JP3143529B2 - シクロプロペノン誘導体 - Google Patents
シクロプロペノン誘導体Info
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【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規なシクロプロペノン
誘導体に関し、詳細にはカルパイン、パパイン、カテプ
シンB、カテプシンH、カテプシンLなどのチオールプ
ロテアーゼに対して強い阻害活性を示すシクロプロペノ
ン誘導体の製造中間体として有用な、新規なシクロプロ
ペノン誘導体に関する。
誘導体に関し、詳細にはカルパイン、パパイン、カテプ
シンB、カテプシンH、カテプシンLなどのチオールプ
ロテアーゼに対して強い阻害活性を示すシクロプロペノ
ン誘導体の製造中間体として有用な、新規なシクロプロ
ペノン誘導体に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】カル
パイン、パパイン、カテプシン類などが属するチオール
プロテアーゼの生体内での働きが解明されていくに従
い、その異常亢進が種々の疾病の原因であることが判明
してきており、チオールプロテアーゼ阻害剤がそれらの
疾病の治療薬として使われるようになってきている。例
えば、カルパインの阻害剤は、筋ジストロフィー、白内
障、心筋梗塞、脳梗塞後の遅発性神経細胞死などの動物
モデルに対して効果があり、またカテプシン類の阻害剤
は、癌の転移、筋萎縮症、骨粗鬆症などに効果があるこ
とが報告されている。しかしながら、ペプチジルアルデ
ヒド、エポキシコハク酸誘導体などの既知のチオールプ
ロテアーゼ阻害剤は、経口吸収性、組織移行性、細胞膜
透過性があまりよくないために、これらの問題点を改善
した新たなチオールプロテアーゼ阻害剤の開発が望まれ
ている。
パイン、パパイン、カテプシン類などが属するチオール
プロテアーゼの生体内での働きが解明されていくに従
い、その異常亢進が種々の疾病の原因であることが判明
してきており、チオールプロテアーゼ阻害剤がそれらの
疾病の治療薬として使われるようになってきている。例
えば、カルパインの阻害剤は、筋ジストロフィー、白内
障、心筋梗塞、脳梗塞後の遅発性神経細胞死などの動物
モデルに対して効果があり、またカテプシン類の阻害剤
は、癌の転移、筋萎縮症、骨粗鬆症などに効果があるこ
とが報告されている。しかしながら、ペプチジルアルデ
ヒド、エポキシコハク酸誘導体などの既知のチオールプ
ロテアーゼ阻害剤は、経口吸収性、組織移行性、細胞膜
透過性があまりよくないために、これらの問題点を改善
した新たなチオールプロテアーゼ阻害剤の開発が望まれ
ている。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、経口吸収
性、組織移行性、細胞膜透過性にすぐれたチオールプロ
テアーゼ阻害剤の研究を鋭意検討した結果、本発明に到
達した。すなわち、本発明の要旨は、下記一般式(I)
性、組織移行性、細胞膜透過性にすぐれたチオールプロ
テアーゼ阻害剤の研究を鋭意検討した結果、本発明に到
達した。すなわち、本発明の要旨は、下記一般式(I)
【0004】
【化2】
【0005】〔上記一般式(I)中、R1 はアミノ基の
保護基を表し、R2 は水素原子、C1〜C5 のアルキル
基またはアミノ基の保護基を表すが、R1 とR2 が一緒
になってフタリル基を形成してもよく、R3 は水素原子
またはC3 〜C10のシクロアルキル基もしくはC6 〜C
10のアリール基で置換されていてもよいC1 〜C15のア
ルキル基を表し、R4 は水素原子またはC1 〜C5 のア
ルキル基を表すが、R3とR4 が一緒になってC3 〜C
10のシクロアルキル基を形成してもよく、R5 は水素原
子;C1 〜C15のアルキル基;C3 〜C10のシクロアル
キル基;C2 〜C 15のアルケニル基;ハロゲン原子、C
1 〜C5 のアルキル基、ヒドロキシル基およびC1 〜C
5 のアルコキシ基から選ばれる1以上の置換基を有して
いてもよいC6 〜C10のアリール基;C3 〜C12のトリ
アルキルシリル基、ハロゲン原子、C1 〜C5 のアルキ
ル基、ヒドロキシル基およびC1 〜C5 のアルコキシ基
から選ばれる1以上の置換基を有していてもよい、酸素
原子、硫黄原子および窒素原子から選ばれるヘテロ原子
を1〜4個有し、環を構成する総原子数が5〜10のヘ
テロ環基または−CR6 R7 OH(R6 およびR7 はそ
れぞれ独立して水素原子、C1 〜C15のアルキル基また
はC6 〜C10のアリール基を表すが、R6 とR 7 が一緒
になってC3 〜C10のシクロアルキル基を形成してもよ
い。)を表す。〕で表されるシクロプロペノン誘導体に
存する。
保護基を表し、R2 は水素原子、C1〜C5 のアルキル
基またはアミノ基の保護基を表すが、R1 とR2 が一緒
になってフタリル基を形成してもよく、R3 は水素原子
またはC3 〜C10のシクロアルキル基もしくはC6 〜C
10のアリール基で置換されていてもよいC1 〜C15のア
ルキル基を表し、R4 は水素原子またはC1 〜C5 のア
ルキル基を表すが、R3とR4 が一緒になってC3 〜C
10のシクロアルキル基を形成してもよく、R5 は水素原
子;C1 〜C15のアルキル基;C3 〜C10のシクロアル
キル基;C2 〜C 15のアルケニル基;ハロゲン原子、C
1 〜C5 のアルキル基、ヒドロキシル基およびC1 〜C
5 のアルコキシ基から選ばれる1以上の置換基を有して
いてもよいC6 〜C10のアリール基;C3 〜C12のトリ
アルキルシリル基、ハロゲン原子、C1 〜C5 のアルキ
ル基、ヒドロキシル基およびC1 〜C5 のアルコキシ基
から選ばれる1以上の置換基を有していてもよい、酸素
原子、硫黄原子および窒素原子から選ばれるヘテロ原子
を1〜4個有し、環を構成する総原子数が5〜10のヘ
テロ環基または−CR6 R7 OH(R6 およびR7 はそ
