JP3148427B2 - 無電解金めっき液 - Google Patents
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Description
II)酸もしくは亜硫酸又はチオ硫酸の金(I)錯塩を
用いた無電解金めっき液に関する。
から複雑な微細回路やリードのとりにくい孤立した部分
等へのめっきが必要とされる電子工業分野において幅広
く利用されている。従来、一般に使用されている無電解
金めっき液としては、金(I)イオンの錯化剤として毒
性の強いシアン化合物を含んだものが用いられており、
これを、高温度、強アルカリ条件で使用するのが通例で
あった。そのため前述した如き用途に用いる場合におい
ては、回路のマスキングに用いたレジストが剥離すると
か、あるいは、アルカリによりセラミック基板素地が侵
蝕される等の問題がおこり、また、シアン化合物を含有
する無電解金めっき浴は非常に毒性が高く、取り扱いや
保管上及び管理上の問題があり、さらに実作業環境の安
全性や廃液処理の経済面についての問題が存在してい
た。
としては、代表的なものとして金源に塩化金(IH)酸
を用いた金めっき液が知られている(例えば、米国特許
4142902、英国特許2114159参照)。この
塩化金(III)酸塩を用いた金めっき液は、塩化金
(III)酸塩と組成成分の亜硫酸又はチオ硫酸の塩と
がそれらの金錯塩を形成するとされているもので、シア
ン化合物を用いないめっき液として実用化されている。
I)酸を金源とする無電解金めっき液の改良として、還
元成分としてアスコルビン酸を用いた金めっき液を提供
した(特開平1−191782号公報参照)。この無電
解金めっき液は、塩化金(III)酸又はその塩、亜硫
酸又はチオ硫酸のアルカリ金属塩又はアンモニウム塩、
アスコルビン酸又はその塩を組成成分とするもので、低
温度ならびに中性付近のpH条件で実用的なめっき速度
が得られ、また、セラミック基板を侵すことがなく、マ
スキングしたレジストを剥離することもなしにプリント
基板等の微細な回路やリードの金めっき液として使用し
得るという優れたものである。
いても使用中に微量の沈殿を生成したり、建浴後保存中
に金微粒子の沈殿を生ずるなど、安定性の面で解決すべ
き課題が存在しており、満足し得るものではない。この
場合に、亜硫酸金(I)錯塩又はチオ硫酸金(I)錯塩
を金源とする金めっき浴や塩化金(III)酸塩と亜硫
酸、チオ硫酸とから内部的に金錯体を形成せしめる金め
っき浴の安定性が保たれない原因は、実証的には明らか
にされていないが、以下のような理由が考えられる。
チオ硫酸イオン等の酸化性成分の自然酸化、濃度減少に
より溶液内平衡が変化し金錯体が不安定化し、金活量が
増加し浴分解しやすくなること、またアスコルビン酸の
酸化活性を高める微量の金属イオンによる汚染により、
これらを核として金微粒子の生成が起こり、分解を促進
することになることなどである。
性の向上を目的として鋭意研究を行った結果、(a)金
源としての塩化金(III)酸又はその塩もしくは亜硫酸
又はチオ硫酸の金(I)錯塩、(b)亜硫酸及び/又は
チオ硫酸のアルカリ金属塩又はアンモニウム塩、(c)
アスコルビン酸又はその塩及び(d)pH緩衝剤を組成
成分として含有する水溶液よりなる無電解金めっき液に
対して、6−エトキシ−2−メルカプトベンゾチアゾー
ル、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカプ
トベンゾオキサゾール及びこれらの塩から選択された化
合物を含有せしめることにより、めっき液の保存時及び
めっき実施時における安定性を著しく向上させることが
でき、長期使用ならびに長期保存におけるめっき液の安
定性を改善し得ることを見出した。本発明は、かかる知
見に基づいてなされたものである。
塩化金(III)酸又はその塩もしくは亜硫酸又はチオ硫
酸の金(I)錯塩、(b)亜硫酸及び/又はチオ硫酸の
アルカリ金属塩又はアンモニウム塩、(c)アスコルビ
ン酸又はその塩、(d)pH緩衝剤及び(e)6−エト
キシ−2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプ
トベンズイミダゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾ
ール及びそれらの塩から選択された化合物を含有する無
電解金めっき液を提供するものである。
い態様は以下のように説明される。
リットル、亜硫酸ナトリウム0.01〜1.0mol/
リットル、チオ硫酸ナトリウム0.01〜1.0mol
/リットル、りん酸ナトリウム0.01〜1.0mol
/リットル、アスコルビン酸又はそのナトリウム塩0.
