JP3143530B2 - シクロプロペノンケタール誘導体 - Google Patents
シクロプロペノンケタール誘導体Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規なシクロプロペノン
ケタール誘導体に関し、詳細にはカルパイン、パパイ
ン、カテプシンB、カテプシンH、カテプシンLなどの
チオールプロテアーゼに対して強い阻害活性を示すシク
ロプロペノン誘導体の製造中間体として有用な、新規な
シクロプロペノンケタール誘導体に関する。
ケタール誘導体に関し、詳細にはカルパイン、パパイ
ン、カテプシンB、カテプシンH、カテプシンLなどの
チオールプロテアーゼに対して強い阻害活性を示すシク
ロプロペノン誘導体の製造中間体として有用な、新規な
シクロプロペノンケタール誘導体に関する。
【0002】
【従来の技術】カルパイン、パパイン、カテプシンB、
カテプシンH、カテプシンLなどが属するチオールプロ
テアーゼの生体内での働きが解明されていくに従い、そ
の異常亢進が種々の疾病の原因であることが判明してき
ており、チオールプロテアーゼ阻害剤がそれらの疾病の
治療薬として使われるようになってきている。例えば、
カルパインの阻害剤は、筋ジストロフィー、白内障、心
筋梗塞、脳梗塞後の遅発性神経細胞死などの動物モデル
に対して効果があり、またカテプシン類の阻害剤は、癌
の転移、筋萎縮症、骨粗鬆症などに効果があることが報
告されている。しかしながら、ペプチジルアルデヒド、
エポキシコハク酸誘導体などの既知のチオールプロテア
ーゼ阻害剤は、経口吸収性、組織移行性、細胞膜透過性
があまりよくないために、これらの問題点を改善した新
たなチオールプロテアーゼ阻害剤の開発が望まれてい
る。
カテプシンH、カテプシンLなどが属するチオールプロ
テアーゼの生体内での働きが解明されていくに従い、そ
の異常亢進が種々の疾病の原因であることが判明してき
ており、チオールプロテアーゼ阻害剤がそれらの疾病の
治療薬として使われるようになってきている。例えば、
カルパインの阻害剤は、筋ジストロフィー、白内障、心
筋梗塞、脳梗塞後の遅発性神経細胞死などの動物モデル
に対して効果があり、またカテプシン類の阻害剤は、癌
の転移、筋萎縮症、骨粗鬆症などに効果があることが報
告されている。しかしながら、ペプチジルアルデヒド、
エポキシコハク酸誘導体などの既知のチオールプロテア
ーゼ阻害剤は、経口吸収性、組織移行性、細胞膜透過性
があまりよくないために、これらの問題点を改善した新
たなチオールプロテアーゼ阻害剤の開発が望まれてい
る。
【0003】
【発明が開発しようとする課題】そこで、本発明者ら
は、経口吸収性、組織移行性、細胞膜透過性にすぐれた
チオールプロテアーゼ阻害剤の製造中間体の研究を行っ
た結果、本発明に到達した。
は、経口吸収性、組織移行性、細胞膜透過性にすぐれた
チオールプロテアーゼ阻害剤の製造中間体の研究を行っ
た結果、本発明に到達した。
【0004】
【問題点を解決するための手段】すなわち、本発明の要
旨は、下記一般式(I)
旨は、下記一般式(I)
【0005】
【化4】
【0006】(上記一般式中、R1 はアミノ基の保護基
を表わし、R2 ,R4 及びR6 はそれぞれ独立して水素
原子または炭素数1〜5のアルキル基を表わすか、ある
いはR 1 とR2 が一緒になってフタリル基を表わし、R
3 及びR5 はそれぞれ独立して水素原子または炭素数3
〜10のシクロアルキル基もしくは炭素数6〜10のア
リール基で置換されていてもよい炭素数1〜15のアル
キル基を表わすか、あるいはR5 とR6 が一緒になって
炭素数3〜10のシクロアルキル基を表わし、R 7 及び
R8 はそれぞれ独立してフェニル基で置換されていても
よい炭素数1〜5のアルキル基を表わすか、あるいはR
7 とR8 が一緒になって炭素数1〜5のアルキル基から
選ばれる1以上の置換基を有していてもよい炭素数2〜
6のアルキレン基を形成していてもよく、R9 は水素原
子、炭素数1〜15のアルキル基、炭素数3〜10のシ
クロアルキル基、炭素数2〜15のアルケニル基、置換
基を有していてもよい炭素数6〜10のアリール基、置
換基を有していてもよいヘテロ環基、または
を表わし、R2 ,R4 及びR6 はそれぞれ独立して水素
原子または炭素数1〜5のアルキル基を表わすか、ある
いはR 1 とR2 が一緒になってフタリル基を表わし、R
3 及びR5 はそれぞれ独立して水素原子または炭素数3
〜10のシクロアルキル基もしくは炭素数6〜10のア
リール基で置換されていてもよい炭素数1〜15のアル
キル基を表わすか、あるいはR5 とR6 が一緒になって
炭素数3〜10のシクロアルキル基を表わし、R 7 及び
R8 はそれぞれ独立してフェニル基で置換されていても
よい炭素数1〜5のアルキル基を表わすか、あるいはR
7 とR8 が一緒になって炭素数1〜5のアルキル基から
選ばれる1以上の置換基を有していてもよい炭素数2〜
6のアルキレン基を形成していてもよく、R9 は水素原
子、炭素数1〜15のアルキル基、炭素数3〜10のシ
クロアルキル基、炭素数2〜15のアルケニル基、置換
基を有していてもよい炭素数6〜10のアリール基、置
換基を有していてもよいヘテロ環基、または
【0007】
【化5】
【0008】(R10およびR11はそれぞれ独立して水素
原子、炭素数1〜15のアルキル基または炭素数6〜1
0のアリール基を表わすか、R10とR11が一緒になって
炭素数3〜10のシクロアルキル基を表わす。)を表わ
し、nは0または1を表わす。)で示されるシクロプロ
ペノンケタール誘導体に存する。
原子、炭素数1〜15のアルキル基または炭素数6〜1
0のアリール基を表わすか、R10とR11が一緒になって
炭素数3〜10のシクロアルキル基を表わす。)を表わ
し、nは0または1を表わす。)で示されるシクロプロ
ペノンケタール誘導体に存する。
【0009】以下、本発明につき詳細に説明する。上記
一般式(I)において、R1 で表わされるアミノ基の保
護基としては、tert−ブトキシカルボニル(Bo
c)基、ベンジルオキシカルボニル(Z)基、4−メト
キシベンジルオキシカルボニル(pMZ)基、4−クロ
ロベンジルオキシカルボニル基、3,5−ジメトキシベ
ンジルオキシカルボニル基、3,4,5−トリメトキシ
ベンジルオキシカルボニル基、9−フルオレニルメトキ
シカルボニル(Fmoc)基等のウレタン型保護基;ホ
ルミル基、トリフルオロアセチル(Tfa)基、p−ト
ルエンスルホニル(Tos)基、2,4,6−トリメチ
ルベンゼンスルホニル(Mts)基、ベンゾイル基、ク
ロロアセチル基等のアシル型保護基;ベンジル基、ジフ
ェニルメチル基、トリチル(Trt)基等のアルキル型
保護基等が挙げられる。R2 ,R4 ,およびR6 で表わ
される炭素数1〜5のアルキル基としては、それぞれ独
立してメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、te
rt−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペ
ンチル基等が挙げられ、あるいはR1 とR2 が一緒にな
ってフタリル(Pht)基を形成していてもよい。R3
およびR5 で表わされる炭素数1〜15のアルキル基と
しては、R2 ,R4 およびR6 で定義したものの他、そ
れぞれ独立してヘキシル基、イソヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、
ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデ
シル基等が挙げられ、かかるアルキル基はシクロプロピ
ル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロ
ノニル基、シクロデシル基等の炭素数3〜10のシクロ
アルキル基あるいはフェニル基、ナフチル基等の炭素数
6〜10のアリール基で置換されていてもよい。R5 と
R6 が一緒になって形成する炭素数3〜10のシクロア
ルキル基としては、上記で定義したものと同様の基が挙
げられる。R7 及びR8 で表わされる炭素数1〜5のア
