JP3148312B2 - サンドブラスト用マスキングシート及びその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、サンドブラストにより
基材表面に図柄を形成する際に用いるサンドブラスト用
マスキングシートに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、石材をはじめ、ガラス、陶磁器、
木材、プラスチックなどにサンドブラストにより文字や
絵柄を蝕刻する際のマスク材としては、紙やゴム等を基
材に貼りつけカッターナイフ等で切り抜き、これをマス
ク材としてサンドブラストする方法が知られている。し
かしながらかかる方法は通常人手により作業が行われて
おり、模様が複雑で細かい場合はマスク材の形成に多大
の時間と労力を必要とする。そこで、これらの問題を解
決する手段として感光性樹脂をサンドブラスト用のマス
ク材として用いる方法が種々提案され、例えば特開昭５
５−１０３５５４号では、ポリビニルアルコール、エチ
レン性不飽和結合を分子内に１個以上有する化合物及び
光重合開始剤とを必須成分とする感光性樹脂組成物から
なるサンドブラスト用のマスク材が示されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
方法においてはサンドブラストに対する耐久性が不十分
であり、特に模様の深彫りが必要である場合、パターン
の輪郭部がつぶれ易く精密な模様を得ることが困難であ
る。更に深彫りを行う場合は感光性樹脂を厚く塗る必要
があるのだが、該感光性樹脂の厚塗りにおいては技術的
な限界があり、又レジンが高価である等の欠点も加わ
り、かかる感光性樹脂は深彫りには不向きであると言え
る。故にサンドブラストに対する耐久性に優れ、深彫り
を容易に行うことができるサンドブラスト用のマスク材
の出現が強く望まれている。

【０００４】

【課題を解決するための手段】しかるに本発明者はかか
る課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果「耐水性基材
上に平均ケン化度５０〜１００モル％、平均重合度１０
０〜８００のオキシアルキレン基含有変性ポリビニルア
ルコール層を設け、該ポリビニルアルコール層上に水不
溶性のパターンを形成させ、パターンにより覆われてい
ないポリビニルアルコール部分を溶解除去する」ことに
より得られるマスキングシートがかかる目的に合致する
ことを見出し本発明を完成するに至った。

【０００５】即ち、石材、ガラス、陶磁器、木材、プラ
スチックなど模様を彫刻され得る基材（以下、被ブラス
ト物体という）とパターン層との間にゴム状弾性を持ち
所要厚みを持った特定のポリビニルアルコールのシート
を介することによりサンドブラストに対する耐久性が著
しく向上し、深彫りを行うにおいては、光硬化性樹脂組
成物を厚塗りする必要もなく容易にサンドブラストを行
うことができるのである。又一般にパターン層が厚くな
る程得られる解像力が低下するため、パターン層を厚く
する場合いかに解像力を向上させるかが大きな課題であ
るのだが、かかるマスキングシートを用いた場合は比較
的厚みを有したシートであるにもかかわらず、解像力の
点においても非常に優れ、精密な模様を彫刻できること
が判明した。以下、本発明について詳述する。

【０００６】本発明における耐水性基材とは、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリブチレン、アクリロニトリ
ル・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ブタジエ
ン・スチレン樹脂、メタクリル酸メチル・スチレン共重
合樹脂等のスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリアミ
ド、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられ、ポリビ
ニルアルコール樹脂と密着性に優れたポリエチレンテレ
フタレート等が実用的である。かかる樹脂はシートとし
て用いられその厚さは１０〜１００μｍ、好ましくは１
５〜８０μｍが適当である。

【０００７】本発明において用いられるポリビニルアル
コール（以下、ＰＶＡと略記する）は平均ケン化度５０
〜１００モル％、好ましくは８０〜１００モル％、平均
重合度１００〜８００、好ましくは２００〜７００の範
囲のものである。かかるＰＶＡは上記の範囲内であれば
変性ＰＶＡも含む。変性ＰＶＡとは、酢酸ビニルを主成
分とし、これと少量の共重合可能なモノマー、例えばア
クリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、マ
レイン酸モノアルキルなどの不飽和カルボン酸或いはこ
れら不飽和酸のアルキルエステル、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミ
ドなどのニトリル又はアミド、エチレンスルホン酸、ア
リルスルホン酸、メタアリルスルホン酸などのオレフィ
ンスルホン酸或いはこれらの塩、酢酸ビニル以外のビニ
ルエステル、飽和分岐脂肪酸ビニル、ビニルエーテル、
ビニルケトン、α−オレフィン、ハロゲン化ビニル、ハ
ロゲン化ビニリデン等との共重合体ケン化物を含む。た
だし変性量は０.１〜２０モル％以下が望ましい。

