WL−1からWL−Nは、N行のア
レイを構成し、図2に示すように、ビット線10、11
と直交している。夫々のダミーセル15Dは、各カラム
に含まれており、ダミーワード線WL−Dによって制御
されている。ダミーセルは、各メモリセル15Mのキャ
パシタンスと同等の、それより大きな、またはそれより
小さなキャパシタンスを有する。
【0011】平衡トランジスタ16aのソース−ドレイ
ン経路は、このトランジスタがオンの時は何時でも、ビ
ット線10a、11aを共に結合している。トランジス
タ16aのゲート電極は、図1の平衡信号φeqを受け取
るように結合されている。
【0012】トランジスタ16aに隣接して、「保持用
トランジスタ」18a及び20aがある。トランジスタ
18aのソース−ドレイン経路は、保持線22とビット
線10aとの間に結合されている。保持用トランジスタ
20aのソース−ドレイン経路は、保持線22とビット
線11aとの間に結合されている。トランジスタ18及
び20のゲート電極も、平衡信号φeqを受け取るように
結合されている。この場合、トランジスタ16、18及
び20がnチャンネルトランジスタであり、φeqとして
相対的に正の電圧を印加する時にオンとなるが、他の種
類のスイッチング素子を用いることもできることは理解
されよう。これらのトランジスタに平衡信号φeqを印加
すると、ビット線10a及び11a上の電圧を平衡化即
ち等しくし、保持線22を介して印加されたいかなる電
圧でも受け取るように、これらのビット線を結合する。
【0013】図2のカラム回路は、線10a、11a、
12a、13a、14a、16a、18a、及び20a
を含んでおり、カラムA及びA* と呼ぶことにする。同
一構造のカラムB及びB* もカラムA及びA* と並列
に、配置されている。実際、複数のこのような同様のカ
ラムを共にメモリチップに集合し、アレイまたはサブア
レイを形成している。
【0014】この従来技術の方法の1つの変更例が、
「半導体メモリに用いられるビット線及びカラム回路」
という題のハーディーの米国特許第4791613号明
細書に示されている。これは、平衡トランジスタに印加
する平衡信号に異なる電圧を用い、更に電源電圧Vccを
「保持用トランジスタ」18、20に印加するものであ
る。
【0015】従来技術では、元来ビット線は、プリチャ
ージまたは平衡動作中、ゼロボルト或は電源電圧Vccに
設定されている。より新しいDRAMはビット線を 1/2
Vccにプリチャージしている。このプリチャージ電圧を
得る為に、典型的にはビット線及びビットバー線をプリ
チャージサイクルの開始時に、共に短絡させている(一
方のビット線はVccレベルを有し、他方はVssレベルを
有する。短絡させると、結果として 1/2Vccが得られ
る。)。この電圧を保持するために、一対の抵抗、また
は抵抗として用いられるトランジスタを、図2に示すよ
うにVccとグラウンドとの間に結合することによって、
分圧器24を形成する。分圧器から得られる電圧を、次
に、保持線22を介して印加し、ビット線を所望のプリ
チャージ値の近傍に保持する。
【0016】また、上述のように、DRAM内のメモリ
セルはキャパシタプレートを有し、従来はこれをグラウ
ンドに結合していた。現在の傾向は、これらのキャパシ
タプレートを 1/2Vccに結合することであり、これによ
ってセルのキャパシタの誘電体を薄くすることができ
る。即ち、電界(通常ブレークダウンの原因となる)の
半分を用いることができるようになる。したがって、従
来技術では、セルのキャパシタプレートを、Vss、 1/2
VccまたはVccにさえも、結合することもある。典型的
な 1/2Vcc回路を図3に示す。図3は、第1のnチャン
ネルトランジスタ26のソース−ドレイン経路が第1の
pチャンネルトランジスタ28のソース−ドレイン経路
と直列に接続された、4個のトランジスタからなる電源
回路を示すものである。
【0017】トランジスタ26のドレインがVccに結合
され、ノード30がトランジスタ28のソースに結合さ
れ、更にトランジスタ28のドレインがグラウンドに結
合されている。第2のnチャンネルトランジスタ40の
ソース−ドレイン経路が、第2のpチャンネルトランジ
スタ32のソース−ドレイン経路と直列に結合されてい
る。また、ノード34が抵抗36を介して動作電圧Vcc
の供給源に結合されている。このノード34は更に、n
チャンネルトランジスタ40のゲート電極及びドレイン
に結合されている。トランジスタ40のソースは、pチ
ャンネルトランジスタ32のソース電極に結合されてい
る。トランジスタ32のドレインは、抵抗38及びそれ
らの間にあるノード39を介して、グラウンド(Vss)
に結合されている。ノード34に生じる電圧は 1/2Vcc
+Vtnであることが理解されよう。ノード39に生じる
電圧は、 1/2Vcc−Vtpであり、ここでVtnはnチャン
ネルスレッシュホールド電圧であり、Vtpはpチャンネ
ルスレッシュホールド電圧である。出力ノード30に生
じる電圧は 1/2Vccである。
【0018】図3のような典型的な 1/2Vcc回路は、セ
ルのキャパシタプレートと結合された時、かなりのスタ
ンバイ電流を引き出す。理想的には、 1/2Vccの供給
は、プレートのバウンスを防止するために別個の低イン
ピーダンス電源によって行なうのがよいが、集積回路チ
ップの余分なピンは望ましいものではない。また、主電
源から殆ど電流を引き出さないような低インピーダンス
中間値電源を「チップ上に」設計するのは、ほぼ不可能
である。
【0019】
【発明が解決しようとする課題】1つの問題は、今日の
メモリは容量が非常に大きいので(非常に多くのメモリ