ルキル基としては、R2 ,R4 及びR6 で定義したもの
と同様の基が挙げられ、かかるアルキル基はフェニル基
で置換されていてもよい。R7 とR8 が一緒になって形
成する炭素数2〜6のアルキレン基としては、エチレン
基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレ
ン基、ヘキサメチレン基が挙げられ、かかるアルキレン
基は、炭素数1〜5のアルキル基から選ばれる1以上の
アルキル基で置換されていてもよい。これらのアルキル
基は、R2 ,R4 およびR6 で定義したものと同様の基
が挙げられる。R9 で表わされる炭素数1〜15のアル
キル基および炭素数3〜10のシクロアルキル基として
は、R3 およびR5 で定義したものと同様の基が挙げら
れ、炭素数2〜15のアルケニル基としては、ビニル
基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、1−ペンテニ
ル基、1−ヘキセニル基、1−ヘプテニル基、1−オク
テニル基、1−ノネニル基、1−デセニル基、1−ウン
デセニル基、1−ドデセニル基、1−トリデセニル基、
1−テトラデセニル基、1−ペンタデセニル基、アリル
基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、2−ペンテニル
基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、2−ヘキセ
ニル基、3−ヘキセニル基、4−ヘキセニル基、5−ヘ
キセニル基等が挙げられ、炭素数6〜10のアリール基
としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、かかる
アリール基はフッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロ
ゲン原子;メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、
tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基等の炭素数1〜5のアルキル基;ヒドロキ
シル基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−
ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ
基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基等の
炭素数1〜5のアルコキシ基の中から選ばれる1以上の
置換基を有していてもよく、ヘテロ環基としては、フラ
ン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリジンオキシド
環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ベン
ゾフラン環、ベンゾチオフェン環、キノリン環、ナフチ
リジン環等の酸素原子、硫黄原子、窒素原子から選ばれ
るヘテロ原子を1〜4個有し、環を構成する総原子数が
5〜10のものが挙げられ、かかるヘテロ環基は、上記
アリール基で定義したのと同様の置換基及びトリメチル
シリル基、トリエチルシリル基、tert−ブチルジメ
チルシリル基等の炭素数3〜12のトリアルキルシリル
基の中から選ばれる1以上の置換基を有していてもよ
い。R10及びR11で表わされる炭素数1〜15のアルキ
ル基及び炭素数6〜10のアリール基としては、R3 お
よびR5 で定義したのと同様の基が挙げられ、R10とR
11が一緒になって表わされる炭素数3〜10のシクロア
ルキル基としては、R5 とR6 について定義したのと同
様の基が挙げられる。
一般式(I)において、R1 で表わされるアミノ基の保
護基としては、tert−ブトキシカルボニル(Bo
c)基、ベンジルオキシカルボニル(Z)基、4−メト
キシベンジルオキシカルボニル(pMZ)基、4−クロ
ロベンジルオキシカルボニル基、3,5−ジメトキシベ
ンジルオキシカルボニル基、3,4,5−トリメトキシ
ベンジルオキシカルボニル基、9−フルオレニルメトキ
シカルボニル(Fmoc)基等のウレタン型保護基;ホ
ルミル基、トリフルオロアセチル(Tfa)基、p−ト
ルエンスルホニル(Tos)基、2,4,6−トリメチ
ルベンゼンスルホニル(Mts)基、ベンゾイル基、ク
ロロアセチル基等のアシル型保護基;ベンジル基、ジフ
ェニルメチル基、トリチル(Trt)基等のアルキル型
保護基等が挙げられる。R2 ,R4 ,およびR6 で表わ
される炭素数1〜5のアルキル基としては、それぞれ独
立してメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、te
rt−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペ
ンチル基等が挙げられ、あるいはR1 とR2 が一緒にな
ってフタリル(Pht)基を形成していてもよい。R3
およびR5 で表わされる炭素数1〜15のアルキル基と
しては、R2 ,R4 およびR6 で定義したものの他、そ
れぞれ独立してヘキシル基、イソヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、
ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデ
シル基等が挙げられ、かかるアルキル基はシクロプロピ
ル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロ
ノニル基、シクロデシル基等の炭素数3〜10のシクロ
アルキル基あるいはフェニル基、ナフチル基等の炭素数
6〜10のアリール基で置換されていてもよい。R5 と
R6 が一緒になって形成する炭素数3〜10のシクロア
ルキル基としては、上記で定義したものと同様の基が挙
げられる。R7 及びR8 で表わされる炭素数1〜5のア
ルキル基としては、R2 ,R4 及びR6 で定義したもの
と同様の基が挙げられ、かかるアルキル基はフェニル基
で置換されていてもよい。R7 とR8 が一緒になって形
成する炭素数2〜6のアルキレン基としては、エチレン
基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレ
ン基、ヘキサメチレン基が挙げられ、かかるアルキレン
基は、炭素数1〜5のアルキル基から選ばれる1以上の
アルキル基で置換されていてもよい。これらのアルキル
基は、R2 ,R4 およびR6 で定義したものと同様の基
が挙げられる。R9 で表わされる炭素数1〜15のアル
キル基および炭素数3〜10のシクロアルキル基として
は、R3 およびR5 で定義したものと同様の基が挙げら
れ、炭素数2〜15のアルケニル基としては、ビニル
基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、1−ペンテニ
ル基、1−ヘキセニル基、1−ヘプテニル基、1−オク
テニル基、1−ノネニル基、1−デセニル基、1−ウン
デセニル基、1−ドデセニル基、1−トリデセニル基、
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基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、2−ペンテニル
基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、2−ヘキセ
ニル基、3−ヘキセニル基、4−ヘキセニル基、5−ヘ
キセニル基等が挙げられ、炭素数6〜10のアリール基
としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、かかる
アリール基はフッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロ
ゲン原子;メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、
tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基等の炭素数1〜5のアルキル基;ヒドロキ
シル基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−
ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ
基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基等の
炭素数1〜5のアルコキシ基の中から選ばれる1以上の
置換基を有していてもよく、ヘテロ環基としては、フラ
ン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリジンオキシド
環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ベン
ゾフラン環、ベンゾチオフェン環、キノリン環、ナフチ
リジン環等の酸素原子、硫黄原子、窒素原子から選ばれ
るヘテロ原子を1〜4個有し、環を構成する総原子数が
5〜10のものが挙げられ、かかるヘテロ環基は、上記
アリール基で定義したのと同様の置換基及びトリメチル
シリル基、トリエチルシリル基、tert−ブチルジメ
チルシリル基等の炭素数3〜12のトリアルキルシリル
基の中から選ばれる1以上の置換基を有していてもよ
い。R10及びR11で表わされる炭素数1〜15のアルキ
ル基及び炭素数6〜10のアリール基としては、R3 お
よびR5 で定義したのと同様の基が挙げられ、R10とR
11が一緒になって表わされる炭素数3〜10のシクロア
ルキル基としては、R5 とR6 について定義したのと同
様の基が挙げられる。
【0010】本発明の好ましい化合物は以下のとおりで
ある。R1 がtert−ブトキシカルボニル基、ベンジ
ルオキシカルボニル基、9−フルオレニルメトキシカル
ボニル基、p−トルエンスルホニル基、2,4,6−ト
リメチルベンゼンスルホニル基またはトリチル基を表わ
し、R2 ,R4 及びR6 がそれぞれ独立して水素原子ま
たは炭素数1〜3のアルキル基を表わすか、あるいはR
1 とR2 が一緒になってフタリル基を表わし、R3 及び
R5 がそれぞれ独立して水素原子または炭素数3〜8の
シクロアルキル基、フェニル基もしくはナフチル基で置
換されていてもよい炭素数1〜5のアルキル基を表わす
かあるいはR5 とR6 が一緒になって炭素数3〜6のシ
クロアルキル基を表わし、R7 及びR8 がそれぞれ独立
してフェニル基で置換されていてもよい炭素数1〜3の
アルキル基を表わすか、あるいはR7 とR8 が一緒にな
って炭素数1〜3のアルキル基から選ばれる1以上の置
換基を有していてもよい炭素数2〜4のアルキレン基を
表わし、R9 が水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、
炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数2〜8のアル
ケニル基;ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基お
よび炭素数1〜5のアルコキシ基から選ばれる1以上の
置換基を有していてもよいフェニル基もしくはナフチル
基;ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数
1〜5のアルコキシ基および炭素数3〜12のトリアル
キルシリル基から選ばれる1以上の置換基を有していて
もよい、酸素原子、硫黄原子、窒素原子から選ばれるヘ
テロ原子を1〜4個有し環を構成する総原子数が5〜1
0のヘテロ環基;または
ある。R1 がtert−ブトキシカルボニル基、ベンジ
ルオキシカルボニル基、9−フルオレニルメトキシカル
ボニル基、p−トルエンスルホニル基、2,4,6−ト
リメチルベンゼンスルホニル基またはトリチル基を表わ
し、R2 ,R4 及びR6 がそれぞれ独立して水素原子ま
たは炭素数1〜3のアルキル基を表わすか、あるいはR
1 とR2 が一緒になってフタリル基を表わし、R3 及び
R5 がそれぞれ独立して水素原子または炭素数3〜8の
シクロアルキル基、フェニル基もしくはナフチル基で置
換されていてもよい炭素数1〜5のアルキル基を表わす
かあるいはR5 とR6 が一緒になって炭素数3〜6のシ
クロアルキル基を表わし、R7 及びR8 がそれぞれ独立
してフェニル基で置換されていてもよい炭素数1〜3の
アルキル基を表わすか、あるいはR7 とR8 が一緒にな
って炭素数1〜3のアルキル基から選ばれる1以上の置
換基を有していてもよい炭素数2〜4のアルキレン基を
表わし、R9 が水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、
炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数2〜8のアル
ケニル基;ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基お
よび炭素数1〜5のアルコキシ基から選ばれる1以上の
置換基を有していてもよいフェニル基もしくはナフチル
基;ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数
1〜5のアルコキシ基および炭素数3〜12のトリアル
キルシリル基から選ばれる1以上の置換基を有していて
もよい、酸素原子、硫黄原子、窒素原子から選ばれるヘ
テロ原子を1〜4個有し環を構成する総原子数が5〜1
0のヘテロ環基;または
【0011】
【化6】
【0012】(R10及びR11はそれぞれ独立して水素原
子、炭素数1〜3のアルキル基及びフェニル基を表わ
す)を表わす。また、上記一般式(I)で示されるシク
ロプロペノン誘導体に存在する不斉炭素は、それぞれ独
立して(R)体、(S)体、または(RS)体をとるこ
とができる。上記一般式(I)で示されるシクロプロペ
ノン誘導体の具体的な例としては、n=0の場合には下
記表1に示す化合物が、n=1の場合には下記表2に示
す化合物が挙げられるが、これに限定されるわけではな
い。
子、炭素数1〜3のアルキル基及びフェニル基を表わ
す)を表わす。また、上記一般式(I)で示されるシク
ロプロペノン誘導体に存在する不斉炭素は、それぞれ独
立して(R)体、(S)体、または(RS)体をとるこ
とができる。上記一般式(I)で示されるシクロプロペ
ノン誘導体の具体的な例としては、n=0の場合には下
記表1に示す化合物が、n=1の場合には下記表2に示
す化合物が挙げられるが、これに限定されるわけではな
い。
【0013】
【表1】
【0014】
【表2】
【0015】
【表3】
【0016】
【表4】
【0017】
【表5】
【0018】
【表6】
【0019】
【表7】
【0020】
【表8】
【0021】
【表9】
【0022】
【表10】
【0023】
【表11】
【0024】
【表12】
【0025】
【表13】
【0026】
【表14】
【0027】
【表15】
【0028】
【表16】
【0029】
【表17】
【0030】
【表18】
【0031】
【表19】
【0032】
【表20】
【0033】
【表21】
【0034】
【表22】
【0035】
【表23】
【0036】
【表24】
【0037】
【表25】
【0038】
【表26】
【0039】
【表27】
【0040】
【表28】
【0041】
【表29】
【0042】
【表30】
【0043】
【表31】
【0044】
【表32】
【0045】
【表33】
【0046】
【表34】
【0047】
【表35】
【0048】次に本発明の化合物の製造法について説明
する。本発明のシクロプロペノンケタール誘導体は、例
えば次の様な方法で製造することができる。
する。本発明のシクロプロペノンケタール誘導体は、例
えば次の様な方法で製造することができる。
【0049】
【化7】
【0050】(上記一般式において、R1 ,R2 ,
R3 ,R4 ,R5 ,R6 、R7 ,R8 ,R 9 およびn
は、既に定義したとおりである。) 文献既知の方法(Tetrahedron Lette
rs,32巻,1339ページ、1991年)を利用し
