JP3141160B2

JP3141160B2 - 感光体

Info

Publication number: JP3141160B2
Application number: JP03038693A
Authority: JP
Inventors: 栄一坂井; 嘉彦江藤; 浩一工藤; 良明武居
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1991-03-05
Filing date: 1991-03-05
Publication date: 2001-03-05
Anticipated expiration: 2016-03-05
Also published as: JPH04276761A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関す
る。特に負帯電型感光体に関する。

【０００２】

【発明の背景】電子写真法が開発されてから、感光体に
用いられる光導電性物質は無機から有機の光導電性物質
（ＰＣＭ）を用いた有機感光体（ＯＰＣ）へ検討範囲が
拡げられ、更にキャリア発生、キャリア輸送の光導電性
機能は夫々キャリア発生物質（ＣＧＭ）、キャリア輸送
物質（ＣＴＭ）に機能分離され、光導電層（感光層；Ｐ
ＣＬ）の層構成についてもキャリア挙動解析から改良が
加えられ、更に層形成に用いられるバインダ樹脂につい
てもその改良或は開拓研究が盛んに行われている。

【０００３】かつこれらの技術改善に伴いプレンペーパ
が転写材として使用可能になってからは電子写真複写法
は頓に一般化、大量使用に向い、性能の向上、耐用性、
ランニングコストの改善、特に使用中の環境衛生等の総
合的面からの配慮が求められるようになって来ている。

【０００４】このような情勢に乗って前記ＰＣＭに用い
るＣＧＭとして各種の有機物質が開発されて来ている
が、感光体に一層高感度、高耐久性、高画質を併せもつ
ものが求められている。しかし感度と耐久性、画質を良
くすることはそれぞれ相反する場合が多くいまだ満足す
べきものが得られていない。

【０００５】今までに感光体に用いるＣＧＭとして各種
のアゾ系顔料が開示されている。これらは比較的高感度
であるが帯電特性、特に帯電の立上り特性が繰返し使用
によって劣化し電位が低下しやすいという欠点がある。
また光、オゾン及び温湿度の変化等に対してアゾ系顔料
は影響を受けやすく安定した特性を得にくい。特に負帯
電の場合帯電極からのオゾン発生量が正帯電の７倍程度
多く、耐オゾン性が重要である。

【０００６】またＣＧＭとして多環キノン系の化合物を
用いることが開示されている。この物質はオゾンに対し
て比較的安定ではあるが、感度の面で不充分である。

【０００７】一方、ペリレン系の化合物をＣＧＭとして
用いうることが特公昭61-8423号、特開昭59-59686号、
同63-180955号、同63-180956号及び同63-291061号に開
示されている。この化合物は高感度でしかも化学的に安
定であるという特徴がある。しかしながら塗工液の分散
安定性を得ることがむずかしく、このため高画質を得る
ことができなかった。また積層構成の負帯電型感光体に
用いた場合ＣＧＭとしては化学的に安定でも組合せる電
荷輸送層の耐久性が不十分であると、該ペリレン系化合
物の安定性を生かすことができなかった。

【０００８】

【発明の目的】本発明の目的は；（１）長波長領域にまで分光高感度を有し、高画質で、
（２）反復使用で帯電電位の低下、白紙電位の上昇を起
さず、（３）化学的にＯ₃，ＮＯ_X或は紫外線に対し耐久
性があり、（４）反復使用で機械的膜厚減耗、疵の発生
の少い負帯電型感光体の提供にある。

【０００９】

【発明の構成】前記した本発明の目的は；電荷発生層
（ＣＧＬ）上に電荷輸送層（ＣＴＬ）を積層した感光体
において、ＣＧＬに下記一般式（ＢＩＰ−１）又は（Ｂ
ＩＰ−２）で示されるペリレン誘導体及びブチラール樹
脂、シリコーン樹脂の少なくとも１種の樹脂を含有し、
かつ、ＣＴＬには下記一般式（ＢＰＡ−２）、（ＢＰＺ
−１）、（ＢＰＺ−２）で示される化合物の重合体、若
しくはこれらの重合体の混合物、又は前記一般式で示さ
れる化合物の共重合体の少なくとも１つを含有すること
を特徴とする負帯電型感光体によって達成される。