れぞれ独立して水素原子、C1 〜C15のアルキル基また
はC6 〜C10のアリール基を表すが、R6 とR 7 が一緒
になってC3 〜C10のシクロアルキル基を形成してもよ
い。)を表す。〕で表されるシクロプロペノン誘導体に
存する。
【0006】以下、本発明につき詳細に説明する。本発
明の化合物は下記一般式(I)
明の化合物は下記一般式(I)
【0007】
【化3】
【0008】{上記一般式(I)中、R1 はアミノ基の
保護基(tert−ブトキシカルボニル基、ベンジロキ
シカルボニル基、4−メトキシベンジロキシカルボニル
基、4−クロロベンジロキシカルボニル基、3,5−ジ
メトキシベンジロキシカルボニル基、3,4,5−トリ
メトキシベンジロキシカルボニル基、9−フルオレニル
メトキシカルボニル基等のウレタン型保護基;ホルミル
基、トリフルオロアセチル基、P−トルエンスルホニル
基、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホニル基、ベ
ンゾイル基、クロロアセチル基等のアシル型保護基;ベ
ンジル基、ジフェニルメチル基、トリチル基等のアルキ
ル型保護基等)を表し、R2 は水素原子、C1 〜C5 の
アルキル基(メチル基、プロピル基、ペンチル基等)ま
たは上記したアミノ基の保護を表すが、R1 とR2 が一
緒になってフタリル基を形成してもよく、R3 は水素原
子またはC3 〜C10のシクロアルキル基(シクロプロピ
ル基、シクロヘキシル基、シクロデシル基等)もしくは
C6 〜C10のアリール基(フェニル基、ナフチル基等)
で置換されていてもよいC1 〜C15のアルキル基(メチ
ル基、ペンチル基、デシル基、ペンタデシル基等)を表
し、R4 は水素原子またはC1 〜C5 のアルキル基(メ
チル基、プロピル基、ペンチル基等)を表すが、R3 と
R4 が一緒になってC3 〜C10のシクロアルキル基(シ
クロプロピル基、シクロヘキシル基、シクロデシル基
等)を形成してもよく、R5 は水素原子、C1 〜C15の
アルキル基(メチル基、ブチル基、デシル基、ペンタデ
シル基等)、C3 〜C10のシクロアルキル基(シクロプ
ロピル基、シクロヘキシル基、シクロデシル基等)、C
2 〜C15のアルケニル基(ビニル基、ヘキセニル基、デ
セニル基、ペンタデセニル基等)、置換基〔ハロゲン原
子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、C1 〜C5
のアルキル基(メチル基、プロピル基、ペンチル基
等)、ヒドロキシル基およびC1 〜C5 のアルコキシ基
(メトキシ基、プロポキシ基、ペンチルオキシ基等)か
ら選ばれる1以上の置換基〕を有していてもよいC 6 〜
C10のアリール基(フェニル基、ナフチル基等)もしく
はヘテロ環基〔さらに置換基としてC3 〜C12のトリア
ルキルシリル基(トリメチルシリル基、トリエチルシリ
ル基、tert−ブチルジメチルシリル基等)を有して
いてもよく、酸素原子、硫黄原子および窒素原子から選
ばれるヘテロ原子を1〜4個有し、環を構成する総原子
数が5〜10のもの(フラン環、チオフェン環、ピリジ
ン環、ピリジンオキシド環、ピリミジン環、ピリダジン
環、ピラジン環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン
環、キノリン環、ナフチリジン環等)〕または−CR6
R 7 OH〔R6 およびR7 はそれぞれ独立して水素原
子、C1 〜C15のアルキル基(メチル基、ペンチル基、
デシル基、ペンタデシル基等)またはC6 〜C10のアリ
ール基(フェニル基、ナフチル基等)を表すが、R6 と
R7 が一緒になってC 3 〜C10のシクロアルキル基(シ
クロプロピル基、シクロヘキシル基、シクロデシル基
等)を形成してもよい。〕を表す。}で表されるシクロ
プロペノン誘導体である。
保護基(tert−ブトキシカルボニル基、ベンジロキ
シカルボニル基、4−メトキシベンジロキシカルボニル
基、4−クロロベンジロキシカルボニル基、3,5−ジ
メトキシベンジロキシカルボニル基、3,4,5−トリ
メトキシベンジロキシカルボニル基、9−フルオレニル
メトキシカルボニル基等のウレタン型保護基;ホルミル
基、トリフルオロアセチル基、P−トルエンスルホニル
基、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホニル基、ベ
ンゾイル基、クロロアセチル基等のアシル型保護基;ベ
ンジル基、ジフェニルメチル基、トリチル基等のアルキ
ル型保護基等)を表し、R2 は水素原子、C1 〜C5 の
アルキル基(メチル基、プロピル基、ペンチル基等)ま
たは上記したアミノ基の保護を表すが、R1 とR2 が一
緒になってフタリル基を形成してもよく、R3 は水素原
子またはC3 〜C10のシクロアルキル基(シクロプロピ
ル基、シクロヘキシル基、シクロデシル基等)もしくは
C6 〜C10のアリール基(フェニル基、ナフチル基等)
で置換されていてもよいC1 〜C15のアルキル基(メチ
ル基、ペンチル基、デシル基、ペンタデシル基等)を表
し、R4 は水素原子またはC1 〜C5 のアルキル基(メ
チル基、プロピル基、ペンチル基等)を表すが、R3 と
R4 が一緒になってC3 〜C10のシクロアルキル基(シ
クロプロピル基、シクロヘキシル基、シクロデシル基
等)を形成してもよく、R5 は水素原子、C1 〜C15の
アルキル基(メチル基、ブチル基、デシル基、ペンタデ
シル基等)、C3 〜C10のシクロアルキル基(シクロプ
ロピル基、シクロヘキシル基、シクロデシル基等)、C
2 〜C15のアルケニル基(ビニル基、ヘキセニル基、デ
セニル基、ペンタデセニル基等)、置換基〔ハロゲン原
子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、C1 〜C5
のアルキル基(メチル基、プロピル基、ペンチル基
等)、ヒドロキシル基およびC1 〜C5 のアルコキシ基