て容易に合成できる上記一般式(II)で示されるシクロプ
ロペノンケタール誘導体をテトラヒドロフラン、ジエチ
ルエーテル等のエーテル系溶媒に溶かし、テトラメチル
エチレンジアミン、ヘキサメチルホスホリック トリア
ミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリドン等の助剤
の存在下、−40〜−100℃においてノルマルブチル
リチウム、メチルリチウム、リチウム ジイソプロピル
アミド等の強塩基を加えてリチオ体とし、次に上記一般
式(III) で示されるアルデヒド誘導体を加えることによ
り、上記一般式(I)で示されるシクロプロペノンケタ
ール誘導体を得ることができる。この反応において上記
で生成した化合物(II)のリチオ体に対して、さらに無水
塩化セリウムをテトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、ヘキサン等の溶媒に懸濁して加えてセリウム塩に変
換させてから上記一般式(III) で示されるアルデヒド誘
導体を反応させることもできる。上記一般式(I)で表
わされるシクロプロペノンケタール誘導体は、特許出願
に記載の方法(特願平4−146024号)により、カ
ルパイン、パパイン、カテプシンB、カテプシンH、カ
テプシンL等のチオールプロテアーゼに対して強い阻害
活性を示すシクロプロペノン誘導体(特願平4−146
024号)に導くことができる。
R3 ,R4 ,R5 ,R6 、R7 ,R8 ,R 9 およびn
は、既に定義したとおりである。) 文献既知の方法(Tetrahedron Lette
rs,32巻,1339ページ、1991年)を利用し
て容易に合成できる上記一般式(II)で示されるシクロプ
ロペノンケタール誘導体をテトラヒドロフラン、ジエチ
ルエーテル等のエーテル系溶媒に溶かし、テトラメチル
エチレンジアミン、ヘキサメチルホスホリック トリア
ミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリドン等の助剤
の存在下、−40〜−100℃においてノルマルブチル
リチウム、メチルリチウム、リチウム ジイソプロピル
アミド等の強塩基を加えてリチオ体とし、次に上記一般
式(III) で示されるアルデヒド誘導体を加えることによ
り、上記一般式(I)で示されるシクロプロペノンケタ
ール誘導体を得ることができる。この反応において上記
で生成した化合物(II)のリチオ体に対して、さらに無水
塩化セリウムをテトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、ヘキサン等の溶媒に懸濁して加えてセリウム塩に変
換させてから上記一般式(III) で示されるアルデヒド誘
導体を反応させることもできる。上記一般式(I)で表
わされるシクロプロペノンケタール誘導体は、特許出願
に記載の方法(特願平4−146024号)により、カ
ルパイン、パパイン、カテプシンB、カテプシンH、カ
テプシンL等のチオールプロテアーゼに対して強い阻害
活性を示すシクロプロペノン誘導体(特願平4−146
024号)に導くことができる。
【0051】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説
明するが、本発明はその要旨を越えない限り、これらの
参考例および実施例に何ら制限を受けるものではない。
明するが、本発明はその要旨を越えない限り、これらの
参考例および実施例に何ら制限を受けるものではない。
【0052】実施例1 2−((2S)−2−tert
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−3−メ
チルブチル)−3−フェニルシクロプロペノン 2,2
−ジメチル−1,3−プロパンジイルケタール(表1の
化合物番号65)の製造 2−フェニルシクロプロペノン 2,2−ジメチル−
1,3−プロパンジイルケタール3.51gをテトラヒ
ドロフラン30mlに溶かし、N,N,N′,N′−テ
トラメチルエチレンジアミン3.8gを加える。反応液
を−78℃に冷却し、1.55mol/lのn−ブチル
リチウムのヘキサン溶液10.5mlを加え、20分間
撹拌する。次に塩化セリウム7水和物8.0gを1mm
Hgの減圧下140℃で2時間乾燥することにより調製
した無水塩化セリウムをテトラヒドロフラン30mlに
懸濁させて加えてさらに20分間撹拌した後、N−te
rt−ブトキシカルボニル−L−バリナール1.82g
をテトラヒドロフラン20mlに溶かして加える。−7
8℃で2時間撹拌後、水1mlをテトラヒドロフラン5
mlに溶かして反応液に加え、室温まで温度を上げてか
らセライトで濾過し、セライトを酢酸エチルでよく洗
う。濾液を硫酸ナトリウムで乾燥してからこれを濾過、
濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶
媒20%酢酸エチル含有ヘキサン)で精製すると、目的
物2.71gが得られる。
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−3−メ
チルブチル)−3−フェニルシクロプロペノン 2,2
−ジメチル−1,3−プロパンジイルケタール(表1の
化合物番号65)の製造 2−フェニルシクロプロペノン 2,2−ジメチル−
1,3−プロパンジイルケタール3.51gをテトラヒ
ドロフラン30mlに溶かし、N,N,N′,N′−テ
トラメチルエチレンジアミン3.8gを加える。反応液
を−78℃に冷却し、1.55mol/lのn−ブチル
リチウムのヘキサン溶液10.5mlを加え、20分間
撹拌する。次に塩化セリウム7水和物8.0gを1mm
Hgの減圧下140℃で2時間乾燥することにより調製
した無水塩化セリウムをテトラヒドロフラン30mlに
懸濁させて加えてさらに20分間撹拌した後、N−te
rt−ブトキシカルボニル−L−バリナール1.82g
をテトラヒドロフラン20mlに溶かして加える。−7
8℃で2時間撹拌後、水1mlをテトラヒドロフラン5
mlに溶かして反応液に加え、室温まで温度を上げてか
らセライトで濾過し、セライトを酢酸エチルでよく洗
う。濾液を硫酸ナトリウムで乾燥してからこれを濾過、
濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶
媒20%酢酸エチル含有ヘキサン)で精製すると、目的
物2.71gが得られる。
【0053】収率:72% IR(KBr,cm-1):3430,2960,185
5,1800,1710,1690 NMR(CD3 OD,δ):0.95〜1.60(m,
12H),1.38(s,3H),1.42(s,6
H),1.95〜2.15(m,1H),3.60〜
3.75(m,1H),3.75〜3.95(m,4
H),5.0〜5.10(m,1H),6.03(d,
J=10Hz,0.33H),6.23(d,J=10
Hz,0.67H),7.40〜7.65(m,3
H),7.70〜7.90(m,2H) 実施例1と同様の操作により、次の化合物を製造した。
以下、物性値を記す。
5,1800,1710,1690 NMR(CD3 OD,δ):0.95〜1.60(m,
12H),1.38(s,3H),1.42(s,6
H),1.95〜2.15(m,1H),3.60〜
3.75(m,1H),3.75〜3.95(m,4
H),5.0〜5.10(m,1H),6.03(d,
J=10Hz,0.33H),6.23(d,J=10
Hz,0.67H),7.40〜7.65(m,3
H),7.70〜7.90(m,2H) 実施例1と同様の操作により、次の化合物を製造した。
以下、物性値を記す。
【0054】実施例2 2−(2−tert−ブトキシ
カルボニルアミノ−1−ヒドロキシエチル)シクロプロ
ペノン 2,2−ジメチル−1,3−プロパンジイルケ
タール(表1の化合物番号1)の製造 NMR(CDCl3 ,δ):0.97(s,3H),
1.09(s,3H),1.44(s,9H),3.3
5〜3.60(m,2H),3.63(s,4H),
4.80〜4.88(m,1H),5.07〜5.26
(m,1H),5.26〜5.52(m,1H),7.
63(s,1H).
