JP3147861B2 - Semiconductor device - Google Patents
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- JP3147861B2 JP3147861B2 JP18055098A JP18055098A JP3147861B2 JP 3147861 B2 JP3147861 B2 JP 3147861B2 JP 18055098 A JP18055098 A JP 18055098A JP 18055098 A JP18055098 A JP 18055098A JP 3147861 B2 JP3147861 B2 JP 3147861B2
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、混載メモリチップ
を有する半導体装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device having an embedded memory chip.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、半導体装置には、複数のメモリチ
ップを一枚の基板上に混載した構造のもがある。この種
の半導体装置には、混載されているメモリチップのうち
の1つが不良品であった場合に、残りのチップを有効に
使用する手段を講じて、その混載チップ自体が不良品と
して取扱われるのを回避する技術が施されており、その
技術の一例が、例えば特開平9−265792号公報に
開示されている。2. Description of the Related Art Conventionally, a semiconductor device has a structure in which a plurality of memory chips are mixedly mounted on a single substrate. In this type of semiconductor device, when one of the mixed memory chips is defective, a means for effectively using the remaining chips is taken, and the mixed chip itself is treated as a defective product. A technique for avoiding the problem is applied, and an example of the technique is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-265792.
【0003】特開平9−265792号公報に開示され
た技術は、正規メモリセル群毎にメモリセル電源線及び
複数のビット線に電源を供給するための電源線を電気的
に共通に接続し、さらに正規メモリセル群毎に設けた前
記共通接続線と電源パッドより供給された電源線とを電
気的に切り離す手段を設けている。The technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-265792 discloses a technique of electrically connecting a power supply line for supplying power to a memory cell power supply line and a plurality of bit lines for each normal memory cell group, Further, there is provided means for electrically disconnecting the common connection line provided for each normal memory cell group from a power supply line supplied from a power supply pad.
【0004】特開平9−265792号公報に開示され
た技術では、不良メモリセルが発生した時点で不要とな
ったサブブロックを構成する全てのメモリセルの電源線
及びビット負荷回路に電源を供給する電源線をフローテ
ィングとし、リーク電流経路を遮断するようになってい
る。In the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-265792, power is supplied to a power supply line and a bit load circuit of all memory cells constituting a sub-block which become unnecessary when a defective memory cell occurs. The power supply line is made to be floating, and the leakage current path is cut off.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
9−265792号公報に開示された技術では、一律に
不良メモリセルに対応する電源線をフローティングと
し、リーク電流経路を遮断するが、グランドとしてNウ
エルを共通化しているため、リーク電流が発生するとい
う問題がある。However, in the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-265792, a power supply line corresponding to a defective memory cell is uniformly set to a floating state and a leakage current path is cut off. Since the wells are shared, there is a problem that a leak current occurs.
【0006】上述した課題を解決するには、特開平4−
111350号公報に開示されたように、保護回路を介
在させることが考えられる。この保護回路としては、フ
ィールドトランジスタ、或いは通常状態でオフのトラン
ジスタが用いられる。In order to solve the above-mentioned problems, Japanese Patent Laid-Open No.
As disclosed in Japanese Patent Publication No. 111350, it is conceivable to interpose a protection circuit. As the protection circuit, a field transistor or a transistor which is normally off is used.
【0007】しかしながら、近年の携帯端末の小型化に
伴いパッケージの小型化が要求されていることを考慮す
ると、保護回路としてフィールドトランジスタ、或いは
通常状態でオフのトランジスタをメモリセル群に加えて
増設することは、結果としてパッケージの寸法を拡大す
ることになり、特開平4−111350号公報に開示さ
れた技術をそのまま適用するには、問題がある。However, in consideration of the recent demand for downsizing of the package with the downsizing of the portable terminal, a field transistor or a transistor which is normally off is added as a protection circuit in addition to the memory cell group. As a result, the dimensions of the package are enlarged, and there is a problem in directly applying the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-111350.