【００１０】本発明に係るペリレン誘導体としては下記
一般式（ＢＩＰ−１）又は（ＢＩＰ−２）で表される化
合物が用いられる。

【００１１】

【化２】

【００１２】但し、式中Ｚは置換若しくは無置換の芳香
環を形成するに必要な原子群を表す。

【００１３】Ｚの好ましいものとしては、ベンゼン環、
ナフタレン環、アンスラセン環、フェナンスレン環、ピ
リジン環、ピリミジン環、ピラゾール環、アントラキノ
ン環が挙げられ、特に好ましいものはベンゼン環、ナフ
タレン環である。

【００１４】Ｚの置換基としては、アルキル、アルコキ
シ、アリール、アリールオキシ、アシル、アシロキシ、
アミノ、カルバモイル、ハロゲン、ニトロ、シアノなど
を挙げることができる。

【００１５】これらの誘導体は、Ｃu−Ｋα線に対する
Ｘ線回折スペクトルにおいてブラッグ角２θの6.3゜±0.
2゜、12.5゜±0.2゜、25.4゜±0.2゜、27.0゜±0.2゜にピーク
を有するものが好ましい。

【００１６】前記ペリレン誘導体（ＢＩＰ）の具体的化
合物Ａ−１〜21のＺを示す。

【００１７】

【化３】

【００１８】

【化４】

【００１９】一般式（ＢＩＰ−１）もしくは（ＢＩＰ−
２）で表される化合物は、反応式（１）にしたがって、
容易に合成することができる。

【００２０】

【化５】

【００２１】更に本発明の態様のＣＧＬのバインダ樹脂
のブチラール樹脂は下記一般式（ＰＶＢ）で表されるポ
リビニルブチラールであることが好ましい。

【００２２】

【化６】

【００２３】式中、Ｒは水素原子、メチル基、エチル基
を表す。またａ、ｂ、ｓ及びｈは重合度を表す。

【００２４】一般にポリビニルブチラールは、その組成
によって物理的及び化学的性質が変化し、またその重合
度によって機械的性質、溶液粘性が変動する。

【００２５】本発明に係るＣＧＬのバインダに用いるポ
リビニルブチラールは、ポリ酢酸ビニル樹脂を鹸化し、
酢酸ビニル部分（一般式（ＰＶＢ）において重合度指数
ｓを付した構造単位）を残すポリビニルアルコール樹脂
を製造し、重合度指数ｈを付したビニルアルコール構造
単位を残す条件を選んで、ホルムアルデヒド、アセトア
ルデヒド、プロピルアルデヒドの少なくとも１つで重合
度指数ａを付したアセタール化構造単位及びブチルアル
デヒドを用いて重合度指数ｂを付したブチラール化構造
単位を形成した共重合体樹脂であって、ブチラール化度
は50モル％以上が好ましく、又、（ａ＋ｂ）は50モル％
以上が好ましい。且つ重合度として1000以上が必要であ
る。尚上限としては10000以下、好ましくは5000以下で
ある。

【００２６】本発明に係るシリコーン樹脂は下記一般式
（ＳＩ）で表される構造単位からなるオルガノポリシロ
キサンである。

【００２７】

【化７】

【００２８】前記シリコーン樹脂には長鎖構造及び複雑
な架橋構造のものがあるが、原料の生産技術の面から
は、一般式（ＳＩ）中のＲはメチル基、フェニル基が好
ましい。

【００２９】更に上記構造単位だけの単純なストレート
シリコーン樹脂の他に、他の構造単位と共重合させた変
性シリコーン樹脂が使用可能であり、本来のシリコーン
の特性を維持しながら新しい特性を兼備した機能性ポリ
マーとして適用することができる。

