JP3149964B2 - 新規ホスホベタイン及びその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、毛髪、皮膚化粧料の基
剤、洗浄剤、乳化剤やコンディショニング剤などとして
有用な新規ホスホベタイン及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
洗浄剤としてアルキル硫酸塩、ポリオキシエチレンアル
キル硫酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩などが使用
されてきたが、これらの多くは皮膚に対する刺激が比較
的高いことから、近年アルキルリン酸塩やアシル化アミ
ノ酸塩など皮膚に対してより刺激の低い洗浄剤が毛髪、
皮膚化粧料用の洗浄剤や乳化剤などとして使用されるよ
うになってきた。しかし、最近では消費者ニーズの多様
化や高級指向に伴い、皮膚に対する刺激の低さに加え、
皮膚や毛髪に好ましい感触を与える等のコンディショニ
ング効果を有し、かつ皮膚、毛髪洗浄剤等に配合して使
用できる化合物の開発が望まれていた。

【０００３】

【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは鋭意研究を行った結果、皮膚に対する刺激が
低くかつ皮膚や毛髪に好ましい感触を与える、毛髪や皮
膚化粧料の基剤、洗浄剤、乳化剤やコンディショニング
剤などとして有用な新規ホスホベタイン及びその製造方
法を見出し、本発明を完成した。

【０００４】即ち、本発明は、一般式（Ｉ）で示される
ホスホベタインを提供するものである。

【０００５】

【化５】

【０００６】ここで、R¹，R²，R³は同一又は異なって直
鎖又は分岐鎖の炭素数１〜24のアルキル基又はアルケニ
ル基を示し、R¹，R²，R³のうち少なくとも一つは炭素数
５〜24のアルキル基又はアルケニル基である。M は、同
一又は異なって水素原子又は陽イオンを示す。m は０以
上の数を示し、n は１以上の数を示す。但し、 m＋n は
単糖、オリゴ糖、糖アルコール又はグリセリンがそれぞ
れ有する水酸基の数を超えない数を示す。〕また、本発
明は、一般式（II）

【０００７】

【化６】

【０００８】で表されるリン酸エステルに、一般式（II
I)

【０００９】

【化７】

【００１０】で表されるエポキシ化合物を反応させるこ
とを特徴とする、前記一般式（Ｉ）で表されるホスホベ
タインの製造方法を提供するものである。

【００１１】本発明に係わる上記一般式（Ｉ）で示され
る新規ホスホベタインと類似する化合物として、短鎖ア
ルキル基を有する糖ホスホベタインがすでに知られてい
る（特開昭61−22096 号公報）。しかし、このものは本
発明の一般式（Ｉ）で示される化合物に比べその性能が
著しく劣るため、皮膚や毛髪に好ましい感触を与えるよ
うなコンディショニング剤としては実際上使用できない
ものであり、上記一般式（Ｉ）で表される長鎖アルキル
基を有するホスホベタインが毛髪、皮膚等のコンディシ
ョニング効果を有する洗浄剤、乳化剤等として優れた性
能を有することは本発明により初めて見出されたもので
ある。

【００１２】上記一般式（Ｉ）中の Zは単糖、オリゴ
糖、糖アルコール又はグリセリンよりm＋n 個（m 及びn
は前記の意味を示す）の水酸基を除いた残基であり、
この場合において単糖の例としては、アロース、アルト
ロース、グルコース、マンノース、グロース、イドー
ス、ガラクトース、タロース、フルクトース、イノシト
ール、リボース、アラビノース、キシロース、リキソー
ス、リブロース等が挙げられる。またこれら単糖の水酸
基が、少なくとも１つを除いて、例えばアシル化、エー
テル化、アルキレンオキサイド付加、アセタール化など
適当な有機残基で修飾されたものでもよい。

【００１３】さらにオリゴ糖の例としては、マルトー
ス、イソマルトース、マルトトリオース、マルトテトラ
オース、マルトヘプタオースなどのマルトオリゴ糖、シ
クロデキストリン、セロビオースなどのセロオリゴ糖、
マンノオリゴ糖、フルクトオリゴ糖、ショ糖、乳糖など
が挙げられる。またこれらオリゴ糖の水酸基が、少なく
とも１つを除いて、例えばアシル化、エーテル化、アル
キレンオキサイド付加、アセタール化など適当な有機残
基で修飾されたものでもよい。

【００１４】さらに糖アルコールの例としては、例えば
単糖を還元して得られるソルビトール、マンニトール、
ガラクチトール、キシリトール、アラビニトール、リビ
トールなどや、オリゴ糖を還元して得られるマルチトー
ルなどが挙げられる。またこれら糖アルコールの水酸基
が、少なくとも１つを除いて、例えばアシル化、エーテ
ル化、アルキレンオキサイド付加、アセタール化など適
当な有機残基で修飾されたものでもよい。

