JP3147594B2 - 電子写真感光体のすすぎ洗浄方法 - Google Patents
電子写真感光体のすすぎ洗浄方法Info
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- JP3147594B2 JP3147594B2 JP16552193A JP16552193A JP3147594B2 JP 3147594 B2 JP3147594 B2 JP 3147594B2 JP 16552193 A JP16552193 A JP 16552193A JP 16552193 A JP16552193 A JP 16552193A JP 3147594 B2 JP3147594 B2 JP 3147594B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真複写機やレー
ザープリンタの感光ドラムなどに用いられる電子写真用
感光体の導電性基体を、水系下で洗浄した後にすすぎ洗
浄する方法に関する。
ザープリンタの感光ドラムなどに用いられる電子写真用
感光体の導電性基体を、水系下で洗浄した後にすすぎ洗
浄する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、電子写真用感光体は、アルミニ
ウムまたはその合金からなる導電性基体上に、セレン系
材料、アモルフアスシリコン、有機物系材料等からなる
光導電層が塗布や蒸着されて形成されている。導電性基
体として最も一般的に用いられているのは、円筒型金属
ドラムである。円筒型金属ドラムはアルミニウム等の素
管が用いられるが、素管の表面には、切削加工工程にお
いて発生する金属粉、周囲環境からの塵埃、切削加工時
に使用する油及び切削加工後の素管表面を保護するため
に用いた油が付着している。このような素管に感光層を
塗布して電子写真感光体を形成すると、素管表面の上記
付着物が、感光体の画像特性に悪影響を及ぼす。このた
め、該導電性基体は塗布液を均一な厚さに塗布するため
や蒸着を均一にするために、塗布や蒸着の前に洗浄さ
れ、その表面に付着している金属粉や油脂などの異物が
除去される。アルミニウムまたはその合金からなる導電
性基体を洗浄する方法としては、例えば、特開昭５８−
１０８５６８号に開示されているように、アルミニウム
素管が浸せきされた洗浄液を超音波振動させる方法や、
特開平３−１５４６７９号に開示されているように、ア
ルミニウム素管に高圧で洗浄液をシャワーノズルで吐出
する方法が知られている。しかしながら、このような洗
浄工程の後にはアルミニウム素管に洗浄液が付着したま
ま残留するため、純水ですすぎ洗浄をする必要があっ
た。
ウムまたはその合金からなる導電性基体上に、セレン系
材料、アモルフアスシリコン、有機物系材料等からなる
光導電層が塗布や蒸着されて形成されている。導電性基
体として最も一般的に用いられているのは、円筒型金属
ドラムである。円筒型金属ドラムはアルミニウム等の素
管が用いられるが、素管の表面には、切削加工工程にお
いて発生する金属粉、周囲環境からの塵埃、切削加工時
に使用する油及び切削加工後の素管表面を保護するため
に用いた油が付着している。このような素管に感光層を
塗布して電子写真感光体を形成すると、素管表面の上記
付着物が、感光体の画像特性に悪影響を及ぼす。このた
め、該導電性基体は塗布液を均一な厚さに塗布するため
や蒸着を均一にするために、塗布や蒸着の前に洗浄さ
れ、その表面に付着している金属粉や油脂などの異物が
除去される。アルミニウムまたはその合金からなる導電
性基体を洗浄する方法としては、例えば、特開昭５８−
１０８５６８号に開示されているように、アルミニウム
素管が浸せきされた洗浄液を超音波振動させる方法や、
特開平３−１５４６７９号に開示されているように、ア
ルミニウム素管に高圧で洗浄液をシャワーノズルで吐出
する方法が知られている。しかしながら、このような洗
浄工程の後にはアルミニウム素管に洗浄液が付着したま
ま残留するため、純水ですすぎ洗浄をする必要があっ
た。
【０００３】上記すすぎ工程の従来技術の一例の概略図
を図２に示す。導電性基体内径よりわずかに小さい外形