セルを有するので)、保持線22からトランジスタ1
8、20を介してビット線に印加されるプリチャージ電
圧を保持するために、別個の電源電圧を用いようとする
ことである。しかしながら、産業上の実施面からは別個
の電源電圧やそのプリチャージ電圧を伝える余分なピン
を加えたくはないので、このような方法は望ましいもの
ではない。
【0020】ビット線をゼロボルトとVccとの中間電圧
に、その中間電圧用の別個の電源を用いずに、プリチャ
ージすることに伴う1つの問題は、このプリチャージ電
圧がリフレッシュ期間中に洩れ出す傾向があり、ビット
線が短絡した場合その電圧を保持できないことである。
プリチャージ電圧が万一完全に消散した場合、セルをセ
ンス増幅器回路によって読み取ることができないので、
データが本質的に失われることになる。
【0021】図2において、プリチャージ中に、トラン
ジスタ16、18及び20がオンになった時、全てのビ
ット線が保持線22を介して共に結合されることに注意
されたい。したがって、多数のビット線がプリチャージ
動作中1つに集められることになる。1つの問題は、1
本でも不良のビット線があると、メモリ全体を破滅させ
てしまうことである。ビット線に短絡が生じこれによっ
て常に電流を引き出している場合、単に分圧器24から
プリチャージを供給するだけでは、短絡の克服が不可能
であり、メモリ全体が動作不能となってしまう。
【0022】この破壊的結果を回避するために、ヒュー
ズ12及び13を設けると共にテストを行ない、全ての
そのような短絡したビット線を識別する。そして、適切
なヒューズ12を飛ばすことによって(そして代用する
ことができる冗長ビット線によって)、不良ビット線を
回路から分離する。この処方は、しかしながら、ヒュー
ズの追加と、その上テスト工程を必要とするので、メモ
リのコストを上昇させてしまうことになる。
【0023】したがって、本発明の目的は、1つの不良
メモリセルまたは不良ビット線がメモリ全体を動作不能
にしてしまう問題を回避することである。
【0024】本発明の別の目的は、ビット線ヒューズ等
を加えることなく、不良ビット線の問題を解決すること
である。
【0025】本発明の更に別の目的は、「保持」即ちプ
リチャージ電圧を供給するために従来技術で用いられて
いる分圧器を用いる必要性をなくすことである。
【0026】本発明の別の目的は、従来技術では見られ
た高スタンバイ電流を大幅に減少させることである。
【0027】本発明の価値ある目的は、ビット線を所望
のプリチャージ電圧により近く、長期間にわたって保持
し、電圧を良好に制御するDRAM用保持電圧回路を提
供することである。
【0028】また、本発明の更なる目的は、中間電圧を
メモリセルのキャパシタプレートに供給する際の問題
を、この動作に用いられるスタンバイ電流を制御しつ
つ、克服することである。
【0029】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明は、請求項1〜11に記載の構成を有す
る。請求項1によれば、メモリアレイ内に複数のビット
線を有し、該ビット線の各々に沿ってメモリセルを配置
しかつ前記ビット線に接続された一組のセンスアンプを
有しており、前記ビット線が、前記複数のビット線と保
持線との間に接続された平衡/プリチャージ手段を介し
て平衡化されかつプリチャージされ、前記保持線が保持
電圧回路に接続されている、集積回路メモリにおいて、
前記保持線に目標保持電圧を供給するための前記保持電
圧回路が、1つの論理回路とこの論理回路に応答するよ
うに接続したトランジスタを有し、前記目標保持電圧に
関連した第1電圧を第1のノードに発生するための第1
回路と、前記第1のノードに接続され前記第1電圧を蓄
積するための記憶手段と、この記憶手段に接続されかつ
この記憶手段に応答して前記目標保持電圧を発生するた
めの第2回路とを備えていることを特徴としている。請
求項2によれば、この保持電圧回路は、RAMのプリチ
ャージ期間の一部において信号を与えるために接続され
たプリチャージ制御手段と、第のトランジスタが、動
作電圧(Vcc)の供給を受けるように接続され、共に
第1のノードに接続された第1,第2のトランジスタが
前記プリチャージ制御手段に応答するように接続された
制御電極を有し、これにより、前記第1,第2のトラン
ジスタを介して前記保持線に電圧を供給し、前記第1の
ノードに目標保持電圧からオフセットされた第1電圧を
発生させるようにした第1,第2のトランジスタと、前
記第1のノードに接続される制御電極と、さらに動作電
圧(Vcc)の供給を受けるように接続され、前記第1
電圧がその制御電極に印加される時、保持電圧を保持線
に与えるように構成されている駆動トランジスタと、前
記第1のノードに接続されたキャパシタとを備えてい
る。これにより、保持用トランジスタに結合されている
保持ノードに結合される分圧器を必要としない。本発明
にしたがって構成された素子は、むしろ、保持線に結合
された新しい回路を用いるものである。本発明の別の態
様によれば、保持線はセルのキャパシタプレートにも結
合されている。
【0030】本発明の回路は、目標保持電圧となる電圧
を発生する。「保持電圧」または「目標保持電圧」と
は、プリチャージ/平衡動作の結果として、ビット線に
保持されることを我々が望む電圧を意味する。発生され
る電圧は、目標保持電圧から一方のスレッシュホールド
電圧だけ単にずれたものであり、この電圧はキャパシタ
に保持され、そして後にビット線平衡電圧を正確に所望
の保持電圧に保持するのに用いるのが好ましい。
【0031】好ましくは、論理信号を用いてプリチャー