【0008】また、特開昭63−301545号公報に
は、MOSトランジスタからなるMOSスタンダードセ
ルと、バイポーラトランジスからなるバイポーラスタン
ダードセルとをライブラリに用意し、これらを埋込み層
とウエルによって島状に分離した領域に形成し、電源電
圧を独立に設定する技術が開示されている。In Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-301545, a MOS standard cell composed of a MOS transistor and a bipolar standard cell composed of a bipolar transistor are prepared in a library, and these are separated into islands by a buried layer and a well. A technology is disclosed in which the power supply voltage is formed independently in a region where the power supply voltage is set.
【0009】また、特開平4−65867号公報には、
回路機能別に電源パッド及び信号パッドが設けられた技
術が開示されている。Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-65867 discloses that
A technology in which a power supply pad and a signal pad are provided for each circuit function is disclosed.
【0010】したがって、特開昭63−301545号
公報及び特開平4−65867号公報に開示された技術
を用いることも考えられるが、不要となってフローティ
ングされるメモリセルが正常であった場合と、切り離さ
れた場合とのパッケージにおける電源及び信号ピンの位
置が特定されておらず、残りの正常なメモリセルに誤作
動となるような信号を入力させてしまう可能性が残され
ている。Therefore, it is conceivable to use the techniques disclosed in JP-A-63-301545 and JP-A-4-65867. In addition, the positions of the power supply and the signal pin in the package when disconnected are not specified, and there is a possibility that a signal causing a malfunction may be input to the remaining normal memory cells.
【0011】本発明の目的は、異常が発生して一部を切
り離した残りのメモリセル群に対しても正規の信号を誤
りなく供給可能とした半導体装置を提供することにあ
る。An object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of supplying a normal signal without error to a remaining memory cell group which has been partially separated due to occurrence of an abnormality.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る半導体装置は、複数のメモリセルを混
載したメモリチップからなる半導体装置であって、前記
メモリチップは、複数のメモリセルに対して位置決めし
て共通に設けた電源ピン,信号ピン及びグランドピンを
有し、さらに、前記メモリセルの電源パッド,信号パッ
ド及びグランドパッドは、前記電源ピン,信号ピン及び
グランドピンに隣接して設けられ、対応する前記ピンと
パッドとを電気的に配線処理したものである。In order to achieve the above object, a semiconductor device according to the present invention is a semiconductor device comprising a memory chip on which a plurality of memory cells are mounted, wherein the memory chip comprises a plurality of memory cells. A power pin, a signal pin, and a ground pin which are provided in common with each other, and the power pad, the signal pad, and the ground pad of the memory cell are adjacent to the power pin, the signal pin, and the ground pin. And the corresponding pins and pads are electrically wired.
【0013】また前記電源パッド,信号パッド及びグラ
ンドパッドは、各メモリセル毎に独立させて設けたもの
である。The power supply pad, signal pad and ground pad are provided independently for each memory cell.
【0014】また前記電源パッド,信号パッド及びグラ
ンドパッドは、混載使用時のものとメモリセル単独使用
時のものとを区別して設けたものである。The power supply pad, the signal pad and the ground pad are provided so as to be distinguished from those used when mixedly used and those used when only memory cells are used.
【0015】また前記メモリセルは、電気的に分離され
て形成されたものである。The memory cells are formed so as to be electrically separated.
【0016】また前記対応するピンとパッドとは、ワイ
ヤーボンテイングにより電気的に配線処理したものであ
る。The corresponding pins and pads are electrically processed by wire bonding.
【0017】また前記メモリチップは、ROMとRAM
とのメモリセルを混載したものである。Further, the memory chip comprises a ROM and a RAM.
And the memory cells are mixed.
【0018】[0018]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図に
より説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0019】(実施形態1)図1は、本発明の実施形態
1に係る半導体装置を示す構成図である。Embodiment 1 FIG. 1 is a configuration diagram showing a semiconductor device according to Embodiment 1 of the present invention.
【0020】図1に示す本発明の実施形態1に係る半導
体装置は、複数のメモリセルを混載したメモリチップ1
からなる半導体装置であり、図1に示すメモリチップ1
は、ROMとRAMとのメモリセル2,3を混載してい
る。A semiconductor device according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. 1 has a memory chip 1 in which a plurality of memory cells are mounted.