を有する円筒形タワー４に、基体１を被せて保持する。
すすぎ流体を基体外面用ノズル２及び内面用ノズル３よ
り棒状又は霧状で、それぞれ基体外面１ａ及び内面１ｂ
に対し垂直に噴射５ａする。この時、すすぎ流体は基体
全体に噴射される。これらの従来技術では、流体を棒状
に噴射する場合は、すすぎ面積が小さく、基体に作用し
た流体が回りに飛び散るためすすぎ効率が悪く、流体を
霧状に噴射する場合は、すすぎ面積は大きいが、基体に
作用する圧力が十分得られず、すすぎ効率が悪い。流体
を基体に対して垂直に噴射する場合は、基体に作用した
流体が回りに飛び散るためすすぎ効率が悪い、又、流体
を基体全体に均一に噴射する場合は、噴射された流体が
下方向に流れ落ちるため、基体下部が上部より先にすす
ぎが終り、その結果すすぎ時間が長くなる。更に、基体
内径よりわずかに小さい外径を有する円筒形タワーに、
基体をかぶせて保持する場合、タワーで覆われている基
体内面部のすすぎが行われにくく、基体内面用ノズルよ
り噴射された流体が基体内面にそって流れ落ち、基体と
タワーの間に流体が堪り、すすぎが行われにくいので、
すすぎ効率が悪い、という欠点を有していた。
を図２に示す。導電性基体内径よりわずかに小さい外形
を有する円筒形タワー４に、基体１を被せて保持する。
すすぎ流体を基体外面用ノズル２及び内面用ノズル３よ
り棒状又は霧状で、それぞれ基体外面１ａ及び内面１ｂ
に対し垂直に噴射５ａする。この時、すすぎ流体は基体
全体に噴射される。これらの従来技術では、流体を棒状
に噴射する場合は、すすぎ面積が小さく、基体に作用し
た流体が回りに飛び散るためすすぎ効率が悪く、流体を
霧状に噴射する場合は、すすぎ面積は大きいが、基体に
作用する圧力が十分得られず、すすぎ効率が悪い。流体
を基体に対して垂直に噴射する場合は、基体に作用した
流体が回りに飛び散るためすすぎ効率が悪い、又、流体
を基体全体に均一に噴射する場合は、噴射された流体が
下方向に流れ落ちるため、基体下部が上部より先にすす
ぎが終り、その結果すすぎ時間が長くなる。更に、基体
内径よりわずかに小さい外径を有する円筒形タワーに、
基体をかぶせて保持する場合、タワーで覆われている基
体内面部のすすぎが行われにくく、基体内面用ノズルよ
り噴射された流体が基体内面にそって流れ落ち、基体と
タワーの間に流体が堪り、すすぎが行われにくいので、
すすぎ効率が悪い、という欠点を有していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、スプレイ式
によるすすぎ洗浄方式において、上記従来技術に比較し
て、基体内面、外面を短時間で効率良くすすぐ洗浄方法
を提供するものである。
によるすすぎ洗浄方式において、上記従来技術に比較し
て、基体内面、外面を短時間で効率良くすすぐ洗浄方法
を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
には、アルミニウム又はその合金からなる電子写真感光
体の導電性基体を、水系下で洗浄した後にすすぎ洗浄す
る方法において、スリットノズルより純水をフイルム状
にかつ連続的に噴射スプレイし、該噴射スプレイを基体
内及び外面上に打ち当てることが有効であることを見出
し、さらに、基体上部のすすぎ洗浄時間を全体の洗浄時
間の半分以上にするとき、また、基体を保持するタワー
が基体内面とタワー外面との接触面積が少ない構造であ
るときさらに一層大きな効果があることを見出だした。
本発明で使用する純水は、逆浸透膜、イオン交換樹脂、
フィルターなどにより、電解質成分、異物、バクテリア
が除去された物である。
には、アルミニウム又はその合金からなる電子写真感光
体の導電性基体を、水系下で洗浄した後にすすぎ洗浄す
る方法において、スリットノズルより純水をフイルム状
にかつ連続的に噴射スプレイし、該噴射スプレイを基体
内及び外面上に打ち当てることが有効であることを見出
し、さらに、基体上部のすすぎ洗浄時間を全体の洗浄時
間の半分以上にするとき、また、基体を保持するタワー
が基体内面とタワー外面との接触面積が少ない構造であ
るときさらに一層大きな効果があることを見出だした。
本発明で使用する純水は、逆浸透膜、イオン交換樹脂、
フィルターなどにより、電解質成分、異物、バクテリア