【００３０】ストレートシリコーン、変性シリコーン樹
脂共既に多くの市販品があり、相当自由な選択の幅があ
る。

【００３１】本発明のＣＴＬに用いるポリカーボネート
としては一般式（ＢＰＺ−１）で示されるＢＰＺ型のポ
リカーボネート、一般式（ＢＰＺ−２）で示されるｄｉ
Ｍｅ−ＢＰＡ型のポリカーボネート、一般式（ＢＰＡ−
２）で示されるｄｉＭｅ−ＢＰＺ型のポリカーボネート
またはこれらの混合または共重合体を用いる。

【００３２】

【化８】

【００３３】本発明においては、前記ＢＩＰを用いるこ
とにより分光感度の絶対値が高くかつ分光感度が長波長
域に伸びているため高い感度が得られる。

【００３４】またＢＩＰとブチラール、シリコーンを用
いることによりＣＧＬが化学的にも電気的にも安定とな
る。

【００３５】またＣＴＬにＢＰＺ、diMe−BPZ、diMe−B
PAを用いることで機械的強度が大きくなり、疵や減耗の
少ない感光体となる。さらにこれらのバインダは従来か
ら用いられているＢＰＡと比較してオゾン透過率が小さ
いためＣＴＭのオゾン劣化も少なくなり化学的に安定と
する。

【００３６】以上の相乗効果により機械的にも化学的に
も電気的にも高耐久な感光体が得られる。

【００３７】更にＢＩＰとブチラール、シリコーンとの
組合せによりＣＧＭが均一に細かく分散され画像むらが
なく、解像力の良い画像が得られる。またＣＧＬ塗工液
の分散安定性が良好なため液寿命が長くなり安定した品
質のものが生産可能となる。本発明において使用可能な
ＣＴＭとしては、特に制限はないが、例えばオキサゾー
ル誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導
体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミ
ダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン
誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、
ヒドラジン化合物、ピラゾリン化合物、アミン誘導体、
オキサゾロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズ
イミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン
誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノ
スチルベン誘導体、ポリ-N-ビニルカルバゾール、ポリ-
1-ビニルピレン、ポリ-9-ビニルアントラセン等であ
る。本発明において用いられるＣＴＭとしては光照射時
発生するホールの支持体側への輸送能力が優れている
他、前記本発明のＢＩＰとの組合せに好適なものが用い
られる。

【００３８】本発明の負帯電型感光体は、例えば第１〜
４図に示すように支持体１（導電性支持体またはシート
上に導電層を設けたもの）上に、ＣＧＬ２を下層とし、
ＣＴＬ３を上層とする積層構成のＰＣＬを設ける。

【００３９】尚、積層構成では入射光量の大部分がＣＧ
Ｌで吸収されて多くの電荷発生キャリアを生成すると共
に発生した電荷キャリアを再結合や捕獲（トラップ）に
より失活することなくＣＴＬに注入するために光キャリ
アを生成するのに十分な膜厚の範囲でできる限り薄膜層
とすることが好ましい。

【００４０】又ＣＴＬは前述のＣＧＬと電気的に接合さ
れており、電界の存在下でＣＧＬから注入された電荷キ
ャリアを表面まで輸送できる機能を有している。

【００４１】またＰＣＬの上に保護層を設けても良く、
さらに支持体とＰＣＬの間にバリア機能と接着性を持つ
下引層（中間層）を設けても良い。

【００４２】本発明の積層機能分離型のＣＧＬには必要
に応じてＣＴＭを添加してもよい。積層機能分離型のＣ
ＧＬの膜厚は0.05〜５μmとするのが好ましい。またＣ
ＴＬの膜厚は10〜60μmとするのが好ましい。

【００４３】表面保護層の膜厚は0.1〜７μm、中間層の
膜厚は0.05〜10μmとするのが好ましい。

【００４４】本発明感光体の層構成の例を第１〜４図に
示している。図において、１は支持体、２はＣＧＬ、３
はＣＴＬである。５は保護層であり、４はバリア機能、
接着性向上のための中間層である。