【００１５】前記式（Ｉ）で示される本発明化合物にお
いて、R¹, R², R³は直鎖または分岐鎖の炭素数１〜24の
アルキル基またはアルケニル基を示し、R¹, R², R³のう
ち少なくとも一つは炭素数５〜24のアルキル基またはア
ルケニル基である。直鎖または分岐鎖の炭素数１〜24の
アルキル基またはアルケニル基としては、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデニル、ド
デシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘ
キサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシ
ル、エイコシル、ヘンエイコシル、ドコシル、トリコシ
ル、テトラコシル、エテニル、プロペニル、ブテニル、
ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノ
ネニル、デセニル、ドデセニル、ウンデセニル、トリデ
セニル、テトラデセニル、ペンタデセニル、ヘキサデセ
ニル、ヘプタデセニル、オクタデセニル、ノナデセニ
ル、エイコセニル、ヘンエイコセニル、ドコセニル、ト
リコセニル、テトラコセニル、メチルヘキシル、エチル
ヘキシル、メチルヘプチル、エチルヘプチル、メチルノ
ニル、メチルウンデセニル、メチルヘプタデカニル、ヘ
キシルデシル、オクチルデシル等の基が挙げられる。

【００１６】前記一般式（Ｉ）で示される本発明のホス
ホベタインは、前記一般式（II）で示されるリン酸エス
テルと、前記一般式（III)で示されるエポキシ化合物と
を反応させることにより得られるが、一般式（II）で示
されるリン酸エステルとしては、例えばグルコース−１
−リン酸、グルコース−６−リン酸、マンノース−１−
リン酸、マンノース−６−リン酸、ガラクトース−１−
リン酸、ガラクトース−６−リン酸、フルクトース−１
−リン酸、フルクトース−６−リン酸、フルクトース−
1,6 −ジリン酸、リボース−１−リン酸、キシロース−
５−リン酸、イノシトールリン酸、ショ糖リン酸、マル
トースリン酸、マルトトリオースリン酸、マルトテトラ
オースリン酸、マルトペンタオースリン酸、マルトヘキ
サオースリン酸、マルトヘプタオースリン酸、シクロデ
キストリンリン酸、セロビオースリン酸、ラクトースリ
ン酸、ソルビトールリン酸、マンニトールリン酸、ガラ
クチトールリン酸、キシリトールリン酸、アラビニトー
ルリン酸、リビトールリン酸、マルチトールリン酸、グ
リセロリン酸等の無機塩または有機塩が挙げられ、一般
式（II）におけるMは特に限定されないが、例えば水素
原子又はアルカリ金属、アンモニウム基、アルキルアン
モニウム基、酸性アミノ酸基、トリアルカノールアミン
の陽イオン残基などが挙げられる。

【００１７】一般式（III)で示されるエポキシ化合物は
例えば公知の方法に従って、対応するトリアルキル又は
アルケニルアミンとエピハロヒドリンとの反応により容
易に製造することができる。一般式（III)における

【００１８】

【化８】

【００１９】は、特に限定されないが、例えばハロゲン
原子、アルキル硫酸エステルの陰イオン基などが挙げら
れる。

【００２０】本発明の反応の具体例を示せば、例えば次
の通りである。

【００２１】

【化９】

【００２２】（式中、R¹, R², R³は前記の意味を示
す。）本発明の製造方法を実施するには、一般式（II）
で示されるリン酸エステルのリン酸基に対して 0.1〜10
倍モルの、好ましくは１〜５倍モルの一般式（III)で示
されるグリシジルトリアルキル又はアルケニルアンモニ
ウム塩を反応させる。反応は不活性溶媒の存在下におい
て、30〜150 ℃、好ましくは40〜90℃の温度で行われ
る。

【００２３】不活性溶媒としては、例えば、水、メタノ
ール、エタノール、イソプロパノール、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒もしくはこ
れらから選ばれる二種以上の混合溶媒が使用されるが、
その中で水もしくは水と低級アルコールの混合溶媒が特
に好ましい。

【００２４】反応生成物には、本発明の目的たる一般式
（Ｉ）で示されるホスホベタインの他、副生物としての
無機塩、未反応のリン酸エステルやグリシジルトリアル
キル又はアルケニルアンモニウム塩あるいはそのエポキ
シ開環物が含まれている。この反応物中の各成分の割合
は、使用するリン酸エステルの種類、グリシジルトリア
ルキル又はアルケニルアンモニウム塩の種類、それらの
反応モル比、使用する溶剤の種類および量、反応温度等
の条件に依存する。従って、使用目的によっては反応生
成物をそのまま用いることも可能であるが、さらに高純
度品が必要とされる場合には、例えばイオン交換クロマ
トグラフィー法や電気透析法、溶媒分別法、再結晶法な
ど公知の方法により適宜精製して使用すればよい。

【００２５】

【発明の効果】以上の如くして得られる本発明の新規ホ
スホベタイン（Ｉ）は皮膚、毛髪に対して優れたコンデ
ィショニング効果を有しており、シャンプー、リンス、
化粧品等に使用することができる。