(メトキシ基、プロポキシ基、ペンチルオキシ基等)か
ら選ばれる1以上の置換基〕を有していてもよいC 6 〜
C10のアリール基(フェニル基、ナフチル基等)もしく
はヘテロ環基〔さらに置換基としてC3 〜C12のトリア
ルキルシリル基(トリメチルシリル基、トリエチルシリ
ル基、tert−ブチルジメチルシリル基等)を有して
いてもよく、酸素原子、硫黄原子および窒素原子から選
ばれるヘテロ原子を1〜4個有し、環を構成する総原子
数が5〜10のもの(フラン環、チオフェン環、ピリジ
ン環、ピリジンオキシド環、ピリミジン環、ピリダジン
環、ピラジン環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン
環、キノリン環、ナフチリジン環等)〕または−CR6
R 7 OH〔R6 およびR7 はそれぞれ独立して水素原
子、C1 〜C15のアルキル基(メチル基、ペンチル基、
デシル基、ペンタデシル基等)またはC6 〜C10のアリ
ール基(フェニル基、ナフチル基等)を表すが、R6 と
R7 が一緒になってC 3 〜C10のシクロアルキル基(シ
クロプロピル基、シクロヘキシル基、シクロデシル基
等)を形成してもよい。〕を表す。}で表されるシクロ
プロペノン誘導体である。
【0009】また、上記一般式(I)で表されるシクロ
プロペノン誘導体に存在する不斉炭素は、それぞれ独立
して(R)体、(S)体または(RS)体をとることが
できる。これらのラセミ体ならびにその光学対掌体まで
も本発明に含まれる。以下、本発明化合物の具体例を表
−1に示す。
プロペノン誘導体に存在する不斉炭素は、それぞれ独立
して(R)体、(S)体または(RS)体をとることが
できる。これらのラセミ体ならびにその光学対掌体まで
も本発明に含まれる。以下、本発明化合物の具体例を表
−1に示す。
【0010】
【表1】
【0011】
【表2】
【0012】
【表3】
【0013】
【表4】
【0014】
【表5】
【0015】
【表6】
【0016】
【表7】
【0017】
【表8】
【0018】
【表9】
【0019】
【表10】
【0020】
【表11】
【0021】
【表12】
【0022】
【表13】
【0023】表−1中、Bocはtert−ブトキシカ
ルボニル基を表し、Zはベンジロキシカルボニル基を表
し、pMZは4−メトキシベンジロキシカルボニル基を
表し、Fmocは9−フルオレニルメトキシカルボニル
基を表し、Tosはp−トルエンスルホニル基を表し、
Mtsは2,4,6−トリメチルベンゼンスルホニル基
を表し、Trtはトリチル基を表し、Phtはフタリル
基を表す。
ルボニル基を表し、Zはベンジロキシカルボニル基を表
し、pMZは4−メトキシベンジロキシカルボニル基を
表し、Fmocは9−フルオレニルメトキシカルボニル
基を表し、Tosはp−トルエンスルホニル基を表し、
Mtsは2,4,6−トリメチルベンゼンスルホニル基
を表し、Trtはトリチル基を表し、Phtはフタリル
基を表す。
【0024】次に本発明の化合物の製造法について説明
する。本発明のシクロプロペノン誘導体は、例えば次の
様な方法で製造することができる。
する。本発明のシクロプロペノン誘導体は、例えば次の
様な方法で製造することができる。
【0025】
【化4】
【0026】(上記一般式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4
およびR5 は既に定義したとおり。) 文献既知の方法(Tetrahedron Lette
rs,32巻、1339ページ、1991年)を利用し
て容易に合成できる上記一般式(II)で表されるシクロ
プロペノンケタール誘導体をテトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテル等のエーテル系溶媒に溶かし、テトラメチ
ルエチレンジアミン、ヘキサメチルホスホリックトリア
ミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリドン等の助剤
の存在下、−40〜−100℃においてノルマルブチル
リチウム、メチルリチウム、リチウムジイソプロピルア
ミド等の強塩基を加えてリチオ体とし、次に上記一般式
(III )で表されるアルデヒド誘導体を加えることによ
り、上記一般式(IV)で表されるシクロプロペノンケタ
ール誘導体を得ることができる。この反応において上記
で生成した化合物(II)のリチオ体に対して、さらに無
水塩化セリウムをテトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、ヘキサン等の溶媒に懸濁して加えてセリウム塩に変
換させてから上記一般式(III )で表されるアルデヒド
誘導体を反応させることもできる。次に、化合物(III
)をアセトン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン等に溶解し、アンバーリスト15(登録商標)の様な
イオン交換樹脂で処理するか、または希硫酸等の鉱酸を
加えることにより、ケタールが選択的に脱保護されて、
上記一般式(I)で表されるシクロプロペノン誘導体を
得ることができる。
およびR5 は既に定義したとおり。) 文献既知の方法(Tetrahedron Lette
rs,32巻、1339ページ、1991年)を利用し
て容易に合成できる上記一般式(II)で表されるシクロ
プロペノンケタール誘導体をテトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテル等のエーテル系溶媒に溶かし、テトラメチ
ルエチレンジアミン、ヘキサメチルホスホリックトリア
ミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリドン等の助剤
の存在下、−40〜−100℃においてノルマルブチル
リチウム、メチルリチウム、リチウムジイソプロピルア
ミド等の強塩基を加えてリチオ体とし、次に上記一般式