A memory chip 1 shown in FIG.
Has mixed memory cells 2 and 3 of ROM and RAM.
【0021】図1において、メモリチップ1は、ROM
とRAMとのメモリセル2,3に対して位置決めして共
通に設けた電源ピン4(図2及び図3参照),信号ピン
5及びグランドピン6(図2参照)を有している。In FIG. 1, a memory chip 1 has a ROM
And a power pin 4 (see FIGS. 2 and 3), a signal pin 5, and a ground pin 6 (see FIG. 2) which are positioned and provided in common with the memory cells 2 and 3 of the RAM.
【0022】図1及び図3に示すように、メモリセル2
の電源パッド7a,信号パッド8a及びグランドパッド
9a、及びメモリセル3の電源パッド7b,信号パッド
8b及びグランドパッド9bは、それぞれ電源ピン4,
信号ピン5及びグランドピン6に隣接して設けられ、対
応する各ピン4,5,6とパッド7a,7b、8a,8
b、9a,9bとは、ワイヤーボンテイング10により
電気的に配線処理されている。As shown in FIGS. 1 and 3, the memory cell 2
The power pad 7a, the signal pad 8a and the ground pad 9a of the memory cell 3 and the power pad 7b, the signal pad 8b and the ground pad 9b of the memory cell 3
The corresponding pins 4, 5, 6 and pads 7a, 7b, 8a, 8 are provided adjacent to the signal pin 5 and the ground pin 6.
The wires b, 9a, and 9b are electrically wired by the wire bonding 10.
【0023】一般的には、メモリチップ1に混載される
ROMとRAMとのメモリセル2,3は、電源とグラン
ドとを共用化するために共通接続線にて共通に接続され
る。具体的には、メモリセル2,3を構成するトランジ
スタのソース電極又はドレイン電極をNウエル又はPウ
エルの半導体層で共通に接続される。Generally, the memory cells 2 and 3 of the ROM and the RAM mixedly mounted on the memory chip 1 are commonly connected by a common connection line in order to share the power supply and the ground. Specifically, the source electrode or the drain electrode of the transistors forming the memory cells 2 and 3 are commonly connected by an N-well or P-well semiconductor layer.
【0024】しかしながら、本発明の実施形態1では、
メモリセル2,3間を電気的に分離して形成している。
具体的には、メモリセル2,3を構成するトランジスタ
のソース電極又はドレイン電極を共通に接続するNウエ
ル又はPウエルの半導体層を削除し、メモリセル2,3
間を電気的に分離して形成している。However, in the first embodiment of the present invention,
The memory cells 2 and 3 are formed electrically separated.
Specifically, the N-well or P-well semiconductor layer that commonly connects the source electrode or the drain electrode of the transistors forming the memory cells 2 and 3 is deleted, and the memory cells 2 and 3 are removed.
The gaps are electrically separated.
【0025】また本発明の実施形態1では、メモリセル
2,3間を電気的に分離して形成するのに伴い、メモリ
セル2の電源パッド7a,信号パッド8a及びグランド
パッド9a、及びメモリセル3の電源パッド7b,信号
パッド8b及びグランドパッド9bは、各メモリセル
2,3毎に電気的に独立させて設けている。In the first embodiment of the present invention, the power supply pad 7a, the signal pad 8a and the ground pad 9a of the memory cell 2 and the memory cell 2 The three power supply pads 7b, the signal pads 8b, and the ground pads 9b are provided electrically independently for each of the memory cells 2 and 3.
【0026】図1に示す本発明の実施形態1は、2MB
itのMASKROMと1MBitのSTATICRA
Mのメモリセル2,3を混載したメモリチップ1に本発
明を適用したものである。The first embodiment of the present invention shown in FIG.
it's MASKROM and 1MBit's STATICRA
The present invention is applied to a memory chip 1 on which M memory cells 2 and 3 are mounted.