ジ期間の開始部分中の時間間隔を決定するのがよい。こ
の時間間隔の間、トランジスタがオンとなり、保持線に
所望の保持電圧を発生する。好ましくは、これは、回路
の内部ノードにおいて、目標とする保持電圧より1スレ
ッシュホールド電圧だけ高い電圧を発生し、次にその電
圧を保持用トランジスタを介してビット線に結合された
保持線にそれを印加して、1スレッシュホールド電圧だ
けその電圧を低下させる動作を伴う。一方、内部ノード
からの電圧をキャパシタにも記憶する。
【0032】また、本発明は、各請求項に記載の構成に
おいて、プリチャージ期間において、保持電圧回路の第
1ノードに目標保持電圧に関連した第1電圧を発生さ
せ、保持線に供給される電力によりビット線をプリチャ
ージするとともに、第1のノードの電圧を記憶手段(キ
ャパシタ)に保持し、この電圧によって、アクティブな
半導体素子(請求項6)または駆動トランジスタ(請求
項10)をオンさせて、他の素子がオフになっても保持
線を保持電圧にクランプすることができ、別個の1/2 V
cc電源を接続することなく保持電圧がプリチャージ期間
保存される。すなわち、第1のノードが保持線から分離
されても、記憶手段に保持された電圧で大きな駆動手段
を制御でき、複数のビット線が短絡してもプリチャージ
電圧はリフレッシュ時間より大幅に長い期間維持される
ので、1つの不良メモリセルまたは不良ビット線がメモ
リ全体を動作不能にしてしまう問題を回避できる。ま
た、請求項6の発明では、さらに、記憶手段に蓄積され
た電圧を維持するための次のステップにおいて、第1の
ノードを記憶手段以外の回路から分離することを含んで
いるので、記憶手段の保持電圧は、電力消費を発生させ
る必要なしに維持できる。
【0033】
【作用】記憶キャパシタ上の電圧は、論理信号が終了し
た後でも存続するので、その終了後のプリチャージ期間
の残りの間でも、この記憶された電圧で大きな駆動トラ
ンジスタを制御することができる。この駆動トランジス
タは、電源と保持線との間に、そしてこれによってビッ
ト線に結合される。その大きなサイズのため、個々のビ
ット線或はある本数のビット線における短絡でも、全て
のビット線に対して、プリチャージ電圧をゼロまで引き
下げることはなく、とるに足らぬ乱れを発生するに留ま
り、ある限られた数のビット線の短絡を許容することが
できる。
【0034】更に、プリチャージ電圧は、通常DRAM
に指定されているリフレッシュ時間より大幅に長い期間
存続する。また、本発明の特色は、オフセット電圧が生
じる内部ノードをビット線から切断することである。或
いは、内部ノードを永久的にキャパシタに結合する必要
はないが、それに選択的に結合できるようにして、ある
方法で、記憶した電荷が消散する可能性のある保持線及
びその他のルートからキャパシタを切断することによっ
て、キャパシタに記憶した電圧が保持される。
【0035】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
図4は、多くの点で図2と類似した本発明の技術的構成
を示す回路である。図2と同様な部分には同様な参照番
号を付してある。したがって、従来技術と本発明の両方
の構成において、1対のビット線10、11には、セン
ス増幅器14に結合され、さらに図2において上述した
ように、平衡トランジスタ16、及び保持用トランジス
タ18及び20で構成される平衡/プリチャージ手段が
結合されている。
【0036】これらの平衡及び保持用トランジスタのゲ
ート電極に平衡信号φeqを印加する。複数のメモリセル
がビット線10、11の各々に結合されている。便宜
上、1対のビット線のみを示すが、複数のビット線対を
有するアレイ全体を意図しているのであるが、図示して
いないことは理解されよう。また、米国特許第4389
715号明細書に記載されているように、DRAMに共
通なI/Oバッファ、データバッファ及びその他の周辺
回路と同様、カラム(列)及びロー(行)のための適切
なデコーダも設けられていることも理解されよう。
【0037】保持用トランジスタを保持線22に結合す
る。この線は、図2の回路では、分圧器に結合されてい
たが、図4に図示した実施例では、新しい回路40に結
合されている。回路40によって保持線22に与えられ
る即ち印加される電圧を、「保持電圧」Vh と呼ぶこと
にする。
【0038】保持電圧回路40について説明する前に、
図4の回路では、保持線22を、トランジスタ18、2
0並びに、セルのキャパシタプレートにも結合している
ことに、注意すべきである。したがって、保持線22*
(キャパシタプレート線)は保持線22と結合され、そ
して全てのメモリセルの底部キャパシタプレートに結合
されている。保持線22*を、ビット線と平行に、また
はワード線と平行に、配線してもよいことが、認められ
よう。第1の保持線22*をメモリセルの1つ以上のロ
ーの底部キャパシタプレートの全てと結合するか、或
は、1つ以上のカラムの底部キャパシタプレートに結合
するように、変更することもできる。
【0039】セルのキャパシタプレート電極を、保持用
トランジスタに結合していることは、注目すべきことで
あり、これが発明の特徴である。即ち、電力をセルのキ
ャパシタプレート及びビット線の両方に与える保持線2
2に、保持電圧回路40を結合したことは、本発明の特
色の1つである。同様に、本発明の別の特徴によれば、
回路40をビット線には結合せずに、キャパシタプレー
トを回路40に結合してもよいことを、当業者は認める
であろう。また、回路40をビット線に結合し、キャパ
シタプレートにはそれを結合しなくても良いことと同様
であろう。しかしながら、好適実施例では、回路40を