(III )で表されるアルデヒド誘導体を加えることによ
り、上記一般式(IV)で表されるシクロプロペノンケタ
ール誘導体を得ることができる。この反応において上記
で生成した化合物(II)のリチオ体に対して、さらに無
水塩化セリウムをテトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、ヘキサン等の溶媒に懸濁して加えてセリウム塩に変
換させてから上記一般式(III )で表されるアルデヒド
誘導体を反応させることもできる。次に、化合物(III
)をアセトン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン等に溶解し、アンバーリスト15(登録商標)の様な
イオン交換樹脂で処理するか、または希硫酸等の鉱酸を
加えることにより、ケタールが選択的に脱保護されて、
上記一般式(I)で表されるシクロプロペノン誘導体を
得ることができる。
【0027】上記一般式(I)で表されるシクロプロペ
ノン誘導体は、特願平4−146024号に記載の方法
により、カルパイン、パパイン、カテプシンB、カテプ
シンH、カテプシンL等のチオールプロテアーゼに対し
て強い阻害活性を示すシクロプロペノン誘導体に導くこ
とができる。
ノン誘導体は、特願平4−146024号に記載の方法
により、カルパイン、パパイン、カテプシンB、カテプ
シンH、カテプシンL等のチオールプロテアーゼに対し
て強い阻害活性を示すシクロプロペノン誘導体に導くこ
とができる。
【0028】
【実施例】以下、本発明を参考例および実施例によりさ
らに詳しく説明するが、本発明はその要旨を越えない限
り、これらの参考例および実施例に何ら制限を受けるも
のではない。 参考例1 2−((2S)−2−tert−ブトキシカ
ルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシル)シクロプロ
ペノン 2,2−ジメチル−1,3−プロパンジイルケ
タールの製造 シクロプロペノン 2,2−ジメチル−1,3−プロパ
ンジイルケタール16.42gをテトラヒドロフラン2
50mlに溶かしてN,N,N′,N′−テトラメチル
エチレンジアミン24.5gを加え、−78℃に冷却後
1.55mol/lのn−ブチルリチウムのヘキサン溶
液68mlを15分かけて滴下し、さらに1時間撹拌す
る。次に塩化セリウム7水和物48.6gを1mmHg
の減圧下140℃で2時間乾燥することにより調製した
無水塩化セリウムをテトラヒドロフラン200mlに懸
濁させて加え、さらに30分間撹拌した後、N−ter
t−ブトキシカルボニル−(S)−ノルロイシナール1
2.61gをテトラヒドロフラン50mlに溶かして加
える。−78℃で2.5時間撹拌した後、水3mlをテ
トラヒドロフラン20mlに溶かして加え、反応液を室
温まで上げてからセライトで濾過し、セライトを酢酸エ
チルで洗う。濾液を硫酸ナトリウムで乾燥してから濾
過、濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展
開溶媒25%酢酸エチル含有ヘキサン)で精製し、目的
物9.73gを得た。 収率:47% IR(neat,cm-1):3460,3370,17
00 NMR(CDCl3 ,δ):0.85〜1.0(m,3
H),0.92(s,3H),1.14(s,3H),
1.25〜1.55(m,6H),1.44(s,9
H),3.05〜3.15(m,0.7H),3.25
〜3.35(m,0.3H),3.61(s,2H),
3.63(s,2H),3.65〜3.85(m,0.
7H),3.85〜4.05(m,0.3H),4.7
0〜4.85(m,1H),4.85〜4.95(m,
0.3H),5.0〜5.15(m,0.7H),7.
65(s,0.7H),7.72(s,0.3H)
らに詳しく説明するが、本発明はその要旨を越えない限
り、これらの参考例および実施例に何ら制限を受けるも
のではない。 参考例1 2−((2S)−2−tert−ブトキシカ
ルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシル)シクロプロ
ペノン 2,2−ジメチル−1,3−プロパンジイルケ
タールの製造 シクロプロペノン 2,2−ジメチル−1,3−プロパ
ンジイルケタール16.42gをテトラヒドロフラン2
50mlに溶かしてN,N,N′,N′−テトラメチル
エチレンジアミン24.5gを加え、−78℃に冷却後
1.55mol/lのn−ブチルリチウムのヘキサン溶
液68mlを15分かけて滴下し、さらに1時間撹拌す
る。次に塩化セリウム7水和物48.6gを1mmHg
の減圧下140℃で2時間乾燥することにより調製した
無水塩化セリウムをテトラヒドロフラン200mlに懸
濁させて加え、さらに30分間撹拌した後、N−ter
t−ブトキシカルボニル−(S)−ノルロイシナール1
2.61gをテトラヒドロフラン50mlに溶かして加
える。−78℃で2.5時間撹拌した後、水3mlをテ
トラヒドロフラン20mlに溶かして加え、反応液を室
温まで上げてからセライトで濾過し、セライトを酢酸エ
チルで洗う。濾液を硫酸ナトリウムで乾燥してから濾
過、濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展
開溶媒25%酢酸エチル含有ヘキサン)で精製し、目的
物9.73gを得た。 収率:47% IR(neat,cm-1):3460,3370,17
00 NMR(CDCl3 ,δ):0.85〜1.0(m,3
H),0.92(s,3H),1.14(s,3H),
1.25〜1.55(m,6H),1.44(s,9
H),3.05〜3.15(m,0.7H),3.25
〜3.35(m,0.3H),3.61(s,2H),
3.63(s,2H),3.65〜3.85(m,0.
7H),3.85〜4.05(m,0.3H),4.7
0〜4.85(m,1H),4.85〜4.95(m,
0.3H),5.0〜5.15(m,0.7H),7.