【0027】図1に示す本発明の実施形態1において、
2MBitのMASKROMと1MBitのSTATI
CRAMのメモリセル2,3を混載したメモリチップ1
(以下、混載メモリチップという)は図2(a)に示す
ように、電源ピン,信号ピン,グランドピンを含む32
本のピンを有し、その外形寸法が8×13.4mmのT
SOP型チップとして構成されている。In the first embodiment of the present invention shown in FIG.
2MBit MASKROM and 1MBit STATI
Memory chip 1 in which memory cells 2 and 3 of CRAM are mounted
As shown in FIG. 2A, the embedded memory chip includes a power supply pin, a signal pin, and a ground pin.
T with 8 x 13.4 mm external dimensions
It is configured as an SOP type chip.
【0028】現在の半導体装置の製造技術からして、1
MBitのSTATICRAMのメモリセル3或いは2
MBitのMASKROMのメモリセル2を単独で搭載
したメモリチップ(以下、単体メモリチップという)1
aは図2(b)に示すように、電源ピン,信号ピン,グ
ランドピンを含む32本のピンを有し、その外形寸法が
8×13.4mmのものとして構成される。According to the current semiconductor device manufacturing technology, 1
MBIT STATICRAM memory cell 3 or 2
A memory chip (hereinafter, referred to as a single memory chip) 1 on which a memory cell 2 of a MASKROM of MBit is independently mounted.
As shown in FIG. 2B, a has 32 pins including a power supply pin, a signal pin, and a ground pin, and has an outer dimension of 8 × 13.4 mm.
【0029】図1に示す本発明の実施形態1におけるメ
モリチップ1は図2(a)及び(b)に示すように、電
源ピン,信号ピン,グランドピンを含む32本のピンを
有し、その外形寸法が8×13.4mmで、かつ1MB
itのSTATICRAMのメモリセル3を単体で搭載
したメモリチップ(以下、単体メモリチップという)1
aと同じピン配列及び外形寸法に構成している。As shown in FIGS. 2A and 2B, the memory chip 1 in the first embodiment of the present invention shown in FIG. 1 has 32 pins including a power supply pin, a signal pin, and a ground pin. Its external dimensions are 8 × 13.4mm and 1MB
It is a memory chip (hereinafter referred to as a single memory chip) 1 on which a STATICRAM memory cell 3 is mounted alone.
It has the same pin arrangement and outer dimensions as those of FIG.
【0030】図2(a)に示す本発明の実施形態1にお
けるメモリチップ1が図2(b)に示す単体メモリチッ
プ1aと同一のピン配列及び外形寸法に構成できる理由
は、メモリチップ1は、ROMとRAMとのメモリセル
2,3に対して位置決めして共通に設けた電源ピン4,
信号ピン5及びグランドピン6を有し、メモリセル2,
3の電源パッド7a,7b,信号パッド8a,8b及び
グランドパッド9a,9bを電源ピン4,信号ピン5及
びグランドピン6に隣接して設け、対応する各ピン4,
5,6とパッド7a,7b、8a,8b、9a,9bと
をワイヤーボンテイング10により電気的に配線処理す
るためである。The reason that the memory chip 1 according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. 2A can be configured to have the same pin arrangement and external dimensions as the single memory chip 1a shown in FIG. , A power pin 4 commonly positioned and positioned with respect to the memory cells 2 and 3 of the ROM and the RAM.
It has a signal pin 5 and a ground pin 6, and has a memory cell 2,
3, power pads 7a and 7b, signal pads 8a and 8b, and ground pads 9a and 9b are provided adjacent to the power pin 4, the signal pin 5 and the ground pin 6, respectively.
5, 6 and the pads 7a, 7b, 8a, 8b, 9a, 9b are to be electrically wired by the wire bonding 10.
【0031】図2(a),(b)に示すメモリチップに
おいて、電源ピン4は記号Vccを付したピンに対応す
るものであり、グランドピン6は記号GNDを付したピ
ンに対応するものであり、信号ピン5は記号A0〜A1
7,I/O1〜I/O8,/OE,/WE,/CE1及
び/CE2(/ROM CS,/RAM CS)に相当
するものである。In the memory chips shown in FIGS. 2A and 2B, the power supply pin 4 corresponds to the pin labeled Vcc, and the ground pin 6 corresponds to the pin labeled GND. And signal pins 5 are denoted by symbols A0 to A1.