【０００８】特に本発明では、オキシアルキレン基含有
変性ポリビニルアルコール（以下、ＥＯ−ＰＶＡと略す
る）を用いることが必要で、かかるＥＯ−ＰＶＡは著し
く水溶性に優れている為、マスキングシートを製造する
に当たり、パターンにより覆われていないＰＶＡ部分の
溶解除去操作を容易に行うことができる。更にＥＯ−Ｐ
ＶＡを使用した際には、被ブラスト物体が複雑な形態を
有している場合においても、上述した如き耐水性基材か
ら熱可塑性樹脂を適宜選択することにより、耐水性基材
及びＥＯ−ＰＶＡから成る二層上のシートの段階でプレ
ス成型、真空成型、押出成型、圧延成型、中空（吹込
み）成型等が可能となるため、比較的自由な形態のマス
キングシートが製造可能となり非常に有利である。

【０００９】本発明でいうオキシアルキレン基とは化１
で表される構造を有するものである。Ｘは通常は水素で
ある。ｎの数が有利には１〜５０、好ましくは３〜５０
程度のオキシアルキレン基が実用的であり、ポリオキシ
エチレン基、ポリオキシプロピレン基、ポリオキシブチ
レン基等が効果的である。

【００１０】

【化１】

【００１１】〔但しＲ¹、Ｒ²は水素又はアルキル基、Ｘ
は水素、アルキル基、アルキルエステル基、アルキルア
ミド基、スルホン酸塩基等の有機残基、ｎは１〜１００
の整数を示す〕オキシアルキレン基を含有する不飽和単
量体のポリマー中の割合は通常０.０１〜５０モル％が
望ましい。本発明において使用するに適した上記ＥＯ−
ＰＶＡの形態はシートが好ましく、その厚みは被ブラス
ト物体の種類、サンドブラストで彫刻する深さにより異
なるが、通常１００〜１０００μｍ、好ましくは２００
〜８００μｍが適当である。

【００１２】本発明におけるマスキングシートの製造方
法としては、耐水性基材上にＥＯ−ＰＶＡ層を形成させ
た後、かかるＥＯ−ＰＶＡ層上に水不溶性のパターンを
形成させ、パターンにより覆われていないＥＯ−ＰＶＡ
部分を溶解除去することにより、サンドブラストされる
部分は基材部分が露出した状態となった厚膜のマスキン
グシートを得る。水不溶性のパターンを形成させる方法
としてはポジ型、ネガ型いずれでも良く、その手段は種
々考えられるが、例えば光硬化性樹脂を用いた写真的手
法及びスクリーン印刷法等が挙げられる。

【００１３】写真的手法とは該ＥＯ−ＰＶＡ層上に直接
光硬化性樹脂層を形成させ、かかる樹脂層上に図柄を有
するパターンマスクを通して活性光線を露光し、未露光
部分を水、アルカリ水溶液などの液体を用いて溶解除去
することによりレジスト画像を設ける方法である。パタ
ーンを作成する場合ＥＯ−ＰＶＡシート上に光硬化性樹
脂層を塗布し、必要に応じて保護膜を設け、その上から
パターンマスクを重ねるという段階的な手法でパターン
を形成させてもよいが、ＥＯ−ＰＶＡシート上に光硬化
性樹脂層を形成させ、保護膜としてポリスチレンフイル
ム等を更に積層したいわゆるドライフイルムレジスト型
の積層シートを予め作成しておきパターン形成時にはこ
の積層シートを耐水性基材上にラミネートしてパターン
を形成させてもよい。

【００１４】活性光線とは光増感剤の存在下で、これを
励起することによって光重合反応を進めうるエネルギー
をもつ線であって、通常３００〜６００ｍμの波長を有
する線が用いられる。線源としては、紫外線ケイ光灯、
高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ
等が挙げられる。本発明において使用するに適した光硬
化性樹脂とはベースポリマー(Ａ)、エチレン性不飽和化
合物(Ｂ)、光重合開始剤(Ｃ)から成る組成物である。