65(s,0.7H),7.72(s,0.3H)
【0029】実施例1 2−((2S)−2−tert
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)シクロプロペノン(表−1中、化合物No.9)の
合成 参考例1で得られた2−((2S)−2−tert−ブ
トキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシル)シ
クロプロペノン 2,2−ジメチル−1,3−プロパン
ジイルケタール8.80gをジエチルエーテル100m
l及びテトラヒドロフラン20mlに溶かし、2N硫酸
0.2ml及び水1mlを加え、30分間撹拌した後、
エーテル300mlを加えて0.01規定水酸化ナトリ
ウム水溶液50ml及び飽和食塩水で順次洗う。硫酸マ
グネシウムで乾燥してから濾過、濃縮をし、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー(展開溶媒 ヘキサン:酢酸
エチル=1:2)で精製し、目的物3.15gを得た。 収率:47% IR(neat,cm-1):3440,1835,17
00 NMR(CDCl3 ,δ):0.85〜1.9(m,3
H),1.25〜1.85(m,6H),1.42
(s,9H),2.60〜2.90(m,1H),3.
75〜3.95(m,1H),4.75〜4.85
(m,0.8H),4.85〜4.95(m,0.2
H),5.19(d,J=9Hz,1H),8.59
(s,0.8H),8.65(s,0.2H) 参考例1及び実施例1と同様の操作により、次の化合物
を製造した。以下、物性値を記す。
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)シクロプロペノン(表−1中、化合物No.9)の
合成 参考例1で得られた2−((2S)−2−tert−ブ
トキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシル)シ
クロプロペノン 2,2−ジメチル−1,3−プロパン
ジイルケタール8.80gをジエチルエーテル100m
l及びテトラヒドロフラン20mlに溶かし、2N硫酸
0.2ml及び水1mlを加え、30分間撹拌した後、
エーテル300mlを加えて0.01規定水酸化ナトリ
ウム水溶液50ml及び飽和食塩水で順次洗う。硫酸マ
グネシウムで乾燥してから濾過、濃縮をし、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー(展開溶媒 ヘキサン:酢酸
エチル=1:2)で精製し、目的物3.15gを得た。 収率:47% IR(neat,cm-1):3440,1835,17
00 NMR(CDCl3 ,δ):0.85〜1.9(m,3
H),1.25〜1.85(m,6H),1.42
(s,9H),2.60〜2.90(m,1H),3.
75〜3.95(m,1H),4.75〜4.85
(m,0.8H),4.85〜4.95(m,0.2
H),5.19(d,J=9Hz,1H),8.59
(s,0.8H),8.65(s,0.2H) 参考例1及び実施例1と同様の操作により、次の化合物
を製造した。以下、物性値を記す。
【0030】実施例2 2−(2−tert−ブトキシ
カルボニルアミノ−1−ヒドロキシエチル)シクロプロ
ペノン(表−1中、化合物No.1) IR(neat,cm-1):3350,1840,17
18,1700 NMR(CDCl3 ,δ):1.44(s,9H),
3.43〜3.70(m,2H),4.84〜4.97
(m,2H),5.15〜5.70(m,1H),8.
63(s,1H)
カルボニルアミノ−1−ヒドロキシエチル)シクロプロ
ペノン(表−1中、化合物No.1) IR(neat,cm-1):3350,1840,17
18,1700 NMR(CDCl3 ,δ):1.44(s,9H),
3.43〜3.70(m,2H),4.84〜4.97
(m,2H),5.15〜5.70(m,1H),8.
63(s,1H)
【0031】実施例3 2−((2S)−2−tert
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−3−メ
チルブチル)シクロプロペノン(表−1中、化合物N
o.3) IR(KBr,cm-1):3330,1838,182
0,1712,1690,1678 NMR(CDCl3 ,δ):1.02(d,J=7.2
Hz,2.1H),1.05(d,J=7.3Hz,
2.1H),1.08(d,J=7.3Hz,0.9
H),1.11(d,J=7.3Hz,0.9H),
1.41(s,6.3H),1.43(s,2.7
H),1.90〜2.05(m,0.3H),2.15
〜2.33(m,0.7H),3.40(m,0.7
H),3.68(m,0.3H),4.87〜4.98
(m,1H),5.02〜5.16(m,2H),8.
57(s,0.7H),8.66(s,0.3H)
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−3−メ
チルブチル)シクロプロペノン(表−1中、化合物N
o.3) IR(KBr,cm-1):3330,1838,182
0,1712,1690,1678 NMR(CDCl3 ,δ):1.02(d,J=7.2
Hz,2.1H),1.05(d,J=7.3Hz,
2.1H),1.08(d,J=7.3Hz,0.9
H),1.11(d,J=7.3Hz,0.9H),
1.41(s,6.3H),1.43(s,2.7
H),1.90〜2.05(m,0.3H),2.15
〜2.33(m,0.7H),3.40(m,0.7
H),3.68(m,0.3H),4.87〜4.98
(m,1H),5.02〜5.16(m,2H),8.
57(s,0.7H),8.66(s,0.3H)
【0032】実施例4 2−((2S)−2−tert
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−4−メ
チルペンチル)シクロプロペノン(表−1中、化合物N
o.6) IR(neat,cm-1):3350,1833,17
00 NMR(CDCl3 ,δ):0.86〜0.98(m,
6H),1.43(s,9H),1.55〜1.83
(m,3H),3.88〜4.06(m,1H),4.
70〜4.86(m,1H),5.12〜5.38
(m,1H),8.61(s,0.75H),8.66
(s,0.25H)
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−4−メ
チルペンチル)シクロプロペノン(表−1中、化合物N
o.6) IR(neat,cm-1):3350,1833,17
00 NMR(CDCl3 ,δ):0.86〜0.98(m,
6H),1.43(s,9H),1.55〜1.83
(m,3H),3.88〜4.06(m,1H),4.
70〜4.86(m,1H),5.12〜5.38
(m,1H),8.61(s,0.75H),8.66
(s,0.25H)
【0033】実施例5 2−((1S,2S)−2−ベ
ンジロキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)シクロプロペノン(表−1中、化合物No.10) IR(neat,cm-1):3440,3350,18
40,1715 NMR(CDCl3 ,δ):0.82〜0.98(m,
3H),1.26〜1.80(m,6H),3.85〜
4.05(m,1H),4.76〜4.84(m,1
H),4.86〜4.93(m,0.4H),5.02
〜5.16(m,2.6H),5.27(d,J=7.