ビット線及びセルのキャパシタプレートの両方に結合し
てある。
【0040】この新しい方法の利点は、ビット線及びキ
ャパシタプレートを「平衡」している、即ち、同じ電位
にしていることである。通常、「1」または「0」を読
み出す場合の電圧マージンは、Vccの値と共に変化す
る。即ち、「1」を低いVccで書き込み、高いVccで読
み出すとすると、より高いVccではビット線の平衡電圧
も上昇し、したがって、メモリセルの「1」とビット線
との間の電圧差が減少するので、「1」を読み出す際の
マージンは少なくなる。この結果、信号の損失が生じ
る。本発明のこの特色によれば、プレート電圧がVccと
共に上昇した時、同じ量だけセル電圧を引き上げ、これ
によって、セル/ビット線電圧及び信号を一定に保って
いる。
【0041】従来技術の回路では、電流をできるだけ低
く保持しているので、これを行なうには時間がかかる。
即ち、プレート電圧がVccの変化にリアルタイムで追従
しないかもしれないのである。また、従来技術には、プ
レート及びビット線の電圧を等しくする機構が記載され
ていない。
【0042】このように、図4において行なったよう
な、電圧を平衡化することの利点は、Vccレベルのより
広い範囲にわたって一定の信号レベルが得られることで
ある。この構成では、ビット線のキャパシタンスを用い
て低インピーダンスプレート電圧を発生させていること
を、当業者は認めるであろう。したがって、容量式駆動
電流を用いることによって、外部電源及びそれと共に用
いるピンを追加する必要がなく、効果的に低インピーダ
ンスプレート供給電圧を得ることができる。
【0043】次に、図4の保持電圧回路40の説明に移
る。この保持電圧回路は、目標保持電圧に関連した第1
電圧を第1のノード45に発生するための第1回路と、
第1ノード45に接続されかつ第1電圧を蓄積するため
のキャパシタ(記憶手段)52と、このキャパシタ52
に接続されかつこのキャパシタに応答して目標保持電圧
を発生するための第2回路とを備えている。第1回路
は、図4において、論理回路(タイミング回路)で構成
されるプリチャージ制御手段42からの信号を受ける第
トランジスタ46と第2トランジスタ44を含み、動
作電圧源Vcc、第1トランジスタ46、第1のノード
45、第2トランジスタ44、第2のノード47、及び
3トランジスタ48が順次接続された回路であり、第
2回路は、動作電圧源Vccに接続された駆動トランジ
スタ50が第1のノード45からの信号を受けて作動す
る回路である。また、保持電圧回路40内には、例示的
にアンドゲートの形を取っている信号供給回路としての
論理回路(プリチャージ制御手段)42があり、これは
プリチャージ期間中信号を与えるものである。これは、
図1に見られるように、プリチャージ期間の早期即ち開
始部分における約10ナノ秒の期間、共に高レベルにあ
る信号φeqとφrcとのアンドを取ることによって、
容易に行なうことができる。本発明の応用では別の論理
回路を用いて、プリチャージ期間の開始部分の間、高レ
ベルの信号を生成することもできることは理解されよ
う。更に、別個のタイミング信号を発生する必要のない
ような、変更した他の回路でも可能である。
【0044】図4では、第1及び第2のスイッチング素
46及び44を共に結合し、導電率制御可能なこれら
の素子の経路間に第1のノード(制御ノード)45を、
直列に結合している。例示的に、これら第1,第2のト
ランジスタ46,44は、nチャンネルの電界効果トラ
ンジスタ(FET)の形を取っているが、別の種類の制
御可能なスイッチング素子を用いることもできる。第1
トランジスタ(FET)46のソース電極を、動作電圧
Vccの電源に結合する。第1トランジスタ(FET)
46のドレイン電極を、第2トランジスタ(FET)4
4のソースに結合された第1のノード45に結合する。
FET44のドレインを第2のノード47に結合し、更
に、この第2のノード47を第3のトランジスタ48の
ソース及びゲート電極に結合する。プリチャージ制御手
段としてのアンドゲート42の出力を、FET44及び
46の制御(ゲート)電極に結合し、アンドゲート42
の出力が高レベルになった時、これら第1,第2トラン
ジスタ46,44をオンにする。トランジスタ44,4
6のソースードレイン経路は、第1のノード45と第2
のノード47とを動作電圧Vccに結合するものであ
る。トランジスタ44及び46は負荷を形成するので、
グラウンドとVccとの中間電圧が第1及び第2のノー
ド45及び47に発生する。
【0045】上述のように、第2のノード47を、例示
的にnチャンネルFETである第3のトランジスタ48
に結合してある。ノード47をFET48のソース及び
ゲート電極の双方に結合することによって、ドレイン電
圧は、ソース電圧より1(nチャンネル)スレッシュホ
ールド電圧Vtだけ低くなる。トランジスタ48のドレ
インは保持線22に結合されている。したがって、この
第3のトランジスタは保持線22と制御ノード45間に
接続されて、制御ノード側に保持線側よりも1スレッシ
ュホールド電圧(Vt)分高い電圧を発生させる差電圧
発生手段を構成する
【0046】保持線22に結果的に生じる電圧(FET
44及び46がオンの時)を、保持電圧Vh 、または目
標保持電圧と呼ぶことにする。ノード45及び47にお
ける電圧は、この保持電圧に1Vt を加えたものとな
る。
【0047】もう1つの能動半導体素子である大型トラ
ンジスタ(駆動手段)50のソース−ドレイン経路をV
ccと保持線22との間に結合する。このトランジスタ
のゲート電極をノード45に結合する。例示すれば、ト
ランジスタ50はFETであり、駆動トランジスタと呼