7, I / O1 to I / O8, / OE, / WE, / CE1 and / CE2 (/ ROM CS, / RAM CS).
【0032】ここで、A0〜A17ピンはアドレスを入
力するピンであり、I/O1〜I/O8はデータを入力
するピンであり、/OEピンは出力データが出力するピ
ンであり、/WEは書き込み信号を入力するピンであ
り、/ROM CSピンはROMを作動させる信号を入
力するピンであり、/RAM CSピンはRAMを作動
させる信号を入力するピンである。Here, pins A0 to A17 are pins for inputting an address, I / O1 to I / O8 are pins for inputting data, a / OE pin is a pin for outputting output data, and / WE Is a pin for inputting a write signal, the / ROM CS pin is a pin for inputting a signal for operating the ROM, and the / RAM CS pin is a pin for inputting a signal for operating the RAM.
【0033】図2(b)に示す単体メモリチップ1aの
場合、/CE1ピン,/CE2ピンはイネーブル(En
able)信号のオン,オフに使用するため、特に問題
が生じることはないが、図2(a)に示す混載メモリチ
ップ1の場合には、メモリセル2,3がSTATICR
AMとMASKROMであるため、/CE1ピン,/C
E2ピンをイネーブル(Enable)信号の入力のみ
に使用することは不可能である。In the case of the single memory chip 1a shown in FIG. 2B, the / CE1 and / CE2 pins are enabled (En
2), the signal does not cause any particular problem. However, in the case of the embedded memory chip 1 shown in FIG.
Because it is AM and MASKROM, / CE1 pin, / C
It is impossible to use the E2 pin only for inputting the Enable signal.
【0034】そこで、本発明の実施形態1では図2
(a)に示すように、信号ピン5としての/CE1及び
/CE2ピンを/ROM CSピン,/RAM CSピ
ンとして用い、/ROM CSピンと/RAM CSピ
ンとを選択し、それぞれを電源ピン4にワイヤボンテイ
ング10を行なうことにより、ROM Enable信
号,ROM Enable信号を入力し、STATIC
RAMのメモリセル3とMASKROMのメモリセル2
とを選択して動作するようにしている。Therefore, in the first embodiment of the present invention, FIG.
As shown in (a), the / CE1 and / CE2 pins as signal pins 5 are used as the / ROM CS pin and / RAM CS pin, and the / ROM CS pin and the / RAM CS pin are selected. By performing wire bonding 10, a ROM Enable signal and a ROM Enable signal are input, and the STATIC
RAM memory cell 3 and MASKROM memory cell 2
And select to work.
【0035】本発明の実施形態1におけるSTATIC
RAMのメモリセル3とMASKROMのメモリセル2
とは、ROM選択ピン(/ROM CSピン)とRAM
選択ピン(/ROM CSピン)の論理によって決ま
り、その論理を表1に示す。STATIC in Embodiment 1 of the Present Invention
RAM memory cell 3 and MASKROM memory cell 2
Means ROM selection pin (/ ROM CS pin) and RAM
It is determined by the logic of the selection pin (/ ROM CS pin), and the logic is shown in Table 1.
【0036】[0036]
【表1】 ここで、Hはハイレベル、Lはロウレベル、Xは無効を
示す。[Table 1] Here, H indicates a high level, L indicates a low level, and X indicates invalid.
【0037】MASKROMのメモリセル2とSTAT
ICRAMのメモリセル3がともに良品であった場合
は、図3(a)に示すようにMASKROM用電源パッ
ド7aとSTATICRAM用電源パッド7bの両方を
電源ピン4にワイヤボンディング10することによって
電気的に接続し、混載メモリチップ1として通常の動作
を行なわせる。Memory cell 2 and STAT of MASKROM
If both of the memory cells 3 of the ICRAM are non-defective, as shown in FIG. And perform normal operation as the embedded memory chip 1.