8Hz,0.4H),5.47(d,J=7.7Hz,
0.6H),8.44(s,0.4H),8.49
(s,0.6H)
ンジロキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)シクロプロペノン(表−1中、化合物No.10) IR(neat,cm-1):3440,3350,18
40,1715 NMR(CDCl3 ,δ):0.82〜0.98(m,
3H),1.26〜1.80(m,6H),3.85〜
4.05(m,1H),4.76〜4.84(m,1
H),4.86〜4.93(m,0.4H),5.02
〜5.16(m,2.6H),5.27(d,J=7.
8Hz,0.4H),5.47(d,J=7.7Hz,
0.6H),8.44(s,0.4H),8.49
(s,0.6H)
【0034】実施例6 2−((2S)−2−tert
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−3−フ
ェニルプロピル)シクロプロペノン(表−1中、化合物
No.18) IR(KBr,cm-1):3265,1838,170
0 NMR(CDCl3 ,δ):1.41(s,6.3
H),1.43(s,2.7H),2.80〜3.18
(m,2H),3.94〜4.25(m,1H),4.
65〜4.77(m,1H),4.82〜4.95
(m,0.3H),5.15〜5.25(m,0.7
H),5.30〜5.42(m,0.7H),5.50
〜5.60(m,0.3H),7.13〜7.35
(m,5H),8.43(s,0.7H),8.51
(s,0.3H)
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−3−フ
ェニルプロピル)シクロプロペノン(表−1中、化合物
No.18) IR(KBr,cm-1):3265,1838,170
0 NMR(CDCl3 ,δ):1.41(s,6.3
H),1.43(s,2.7H),2.80〜3.18
(m,2H),3.94〜4.25(m,1H),4.
65〜4.77(m,1H),4.82〜4.95
(m,0.3H),5.15〜5.25(m,0.7
H),5.30〜5.42(m,0.7H),5.50
〜5.60(m,0.3H),7.13〜7.35
(m,5H),8.43(s,0.7H),8.51
(s,0.3H)
【0035】実施例7 2−((2S)−2−tert
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−メチルシクロプロペノン(表−1中、化合物
No.26) NMR(CDCl3 ,δ):0.87〜0.96(m,
3H),1.28〜1.50(m,2H),1.41
(s,9H),1.50〜1.82(m,4H),2.
32(s,3H),3.68〜3.82(m,0.6
H),3.82〜3.93(m,0.4H),4.67
〜4.82(m,1.4H),4.87〜5.0(m,
0.4H),5.02〜5.14(m,0.6H),
5.44(d,J=6.8Hz,0.6H)
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−メチルシクロプロペノン(表−1中、化合物
No.26) NMR(CDCl3 ,δ):0.87〜0.96(m,
3H),1.28〜1.50(m,2H),1.41
(s,9H),1.50〜1.82(m,4H),2.
32(s,3H),3.68〜3.82(m,0.6
H),3.82〜3.93(m,0.4H),4.67
〜4.82(m,1.4H),4.87〜5.0(m,
0.4H),5.02〜5.14(m,0.6H),
5.44(d,J=6.8Hz,0.6H)
【0036】実施例8 2−((2S)−2−tert
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−4−メ
チルペンチル)−3−エチルシクロプロペノン(表−1
中、化合物No.28) IR(neat,cm-1):3360,1852,16
96,1622 NMR(CDCl3 ,δ):0.90(d,J=7.2
Hz,3H),0.94(d,J=7.1Hz,3
H),1.28(t,J=7.7Hz,3H),1.4
2(s,9H),1.40〜1.58(m,2H),
1.60〜1.78(m,1H),2.63(q,J=
7.7Hz,2H),3.70〜3.85(m,1
H),4.60〜4.75(m,1H),4.75〜
4.90(m,1H),5.0〜5.18(m,1H)
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−4−メ
チルペンチル)−3−エチルシクロプロペノン(表−1
中、化合物No.28) IR(neat,cm-1):3360,1852,16
96,1622 NMR(CDCl3 ,δ):0.90(d,J=7.2
Hz,3H),0.94(d,J=7.1Hz,3
H),1.28(t,J=7.7Hz,3H),1.4
2(s,9H),1.40〜1.58(m,2H),
1.60〜1.78(m,1H),2.63(q,J=
7.7Hz,2H),3.70〜3.85(m,1
H),4.60〜4.75(m,1H),4.75〜
4.90(m,1H),5.0〜5.18(m,1H)
【0037】実施例9 2−((2S)−2−tert
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−イソペンチルシクロプロペノン(表−1中、
化合物No.35) IR(neat,cm-1):3320,1842,17
07,1683,1620 NMR(CDCl3 ,δ):0.83〜0.98(m,
9H),1.28〜1.85(m,9H),1.41
(s,9H),2.66(q,J=7.2Hz,2
H),3.67〜3.95(m,1H),4.60〜
4.70(m,1H),4.70〜4.78(m,1
H),4.98〜5.08(m,1H)
−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−イソペンチルシクロプロペノン(表−1中、
化合物No.35) IR(neat,cm-1):3320,1842,17
07,1683,1620 NMR(CDCl3 ,δ):0.83〜0.98(m,
9H),1.28〜1.85(m,9H),1.41
(s,9H),2.66(q,J=7.2Hz,2
H),3.67〜3.95(m,1H),4.60〜
4.70(m,1H),4.70〜4.78(m,1
H),4.98〜5.08(m,1H)
【0038】実施例10 2−((1S,2S)−2−
tert−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ
ヘキシル)−3−((Z)−1−ヘキセニル)シクロプ
ロペノン(表−1中、化合物No.47) IR(neat,cm-1):3270,1842,17
10,1690,1635 NMR(CDCl3 ,δ):0.80〜0.97(m,
6H),1.25〜1.83(m,10H),1.40
(s,9H),2.59(q,J=7.0Hz,2
H),3.75(m,1H),4.70(m,1H),
4.79(d,J=4.7Hz,1H),5.01
(d,J=8.6Hz,1H),6.26(d,J=1
1Hz,1H),6.40〜6.55(m,1H)
tert−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ
ヘキシル)−3−((Z)−1−ヘキセニル)シクロプ
ロペノン(表−1中、化合物No.47) IR(neat,cm-1):3270,1842,17