【００１５】ベースポリマー(Ａ)としては、アクリル系
樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウ
レタン系樹脂、エポキシ系樹脂などが用いられる。これ
らの中では、アクリル酸エステルまたは／およびメタク
リル酸エステルを主成分とし、必要に応じエチレン性不
飽和カルボン酸や他の共重合可能なモノマーを共重合し
たアクリル系樹脂が重要である。アセトアセチル基含有
アクリル系樹脂を用いることもできる。

【００１６】ここでアクリル酸エステルとしては、メチ
ルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリ
レート、ブチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、
２−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアク
リレート、ベンジルアクリレート、ジメチルアミノエチ
ルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒド
ロキシプロピルアクリレート、グリシジルアクリレート
などが例示され、メタクリル酸エステルとしては、メチ
ルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメ
タクリレート、ブチルメタクリレート、ヘキシルメタク
リレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、シクロ
ヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジ
メチルアミノエチルメタクリレート、ヒドロキシエチル
メタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、
グリシジルメタクリレートなどが例示される。

【００１７】エチレン性不飽和カルボン酸としては、ア
クリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノカルボ
ン酸が好適に用いられ、そのほか、マレイン酸、フマー
ル酸、イタコン酸などのジカルボン酸、あるいはそれら
の無水物やハーフエステルも用いることができる。これ
らの中では、アクリル酸とメタクリル酸が好ましい。他
の共重合可能モノマーとしてはアクリルアミド、メタク
リルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、
スチレン、α−メチルスチレン、酢酸ビニル、アルキル
ビニルエーテルなどが例示できる。

【００１８】エチレン性不飽和化合物(Ｂ)としては、エ
チレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコー
ルジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリ
レート、ポリエチレングリコールジアクリレート、プロ
ピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリ
コールジアクリレート、ブチレングリコールジアクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１,６
−ヘキサングリコールジアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、グリセリンジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタアクリレート、２,２−ビス（４−アクリロキシ
ジエトキシフェニル）プロパン、２,２−ビス（４−ア
クリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２−ヒド
ロキシ−３−アクリロイルオキシプロピルアクリレー
ト、エチレングリコールジグリシジルエーテルジアクリ
レート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ
アクリレート、１,６−ヘキサメチルジグリシジルエー
テルジアクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ
アクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ
アクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、
ジエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレ
ングリコールジメタクリレート、プロピレングリコール
ジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタク
リレート、ブチレングリコールジメタクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジメタクリレート、１,６−ヘキサ
ングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパ
ントリメタクリレート、グリセリンジメタクリレート、
ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリス
リトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタメタクリレート、２,２−ビス（４−メタクリロ
キシジエトキシフェニル）プロパン、２,２−ビス（４
−メタクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２
−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキジプロピルメタ
クリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテル
ジメタクリレート、ジエチレングリコールジグリシジル
エーテルジメタクリレート、１,６−ヘキサメチルジグ
リシジルエーテルジメタクリレート、フタル酸ジグリシ
ジルエステルジメタクリレート、グリセリンポリグリシ
ジルエーテルポリメタクリレートなどの多官能モノマー
が挙げられる。これらの多官能モノマーと共に、単官能
モノマーを適当量併用することもできる。

【００１９】単官能モノマーの例としては、２−ヒドロ
キシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアク
リレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−フ
ェノキシ−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−
アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレー
ト、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、グリセリンモノアクリレート、２−アクリロイルオ
キシエチルアシッドホスフェート、フタル酸誘導体のハ
ーフアクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミドや、
２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシ
プロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルメタク
リレート、２−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート、２−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロ
キシプロピルフタレート、３−クロロ−２−ヒドロキシ
プロピルメタクリレート、グリセリンモノメタクリレー
ト、２−メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェ
ート、フタル酸誘導体のハーフメタクリレート、Ｎ−メ
チロールメタクリルアミドなどが挙げられる。