ぶこともできる。駆動トランジスタ50を介して保持線
22に結合される電圧は、以下に論ずる他の係数の中
の、ゲート電圧の関数である。
【0048】ノード45を記憶手段としてのキャパシタ
52の一方のプレートにも結合する。キャパシタ52の
他方のプレートをグランドに接続し、キャパシタ52
は、洩れがなければ、ノード45に現れる電圧を記憶す
ることになる。
【0049】図4の回路の動作方法について、トランジ
スタ44及び46がオンの間、既に述べたようにノード
45に第1電圧が発生し、これは保持電圧より1スレッ
シュホールド電圧だけ高いものである。これはnチャン
ネル駆動トランジスタ50をオンするのには十分なもの
である。(nチャンネルFETは、そのゲート電圧がソ
ース電圧より少なくとも1Vt高い時、オンとなること
は理解されよう。ここで、ソース電圧は、定義により、
保持電圧Vhである。既に説明したように、ノード45
に発生する第1電圧は、Vhより正確に1Vt高い。し
たがって、トランジスタ50はオンとなり、そのソース
ードレイン経路は導通するので、電源電圧Vccを、ト
ランジスタ50を介して保持線22に結合することにな
る。)したがって、プリチャージ期間の最初の部分で
は、電力がトランジスタ46及びトランジスタ50を介
して、保持線またはノード22に供給され、ビット線を
プリチャージする。ノード45の電圧は、保持電圧より
1スレッシュホールド電圧だけ高いもので、キャパシタ
52に記憶される。
【0050】次に起こる事象は、回復完了信号φrcが低
レベルに低下することである。これは論理回路42に0
ボルトを出力させることになる。この電圧は、トランジ
スタ44及び46のソース電圧より低いので、結果的に
これらをオフすることになる。トランジスタ44がオフ
になると、保持線、FET48及びノード47がノード
45から切断される。トランジスタ46がオフになるの
で、Vccもキャパシタ52から切断される。ノード45
の電圧Vh +Vt は、キャパシタ52に残り、トランジ
スタ50のゲート電極に供給され続ける。
【0051】図1から、平衡信号φeqはプリチャージ期
間の残りの間高レベルに留まっているので、ビット線と
組み合わされたトランジスタ16、18及び20はオン
を維持する。ビット線は相当数のn+ 接合部と拡散部を
有するので、本来洩れが速い。しかしながら、トランジ
スタ50がオンである限り、プリチャージ電圧をそのソ
ース−ドレイン経路を介して保持線22に供給し続け
る。トランジスタ50は、例示的に幅75ミクロン、長
さ1ミクロンで、かなり大きく構成されているので、ビ
ット線の合理的な数の短絡を克服することができる。
【0052】トランジスタ44及び46がオンでなく、
トランジスタ50のみによって保持線22に印加する電
圧は、既に定義した保持電圧であることが好ましい。本
発明の回路は、論理回路42がローレベルになった後で
も、保持線22に全く同じ電圧を印加し続ける。キャパ
シタ52に記憶されている電圧は、洩れがなければ、ノ
ード45に残る。ノード45におけるこの電圧は、Vh
+Vt である。保持線22上の電圧がVh 以下に低下し
た時はいつでも、ゲート電圧がそれより1Vtだけ高い
ので、トランジスタ50がオンとなる。これによってV
ccを保持線22に結合し、保持線22上の電圧は上昇し
始める。トランジスタ50は、それが保持線22に与え
る電圧がVh 以上に上昇した時、オフとなる。これは、
ゲート電圧が正確にVh +Vt であり、しかもゲート電
圧はもはやドレイン電圧を1Vtだけ越えることはない
からである。したがって、Vh +Vt である電圧を保存
(記憶)し、それを洩れから防ぎ、そしてこの電圧を駆
動トランジスタのゲート電極に印加することによって、
トランジスタ44及び46がオフとなった後でも、保持
線22を保持電圧Vh にクランプすることができる。こ
れは、保持電圧がプリチャージ期間中保存されるとい
う、望ましい動作である。
【0053】この結果を達成するためには、キャパシタ
52からトランジスタ50のゲート電極に印加される電
圧を良好に制御することが必要である。その電圧の洩れ
は、不利益なことである。これを制御するために、キャ
パシタ52を、駆動トランジスタのゲート電極(電流を
引き出さない)、及びトランジスタ44及び46のソー
ス電極の3箇所にしか結合しないように回路を設計す
る。トランジスタ44及び46は両方とも、キャパシタ
52上の電圧を保存すべき間はオフとなっている(プリ
チャージ期間の後半部分の間)。
【0054】トランジスタ44は、図5に示すように、
その接合領域を最少にするレイアウトを有するものであ
る。これによって、キャパシタ52のトランジスタ44
の接合領域に対する比率を最大にすることになる。これ
は、例示的には、正方形のレイアウトで行われる。キャ
パシタ52は、例示的に、10ピコファラッドを有する
ものとする。トランジスタ44には約1平方ミクロンの
接合領域がある。このような構成では、キャパシタ52
上の電圧がトランジスタ44の接合部を通って基板に洩
れ出す前に、かなりの時間間隔が見込まれる。したがっ
て、キャパシタ52上の電圧は、プリチャージ期間全体
にわたって保存され、高レベルを保持し、トランジスタ
50においてゲート電圧を制御する。トランジスタ46
も同様に構成することができる。
【0055】トランジスタ50は保持用トランジスタ1
8または20のいずれのサイズと比較しても巨大なもの
なので、保持用トランジスタの1つに対応するビット線
上で短絡があっても、その短絡が対応する保持用トラン
ジスタを介してノードまたは保持線22に結合されてい
るので、殆ど障害にはならないことが認められよう。