【0038】MASKROMのメモリセル2が不良の場
合、図3(b)に示すようにMASKROM用電源パッ
ド7aにワイヤボンディング10をしないことで、不良
MASKROMのメモリセル2への電源供給を断つ。When the memory cell 2 of the MASKROM is defective, the power supply to the memory cell 2 of the defective MASKROM is cut off by not performing wire bonding 10 on the power supply pad 7a for the MASKROM as shown in FIG. 3B.
【0039】この場合、MASKROMのメモリセル2
とSTATICRAMのメモリセル3とは電気的に分離
されているため、不良MASKROMのメモリセル2に
電流が流れてしまうことはない。In this case, the memory cell 2 of the MASKROM
And the memory cell 3 of the STATICRAM are electrically isolated, so that no current flows through the memory cell 2 of the defective MASKROM.
【0040】また、表1の論理から分かるように、/R
OM CSピンを電源ピン4にワイヤボンテイング10
を行なうことにより、MASKROMのメモリセル2を
強制的に非選択とすることができ、混載メモリチップ1
をSTATICRAM単体チップ1aとして使用するこ
とができる。As can be seen from the logic of Table 1, / R
Connect the OM CS pin to the power pin 4 by wire bonding 10
Is performed, the memory cell 2 of the MASKROM can be forcibly deselected.
Can be used as the STATICRAM single chip 1a.
【0050】以上のように本発明の実施形態1によれ
ば、混載メモリチップにおいて一方のメモリセルが電流
増加を伴う不良品であった場合でも、他方のメモリセル
が良品であれば、その良品のメモリチップ単体として救
済することができる。これによって、従来廃棄していた
不良品の中から製品を作り出し、間接的に歩留まりを向
上させることができる。As described above, according to the first embodiment of the present invention, even if one of the memory cells in the mixed memory chip is defective with an increase in current, if the other memory cell is non-defective, the non-defective product is As a single memory chip. As a result, a product can be produced from defective products that have been conventionally discarded, and the yield can be indirectly improved.
【0051】STATICRAMとMASKROMの混
載メモリチップを考えた場合の具体的数値を、STAT
ICRAMとMASKROMそれぞれの単体メモリチッ
プとしての歩留まりがともに80%であった場合で計算
すると、従来の技術では混載メモリチップの歩留まりは
64%にまで低下してしまう。The specific numerical values in the case of considering a mixed memory chip of STATICRAM and MASKROM are as follows.
If the calculation is performed in the case where the yield of each of the ICRAM and the MASKROM as a single memory chip is 80%, the yield of the embedded memory chip is reduced to 64% in the conventional technology.
【0052】しかし、本発明の実施形態1では、単体メ
モリチップと混載メモリチップとでの差分16%をST
ATICRAM単体メモリチップとして救済することが
できるため、混載メモリチップの歩留まりを間接的に8
0%にあげることができる。本発明は、上記具体例から
分かるように混載する各メモリチップの歩留まり低いほ
ど有効で、かつ混載するメモリ数が増えるほど有効であ
る。However, in the first embodiment of the present invention, the difference between the single memory chip and the embedded memory chip is 16%
Since the ATICRAM can be relieved as a single memory chip, the yield of the embedded memory chip is indirectly reduced by 8%.
It can be raised to 0%. As can be seen from the above example, the present invention is effective as the yield of each memory chip to be mixed is low, and is effective as the number of memories to be mixed increases.
【0053】(実施形態2)図4は、本発明の実施形態
2を示す構成図である。(Embodiment 2) FIG. 4 is a configuration diagram showing Embodiment 2 of the present invention.