10,1690,1635 NMR(CDCl3 ,δ):0.80〜0.97(m,
6H),1.25〜1.83(m,10H),1.40
(s,9H),2.59(q,J=7.0Hz,2
H),3.75(m,1H),4.70(m,1H),
4.79(d,J=4.7Hz,1H),5.01
(d,J=8.6Hz,1H),6.26(d,J=1
1Hz,1H),6.40〜6.55(m,1H)
【0039】実施例11 2−((2S)−2−ter
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−フェニルシクロプロペノン(表−1中、化合
物No.64) NMR(CDCl3 ,δ):0.86〜0.97(m,
3H),1.28〜1.51(m,4H),1.31
(s,1.8H),1.34(s,7.2H),1.5
2〜1.93(m,2H),3.73〜3.88(m,
0.8H),3.93〜4.03(m,0.2H),
4.84(d,J=6.8Hz,0.2H),4.91
〜5.03(m,1H),5.12〜5.27(m,
1.6H),5.73(d,J=8.1Hz,0.2
H),7.42〜7.60(m,3H),7.95〜
8.05(m,2H)
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−フェニルシクロプロペノン(表−1中、化合
物No.64) NMR(CDCl3 ,δ):0.86〜0.97(m,
3H),1.28〜1.51(m,4H),1.31
(s,1.8H),1.34(s,7.2H),1.5
2〜1.93(m,2H),3.73〜3.88(m,
0.8H),3.93〜4.03(m,0.2H),
4.84(d,J=6.8Hz,0.2H),4.91
〜5.03(m,1H),5.12〜5.27(m,
1.6H),5.73(d,J=8.1Hz,0.2
H),7.42〜7.60(m,3H),7.95〜
8.05(m,2H)
【0040】実施例12 2−((2S)−2−ter
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−(2−トリル)シクロプロペノン(表−1
中、化合物No.93) NMR(CDCl3 ,δ):0.85〜0.96(m,
3H),1.28〜1.51(m,13H),1.53
〜1.95(m,2H),2.68(s,3H),3.
72〜3.88(m,0.7H),3.94〜4.05
(m,0.3H),4.75〜5.18(m,2.7
H),5.59(d,J=8.1Hz,0.3H),
7.25〜7.34(m,2H),7.38〜7.47
(m,1H),8.07〜8.16(m,1H)
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−(2−トリル)シクロプロペノン(表−1
中、化合物No.93) NMR(CDCl3 ,δ):0.85〜0.96(m,
3H),1.28〜1.51(m,13H),1.53
〜1.95(m,2H),2.68(s,3H),3.
72〜3.88(m,0.7H),3.94〜4.05
(m,0.3H),4.75〜5.18(m,2.7
H),5.59(d,J=8.1Hz,0.3H),
7.25〜7.34(m,2H),7.38〜7.47
(m,1H),8.07〜8.16(m,1H)
【0041】実施例13 2−((2S)−2−ter
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−(5−トリメチルシリル−2−チエニル)シ
クロプロペノン(表−1中、化合物No.127) NMR(CDCl3 ,δ):0.34(s,2.7
H),0.35(s,6.3H),0.86〜0.97
(m,3H),1.25〜1.52(m,4H),1.
32(s,2.7H),1.35(s,6.3H),
1.53〜1.92(m,2H),3.68〜3.82
(m,0.7H),3.92〜4.02(m,0.3
H),4.65〜5.09(m,2.7H),5.69
(d,J=7.7Hz,0.3H),7.28(d,J
=4.1Hz,0.3H),7.29(d,J=4.1
Hz,0.7H),7.82(d,J=4.1Hz,1
H)
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシヘキシ
ル)−3−(5−トリメチルシリル−2−チエニル)シ
クロプロペノン(表−1中、化合物No.127) NMR(CDCl3 ,δ):0.34(s,2.7
H),0.35(s,6.3H),0.86〜0.97
(m,3H),1.25〜1.52(m,4H),1.
32(s,2.7H),1.35(s,6.3H),
1.53〜1.92(m,2H),3.68〜3.82
(m,0.7H),3.92〜4.02(m,0.3
H),4.65〜5.09(m,2.7H),5.69
(d,J=7.7Hz,0.3H),7.28(d,J
=4.1Hz,0.3H),7.29(d,J=4.1
Hz,0.7H),7.82(d,J=4.1Hz,1
H)
【0042】実施例14 2−((2S)−2−ter
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−3−
メチルブチル)−3−(1−ヒドロキシ−1−メチルエ
チル)シクロプロペノン(表−1中、化合物No.13
5) IR(neat,cm-1):3430,3300,18
40,1683,1628 NMR(CDCl3 ,δ):0.98(d,J=6.8
Hz,1.8H),1.04(d,J=6.8Hz,
1.8H),1.05(d,J=6.7Hz,1.2
H),1.10(d,J=6.8Hz,1.2H),
1.41(s,5.4H),1.43(s,3.6
H),1.48〜1.57(m,6H),1.90〜
2.12(m,1H),3.65〜3.80(m,1
H),4.20(s,0.4H),4.76(d,J=
7.7Hz,0.4H),4.85〜4.17(m,
2.8H),5.59(m,0.4H)
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−3−
メチルブチル)−3−(1−ヒドロキシ−1−メチルエ
チル)シクロプロペノン(表−1中、化合物No.13
5) IR(neat,cm-1):3430,3300,18
40,1683,1628 NMR(CDCl3 ,δ):0.98(d,J=6.8
Hz,1.8H),1.04(d,J=6.8Hz,
1.8H),1.05(d,J=6.7Hz,1.2
H),1.10(d,J=6.8Hz,1.2H),
1.41(s,5.4H),1.43(s,3.6
H),1.48〜1.57(m,6H),1.90〜
2.12(m,1H),3.65〜3.80(m,1
H),4.20(s,0.4H),4.76(d,J=
7.7Hz,0.4H),4.85〜4.17(m,
2.8H),5.59(m,0.4H)
【0043】実施例15 2−((2S)−2−ter
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−3−
メチルブチル)−3−〔(ヒドロキシ)(フェニル)メ
チル〕シクロプロペノン(表−1中、化合物No.14
4) IR(neat,cm-1):3440,3330,18
45,1716,1683,1630 NMR(CDCl3 ,δ):0.96〜1.11(m,
6H),1.18(s,1.9H),1.37(s,
1.0H),1.39(s,3.6H),1.43
(s,2.5H),1.90〜2.15(m,1H),
3.68〜3.78(m,0.3H),3.78〜3.