【００４５】保護層、中間層に使用可能なバインダ樹脂
としては、例えばポリスチレン、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル
樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリ
エステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹
脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合型樹
脂、重付加型樹脂、重縮合型他樹脂、並びにこれらの樹
脂の繰返し単位のうちの２つ以上を含む共重合体樹脂、
例えば塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合
体樹脂等の絶縁性樹脂の他、ポリ-N-ビニルカルバゾー
ル等の高分子有機半導体が挙げられる。

【００４６】又、本発明のＰＣＬにおいては、オゾン劣
化防止の目的で酸化防止剤を添加することができる。

【００４７】かかる酸化防止剤の代表的具体例を以下に
示すが、これに限定されるものではない。

【００４８】（１）群：ヒンダードフェノール類ジブチルヒドロキシトルエン、2,2′-メチレンビス（6-
t-ブチル-4-メチルフェノール）、4,4′-ブチリデンビ
ス（6-t-ブチル-3-メチルフェノール）、4,4′-チオビ
ス（6-t-ブチル-3-メチルフェノール）、2,2′-ブチリ
デンビス（6-t-ブチル-4-メチルフェノール）、α-トコ
フェノール、β-トコフェノール、2,2,4-トリメチル-6-
ヒドロキシ-7-t-ブチルクロマン、ペンタエリスチルテ
トラキス［3-（3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート］、1,6-ヘキサンジオ-ルビス［3-
（3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル）プロピオネ
ート］、ブチルヒドロキシアニソール、ジブチルヒドロ
キシアニソール、1-［2-｛（3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒ
ドロキシフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］-4-
［3-（3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル）プロピ
オニルオキシ］-2,2,6,6-テトラメチルピペリジルな
ど。

【００４９】（２）群：パラフェニレンジアミン類 N-フェニル-N′-イソプロピル-p-フェニレンジアミン、
N,N′-ジ-sec-ブチル-p-フェニレンジアミン、N-フェニ
ル-N-sec-ブチル-p-フェニレンジアミン、N,N′-ジメチ
ル-N,N′-ジ-t-ブチル-p-フェニレンジアミンなど。

【００５０】（３）群：ハイドロキノン類 2,5-ジ-t-オクチルハイドロキノン、2,6-ジドデシルハ
イドロキノン、2-ドデシルハイドロキノン、2-ドデシル
-5-クロルハイドロキノン、2-t-オクチル-5-メチルハイ
ドロキノン、2-（2-オクタデセニル）-5-メチルハイド
ロキノンなど。

【００５１】（４）群：有機燐化合物類ジラウリル-3,3′-チオジプロピオネート、ジステアリ
ル-3-3′-チオジプロピオネート、ジテトラデシル-3,
3′-チオジプロピオネートなど。

【００５２】これらの化合物はゴム、プラスチック、油
脂類等の酸化防止剤として知られており、市販品を容易
に入手できる。

【００５３】これらの酸化防止剤はＣＧＬ、ＣＴＬ、又
は保護層のいずれに添加されてもよい。その場合の酸化
防止剤の添加量はＣＴＭ100重量に対して0.1〜100％重
量、好ましくは１〜50％重量、特に好ましくは５〜25％
重量である。

【００５４】次に前記ＰＣＬを支持する導電性支持体と
しては、アルミニウム、ニッケルなどの金属板、金属ド
ラム又は金属箔をラミネートした、或はアルミニウム、
酸化錫、酸化インジュウムなどを蒸着したプラスチック
フィルムあるいは導電性物質を塗布した紙、プラスチッ
クなどのフィルム又はドラムを使用することができる。

【００５５】本発明において、ＰＣＬは前述のＣＧＭ、
ＣＴＭそれぞれを適当な分散媒又は溶媒に少なくとも本
発明に係るバインダを含有したバインダ樹脂と共に分散
せしめた分散液を例えばディップ塗布、スプレイ塗布、
ブレード塗布、ロール塗布等によって支持体若しくは下
引層又はＣＴＬ、ＣＧＬ上に塗布して乾燥させる方法に
より設けることができる。