001〜1.0mol/リットル及び6−エトキシ−2
−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンズ
イミダゾール又は2−メルカプトベンゾオキサゾールと
して6×10−7〜3×10−3mol/リットルを含
有する。
っき液組成と、得られるめっき速度とめっき液安定性と
の関係について種々検討したところ、以下の如き知見を
得た。
II)酸又はその塩もしくは亜硫酸又はチオ硫酸の金
(I)錯塩の使用量については、0.001〜0.1m
ol/リットルが好ましいが、特に好ましくは0.00
5〜0.05mol/リットルである。0.001mo
l/リットル以下では実用的なめっき速度は得られず、
また0.1mol/リットル以上では金の沈殿が生じや
すくなり、また経済的にも不利である。
ウム塩として、0.01〜1.0mol/リットルが好
ましいが、特に好ましくは0.04〜0.5mol/リ
ットルである。0.01mol/リットル以下では液が
不安定で分解しやすく、1.0mol/リットル以上で
はめっき速度が著しく低下し、実用的に好ましくない。
トリウム塩として、0.01〜1.0mol/リットル
が好ましいが、特に好ましくは0.04〜0.5mol
/リットルである。0.01mol/リットル以下では
めっき液の安定性を欠き分解を生じ易く、また、1.0
mol/リットル以上ではめっき反応に格別効果を示さ
ない。
酸水素ナトリウムにより調製された緩衝液が好適であ
り、その含有量は、0.01〜1.0mol/リットル
が好ましいが、特に好ましくは0.05〜0.5mol
/リットルである。0.01mol/リットル以下では
めっき面の粗雑化が生じ易い。また、1.0mol/リ
ットル以上では、格別の効果は期待されない。
ナトリウム塩として、0.001〜1.0mol/リッ
トルが好ましいが、特に好ましくは0.01〜0.5m
ol/リットルである。0.001mol/リットル以
下ではめっき速度が遅く、また、1.0mol/リット
ル以上ではめっき液が不安定となり、分解を生じ易くな
る。
ンゾチアゾール、2−メルカプトベンズイミダゾール、
2−メルカプトベンゾオキサゾール、又はその誘導体も
しくはその塩については、6×10−7〜3×10−3
mol/リットルが好ましいが、特に好ましくは6×1
0−6〜6×10−5mol/リットルである。6×1
0−7mol/リットル以下ではめっき液が不安定とな
り、分解を生じ易いので好ましくない。また、3×10
−3mol/リットル以上ではめっき液の安定性は増大
するが、めっき速度が遅くなり好ましくない。
は、めっき液成分が分解しない範囲内において硫酸又は
カセイソーダ液により適時調整する。好ましいpH域は
5〜9、特にpH6〜8の範囲である。
℃の範囲で選択できるが、好ましくは50〜70℃、さ
らに好ましくは55〜65℃である。このような低温度
においてめっき可能であることは、被めっき対照物が温
度に抵抗を有しない物体の場合、特に好都合であり、こ
のことは、さらにエネルギーの節約、作業者の安全性の
点からも従来の無電解金めっき液にない優れた利点をも
たらす。
的に説明する。
1に示されている0.5ppm、1.0ppm、2.5
ppm及び5.0ppmの各種濃度において6−エトキ
シ−2−メルカプトベンゾチアゾールを含有せしめた各
液を調製した。室温で保存した場合のこれら各液の安定
性を調べた。その結果は後掲表1に示される。
−メルカプトベンゾチアゾールを含有していない浴(比
較例1)では、建浴後2日目には既に金の沈殿物を生成
し、不安定で長時間使用及び建浴後数日間保存すること
も困難である。
トベンゾチアゾール0.5ppm、1.0ppm、2.