89(m,0.7H),4.89〜5.40(m,1
H),5.16(d,J=11Hz,0.7H),5.
40(d,J=11Hz,0.3H),5.30〜5.
41(m,1H),5.62(d,J=9.2Hz,
0.3H),5.80(d,J=9.2Hz,0.7
H),5.86(s,1H),7.50〜7.86
(m,3H),7.86〜8.11(m,2H)
t−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−3−
メチルブチル)−3−〔(ヒドロキシ)(フェニル)メ
チル〕シクロプロペノン(表−1中、化合物No.14
4) IR(neat,cm-1):3440,3330,18
45,1716,1683,1630 NMR(CDCl3 ,δ):0.96〜1.11(m,
6H),1.18(s,1.9H),1.37(s,
1.0H),1.39(s,3.6H),1.43
(s,2.5H),1.90〜2.15(m,1H),
3.68〜3.78(m,0.3H),3.78〜3.
89(m,0.7H),4.89〜5.40(m,1
H),5.16(d,J=11Hz,0.7H),5.
40(d,J=11Hz,0.3H),5.30〜5.
41(m,1H),5.62(d,J=9.2Hz,
0.3H),5.80(d,J=9.2Hz,0.7
H),5.86(s,1H),7.50〜7.86
(m,3H),7.86〜8.11(m,2H)
【0044】
【発明の効果】本発明のシクロプロペノン誘導体は、カ
ルパイン、パパイン、カテプシンB、カテプシンH、カ
テプシンL等のチオールプロテアーゼに対して強い阻害
活性を示すシクロプロペノン誘導体の製造中間体として
用いることができる。
ルパイン、パパイン、カテプシンB、カテプシンH、カ
テプシンL等のチオールプロテアーゼに対して強い阻害
活性を示すシクロプロペノン誘導体の製造中間体として
用いることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C07D 333/26 C07D 333/26 C07F 7/10 C07F 7/10 Q (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) CA(STN) REGISTRY(STN)
Claims (1)
- 【請求項1】 下記一般式(I) 【化1】 〔上記一般式(I)中、R1 はアミノ基の保護基を表
し、R2 は水素原子、C1〜C5 のアルキル基またはア
ミノ基の保護基を表すが、R1 とR2 が一緒になってフ
タリル基を形成してもよく、R3 は水素原子またはC3
〜C10のシクロアルキル基もしくはC6 〜C10のアリー
ル基で置換されていてもよいC1 〜C15のアルキル基を
表し、R4 は水素原子またはC1 〜C5 のアルキル基を
表すが、R3とR4 が一緒になってC3 〜C10のシクロ
アルキル基を形成してもよく、R5 は水素原子;C1 〜
C15のアルキル基;C3 〜C10のシクロアルキル基;C
2 〜C 15のアルケニル基;ハロゲン原子、C1 〜C5 の
アルキル基、ヒドロキシル基およびC1 〜C5 のアルコ
キシ基から選ばれる1以上の置換基を有していてもよい
C6 〜C10のアリール基;C3 〜C12のトリアルキルシ
リル基、ハロゲン原子、C1 〜C5 のアルキル基、ヒド
ロキシル基およびC1 〜C5 のアルコキシ基から選ばれ
る1以上の置換基を有していてもよい、酸素原子、硫黄
原子および窒素原子から選ばれるヘテロ原子を1〜4個
有し、環を構成する総原子数が5〜10のヘテロ環基;
または−CR6 R7 OH(R6 およびR7 はそれぞれ独
立して水素原子、C1 〜C15のアルキル基またはC6 〜
C10のアリール基を表すが、R6 とR7 が一緒になって
C3 〜C10のシクロアルキル基を形成してもよい。)を
表す。〕で表されるシクロプロペノン誘導体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04262473A JP3143529B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | シクロプロペノン誘導体 |
| US08/126,646 US5395958A (en) | 1992-09-30 | 1993-09-27 | Cyclopropene derivatives |
| DE69325062T DE69325062D1 (de) | 1992-09-30 | 1993-09-29 | Cyclopropen-Derivate mit Thiol-Protease hemmender Wirkung |
| EP93115752A EP0590650B1 (en) | 1992-09-30 | 1993-09-29 | Cyclopropene derivatives with thiol protease inhibiting activity |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04262473A JP3143529B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | シクロプロペノン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06122662A JPH06122662A (ja) | 1994-05-06 |
| JP3143529B2 true JP3143529B2 (ja) | 2001-03-07 |
Family
ID=17376275
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04262473A Expired - Fee Related JP3143529B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | シクロプロペノン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3143529B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6524535B1 (en) | 1997-08-25 | 2003-02-25 | Nikki-Universal Co., Ltd. | Adsorption, decomposition deodorization element |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011195616A (ja) * | 2010-03-17 | 2011-10-06 | Eiweiss Kk | 光硬化性樹脂組成物 |
-
1992
- 1992-09-30 JP JP04262473A patent/JP3143529B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6524535B1 (en) | 1997-08-25 | 2003-02-25 | Nikki-Universal Co., Ltd. | Adsorption, decomposition deodorization element |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06122662A (ja) | 1994-05-06 |
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