【００５６】尚本発明のペリレン誘導体は、例えばボー
ルミル、サンドミル等を用いて適当な粒径の微細粒子に
粉砕したのち、分散媒中に分散することができる。分散
処理には、ボールミル、ホモミキサ、サンドミル、超音
波分散機、アトライタ等が用いられる。

【００５７】本発明に用いられる分散媒としては、例え
ばヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水
素類；メチレンクロライド、メチレンブロマイド、1,2-
ジクロルエタン、sym-テトラクロルエタン、cis-1,2-ジ
クロルエタン、1,1,2-トリクロルエタン、1,2-ジクロプ
ロパン、クロロホルム、ブロモホルム、クロルベンゼン
等のハロゲン化炭化水素；アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸
ブチル等のエステル類：メタノール、エタノール、プロ
パノール、ブタノール、シクロヘキサノール、ヘプタノ
ール、エチレングリコール、メチルセルソルブ、エチル
セルソルブ、酢酸セルソルブ等のアルコール類及びこの
誘導体；テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、フラ
ン、フルフラール類のエーテル、アセタール類；ピリジ
ンやブチルアミン、ジエチルアミン、エチレンジアミ
ン、イソプロパノールアミン等のアミン類；N,N-ジメチ
ルホルムアミド等のアミド類等の窒素化合物、その他脂
肪酸及びフェノール類、二硫化炭素や燐酸トリエチル等
の硫黄、燐化合物等の１種又は２種以上を用いることが
できる。

【００５８】本発明においてＣＧＬには感度の向上、残
留電位乃至反復使用時の疲労低減等を目的として、一種
又は二種以上の電子受容性物質を含有せしめることがで
きる。

【００５９】ここに用いることのできる電子受容性物質
としては、例えば、無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブ
ロム無水、マレイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無
水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、3-ニトロ無水
フタル酸、4-ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット
酸、無水メリット酸、テトラシアノウチレン、テトラシ
アノキノジメタン、o-ジニトロベンゼン、m-ジニトロベ
ンゼン、1,3,5-トリニトロベンゼン、パラニトロベンゼ
ン、ピクリルクライド、キノンクロルイミド、クロラリ
ル、ブルマニル、ジクロルジシアノパラベンゾノン、ア
ントラキノン、ジニトロアノトラキノン、2,7-ジニトロ
フルオレノン、2,4,7-トリニトロフルオレノン、9-フル
オレニリデン［ジシアノメチレンマロノジニトリル］、
ポリニトロ-9-フルオレニデン-［ジシアノメチレンマロ
ノジニトリル］、ピクリン酸、0-ニトロ安息香酸、p-ニ
トロ安息香酸、3,5-ジニトロ安息香酸、ペンタフルオロ
安息香酸、5-ニトロサリチル酸、3,5-ジニトロサリチル
酸、フタル酸、メリット酸、その他の電子親和力の大き
い化合物を挙げることができる。また、電子受容性物質
の添加割合は、重量比で本発明のペリレン誘導体：電子
受容性物質＝100：0.01〜200、好ましくは100：0.1〜10
0である。

【００６０】この電子受容性物質はＣＴＬに添加しても
よい。かかる層への電子受容物質の添加割合は重量比で
全ＣＴＭ：電子受容物質＝100：0.01〜100、好ましくは
100：0.1〜50である。

【００６１】また本発明の感光体には、その他、必要に
よりＰＣＬを保護する目的で紫外線吸収剤、また感色性
補正の染料を含有してもよい。

【００６２】本発明のペリレン誘導体を含有する電子写
真感光体は可視光線、近赤外線の光線に良好に感応する
ことができ、約400〜700μmの波長域に好ましい吸収極
大を有している。