【００２０】ベースポリマー(Ａ)１００重量部に対する
エチレン性不飽和化合物(Ｂ)の割合は、１０〜２００重
量部、特に４０〜１００重量部の範囲から選ぶことが望
ましい。光重合開始剤(Ｃ)としては、例えば、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインｎ
−ブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベン
ジルジフェニルジスルフィド、ジベンジル、ジアセチ
ル、アントラキノン、ナフトキノン、メトキノン、ミヒ
ラーズケトン、３,３'−ジメチル−４−メトキシベンゾ
フェノン、ベンゾフェノン、Ｐ,Ｐ'−ビス（ジメチルア
ミノ）ベンゾフェノン、４,４'−ビス（ジエチルアミ
ノ）ベンゾフェノン、ピバロインエチルエーテン、ベン
ジルジメチルケタール、１,１−ジクロロアセトフェノ
ン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、２−クロ
ロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２,４
−ジエチルチオキサントン、２,２−ジエトキシアセト
フェノン、２,２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン、２,２−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェ
ノン、フェニルグリオキシレート、α−ヒドロキシイソ
ブチルフェノン、ジベゾスパロン、１−（４−イソプロ
ピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プ
ロパノン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニ
ル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、トリブロモ
フェニルスルホン、トリブロモメチルフェニルスルホン
などが挙げられ、これらを適当に組合わせて用いること
ができる。

【００２１】光重合開始剤(Ｃ)の配合割合は、ベースポ
リマー(Ａ)とエチレン性不飽和化合物(Ｂ)との合計量に
対し０.５〜２０重量％程度とするのが適当である。か
かる樹脂は上記の如く三種類を必須成分とするがその他
にも密着付与剤、重合禁止剤、溶剤、可塑剤、着色剤、
表面張力改質剤、安定剤、連鎖移動剤、消泡剤、難燃剤
などの公知の添加剤を適宜配合することができる。上記
光硬化性樹脂組成物層の厚みは通常１０〜１００μｍぐ
らいである。一方、スクリーン印刷法とは該ＰＶＡ層上
に液状の光硬化性樹脂組成物によりスクリーン印刷して
直接模様を形成させ、この模様部分を硬化させてレジス
ト画像を形成させる方法である。

【００２２】液状光硬化性樹脂組成物とは、上述した如
き光硬化性樹脂組成物のそのままあるいは溶媒等の希釈
剤を混合した液状物であり、スクリーン印刷後、活性光
線の照射により硬化画像が形成される。この他にも液状
型樹脂として蒸発乾燥型樹脂、酸化重合型樹脂及び二液
反応樹脂等を用いてスクリーン印刷法によりレジスト画
像を形成させることも可能である。

【００２３】かくして得られたマスキングシートを被ブ
ラスト表面に耐水性基材部分を貼りつけた後サンドブラ
スト工程が行われる。サンドブラストに用いられる研磨
材及び研磨条件は、被ブラスト物体の材質や彫刻する深
さにより異なるがカーボランダム、コランダム、スチー
ルショット、金剛砂などから選ばれた３０〜５００メッ
シュの研磨材を１〜１５kg／cm²の圧力で吹き付けるの
が一般的である。サンドブラスト施行後マスキングシー
トは被ブラスト物体から除去される。除去法としては例
えば、水に浸漬することにより被ブラスト物体から容易
に剥離することができる。

【００２４】

【作用】本発明におけるマスキングシートはサンドブラ
スト時の耐久性に非常に優れ、深彫りを行うにあたり極
めて容易にしかも精密さを有する模様を現出せしめるこ
とができ、工業的に有用である。

【００２５】

【実施例】次に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説
明する。 実施例１〜４ 〈光硬化性樹脂組成物シートの調製〉 ベースポリマーＡ 平均分子量１０万のメチルメタクリレート／ｎ−ブチル
メタクリレート／メタクリル酸（重量比７０／１０／２
０）共重合体のメチルエチルケトン／トルエン／メチル
セロソルブ（重量比７０／１０／２０）混合溶剤による
３５％溶液 エチレン性不飽和化合物Ｂ トリメチロールプロパントリアクリレートとポリエチレ
ングリコールジアクリレートとの重量比で２：１の混合
物

【００２６】光重合開始剤Ｃ ベンゾフェノン ９重量部 ミヒラーズケトン ０.５重量部 メトキノン ０.５重量部 の混合物 Ａの３５％溶液が６０重量部、Ｂが３０重量部、Ｃが１
０重量部からなる組成物を均一に溶解後２５μｍ厚さの
ポリエステルフイルム上にアプリケーターを用いて塗布
し９５℃で１０分熱分乾燥にて乾燥後その上から３０μ
ｍのポリエチレンフイルムを積層した。乾燥後の光硬化
性樹脂組成物層の厚みは５０μｍであった。