カルボニルアミノ−1−ヒドロキシエチル)シクロプロ
ペノン 2,2−ジメチル−1,3−プロパンジイルケ
タール(表1の化合物番号1)の製造 NMR(CDCl3 ,δ):0.97(s,3H),
1.09(s,3H),1.44(s,9H),3.3
5〜3.60(m,2H),3.63(s,4H),
4.80〜4.88(m,1H),5.07〜5.26
(m,1H),5.26〜5.52(m,1H),7.
63(s,1H).
【0055】実施例3 2−((2S)−2−tert
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−3−メ
チルブチル)シクロプロペノン 2,2−ジメチル−
1,3−プロパンジイルケタール(表1の化合物番号
3)の製造 IR(neat,cm-1):3380,1722,17
08,1690. NMR(CDCl3 ,δ):0.87〜1.10(m,
12H),1.43(s,7.2H),1.45(s,
1.8H),2.05〜2.20(m,1H),3.3
5〜3.70(m,5H),4.80〜5.03(m,
2H),7.57(s,0.8H),7.71(s,
0.2H).
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−3−メ
チルブチル)シクロプロペノン 2,2−ジメチル−
1,3−プロパンジイルケタール(表1の化合物番号
3)の製造 IR(neat,cm-1):3380,1722,17
08,1690. NMR(CDCl3 ,δ):0.87〜1.10(m,
12H),1.43(s,7.2H),1.45(s,
1.8H),2.05〜2.20(m,1H),3.3
5〜3.70(m,5H),4.80〜5.03(m,
2H),7.57(s,0.8H),7.71(s,
0.2H).
【0056】実施例4 2−((2S)−2−tert
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−4−メ
チルペンチル)シクロプロペノン 2,2−ジメチル−
1,3−プロパンジイルケタール(表1の化合物番号
6)の製造 IR(neat,cm-1):3445,3360,17
05. NMR(CDCl3 ,δ):0.80〜0.95(m,
9H),1.15(s,3H),1.44(s,9
H),1.55〜1.78(m,3H),3.63
(s,2H),3.65(s,2H),3.72〜3.
95(m,1H),4.70〜4.84(m,2H),
5.02〜5.15(m,1H),7.68(s,0.
9H),7.71(s,0.1H).
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−4−メ
チルペンチル)シクロプロペノン 2,2−ジメチル−
1,3−プロパンジイルケタール(表1の化合物番号
6)の製造 IR(neat,cm-1):3445,3360,17
05. NMR(CDCl3 ,δ):0.80〜0.95(m,
9H),1.15(s,3H),1.44(s,9
H),1.55〜1.78(m,3H),3.63
(s,2H),3.65(s,2H),3.72〜3.
95(m,1H),4.70〜4.84(m,2H),
5.02〜5.15(m,1H),7.68(s,0.
9H),7.71(s,0.1H).
【0057】実施例5 2−((2S)−2−tert
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)シクロプロペノン 2,2−ジメチル−1,3−プ
ロパンジイルケタール(表1の化合物番号14)の製造 IR(neat,cm-1):3460,3370,17
00. NMR(CDCl3 ,δ):0.85〜1.0(m,3
H),0.92(s,3H),1.14(s,3H),
1.25〜1.55(m,6H),1.44(s,9
H),3.05〜3.15(m,0.7H),3.25
〜3.35(m,0.3H),3.61(s,2H),
3.63(s,2H),3.65〜3.85(m,0.
7H),3.85〜4.05(m,0.3H),4.7
0〜4.85(m,1H),4.85〜4.95(m,
0.3H),5.0〜5.15(m,0.7H),7.
65(s,0.7H),7.72(s,0.3H).
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)シクロプロペノン 2,2−ジメチル−1,3−プ
ロパンジイルケタール(表1の化合物番号14)の製造 IR(neat,cm-1):3460,3370,17
00. NMR(CDCl3 ,δ):0.85〜1.0(m,3
H),0.92(s,3H),1.14(s,3H),
1.25〜1.55(m,6H),1.44(s,9
H),3.05〜3.15(m,0.7H),3.25
〜3.35(m,0.3H),3.61(s,2H),
3.63(s,2H),3.65〜3.85(m,0.
7H),3.85〜4.05(m,0.3H),4.7
0〜4.85(m,1H),4.85〜4.95(m,
0.3H),5.0〜5.15(m,0.7H),7.
65(s,0.7H),7.72(s,0.3H).
【0058】実施例6 2−((2S)−2−ベンジル
オキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシル)シ
クロプロペノン 2,2−ジメチル−1,3−プロパン
ジイルケタール(表1の化合物番号16)の製造 IR(neat,cm-1):3360,1723. NMR(CDCl3 ,δ):0.75〜0.98(m,
6H),1.08(s,1.5H),1.12(s,
1.5H),1.18〜1.60(m,6H),3.0
4(s,0.5H),3.32(d,J=7.8Hz,
0.5H),3.55〜3.70(m,4H),3.8
0(m,0.5H),4.01(m,0.5H),4.
76(d,J=7.8Hz,0.5H),4.83
(m,0.5H),5.11(s,2H),5.13
(m,0.5H),5.63(d,J=8.1Hz,
0.5H),7.65(s,0.5H),7.73
(s,0.5H).
オキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシル)シ
クロプロペノン 2,2−ジメチル−1,3−プロパン
ジイルケタール(表1の化合物番号16)の製造 IR(neat,cm-1):3360,1723. NMR(CDCl3 ,δ):0.75〜0.98(m,
6H),1.08(s,1.5H),1.12(s,
1.5H),1.18〜1.60(m,6H),3.0
4(s,0.5H),3.32(d,J=7.8Hz,
0.5H),3.55〜3.70(m,4H),3.8
0(m,0.5H),4.01(m,0.5H),4.
76(d,J=7.8Hz,0.5H),4.83
(m,0.5H),5.11(s,2H),5.13
(m,0.5H),5.63(d,J=8.1Hz,
0.5H),7.65(s,0.5H),7.73
(s,0.5H).
【0059】実施例7 2−((2S)−2−tert
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−メチルシクロプロペノン 2,2−ジメチル
−1,3−プロパンジイルケタール(表1の化合物番号
32)の製造 NMR(CDCl3 ,δ):0.84〜0.96(m,
3H),0.95(s,3H),1.08(s,3
H),1.28〜1.55(m,6H),1.43
(s,9H),2.17(s,3H),3.53〜3.
80(m,5H),4.63〜4.74(m,1H),
4.88〜5.07(m,1H).
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−メチルシクロプロペノン 2,2−ジメチル
−1,3−プロパンジイルケタール(表1の化合物番号
32)の製造 NMR(CDCl3 ,δ):0.84〜0.96(m,
3H),0.95(s,3H),1.08(s,3
H),1.28〜1.55(m,6H),1.43
(s,9H),2.17(s,3H),3.53〜3.
80(m,5H),4.63〜4.74(m,1H),
4.88〜5.07(m,1H).
【0060】実施例8 2−((2S)−2−tert
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−4−メ
チルペンチル)−3−エチルシクロプロペノン 2,2
−ジメチル−1,3−プロパンジイルケタール(表1の
化合物番号34)の製造 IR(neat,cm-1):3360,1853,16
96,1623. NMR(CDCl3 ,δ):0.88〜1.01(m,
12H),1.32(t,J=7.7Hz,3H),
1.37〜1.55(m,2H),1.41(s,9
H),1.60〜1.78(m,1H),2.69
(q,J=7.7Hz,2H),3.55〜3.70
(m,4H),3.79〜4.02(m,1H),4.