5ppm、5.0ppmの各添加浴(実施例)では、
0.5ppm添加でも6日間、1.0ppm及び2.5
ppmの各浴では15日間、5.0ppmの添加浴では
30日間の各期間に金の沈殿物を生成せず、無添加の場
合に比較して安定性が大幅に改善され、長期間、室温に
おいて保存することが可能であった。また、6−エトキ
シ−2−メルカプトベンゾチアゾールの添加濃度が高い
ほど安定性が良くなる傾向にあることも判った。これら
の実施例からみて本発明に係わる無電解金めっき液が、
浴の安定性向上に著しい効果を発揮することが認められ
る。
2に示した50ppm、100ppm、250ppm、
500ppmの各種濃度において2−メルカプトベンゾ
オキサゾールを含有せしめた各液を調製した。室温で保
存した場合のこれら各液の安定性を調べた。その結果を
後掲表2に示した。
ンゾオキサゾールを含有していない浴(比較例2)で
は、建浴後3日目には既に金の沈殿物を生成し、不安定
で長時間の使用も困難であり、また、建浴後数日間保存
することも困難である。
ゾール50ppm,100ppm、250ppm,50
0ppmの各添加浴(実施例)では、50ppm添加の
場合でも20日間、100ppm、250ppm,50
0ppmでは30日間、の期間において金の沈殿物を生
成せず、無添加の場合に比較して安定性は大幅に改善さ
れ、長期間室温で保存することが可能であった。また、
2−メルカプトベンゾオキサゾールの添加濃度が高いほ
ど安定性が良くなる傾向にあることも判った。これらの
実施例からみて本発明に係わる無電解金めっき液が、浴
の安定性の点において著しい効果を有するものであるこ
とが認められる。
6−メトキシ−2−メルカプトベンゾチアゾールを0.
5ppm、1ppm,2ppm及び2.5ppmの各濃
度でそれぞれを含有せしめた液を用い、めっき試片とし
て、大きさ2cm×2cm、厚さ0.1mmの圧延ニッ
ケル板に厚さ3μmのニッケル皮膜を、次に、厚さ3μ
mの金皮膜をそれぞれ電気めっきしたものを用い、浴負
荷1.2dm2/L、温度60℃、撹拌条件で6時間め
っきを行った。その結果を後掲表3に示した。
−メルカプトベンゾチアゾールを含有していない浴(比
較例3)では、約3時間で浴中に微量の金沈殿物の生成
がはじまり、6時間以上使用することは困難であった。
トベンゾチアゾール添加浴(実施例)では、6時間のめ
っき中に金沈殿物の生成は全く認められず、浴の安定性
が著しく向上していることが認められた。また金の析出
速度については、6−エトキシ−2−メルカプトベンゾ
チアゾール2ppm以下の添加量では無添加浴(比較
例)とめっき速度は、ほぼ同様であり、安定性の向上に
ともなう速度の低下は認められなかった。ただし、6−
エトキシ−2−メルカプトベンゾチアゾール2.5pp
m添加の場合では析出速度は、わずかに低下しているこ
とが認められた。
を帯びた黄色無光沢であるのに対し、実施例では明黄色
の半光沢であり、良好な外観を示した。
電解金めっき液が、浴の安定性に優れた効果をもたら
し、更に析出速度に悪影響を与えず、析出外観も良好で
あることが認められる。
2−メルカプトベンゾオキサゾールを50ppm、10
0ppm、250ppm及び500ppmの各濃度でそ
れぞれ含有せしめた液を用い、めっき試片として実施例
3で用いたものと同様処理のものを用い、浴負荷0.8
dm2/L、温度60℃、撹拌条件で6時間めっきを行
った。その結果を後掲表4に示した。
L チオ硫酸ナトリウム 25g/L L−アスコルビン酸ナトリウム 40g/L りん酸水素二ナトリウム 9g/L りん酸二水素一ナトリウム 3g/L pH 7.0
ンゾオキサゾールを含有していない浴(比較例4)で
は、約2時間で浴中に微量の金沈殿物の生成がはじま
り、6時間以上使用することは困難であった。
ゾール添加浴(実施例)では、6時間めっき中に、金の
沈殿物の生成は全く認められず、浴の安定性が著しく向
上していることが認められた。また、金の析出速度につ
いては、2−メルカプトベンゾオキサゾール添加浴はど
の添加濃度においても無添加浴(比較例4)に比し、め
っき速度はほぼ同様であり、安定性の向上にともなう速
度の低下は認められなかった。
場合が赤味を帯びた黄色無光沢なのに対し、実施例のそ
れは明黄色の半光沢で良好であった。
電解金めっき液が、浴の安定性に優れた効果をもたら
し、更に析出速度に悪影響を与えず良好な析出外観が得
られるものであることが認められる。
イミダゾール25ppmを含有せしめた金めっき浴を調
製し、実施例3と同様のめっき試片を用い、同様のめっ
き条件の下で、6時間めっきを行い、室温で一晩放置し
た後、翌日以後、連日5日間にわたり毎日、すべて同一
条件の下でめっきを繰り返して行った。比較例として2
−メルカプトベンズイミダゾールを添加しない場合につ
いても同様条件でめっきを行った。
ール無添加浴での場合には1日目における6時間の平均
めっき速度0.85μm/hrでめっき可能であった
が、第1日目の約3時間めっき時点で、めっき液中に金
微粒子の沈殿物が生成し、更に、一晩の室温放置中に金
の沈殿物が徐々に増加し、翌日には多量の沈殿物の生成
が認められた。そのため、第2日目以降においては、め
っきを行うことができなかった。これに対し、2−メル
カプトベンズイミダゾール25ppm添加浴では、5日
間のめっき期間中において金の沈殿物等浴中に分解物の
生成は全く認められず、毎日の繰り返し作業にともない
一日約10%程度の速度の低下は認められたが、5日間