【0054】図4に示す本発明の実施形態2は、2種類
以上のメモリセル11a,11bをメモリチップ1に搭
載するものであるが、図4に示す本発明の実施形態2で
は、混載使用時の電源パッド12a,信号パッド13a
及びグランドパッド14aと、メモリセル単独使用時の
電源パッド12b,信号パッド13b及びグランドパッ
ド14bとを区別して設けたものである。In the second embodiment of the present invention shown in FIG. 4, two or more types of memory cells 11a and 11b are mounted on the memory chip 1. In the second embodiment of the present invention shown in FIG. Power supply pad 12a, signal pad 13a
And the ground pad 14a and the power supply pad 12b, the signal pad 13b, and the ground pad 14b when the memory cell is used alone.
【0055】図4に示す本発明の実施形態2では、混載
使用時の電源パッド12a,信号パッド13a及びグラ
ンドパッド14aと、メモリセル単独使用時の電源パッ
ド12b,信号パッド13b及びグランドパッド14b
とを区別して設けているが、これらは内外に列状に配列
して設け、電源ピン4,信号ピン5及びグランドピン6
に容易にワイヤボンディング10することができるよう
になっている。その他の構成は、実施形態1と同様にな
っている。In the second embodiment of the present invention shown in FIG. 4, the power supply pad 12a, the signal pad 13a and the ground pad 14a when the memory cell is used alone, and the power supply pad 12b, the signal pad 13b and the ground pad 14b when the memory cell is used alone.
The power supply pin 4, the signal pin 5 and the ground pin 6
The wire bonding 10 can be easily performed. Other configurations are the same as in the first embodiment.
【0055】図4に示す本発明の実施形態2によれば、
混載メモリチップ1として通常使用するための電源パッ
ド,信号パッド,グランドパッドと、メモリセルが不良
であった場合に単体メモリチップとして使用するための
電源パッド,信号パッド,グランドパッドとを区別して
専用に有するため、汎用性を保つことができる。According to the second embodiment of the present invention shown in FIG.
A power pad, signal pad, and ground pad for normal use as the embedded memory chip 1 and a power pad, signal pad, and ground pad for use as a single memory chip when a memory cell is defective are dedicated for distinction. , The versatility can be maintained.
【0056】(実施形態3)図5は、本発明の実施形態
3を示す構成図である。(Embodiment 3) FIG. 5 is a configuration diagram showing Embodiment 3 of the present invention.
【0057】図1及び図4に示す本発明の実施形態は、
STATICRAMとMASKROMのメモリセルを混
載した場合について説明したが、図5に示す本発明の実
施形態3は、DYNAMICRAMのメモリセル15a
と、STATICRAMのメモリセル15bと、MAS
KROMのメモリセル15cとの3個以上のメモリセル
をメモリチップ1に混載したものである。その他の構成
は、図1及び図4に示すものと同じに構成されている。The embodiment of the present invention shown in FIGS.
The case where the memory cells of the STATICRAM and the MASKROM are mixed has been described. However, the third embodiment of the present invention shown in FIG.
STATICRAM memory cell 15b, MAS
This is a memory chip in which three or more memory cells including a memory cell 15c of a KROM are mixedly mounted. Other configurations are the same as those shown in FIGS. 1 and 4.
【0058】各メモリチップ単体の歩留まりがそれぞれ
80%であるとすると、本発明の実施形態3を用いない
場合の混載メモリチップの歩留まりは51.2%とな
る。Assuming that the yield of each memory chip alone is 80%, the yield of the embedded memory chip when the third embodiment of the present invention is not used is 51.2%.
【0059】しかし本発明の実施形態3によれば、DY
NAMICRAMのメモリセル15aとSTATICR
AMのメモリセル15bとの救済を行うと、44.8%
を救済することができるため、混載メモリチップの歩留
まりを間接的に96%にすることができる。However, according to the third embodiment of the present invention, DY
NAMICRAM memory cell 15a and STATICR
When repairing the memory cell 15b of AM, 44.8%
, The yield of embedded memory chips can be indirectly reduced to 96%.