67〜4.78(m,1H),4.80〜5.03
(m,1H),5.16〜5.22(m,1H).
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−4−メ
チルペンチル)−3−エチルシクロプロペノン 2,2
−ジメチル−1,3−プロパンジイルケタール(表1の
化合物番号34)の製造 IR(neat,cm-1):3360,1853,16
96,1623. NMR(CDCl3 ,δ):0.88〜1.01(m,
12H),1.32(t,J=7.7Hz,3H),
1.37〜1.55(m,2H),1.41(s,9
H),1.60〜1.78(m,1H),2.69
(q,J=7.7Hz,2H),3.55〜3.70
(m,4H),3.79〜4.02(m,1H),4.
67〜4.78(m,1H),4.80〜5.03
(m,1H),5.16〜5.22(m,1H).
【0061】実施例9 2−((2S)−2−tert
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−イソペンチルシクロプロペノン 2,2−ジ
メチル−1,3−プロパンジイルケタール(表1の化合
物番号41)の製造 IR(neat,cm-1):3360,1816,17
15,1698. NMR(CDCl3 ,δ):0.78〜0.98(m,
12H),1.11(s,3H),1.18〜1.77
(m,9H),1.43(s,9H),2.53(d,
J=7.6Hz,2H),3.56〜3.80(m,5
H),4.65〜4.80(m,1H),4.98〜
5.12(m,1H).
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−イソペンチルシクロプロペノン 2,2−ジ
メチル−1,3−プロパンジイルケタール(表1の化合
物番号41)の製造 IR(neat,cm-1):3360,1816,17
15,1698. NMR(CDCl3 ,δ):0.78〜0.98(m,
12H),1.11(s,3H),1.18〜1.77
(m,9H),1.43(s,9H),2.53(d,
J=7.6Hz,2H),3.56〜3.80(m,5
H),4.65〜4.80(m,1H),4.98〜
5.12(m,1H).
【0062】実施例10 2−((1S,2S)−2−
tert−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ
ヘキシル)−3−((Z)−1−ヘキセニル)シクロプ
ロペノン 2,2−ジメチル−1,3−プロパンジイル
ケタール(表1の化合物番号53)の製造 IR(neat,cm-1):3440,1785,17
03. NMR(CDCl3 ,δ):0.80〜0.97(m,
9H),1.19(s,3H),1.21〜1.80
(m,10H),1.43(s,9H),2.35〜
2.50(m,2H),2.82(s,1H),3.5
7〜3.82(m,5H),4.66〜4.85(m,
2H),5.82〜6.06(m,2H).
tert−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ
ヘキシル)−3−((Z)−1−ヘキセニル)シクロプ
ロペノン 2,2−ジメチル−1,3−プロパンジイル
ケタール(表1の化合物番号53)の製造 IR(neat,cm-1):3440,1785,17
03. NMR(CDCl3 ,δ):0.80〜0.97(m,
9H),1.19(s,3H),1.21〜1.80
(m,10H),1.43(s,9H),2.35〜
2.50(m,2H),2.82(s,1H),3.5
7〜3.82(m,5H),4.66〜4.85(m,
2H),5.82〜6.06(m,2H).
【0063】実施例11 2−[(2S)−2−(N−
tert−ブトキシカルボニル)メチルアミノ−1−ヒ
ドロキシ−3−メチルブチル]−3−フェニルシクロプ
ロペノン 2,2−ジメチル−1,3−プロパンジイル
ケタール(表1の化合物番号74)の製造 IR(KBr,cm-1):3430,1798,168
8,1672. NMR(CD3 OD,δ):0.80〜1.35(m,
12H),1.45(s,9H),2.30(m,1
H),2.69(s,1.5H),2.72(s,1.
5H),3.65〜3.90(m,4H),4.09
(m,1H),5.02(m,1H),7.30〜7.
52(m,3H),7.70〜7.82(m,2H).
tert−ブトキシカルボニル)メチルアミノ−1−ヒ
ドロキシ−3−メチルブチル]−3−フェニルシクロプ
ロペノン 2,2−ジメチル−1,3−プロパンジイル
ケタール(表1の化合物番号74)の製造 IR(KBr,cm-1):3430,1798,168
8,1672. NMR(CD3 OD,δ):0.80〜1.35(m,
12H),1.45(s,9H),2.30(m,1
H),2.69(s,1.5H),2.72(s,1.
5H),3.65〜3.90(m,4H),4.09
(m,1H),5.02(m,1H),7.30〜7.
52(m,3H),7.70〜7.82(m,2H).
【0064】実施例12 2−((2S)−2−ter
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−フェニルシクロプロペノン 2,2−ジメチ
ル−1,3−プロパンジイルケタール(表1の化合物番
号76)の製造 IR(KBr,cm-1):3310,1800,172
0,1792. NMR(CDCl3 ,δ):0.80〜0.98(m,
3H),0.99(s,3H),1.21(s,3
H),1.15〜1.90(m,6H),1.39
(s,2.7H),1.43(s,6.3H),3.5
8(m,0.7H),3.68〜4.95(m,4.6
H),4.95〜4.10(m,0.7H),4.88
〜5.07(m,1.3H),5.24(d,J=7.
4Hz,0.7H),7.28〜7.45(m,3
H),7.69(d,J=6.5Hz,2H).
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−フェニルシクロプロペノン 2,2−ジメチ
ル−1,3−プロパンジイルケタール(表1の化合物番
号76)の製造 IR(KBr,cm-1):3310,1800,172
0,1792. NMR(CDCl3 ,δ):0.80〜0.98(m,
3H),0.99(s,3H),1.21(s,3
H),1.15〜1.90(m,6H),1.39
(s,2.7H),1.43(s,6.3H),3.5
8(m,0.7H),3.68〜4.95(m,4.6
H),4.95〜4.10(m,0.7H),4.88
〜5.07(m,1.3H),5.24(d,J=7.
4Hz,0.7H),7.28〜7.45(m,3
H),7.69(d,J=6.5Hz,2H).
【0065】実施例13 2−(2−tert−ブトキ
シカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−2−メチルプロ
ピル)−3−フェニルシクロプロペノン 2,2−ジメ
チル−1,3−プロパンジイルケタール(表1の化合物
番号82)の製造 IR(KBr,cm-1):3290,1800,167
3. NMR(CDCl3 ,δ):0.94(s,3H),
1.25(s,3H),1.27(s,9H),1.4
1(s,3H),1.64(s,3H),3.70〜
3.90(m,4H),4.77(d,J=8.6H
z,1H),4.93(s,1H),5.57(s,1
H),7.28〜7.46(m,3H),7.75(d
d,J=8.2Hz,1.4Hz,2H).
シカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−2−メチルプロ
ピル)−3−フェニルシクロプロペノン 2,2−ジメ
チル−1,3−プロパンジイルケタール(表1の化合物
番号82)の製造 IR(KBr,cm-1):3290,1800,167
3. NMR(CDCl3 ,δ):0.94(s,3H),
1.25(s,3H),1.27(s,9H),1.4
1(s,3H),1.64(s,3H),3.70〜
3.90(m,4H),4.77(d,J=8.6H
z,1H),4.93(s,1H),5.57(s,1
H),7.28〜7.46(m,3H),7.75(d
d,J=8.2Hz,1.4Hz,2H).
【0066】実施例14 2−((2S)−2−ter
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−3−
メチルブチル)−3−(4−フルオロフェニル)シクロ
プロペノン 2,2−ジメチル−1,3−プロパンジイ
ルケタール(表1の化合物番号90)の製造 IR(KBr,cm-1):3340,1802,171
0,1695,1602. NMR(CD3 OD,δ):0.90〜1.25(m,
12H),1.38(s,6.3H),1.42(s,
2.7H),2.08(m,1H),3.63(m,1
H),3.70〜3.93(m,4H),5.08
(d,J=4.5Hz,0.3H),5.02(d,J
=4.5Hz,0.7H),6.05(d,J=10H
z,0.3H),6.19(d,J=10Hz,0.7
H),7.18〜7.30(m,2H),7.70〜
7.88(m,2H).
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−3−
メチルブチル)−3−(4−フルオロフェニル)シクロ
プロペノン 2,2−ジメチル−1,3−プロパンジイ
ルケタール(表1の化合物番号90)の製造 IR(KBr,cm-1):3340,1802,171
0,1695,1602. NMR(CD3 OD,δ):0.90〜1.25(m,
12H),1.38(s,6.3H),1.42(s,
2.7H),2.08(m,1H),3.63(m,1
H),3.70〜3.93(m,4H),5.08
(d,J=4.5Hz,0.3H),5.02(d,J
=4.5Hz,0.7H),6.05(d,J=10H
z,0.3H),6.19(d,J=10Hz,0.7
H),7.18〜7.30(m,2H),7.70〜
7.88(m,2H).
【0067】実施例15 2−((2S)−2−ter
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−(2−トリル)シクロプロペノン 2,2−
ジメチル−1,3−プロパンジイルケタール(表1の化
合物番号105)の製造 NMR(CDCl3 ,δ):0.83〜1.03(m,
3H),0.96(s,3H),1.25(s,3
H),1.25〜1.51(m,4H),1.40
(s,1.8H),1.43(s,7.2H),1.6
0〜1.95(m,2H),2.45(s,0.6
H),2.52(s,2.4H),3.65〜3.90
(m,1H),3.73(s,4H),4.80〜5.
20(m,2H),7.05〜7.30(m,3H),
7.55〜7.65(m,1H).
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−(2−トリル)シクロプロペノン 2,2−
ジメチル−1,3−プロパンジイルケタール(表1の化
合物番号105)の製造 NMR(CDCl3 ,δ):0.83〜1.03(m,
3H),0.96(s,3H),1.25(s,3
H),1.25〜1.51(m,4H),1.40
(s,1.8H),1.43(s,7.2H),1.6
0〜1.95(m,2H),2.45(s,0.6
H),2.52(s,2.4H),3.65〜3.90
(m,1H),3.73(s,4H),4.80〜5.
20(m,2H),7.05〜7.30(m,3H),
7.55〜7.65(m,1H).
【0068】実施例16 2−((2S)−2−ter
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−(5−トリメチルシリル−2−フリル)シク
ロプロペノン 2,2−ジメチル−1,3−プロパンジ
イルケタール(表1の化合物番号130)の製造 NMR(CDCl3 ,δ):0.28(s,9H),
0.85〜0.95(m,6H),1.22(s,3
H),1.21〜1.85(m,15H),3.65〜
4.05(m,5H),4.80〜5.20(m,3
H),6.70(d,J=3.9Hz,1H),6.7
8(d,J=3.9Hz,1H).
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−(5−トリメチルシリル−2−フリル)シク
ロプロペノン 2,2−ジメチル−1,3−プロパンジ
イルケタール(表1の化合物番号130)の製造 NMR(CDCl3 ,δ):0.28(s,9H),
0.85〜0.95(m,6H),1.22(s,3
H),1.21〜1.85(m,15H),3.65〜
4.05(m,5H),4.80〜5.20(m,3
H),6.70(d,J=3.9Hz,1H),6.7
8(d,J=3.9Hz,1H).
【0069】実施例17 2−((2S)−2−ter
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−(5−トリメチルシリル−2−チエニル)シ
クロプロペノン 2,2−ジメチル−1,3−プロパン
ジイルケタール(表1の化合物番号139)の製造 NMR(CDCl3 ,δ):0.34(s,9H),
0.84〜0.97(m,6H),1.24(s,3
H),1.27〜1.50(m,13H),1.55〜
1.92(m,2H),3.64〜4.04(m,5
H),4.83〜5.30(m,2H),7.21
(d,J=3.4Hz,1H),7.38(d,J=
3.4Hz,1H).
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−(5−トリメチルシリル−2−チエニル)シ
クロプロペノン 2,2−ジメチル−1,3−プロパン
ジイルケタール(表1の化合物番号139)の製造 NMR(CDCl3 ,δ):0.34(s,9H),
0.84〜0.97(m,6H),1.24(s,3
H),1.27〜1.50(m,13H),1.55〜
1.92(m,2H),3.64〜4.04(m,5
H),4.83〜5.30(m,2H),7.21
(d,J=3.4Hz,1H),7.38(d,J=
3.4Hz,1H).
【0070】実施例18 2−((2S)−2−ter
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−3−
メチルブチル)−3−(1−ヒドロキシ−1−メチルエ
チル)シクロプロペノン 2,2−ジメチル−1,3−
プロパンジイルケタール(表1の化合物番号147)の
製造 NMR(CDCl3 ,δ):0.92〜1.07(m,
12H),1.41〜1.53(m,15H),1.8
0〜2.05(m,1H),3.56〜3.78(m,
5H),4.84〜4.90(m,1H),5.10
(d,J=11Hz,0.3H),5.26(d,J=
11Hz,0.7H),6.0(s,2H).
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−3−
メチルブチル)−3−(1−ヒドロキシ−1−メチルエ
チル)シクロプロペノン 2,2−ジメチル−1,3−
プロパンジイルケタール(表1の化合物番号147)の
製造 NMR(CDCl3 ,δ):0.92〜1.07(m,
12H),1.41〜1.53(m,15H),1.8
0〜2.05(m,1H),3.56〜3.78(m,
5H),4.84〜4.90(m,1H),5.10
(d,J=11Hz,0.3H),5.26(d,J=
11Hz,0.7H),6.0(s,2H).
【0071】実施例19 2−((2S)−2−ter
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−3−
メチルブチル)−3−[(ヒドロキシ)(フェニル)メ
チル]シクロプロペノン 2,2−ジメチル−1,3−
プロパンジイルケタール(表1の化合物番号156)の
製造 NMR(CDCl3 ,δ):0.86〜1.12(m,
12H),1.36〜1.48(m,9H),1.77
〜2.05(m,1H),3.40〜3.78(m,5
H),4.82〜4.92(m,1H),5.24〜
5.42(m,1H),5.67〜5.74(m,2
H),5.98(s,1H),7.25〜7.50
(m,5H).