【００２７】〈サンドブラスト用マスキングシートの作
成〉 下層としてシリコン処理を施しポリエチレンテレフタレ
ート、中層として接着剤及び上層としてポリエチレンテ
レフタレートの３層からなる耐水性基材上の上層部に、
表１で示すオキシアルキレン基含有変性ポリビニルアル
コールからなる厚さ６００μｍのシートを貼り合わせ
た。つぎにかかるポリビニルアルコールのシート上に上
記で製造した光硬化性樹脂組成物シートをポリエチレン
フイルムを剥離しながらラミネートし、この上に図柄を
有するパターンマスクを載置した。次に３ｋＷ超高圧水
銀灯を光源とする露光機を用いて、７０cmの距離からコ
ンベア速度３m／分で５０秒間、パターンマスクを介し
て露光を行った。ついで、ポリエステルフイルムを剥離
した後、感光層部に３％の炭酸ナトリウム水溶液を０.
８kg／cm²の圧力で４００秒間吹き付け、未露光部分の
光硬化性樹脂及びポリビニルアルコールを同時に洗い出
し乾燥してマスキングシートを作成した。

【００２８】〈サンドブラスト工程〉 厚さ７mmのガラス板に上記で作成したマスキングシート
をシリコン処理を施したポリエチレンテレフタレート層
を剥離しながら貼着し、２００メッシュのアランダムを
３kg／cm²の空気圧で全面に３０秒間ブラストしたとこ
ろ、マスキングシートは剥がれず、形を崩さなかった。
このマスキングシートを水に浸漬して剥離したところ、
ガラス板上にはパターンに忠実である繊細な模様を彫刻
することができた。更に、かかるマスキングシートのサ
ンドブラストに対する耐久強度を測定するために別途上
記マスキングシートと同条件下で作成したマスキングシ
ートを用い、３kg／cm²の空気圧で２００メッシュのア
ランダムを吹き付けマスキングシートの破壊時間を測定
した。結果をまとめて表１に示す。

【００２９】

【表１】

【００３０】比較例１ 実施例１に示した光硬化性樹脂１０重量部（固形分換
算）に対してケン化度８８、重合度１７００のポリビニ
ルアルコール９０重量部を均一に溶解後２５μｍ厚さの
ポリエステルフイルム上にアプリケーターを用いて９５
℃で１０分熱分乾燥にて乾燥後その上から３０μｍのポ
リエチレンフイルムを積層した。乾燥後の光硬化性樹脂
組成物層の厚みは５０μｍであった。かかる光硬化性樹
脂シートをポリエチレンフイルムを剥離しながら厚さ７
μｍのガラス板上にラミネートした。次に３ＫＷ超高圧
水銀灯を光源とする露光機を用いて７０cmの距離からコ
ンベア速度３m／分で３０秒間、図柄を有するパターン
マスクを介して露光を行った。次いでこれにポリエステ
ルフイルムを剥離した後３％の炭酸ナトリウム水溶液を
０.８kg／cm²の圧力で４００秒間吹きつけ、未露光部分
の光硬化性樹脂を洗い出し、乾燥を行いマスキングシー
トを作成した。

【００３１】続いてこれに２００メッシュのアランダム
を３kg／cm²の空気圧で全面に３０秒間ブラストしたと
ころ、マスキングシートの輪郭部がつぶれてパターンに
忠実な模様は得られなかった。又、サンドブラスト後の
マスキングシートの膜圧減少は６５μｍ（膜厚減少率１
１％）と極めて大きく、更に実施例１に従いマスキング
シートの破壊時間を測定したところ１２秒と非常に短時
間であった。

【００３２】

【効 果】本発明におけるマスキングシートはサンドブ
ラスト時の耐久性に非常に優れるため、深彫りを行うに
あたり、極めて容易にしかも精密さを有する模様を現出
せしめることができる。

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 耐水性基材上に平均ケン化度５０〜１０
   ０モル％、平均重合度１００〜８００のオキシアルキレ
   ン基含有変性ポリビニルアルコール層を設け、該ポリビ
   ニルアルコール層上に水不溶性のパターンを形成させ、
   パターンにより覆われていないポリビニルアルコール部
   分を溶解除去することを特徴とするサンドブラスト用マ
   スキングシートの製造方法。
2. 【請求項２】 耐水性基材上に水不溶性のパターンが平
   均ケン化度５０〜１００モル％、平均重合度１００〜８
   ００のオキシアルキレン基含有変性ポリビニルアルコー
   ル層を介して接合されてなるサンドブラスト用マスキン
   グシート。
3. 【請求項３】 パターンが光硬化性樹脂組成物から形成
   されてなる請求項１記載のサンドブラスト用マスキング
   シートの製造方法。