が除去された物である。
【０００６】
【実施例】以下、本発明の実施例を図に基づいて説明す
る。図１は、本発明の実施例を示す断面図である。基体
保持タワー４に導電性基体１が載せられ、該導電性基体
の外面１ａ及び内面１ｂに対して基体外面用ノズル２及
び基体内面用ノズル３から噴射流体５ａが噴射される。
噴射流体５ａはフイルム状であり、水平方向に対する角
度を調節することが好ましい。基体保持タワー４は周方
向１００に回転し、基体外面用ノズル２及び基体内面用
ノズル３は上下方向１０１に移動する。図３は導電性基
体１であり、図４は基体保持タワー４である。図５は、
本発明の他の実施例を示す断面図である。図６から図９
は、本発明に用いられる各種のタワーである。図６及び
図７は、基体を保持するタワーが基体内面とタワー外面
との接触面積が少ない構造であり、基体とタワーとの接
触面積を少なくすることにより、基体とタワーが接触し
ていない部分に流体が流れ込み、すすぎ洗浄が速やかに
行われる。図６はタワーとして、タワー外面とタワー内
面を貫通する穴を有する構造体を用いた例であり、基体
内面１ｂに接するタワー側面４ｃの中部に、タワー外面
４ａ、タワー内面４ｂを貫通する穴を有している。ま
た、図７はタワーとして、外面に基体を保持する部分と
すすぎ水が溜まる空間部分とを有する構造体を用いた例
であり、基体内面１ｂに接するタワー外面４ａに鉛直方
向の溝を少なくとも３列以上有している。図８及び図９
は、基体内面１ｂとタワー外面４ａとの隙間にはいった
流体の排出口を有する構造のタワーで、基体内面とタワ
ー外面との隙間にはいった流体が速やかに排水されるこ
とにより、新たに基体内面に沿って流れ落ちてきた流体
が隙間に流れやすくなるため、すすぎ洗浄が速やかに行
われる。具体的には、図８は、基体下面１ｃと接触する
タワー上面４ｄとの間に、隙間が出来る構造のタワーで
ある。図９は、基体下面１ｃと接触するタワー上面４ｄ
が複数個の穴を有する構造のタワーである。
る。図１は、本発明の実施例を示す断面図である。基体
保持タワー４に導電性基体１が載せられ、該導電性基体
の外面１ａ及び内面１ｂに対して基体外面用ノズル２及
び基体内面用ノズル３から噴射流体５ａが噴射される。
噴射流体５ａはフイルム状であり、水平方向に対する角
度を調節することが好ましい。基体保持タワー４は周方
向１００に回転し、基体外面用ノズル２及び基体内面用
ノズル３は上下方向１０１に移動する。図３は導電性基
体１であり、図４は基体保持タワー４である。図５は、
本発明の他の実施例を示す断面図である。図６から図９
は、本発明に用いられる各種のタワーである。図６及び
図７は、基体を保持するタワーが基体内面とタワー外面
との接触面積が少ない構造であり、基体とタワーとの接
触面積を少なくすることにより、基体とタワーが接触し
ていない部分に流体が流れ込み、すすぎ洗浄が速やかに
行われる。図６はタワーとして、タワー外面とタワー内
面を貫通する穴を有する構造体を用いた例であり、基体
内面１ｂに接するタワー側面４ｃの中部に、タワー外面
４ａ、タワー内面４ｂを貫通する穴を有している。ま
た、図７はタワーとして、外面に基体を保持する部分と
すすぎ水が溜まる空間部分とを有する構造体を用いた例
であり、基体内面１ｂに接するタワー外面４ａに鉛直方
向の溝を少なくとも３列以上有している。図８及び図９
は、基体内面１ｂとタワー外面４ａとの隙間にはいった
流体の排出口を有する構造のタワーで、基体内面とタワ
ー外面との隙間にはいった流体が速やかに排水されるこ
とにより、新たに基体内面に沿って流れ落ちてきた流体
が隙間に流れやすくなるため、すすぎ洗浄が速やかに行
われる。具体的には、図８は、基体下面１ｃと接触する
タワー上面４ｄとの間に、隙間が出来る構造のタワーで
ある。図９は、基体下面１ｃと接触するタワー上面４ｄ
が複数個の穴を有する構造のタワーである。
【０００７】以下の実施例、比較例での評価方法は、そ
れぞれの条件ですすぎ洗浄後の基体に付着した純水に含
まれる洗剤濃度で評価する。評価は５段階評価とし、
“５”は洗剤濃度が低く、“１”は洗剤濃度が高いもの
とする。なお、評価は各要素別にランク付けした。実施