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−3−
メチルブチル)−3−[(ヒドロキシ)(フェニル)メ
チル]シクロプロペノン 2,2−ジメチル−1,3−
プロパンジイルケタール(表1の化合物番号156)の
製造 NMR(CDCl3 ,δ):0.86〜1.12(m,
12H),1.36〜1.48(m,9H),1.77
〜2.05(m,1H),3.40〜3.78(m,5
H),4.82〜4.92(m,1H),5.24〜
5.42(m,1H),5.67〜5.74(m,2
H),5.98(s,1H),7.25〜7.50
(m,5H).
【0072】実施例20 2−[(2S)−2−((2
S)−2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−3−メチ
ルバレリルアミノ)−1−ヒドロキシヘキシル]−3−
(4−フルオロフェニル)シクロプロペノン 2,2−
ジメチル−1,3−プロパンジイルケタール(表2の化
合物番号198)の製造 IR(KBr,cm-1):3320,1802,171
0,1660,1602. NMR(CD3 OD,δ):0.70〜1.18(m,
15H),1.18〜1.95(m,9H),3.66
〜3.90(m,4H),4.02〜4.30(m,2
H),4.95(m,1H),5.02(s,2H),
7.10〜7.40(m,7H),7.40〜7.60
(m,1H),7.70〜7.83(m,2H).
S)−2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−3−メチ
ルバレリルアミノ)−1−ヒドロキシヘキシル]−3−
(4−フルオロフェニル)シクロプロペノン 2,2−
ジメチル−1,3−プロパンジイルケタール(表2の化
合物番号198)の製造 IR(KBr,cm-1):3320,1802,171
0,1660,1602. NMR(CD3 OD,δ):0.70〜1.18(m,
15H),1.18〜1.95(m,9H),3.66
〜3.90(m,4H),4.02〜4.30(m,2
H),4.95(m,1H),5.02(s,2H),
7.10〜7.40(m,7H),7.40〜7.60
(m,1H),7.70〜7.83(m,2H).
【0073】
【発明の効果】本発明のシクロプロペノンケタール誘導
体は、カルパイン、パパイン、カテプシンB、カテプシ
ンH、カテプシンL等のチオールプロテアーゼに対して
強い阻害活性を示すシクロプロペノン誘導体の製造中間
体として用いることができる。
体は、カルパイン、パパイン、カテプシンB、カテプシ
ンH、カテプシンL等のチオールプロテアーゼに対して
強い阻害活性を示すシクロプロペノン誘導体の製造中間
体として用いることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C07F 7/10 C07F 7/10 R S (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) CA(STN) REGISTRY(STN)
Claims (2)
- 【請求項1】 下記一般式(I) 【化1】 (上記一般式中、R1 はアミノ基の保護基を表わし、R
2 ,R4 及びR6 はそれぞれ独立して水素原子または炭
素数1〜5のアルキル基を表わすか、あるいはR 1 とR
2 が一緒になってフタリル基を表わし、R3 及びR5 は
それぞれ独立して水素原子または炭素数3〜10のシク
ロアルキル基もしくは炭素数6〜10のアリール基で置
換されていてもよい炭素数1〜15のアルキル基を表わ
すか、あるいはR5 とR6 が一緒になって炭素数3〜1
0のシクロアルキル基を表わし、R 7 及びR8 はそれぞ
れ独立してフェニル基で置換されていてもよい炭素数1
〜5のアルキル基を表わすか、あるいはR7 とR8 が一
緒になって炭素数1〜5のアルキル基から選ばれる1以
上の置換基を有していてもよい炭素数2〜6のアルキレ
ン基を形成していてもよく、R9 は水素原子、炭素数1
〜15のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル
基、炭素数2〜15のアルケニル基、置換基を有してい
てもよい炭素数6〜10のアリール基、置換基を有して
いてもよいヘテロ環基、または 【化2】 (R10およびR11はそれぞれ独立して水素原子、炭素数
1〜15のアルキル基または炭素数6〜10のアリール
基を表わすか、R10とR11が一緒になって炭素数3〜1
0のシクロアルキル基を表わす。)を表わし、nは0ま
たは1を表わす。)で示されるシクロプロペノンケター
ル誘導体。 - 【請求項2】 R1 がtert−ブトキシカルボニル
基、ベンジルオキシカルボニル基、9−フルオレニルメ
トキシカルボニル基、p−トルエンスルホニル基、2,
4,6−トリメチルベンゼンスルホニル基またはトリチ
ル基を表わし、R2,R4 及びR6 がそれぞれ独立して
水素原子または炭素数1〜3のアルキル基を表わすか、
あるいはR1 とR2 が一緒になってフタリル基を表わ
し、R3 及びR5 がそれぞれ独立して水素原子または炭
素数3〜8のシクロアルキル基、フェニル基もしくはナ
フチル基で置換されていてもよい炭素数1〜5のアルキ
ル基を表わすかあるいはR5 とR6 が一緒になって炭素
数3〜6のシクロアルキル基を表わし、R7 及びR8 が
それぞれ独立してフェニル基で置換されていてもよい炭
素数1〜3のアルキル基を表わすか、あるいはR7 とR
8 が一緒になって炭素数1〜3のアルキル基から選ばれ
る1以上の置換基を有していてもよい炭素数2〜4のア
ルキレン基を表わし、R9 が水素原子、炭素数1〜6の
アルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数
2〜8のアルケニル基;ハロゲン原子、炭素数1〜5の
アルキル基および炭素数1〜5のアルコキシ基から選ば
れる1以上の置換基を有していてもよいフェニル基もし
くはナフチル基;ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキ
ル基、炭素数1〜5のアルコキシ基および炭素数3〜1
2のトリアルキルシリル基から選ばれる1以上の置換基
を有していてもよい、酸素原子、硫黄原子、窒素原子か
ら選ばれるヘテロ原子を1〜4個有し環を構成する総原
子数が5〜10のヘテロ環基;または 【化3】 (R10及びR11はそれぞれ独立して水素原子、炭素数1
〜3のアルキル基及びフェニル基を表わす。)を表わす
ことを特徴とする請求項1記載のシクロプロペノンケタ
ール誘導体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04262475A JP3143530B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | シクロプロペノンケタール誘導体 |
| US08/126,646 US5395958A (en) | 1992-09-30 | 1993-09-27 | Cyclopropene derivatives |
| DE69325062T DE69325062D1 (de) | 1992-09-30 | 1993-09-29 | Cyclopropen-Derivate mit Thiol-Protease hemmender Wirkung |
| EP93115752A EP0590650B1 (en) | 1992-09-30 | 1993-09-29 | Cyclopropene derivatives with thiol protease inhibiting activity |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04262475A JP3143530B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | シクロプロペノンケタール誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06122664A JPH06122664A (ja) | 1994-05-06 |
| JP3143530B2 true JP3143530B2 (ja) | 2001-03-07 |
Family
ID=17376306
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04262475A Expired - Fee Related JP3143530B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | シクロプロペノンケタール誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3143530B2 (ja) |
-
1992
- 1992-09-30 JP JP04262475A patent/JP3143530B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06122664A (ja) | 1994-05-06 |
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