【0060】[0060]
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、混
載されているメモリチップのうちの1つが不良品であっ
た場合に、残りのチップを有効に使用することができる
ばかりでなく、異常が発生した一部を切り離したメモリ
セル群に対しても正規の信号を誤りなく供給することが
できる。As described above, according to the present invention, when one of the mixed memory chips is defective, not only can the remaining chips be used effectively, A normal signal can be supplied without error to a memory cell group in which a part where an abnormality has occurred is separated.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図1】本発明の実施形態1に係る半導体装置を示す構
成図である。FIG. 1 is a configuration diagram illustrating a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の実施形態1に係る半導体装置の具体例
を示す構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram illustrating a specific example of the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention;
【図3】本発明の実施形態1に係る半導体装置の動作を
説明する構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram illustrating an operation of the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention.
【図4】本発明の実施形態2に係る半導体装置を示す構
成図である。FIG. 4 is a configuration diagram illustrating a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.
【図5】本発明の実施形態3に係る半導体装置を示す構
成図である。FIG. 5 is a configuration diagram illustrating a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.
1 混載メモリチップ 1a 単体メモリチップ 2 メモリセル 3 メモリセル 4 電極ピン 5 信号ピン 6 グランドピン 7a,7b 電極パッド 8a,8b 信号パッド 9a,9b グランドパッド 10 ワイヤボンディング DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Mixed memory chip 1a Single memory chip 2 Memory cell 3 Memory cell 4 Electrode pin 5 Signal pin 6 Ground pin 7a, 7b Electrode pad 8a, 8b Signal pad 9a, 9b Ground pad 10 Wire bonding
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 27/10 H01L 21/82 H01L 21/822 H01L 27/04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 27/10 H01L 21/82 H01L 21/822 H01L 27/04
Claims (6)
プからなる半導体装置であって、 前記メモリチップは、複数のメモリセルに対して位置決
めして共通に設けた電源ピン,信号ピン及びグランドピ
ンを有し、 さらに、前記メモリセルの電源パッド,信号パッド及び
グランドパッドは、前記電源ピン,信号ピン及びグラン
ドピンに隣接して設けられ、 対応する前記ピンとパッドとを電気的に配線処理したも
のであることを特徴とする半導体装置。1. A semiconductor device comprising a memory chip in which a plurality of memory cells are mounted, wherein the memory chip includes a power pin, a signal pin, and a ground pin which are positioned and commonly provided with respect to the plurality of memory cells. And a power pad, a signal pad, and a ground pad of the memory cell are provided adjacent to the power pin, the signal pin, and the ground pin, and the corresponding pins and pads are electrically wired. A semiconductor device, comprising:
ドパッドは、各メモリセル毎に独立させて設けたもので
あることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the power supply pad, the signal pad, and the ground pad are provided independently for each memory cell.
ドパッドは、混載使用時のものとメモリセル単独使用時
のものとを区別して設けたものであることを特徴とする
請求項1に記載の半導体装置。3. The semiconductor according to claim 1, wherein the power supply pad, the signal pad and the ground pad are provided so as to be distinguished from ones used in a mixed use and those used only in a memory cell. apparatus.
形成されたものであることを特徴とする請求項1,2又
は3に記載の半導体装置。4. The semiconductor device according to claim 1, wherein said memory cells are formed electrically separated.
ーボンテイングにより電気的に配線処理したものである
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。5. The semiconductor device according to claim 1, wherein the corresponding pins and pads are electrically processed by wire bonding.
のメモリセルを混載したものであることを特徴と請求項
1に記載の半導体装置。6. The semiconductor device according to claim 1, wherein the memory chip includes a combination of ROM and RAM memory cells.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18055098A JP3147861B2 (en) | 1998-06-26 | 1998-06-26 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18055098A JP3147861B2 (en) | 1998-06-26 | 1998-06-26 | Semiconductor device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000012794A JP2000012794A (en) | 2000-01-14 |
| JP3147861B2 true JP3147861B2 (en) | 2001-03-19 |
Family
ID=16085246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18055098A Expired - Fee Related JP3147861B2 (en) | 1998-06-26 | 1998-06-26 | Semiconductor device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3147861B2 (en) |
-
1998
- 1998-06-26 JP JP18055098A patent/JP3147861B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
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|---|---|
| JP2000012794A (en) | 2000-01-14 |
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