例１〜４は図５に示す概略図によって行った。 実施例：１ アルミニウム合金で構成された導電性基体
１を、タワー４にのせ、水系下で洗浄した。その後、基
体１を周方向１００に回転させつつ、外面ノズル２及び
内面ノズル３より噴射される形状がフイルム状の純水を
打ち当て、５分間すすぎ洗浄を行った。評価は５であっ
た。 比較例：１ 実施例１において、ノズルより噴射される
形状が棒状の純水ですすぎ洗浄を行った。評価は３であ
った。 比較例：２ 実施例１において、ノズルより噴射される
形状が霧状の純水ですすぎ洗浄を行った。評価は２であ
った。 実施例：２ アルミニウム合金で構成された導電性基体
１を、タワー４にのせ、水系下で洗浄した。その後、基
体１を周方向１００に回転させつつ、外面ノズル２及び
内面ノズル３より噴射される形状がフイルム状の純水を
打ち当て、５分間すすぎ洗浄を行った。この際のすすぎ
洗浄時間の割り付けを次のようにした。基体上部＝１／
２，基体中部＝１／４，基体下部＝１／４。評価は５で
あった。 実施例：３ アルミニウム合金で構成された導電性基体
１を、図６に示すタワーにのせ、水系下で洗浄した。そ
の後、基体１を周方向１００に回転させつつ、外面ノズ
ル２及び内面ノズル３より噴射される形状がフイルム状
の純水を打ち当て、５分間すすぎ洗浄を行った。評価は
５であった。又、図７に示すタワーを用いても同様の結
果が得られた。 実施例：４ アルミニウム合金で構成された導電性基体
１を、図８に示すタワーにのせ、水系下で洗浄した。そ
の後、基体１を周方向１００に回転させつつ、外面ノズ
ル２及び内面ノズル３より噴射される形状がフイルム状
の純水を打ち当て、５分間すすぎ洗浄を行った。評価は
５であった。又、図９に示すタワーを用いても同様の結
果が得られた。
れぞれの条件ですすぎ洗浄後の基体に付着した純水に含
まれる洗剤濃度で評価する。評価は５段階評価とし、
“５”は洗剤濃度が低く、“１”は洗剤濃度が高いもの
とする。なお、評価は各要素別にランク付けした。実施
例１〜４は図５に示す概略図によって行った。 実施例：１ アルミニウム合金で構成された導電性基体
１を、タワー４にのせ、水系下で洗浄した。その後、基
体１を周方向１００に回転させつつ、外面ノズル２及び
内面ノズル３より噴射される形状がフイルム状の純水を
打ち当て、５分間すすぎ洗浄を行った。評価は５であっ
た。 比較例：１ 実施例１において、ノズルより噴射される
形状が棒状の純水ですすぎ洗浄を行った。評価は３であ
った。 比較例：２ 実施例１において、ノズルより噴射される
形状が霧状の純水ですすぎ洗浄を行った。評価は２であ
った。 実施例：２ アルミニウム合金で構成された導電性基体
１を、タワー４にのせ、水系下で洗浄した。その後、基
体１を周方向１００に回転させつつ、外面ノズル２及び
内面ノズル３より噴射される形状がフイルム状の純水を
打ち当て、５分間すすぎ洗浄を行った。この際のすすぎ
洗浄時間の割り付けを次のようにした。基体上部＝１／
２，基体中部＝１／４，基体下部＝１／４。評価は５で
あった。 実施例：３ アルミニウム合金で構成された導電性基体
１を、図６に示すタワーにのせ、水系下で洗浄した。そ
の後、基体１を周方向１００に回転させつつ、外面ノズ
ル２及び内面ノズル３より噴射される形状がフイルム状
の純水を打ち当て、５分間すすぎ洗浄を行った。評価は
５であった。又、図７に示すタワーを用いても同様の結
果が得られた。 実施例：４ アルミニウム合金で構成された導電性基体
１を、図８に示すタワーにのせ、水系下で洗浄した。そ
の後、基体１を周方向１００に回転させつつ、外面ノズ
ル２及び内面ノズル３より噴射される形状がフイルム状
の純水を打ち当て、５分間すすぎ洗浄を行った。評価は
５であった。又、図９に示すタワーを用いても同様の結
果が得られた。
【０００８】
【発明の効果】以上説明したように、純水をフイルム状
に噴射スプレイする本発明の方法によれば、すすぎ面積
が大きく、同一純水量で、他の流体形状のスプレイに比
べ強いすすぎ力が得られ、基体に作用した純水が回りに
飛び散らずに基体に添って流れ落ちるので、作用点以下
のすすぎも同時に行われる。さらに、基体上部のすすぎ
洗浄時間を全体の半分以上にすることにより、上部に作