【００６３】このような波長に適応する光源としてはハ
ロゲンランプ、蛍光灯、タングステンランプ等が一般的
に用いられる。

【００６４】

【実施例】実施例１基体として直径80mmのAlドラムを用いた。

【００６５】ＣＧＭとして例示ＢＩＰ（Ａ−１）２重量
部にバインダとしてポリビニルブチラール樹脂エスレッ
クＢＸ−１（積水化学製）１重量部を2-ブタノン100重
量部に加え、サンドグラインダにて20時間の分散を行っ
てＣＧＬ塗工液を得た。この液をAl基体上に浸漬塗布し
て厚さ0.5μmのＣＧＬを形成した。

【００６６】ＣＴＭとして下記の構造式をもつスチルベ
ン系

【００６７】

【化９】

【００６８】化合物Ｃ−１；15重量部とバインダとして
一般式（ＢＰＺ−１）構造を持つＢＰＺ型ポリカーボネ
ート樹脂；ユーピロンＺ−200（三菱瓦斬化学製）20重
量部を1,2-ジクロルエタン100重量部に溶解してＣＴＬ
塗工液を得た。この塗工液をＣＧＬ上に浸漬塗布して10
0℃で30分間の乾燥を行い厚さ20μmの負帯電型電子写真
感光体を得た。

【００６９】実施例２〜８実施例１でＣＧＭ、バインダの組合せを第１表のように
変えた以外は実施例１と同様にして本発明の電子写真感
光体を得た。

【００７０】なお、実施例５、６、７及び８で用いたＣ
ＧＬのバインダ樹脂はシリコーン樹脂KR-5240（信越化
学製）である。

【００７１】比較例（１）〜（５）下記比較ＣＧＭとバインダの組合せを第１表のように変
えた以外は実施例１と同様にして比較例の感光体を得
た。なお、比較例（４）のＣＧＭバインダ、比較例
（５）のＣＴＬバインダはアクリル樹脂BR-80（三菱レ
イヨン製）である。

【００７２】

【化１０】

【００７３】以上のようにして得られた感光体をコニカ
製複写機U-Bix2025に装着し10万コピーの実写テストを
行った。感光体の特性変化と画質の変化を第２表に示
す。

【００７４】

【表１】

【００７５】

【表２】

【００７６】第２表から明らかなように本発明の実施例
の試料は帯電能、感度、画質及び膜厚減耗において、初
期及び反復使用において良好な実用性を保持するが、比
較例においては、前記評価性能の殆どに実用性に問題を
抱えている。

【００７７】

【発明の効果】本発明の如く、本発明で選定するペリレ
ン誘導体を少なくともブチラールもしくはシリコーン樹
脂を含有するバインダに分散させたＣＧＬに本発明で選
定するポリカーボネートを含有するバインダを用いたＣ
ＴＬを積層することにより、電子写真特性及び物性にお
いて初期、反復使用時良好な性能を示す負帯電型感光体
がえられる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１〜４図は本発明の態様を有する感光体例の
断面図である。

【符号の説明】

１…支持体２…キャリア発生層３…キャリア輸送層４…中間層５…保護層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き合議体審判長高梨操審判官鐘尾みや子審判官六車江一 (56)参考文献特開昭63−180956（ＪＰ，Ａ) 特開平３−24059（ＪＰ，Ａ) 特開平２−254464（ＪＰ，Ａ) 特開昭62−242951（ＪＰ，Ａ) 特開平２−256057（ＪＰ，Ａ) 特開平５−6014（ＪＰ，Ａ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】電荷発生層上に電荷輸送層を積層した感
光体において、前記電荷発生層に下記一般式（ＢＩＰ−
１）又は（ＢＩＰ−２）で示されるペリレン誘導体及び
ブチラール樹脂、シリコーン樹脂の少なくとも１種の樹
脂を含有し、かつ、前記電荷輸送層に下記一般式（ＢＰ
Ａ−２）、（ＢＰＺ−１）、（ＢＰＺ−２）で示される
化合物の重合体、若しくはこれらの重合体の混合物、又
は前記一般式で示される化合物の共重合体の少なくとも
１つを含有することを特徴とする負帯電型感光体。【化１】（式中のＺは置換若しくは無置換の芳香環を形成するに
必要な原子群を表す。ｎは正の整数を表す。）