【0056】本発明の範囲及び意図から逸脱せずに、図
4の好適実施例から種々の変更が可能である。その一例
は、図6に示す回路である。ここでは、pチャンネルゲ
ート上にVh −Vt (Vh +Vt の代りに)を保持し、
「鏡像」信号を発生して、ビット線のプルダウン並びに
プルアップを防止するようにしている。したがって、図
6では回路40を最上部にそしてもう1つの回路60を
下側に示している。回路60は、回路40のほぼ鏡像で
ある。回路40がnチャンネルトランジスタ44、4
6、48及び50を備えているのに対して、回路60は
トランジスタ64、66、68及び70を備えている。
この内、トランジスタ68及び70は、pチャンネルト
ランジスタであることが好ましい。保持線22をトラン
ジスタ68及び70に結合してある。回路40がキャパ
シタ52を備えているのに対し、回路60はキャパシタ
72を備えている。キャパシタ72の一方のプレート
を、ノード65に結合してあり、ノード65を更に、ト
ランジスタ70のゲート電極、及びトランジスタ64及
び66のソース−ドレイン経路に結合してある。
【0057】以上説明したことから明らかなように、本
発明は、電力をメモリセルのキャパシタプレート及びビ
ット線の両方に与える保持線に接続した新規の保持電圧
回路を備えており、プリチャージ期間において、この保
持電圧回路の第1ノードに保持電圧より1スレッショル
ド電圧だけ高い第1電圧を発生させ、保持線に供給され
る電力によりビット線をプリチャージするとともに、第
1のノードの電圧を記憶手段(キャパシタ)に記憶する
ことができる。 そして、保持電圧回路の素子(トランジ
スタ)を選択的にオフすることにより、第1のノードが
保持線から分離され、記憶手段上の電圧は、保持電圧回
路に設けた論理回路の論理信号が終了した後でも存続す
るので、その終了後のプリチャージ期間の残りの間で
も、この記憶された電圧で大きな駆動トランジスタを制
御でき、複数のビット線が短絡してもプリチャージ電圧
は、リフレッシュ時間より大幅に長い期間維持できる。
すなわち、第1ノードに発生した第1電圧は、記憶手段
に保存され、この電圧によって駆動トランジスタをオン
させて、他のトランジスタがオフになっても保持線を保
持電圧にクランプすることができ、別個の1/2Vcc
電源を接続することなく、保持電圧がプリチャージ期間
中保存されるので、1つの不良メモリセルまたは不良ビ
ット線がメモリ全体を動作不能にしてしまう問題を回避
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】最近のDRAMに共通に用いられている種々の
信号を示す1組の波形図である。
【図2】現在使用されているDRAMの一部を示す図で
あって、特に目標電圧にプリチャージされたビット線を
保持するのに用いられる分圧器の関係を示した図であ
る。
【図3】全てのキャパシタプレートの従来の 1/2Vcc分
圧器を示す図である。
【図4】本発明の好適実施例による回路を表す図であ
る。
【図5】図4の改良した回路におけるトランジスタの1
つのレイアウトを示す図である。
【図6】ビット線を保持電圧にクランプするために追加
した回路を示す図である。
【符号の説明】
14 センス増幅器 10,11 ビット線 16 平衡トランジスタ 18,20 トランジスタ 22,22* 保持線 40 保持電圧回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 エス. シェフィールド イートン ジ ュニア アメリカ合衆国 コロラド 80906 コ ロラド スプリングス スプリング リ ッジ サークル 3361 (56)参考文献 特開 平2−201793(JP,A) 特開 平1−94590(JP,A) 特開 昭60−160095(JP,A) 特開 昭59−180888(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11C 11/40 - 11/409

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】メモリアレイ内に複数のビット線(10,11)
    を有し、該ビット線の各々に沿ってメモリセル(15)を配
    置しかつ前記ビット線に接続された一組のセンス増幅器
    (14)を有しており、前記ビット線が、前記複数のビット
    線(10,11) と保持線(22)との間に接続された平衡/プリ
    チャージ手段(16,18,20)を介して平衡化されかつプリチ
    ャージされ、前記保持線が保持電圧回路(40)に接続され
    ている、集積回路メモリにおいて、前記保持線に目標保
    持電圧を供給するための前記保持電圧回路(40)が、 1つの論理回路(42)とこの論理回路に応答するように接
    続したトランジスタ(46)を有し、前記目標保持電圧に関
    連した第1電圧を第1のノード(45)に発生するための第
    1回路と、 前記第1のノード(45)に接続され前記第1電圧を蓄積す
    るための記憶手段(52)と、 この記憶手段に接続されかつこの記憶手段に応答して前
    記目標保持電圧を発生するための第2回路と、 を備えていることを特徴とする集積回路メモリ用の保持
    電圧回路。
  2. 【請求項2】プリチャージ期間と保持電圧を受け取るた
    めの保持線(22)とを有するRAM用の保持電圧回路であ
    って、 RAMのプリチャージ期間の一部において信号を与える
    ために接続されたプリチャージ制御手段(42)と、 第1トランジスタ(46)が、動作電圧 (Vcc) の供給を受