用した純水が基体表面に添って流れ落ちるため、噴射さ
れた純水の作用点以下も同時にすすぎ洗浄される。ま
た、基体とタワーとの接触面積を少なくすることによ
り、基体とタワーが接触していない部分に流体が流れ込
み、すすぎ洗浄が速やかに行われること、及び、基体内
面とタワー外面との隙間に流れ込んだ流体が排水口によ
り速やかに排水され、すすぎ洗浄が速やかに行われるこ
とは、本発明の大きな利点である。
に噴射スプレイする本発明の方法によれば、すすぎ面積
が大きく、同一純水量で、他の流体形状のスプレイに比
べ強いすすぎ力が得られ、基体に作用した純水が回りに
飛び散らずに基体に添って流れ落ちるので、作用点以下
のすすぎも同時に行われる。さらに、基体上部のすすぎ
洗浄時間を全体の半分以上にすることにより、上部に作
用した純水が基体表面に添って流れ落ちるため、噴射さ
れた純水の作用点以下も同時にすすぎ洗浄される。ま
た、基体とタワーとの接触面積を少なくすることによ
り、基体とタワーが接触していない部分に流体が流れ込
み、すすぎ洗浄が速やかに行われること、及び、基体内
面とタワー外面との隙間に流れ込んだ流体が排水口によ
り速やかに排水され、すすぎ洗浄が速やかに行われるこ
とは、本発明の大きな利点である。
【図１】本発明の一実施例を示す断面図である。
【図２】従来例を示す断面図である。
【図３】導電性基体を示す平面図と正面図である。
【図４】基体保持タワーを示す平面図と正面図である。
【図５】本発明の他の実施例を示す断面図である。
【図６】本発明に用いられる他のタワーを示す平面図と
正面図である。
正面図である。
【図７】本発明に用いられる他のタワーを示す平面図と
正面図である。
正面図である。
【図８】本発明に用いられる他のタワーを示す平面図と
正面図である。
正面図である。
【図９】本発明に用いられる他のタワーを示す平面図と
正面図である。
正面図である。
１ 導電性基体 １ａ 導電性基体外面 １ｂ 導電性基体内面 １ｃ 導電性基体下端面 ２ 基体外面用ノズル ３ 基体内面用ノズル ４ 基体保持タワー ４ａ 基体保持タワー外面 ４ｂ 基体保持タワー内面 ４ｃ 基体保持タワー側面 ４ｄ 基体保持タワー上面 ５ａ 噴射流体 ５ｂ 反射流体 １００ 周方向 １０１ 上下方向
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−130159（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−237462（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G03G 5/00 - 5/16
Claims (8)
- 【請求項１】 アルミニウム又はその合金からなる電子
写真感光体の導電性基体を、水系下で洗浄した後、該基
体をタワーに被せて保持し、スリットノズルより純水を
フイルム状にかつ連続的に噴射スプレイし、該噴射スプ
レイを基体内面及び外面上に打ち当ててすすぎ洗浄する
方法であって、該タワーが、その外面に、基体を保持す
る部分とすすぎ水が溜まる空間部分とを有する構造体で
あることを特徴とするすすぎ洗浄方法。 - 【請求項２】 アルミニウム又はその合金からなる電子
写真感光体の導電性基体を、水系下で洗浄した後、該基
体をタワーに被せて保持し、スリットノズルより純水を
フィルム状にかつ連続的に噴射スプレイし、該噴射スプ
レイを基体内面及び外面上に打ち当ててすすぎ洗浄する
方法であって、該タワーが、タワー外面とタワー内面を
貫通する穴を有する構造体であることを特徴とするすす
ぎ洗浄方法。 - 【請求項３】 アルミニウム又はその合金からなる電子
写真感光体の導電性基体を、水系下で洗浄した後、該基
体をタワーに被せて保持し、スリットノズルより純水を
フイルム状にかつ連続的に噴射スプレイし、該噴射スプ
レイを基体内面及び外面上に打ち当ててすすぎ洗浄する
方法であって、該タワーが、基体下面とタワー上面との
間に隙間が出来る構造であることを特徴とするすすぎ洗
浄方法。 - 【請求項４】 アルミニウム又はその合金からなる電子
写真感光体の導電性基体を、水系下で洗浄した後、該基
体をタワーに被せて保持し、スリットノズルより純水を