めっき作業を行うことが可能であった。6時間の平均め
っき速度は、1日目、0.85μm/hr、2日目、
0.77μm/hr、3日目、0.72μm/hr、4
日目、0.66μm/hr、5日目、0.60μm/h
rであった。これら実施例の結果からみて、2−メルカ
プトベンズイミダゾールを含有せしめることにより、め
っき浴の安定性において優れた効果をもたらすことが認
められ一度加熱した液の保存状態における分解物の生成
も防止されることが認められ、長時間にわたる繰り返し
使用が可能となることが認められた。
トキシ−2−メルカプトベンゾチアゾールを2ppm含
有せしめた液を調製し、これらの各めっき浴について未
使用状態で室温条件下に後掲の表5に示した各保存期間
に保存した。
いて、めっき試片として実施例3と同様処理したものを
用い、浴負荷0.8dm2/L、温度60℃、撹拌条件
で6時間めっきを行い、各保存期間に保存された各めっ
き液について、その速度ならびに仕上がりの外観を比較
した。その結果を後掲表5に示した。
−メルカプトベンゾチアゾールを添加しない浴(比較
例)では保存期間1週間で既に、浴中に多量の金沈殿物
が生成し、めっきを行うことはできなかった。これに対
し、6−エトキシ−2−メルカプトベンゾチアゾールの
2ppm添加浴(実施例)では28日目まで、液中に沈
殿物の生成は認められなかった。これらの保存浴による
めっきでは、建浴直後より、わずかにめっき速度は低下
したが、保存日数によるめっき速度の差は認められず、
最大28日保存浴までめっきを行うことが可能であっ
た。35日保存浴では金の沈殿物が生成したため、正常
にめっきを行うことが不可能であった。
ゾチアゾール2ppm添加浴におけるめっきにおいて
は、めっき浴の保存期間に関係なく、明黄色無光沢又は
半光沢の均一な析出膜が得られた。
トベンゾチアゾールは、めっき液の分解防止に著しい効
果を示し、その結果、めっき浴の使用可能期間が延長さ
れ、浴活性を低下させることなくめっき浴を室温で長期
間、保存することが可能となった。
浴後の保存状態及び使用状態において、浴中の沈殿物生
成を防止し、めっき浴を安定状態で長期間にわたり使用
することができ、この浴を用いて繰り返し、めっきを行
うことが可能であり、従来の金めっき浴が、建浴後直ち
に使用しなければならないという欠点を有するのに対
し、作業時間について制約されないという優れた利点を
有する。したがって、本発明により、金めっきの経済性
ならびに作業性に著しい改善がもたらされる。
Claims (1)
- 【請求項1】 (a)金源としての塩化金(III)酸又
はその塩もしくは亜硫酸又はチオ硫酸の金(I)錯塩、
(b)亜硫酸及び/又はチオ硫酸のアルカリ金属塩又は
アンモニウム塩、(c)アスコルビン酸又はその塩及び
(d)pH緩衝剤を組成成分として含有する水溶液より
なる無電解金めっき液において、6−エトキシ−2−メ
ルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンズイミ
ダゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール及びこれ
らの塩から選択された化合物を含有せしめることを特徴
とする無電解金めっき液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34965292A JP3148427B2 (ja) | 1992-11-13 | 1992-11-13 | 無電解金めっき液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34965292A JP3148427B2 (ja) | 1992-11-13 | 1992-11-13 | 無電解金めっき液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06145996A JPH06145996A (ja) | 1994-05-27 |
| JP3148427B2 true JP3148427B2 (ja) | 2001-03-19 |
Family
ID=18405189
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34965292A Expired - Lifetime JP3148427B2 (ja) | 1992-11-13 | 1992-11-13 | 無電解金めっき液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3148427B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004190075A (ja) | 2002-12-10 | 2004-07-08 | Kanto Chem Co Inc | 無電解金めっき液 |
| JP5416330B2 (ja) * | 2005-03-10 | 2014-02-12 | 日本高純度化学株式会社 | 金めっき液用亜硫酸金塩水溶液の製造方法 |
-
1992
- 1992-11-13 JP JP34965292A patent/JP3148427B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06145996A (ja) | 1994-05-27 |
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