    けるように接続され、共に第1のノード(45)に接続され
    た第1,第2のトランジスタ(46,44) が前記プリチャー
    ジ制御手段(42)に応答するように接続された制御電極を
    有し、これにより、前記第1,第2のトランジスタ(46,
    44) を介して前記保持線(22)に電圧を供給し、前記第1
    のノード(45)に目標保持電圧からオフセットされた第1
    電圧を発生させるようにした第1,第2のトランジスタ
    (46,44) と、 前記第1のノード(45)に接続される制御電極と、さらに
    動作電圧(Vcc)の供給を受けるように接続され、前記
    第1電圧がその制御電極に印加される時、保持電圧を保
    持線(22)に与えるように構成されている駆動トランジス
    タ(50)と、 前記第1のノード(45)に接続されたキャパシタ(52)と、 を備えていることを特徴とする回路。
  3. 【請求項3】メモリアレイ内に複数のビット線(10,11)
    を有し、該ビット線の各々に沿ってメモリセル(15)を配
    置しかつ前記ビット線に接続された一組のセンス増幅器
    (14)を有しており、前記ビット線が、前記複数のビット
    線(10,11) と保持線(22)との間に接続された平衡/プリ
    チャージ手段(16,18,20)を介して平衡化されかつプリチ
    ャージされ、前記保持線が保持電圧回路(40)に接続され
    ている、集積回路メモリにおいて、前記保持線に目標保
    持電圧を供給するための前記保持電圧回路(40)が、 第1のノード(45)を選択的に保持線(22)から分離するよ
    うに接続された素子(44)を含み、前記目標保持電圧に関
    連した第1電圧を第1のノード(45)に発生するための第
    1回路と、 前記第1のノード(45)に接続され、前記第1電圧を蓄積
    するための記憶手段(52)と、 この記憶手段に接続されかつこの記憶手段に応答して前
    記目標保持電圧を発生するための第2回路と、 を備えていることを特徴とする集積回路メモリ用の保持
    電圧回路。
  4. 【請求項4】プリチャージの間、集積回路メモリのビッ
    ト線を目標保持電圧にクランプする方法であって、 前記目標保持電圧からオフセットされたオフセット電圧
    を発生し、 前記オフセット電圧をキャパシタに蓄積し、 前記キャパシタをビット線から選択的に分離し、 前記キャパシタに蓄積された電圧に応じて駆動手段を動
    作させることによって、前記目標保持電圧を得て、 プリチャージの間、前記目標保持電圧をビット線に供給
    する、各ステップを含んでいることを特徴とする方法。
  5. 【請求項5】メモリアレイ内に複数のビット線(10,11)
    を有し、該ビット線の各々に沿ってメモリセル(15)を配
    置しかつ前記ビット線に接続された一組のセンス増幅器
    (14)を有しており、前記ビット線が、前記複数のビット
    線(10,11) と保持線(22)との間に接続された平衡/プリ
    チャージ手段(16,18,20)を介して平衡化されかつプリチ
    ャージされ、前記平衡/プリチャージ手段は、平衡/プ
    リチャージ用トランジスタを含み、前記保持線が保持電
    圧回路(40)に接続されて、プリチャージ期間を含む一連
    の期間が繰り返されるように構成された集積回路メモリ
    において、保持線(22)に目標保持電圧を供給するための
    保持電圧回路(40)が、 前記目標保持電圧に関連した第1電圧を第1のノード(4
    5)に発生するための第1回路と、前記第1のノード(45)
    に接続され前記第1電圧を蓄積するための記憶手段(52)
    と、この記憶手段に応答するように接続され、かつ前記
    平衡/プリチャージ用トランジスタよりも大型の駆動ト
    ランジスタ(50)を含み、前記目標保持電圧を発生するた
    めの第2回路とを備えており、 前記第1回路が、動作電圧源を保持線(22)に選択的に接
    続する、導電率の制御可能な径路を有する第1,第2,
    第3トランジスタ(46,44,48)と、プリチャージ期間に関
    連したタイミング信号を与えるタイミング回路とを含
    み、 前記第1,第2,第3トランジスタ(46,44,48)の少なく
    とも1つが、前記タイミング信号に応答するように接続
    されており、前記第1のノード(45)は、前記3つのトラ
    ンジスタの少なくとも1つに関連し、前記記憶手段(52)
    及び前記駆動トランジスタに接続され、前記第2トラン
    ジスタ(44)は、選択的に前記第1のノード(45)を前記保
    持線(22)から分離するように接続されていることを特徴
    とする集積回路メモリの保持電圧回路。
  6. 【請求項6】複数のメモリセルがビット線に接続されて
    いる集積回路メモリにおいて、ビット線を目標保持電圧
    にプリチャージする方法であって、 前記目標保持電圧に関連した第1電圧を第1のノード(4
    5)に発生し、この第1のノードから記憶手段(52)に前記
    第1電圧を供給して、この第1電圧を前記記憶手段(52)
    に蓄積し、 アクティブな半導体素子の動作をこの第1電圧で制御す
    ることによって、前記目標保持電圧に等しい電圧を与
    え、 前記アクティブな半導体素子からの前記目標保持電圧
    を、前記集積回路メモリ内のメモリセルの外部にある径
    路を介して前記ビット線に加える、各ステップを有し、 前記第1ノード(45)に第1電圧を発生するステップは、