フイルム状にかつ連続的に噴射スプレイし、該噴射スプ
レイを基体内面及び外面上に打ち当ててすすぎ洗浄する
方法であって、該タワーが、タワー上面に複数個の穴を
有する構造であることを特徴とするすすぎ洗浄方法。 - 【請求項５】 アルミニウム又はその合金からなる電子
写真感光体の導電性基体を、水系下で洗浄した後、該基
体をタワーに被せて保持し、スリットノズルより純水を
フィルム状にかつ連続的に噴射スプレイし、該噴射スプ
レイを基体内面及び外面上に打ち当ててすすぎ洗浄する
方法に用いるタワーであって、その外面に、基体を保持
する部分とすすぎ水が溜まる空間部分とを有する構造体
である ことを特徴とする基体保持タワー。 - 【請求項６】 アルミニウム又はその合金からなる電子
写真感光体の導電性基体を、水系下で洗浄した後、該基
体をタワーに被せて保持し、スリットノズルより純水を
フィルム状にかつ連続的に噴射スプレイし、該噴射スプ
レイを基体内面及び外面上に打ち当ててすすぎ洗浄する
方法に用いるタワーであって、タワー外面とタワー内面
を貫通する穴を有する構造体であることを特徴とする基
体保持タワー。 - 【請求項７】 アルミニウム又はその合金からなる電子
写真感光体の導電性基体を、水系下で洗浄した後、該基
体をタワーに被せて保持し、スリットノズルより純水を
フイルム状にかつ連続的に噴射スプレイし、該噴射スプ
レイを基体内面及び外面上に打ち当ててすすぎ洗浄する
方法に用いるタワーであって、基体下面とタワー上面と
の間に隙間が出来る構造であることを特徴とする基体保
持タワー。 - 【請求項８】 アルミニウム又はその合金からなる電子
写真感光体の導電性基体を、水系下で洗浄した後、該基
体をタワーに被せて保持し、スリットノズルより純水を
フイルム状にかつ連続的に噴射スプレイし、該噴射スプ
レイを基体内面及び外面上に打ち当ててすすぎ洗浄する
方法に用いるタワーであって、タワー上面に複数個の穴
を有する構造であることを特徴とする基体保持タワー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16552193A JP3147594B2 (ja) | 1993-07-05 | 1993-07-05 | 電子写真感光体のすすぎ洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16552193A JP3147594B2 (ja) | 1993-07-05 | 1993-07-05 | 電子写真感光体のすすぎ洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0720643A JPH0720643A (ja) | 1995-01-24 |
| JP3147594B2 true JP3147594B2 (ja) | 2001-03-19 |
Family
ID=15813975
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16552193A Expired - Lifetime JP3147594B2 (ja) | 1993-07-05 | 1993-07-05 | 電子写真感光体のすすぎ洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3147594B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5643556B2 (ja) * | 2009-07-10 | 2014-12-17 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体用の円筒状基体のすすぎ洗浄方法および電子写真感光体の製造方法。 |
-
1993
- 1993-07-05 JP JP16552193A patent/JP3147594B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0720643A (ja) | 1995-01-24 |
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