    さらに、蓄積された電圧を維持するために次のステップ
    において、前記第1のノード(45)を前記記憶手段以外の
    回路から分離することを含んでいることを特徴とする方
    法。
  7. 【請求項7】集積回路メモリにおいて、目標保持電圧を
    保持線(22)に発生するための電圧供給回路であって、 1つの論理回路(42)とこの論理回路に応答するように接
    続された第1トランジスタ(46)を有し、前記目標保持電
    圧に関連した第1電圧を第1のノード(45)に発生するた
    めの第1回路と、 前記第1のノード(45)に接続され、前記第1電圧を蓄積
    するための記憶手段(52)と、 前記目標保持電圧を発生するために、前記記憶手段(52)
    に応答するように接続された駆動手段(50)とを備えてい
    ることを特徴とする電圧供給回路。
  8. 【請求項8】集積回路メモリにおいて、目標保持電圧を
    保持線(22)に発生するための電圧供給回路であって、 第1のノード(45)を選択的に保持線(22)から分離するよ
    うに接続された素子(44)を含み、前記目標保持電圧に関
    連した第1電圧を前記第1のノード(45)に発生するため
    の第1回路と、 前記第1のノード(45)に接続され、前記第1電圧を蓄積
    するための記憶手段(52)と、 前記目標保持電圧を発生するために、前記記憶手段(52)
    に応答するように接続された駆動手段(50)とを備えてい
    ることを特徴とする電圧供給回路。
  9. 【請求項9】複数のビット線を有する集積回路メモリに
    おいて、目標保持電圧を保持線(22)に発生するための電
    圧供給回路であって、 前記目標保持電圧に関連した第1電圧を第1のノード(4
    5)に発生するための第1回路と、前記第1のノード(45)
    に接続され、前記第1電圧を蓄積するための記憶手段(5
    2)と、前記目標保持電圧を発生するために、前記記憶手
    段(52)に応答するように接続されかつ前記ビット線の一
    部が短絡しても有効に作動できる駆動トランジスタ(50)
    とを備え、 前記第1回路が、動作電圧源を保持線に選択的に接続す
    る、導電率の制御可能な径路を有する第1,第2,第3
    トランジスタ(46,44,48)と、プリチャージ期間に関連し
    たタイミング信号を与えるタイミング回路とを含み、 前記第1,第2,第3トランジスタ(46,44,48)の少なく
    とも1つが、前記タイミング信号に応答するように接続
    されており、前記第1のノード(45)は、前記3つのトラ
    ンジスタの少なくとも1つに関連しかつ前記記憶手段(5
    2)及び前記駆動トランジスタ(50)に接続され、前記第2
    トランジスタ(44)は、前記第1のノード(45)を前記保持
    線(22)から選択的に分離するように接続されていること
    を特徴とする電圧供給回路。
  10. 【請求項10】プリチャージ期間と保持電圧を受け取る
    ための保持線とを有するRAM用の電圧供給回路であっ
    て、 前記RAMのプリチャージ期間の一部分の間に信号を供
    給するように接続された信号供給回路と、 第1トランジスタ(46)が動作電圧源に接続された導電率
    の制御可能なソース・ドレイン径路を有し、第1,第2
    トランジスタ(46,44) が前記信号供給回路に応答するよ
    うに接続された制御電極を有し、これにより、前記第
    1,第2トランジスタを介して前記保持線(22)に電圧が
    供給され、第1のノード(45)に発生する第1電圧が、目
    標保持電圧からずれるようにした、前記第1のノードに
    共に接続されている第1,第2トランジスタ(46,44)
    と、 前記第1のノード(45)に接続した制御電極と、導電率の
    制御可能な径路とを有し、動作電圧を受けるように接続
    され、前記第1電圧がその制御電極に加えられた時、保
    持電圧を前記保持線(22)に与えるように構成された駆動
    トランジスタ(50)と、 前記第1のノード(45)に接続された蓄積キャパシタとを
    備え、 前記第1トランジスタ(46)は、電界効果トランジスタか
    らなり、ソース・ドレイン径路が動作電圧を受けるノー
    ドと前記第1のノード(45)との間に接続され、かつゲー
    ト電極が前記信号供給回路(42)の出力に接続されてお
    り、 前記第2トランジスタ(44)は、電界効果トランジスタか
    らなり、ゲート電極が前記信号供給回路(42)の出力に接
    続され、かつソース・ドレイン径路が前記第1,第2の
    ノード(45,47) 間に接続されており、 前記駆動トランジスタ(50)は、電界効果トランジスタか
    らなり、ゲート電極が前記第1のノード(45)に接続さ
    れ、かつソース・ドレイン径路の一端が前記動作電圧を
    受けるように接続され、他端が前記保持線(22)に接続さ
    れており、 前記キャパシタ(52)の一方のプレートは、前記第1のノ
    ード(45)に接続され、 前記第1,第2トランジスタは、前記第1のノード(45)
    に発生する第1電圧が前記目標保持電圧から1スレッシ
    ョルド電圧だけずれるように、前記保持線(22)に接続さ
    れていることを特徴とするRAM用の電圧供給回路。
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