【００２６】

【実施例】以下に実施例を挙げ、本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。

【００２７】実施例１ 反応器にα−D −グルコース−1 −ホスフェートモノナ
トリウム塩４水和物35g(0.1 モル）と水500gを入れ、60
℃に昇温した。次に反応系を60℃に保ちながら、グリシ
ジルジメチルオクタデシルアンモニウムクロライド78 g
(0.2 モル）を200gの30％エタノール水溶液に溶解させ
た溶液を徐々に滴下した後、60℃で15時間反応させた。
反応終了後、減圧下で反応溶媒を除去した後、残査を10
倍量のアセトンで洗浄し、未反応のグリシジルジメチル
オクタデシルアンモニウムクロライドとこれのエポキシ
開環物を除いた。得られた粗生成物をエタノールからの
再結晶により薄層クロマトグラフィーで単一のスポット
を与えるまで精製し、α−D −グルコピラノース−１−
〔２−ヒドロキシ−３−（N,N −ジメチル−N −オクタ
デシルアンモニオ）プロピル〕ホスフェート33g を得た
（単離収率54％）。

【００２８】¹H-NMR（D₂O)（図１に示す）；δ（ppm)0.
88(t,3H,ａ), 1.28(broad,30H,ｂ), 1.77 (m,2H,ｃ),
3.18(s,6H,ｄ),3.30 〜4.00(broad m,12H,ｅ）, 4.40(b
road,1H,ｆ), 5.46(m,1H, ｇ）

【００２９】

【化１０】

【００３０】IR（KBr 錠剤法）；図２に示す。

【００３１】質量分析（FAB イオン化法）； M/Z 614(M＋H)⁺ （M ＝C₂₉H₆₀O₁₀NP) 実施例２ 反応器にα−D −グルコース−１−ホスフェートモノナ
トリウム塩４水和物35g(0.1 モル) と水500gを入れ、60
℃に昇温した。次に反応系を60℃に保ちながら、グリシ
ジルジメチルドデシルアンモニウムクロライド61g(0.2
モル）を200gの水に溶解させた溶液を徐々に滴下した
後、60℃で10時間反応させた。反応終了後、反応物溶液
から凍結乾燥することで反応溶媒を除いた。得られた反
応物を10倍量のアセトンで洗浄し、未反応のグリシジル
ジメチルドデシルアンモニウムクロライドとこれのエポ
キシ開環物を除いた。この後、イオン交換クロマトグラ
フィー（イオン交換樹脂：BIO RAD 社製AG501-X8）によ
り薄層クロマトグラフィーで単一のスポットを与えるま
で精製し、α−D −グルコピラノース−１−〔２−ヒド
ロキシ−３−（N,N −ジメチル−N −ドデシルアンモニ
オ）プロピル〕ホスフェート22g を得た（単離収率42
％）。

【００３２】¹H-NMR (D₂O)；δ（ppm)0.88(t,3H,ａ),
1.32(broad,18H,ｂ), 1.76(m,2H,ｃ), 3.18(s,6H,ｄ),
3.30〜4.00(broad, 12H,ｅ), 4.35(broad,1H,ｆ), 5.44
(m,1H,ｇ)

【００３３】

【化１１】

【００３４】質量分析（FAB イオン化法) ； M/Z 530（M＋H)⁺ （M＝C₂₃H₄₈O₁₀NP) 実施例３ 反応器にα−D −グルコース−１−ホスフェートモノナ
トリウム塩４水和物35g(0.1 モル) と水500gを入れ、60
℃に昇温した。次に反応系を60℃に保ちながら、グリシ
ジルジメチルペンチルアンモニウムクロライド42g(0.2
モル）を200gの水に溶解させた溶液を徐々に滴下した
後、60℃で10時間反応させた。反応終了後、反応物溶液
から凍結乾燥することで反応溶媒を除いた。得られた反
応物を10倍量のアセトンで洗浄し、未反応のグリシジル
ジメチルペンチルアンモニウムクロライドとこれのエポ
キシ開環物を除いた。この後、イオン交換クロマトグラ
フィー（イオン交換樹脂：BIO RAD 社製AG501-X8）によ
り精製し、α−D −グルコピラノース−１−〔２−ヒド
ロキシ−３−（N,N −ジメチル−N −ペンチルアンモニ
オ）プロピル〕ホスフェート13g を得た（単離収率31
％）。

【００３５】¹H-NMR (D₂O)；δ（ppm)0.89(t,3H,ａ),
1.34(broad,4H,ｂ), 1.76(m,2H,ｃ), 3.19(s,6H,ｄ),3.
29〜4.02(broad,12H,ｅ), 4.38(broad,1H,ｆ), 5.43(m,
1H,ｇ)

【００３６】

【化１２】

【００３７】質量分析（FAB イオン化法) ； M/Z 432（M＋H)⁺ （M＝C₁₆H₃₄O₁₀NP) 実施例４ 反応器にα−グリセロリン酸二ナトリウム50ｇ（0.23モ
ル）と水 500ｇ及び1N塩酸 230ｇを入れ、60℃に昇温し
た。次に反応系を60℃に保ちながら、グリシジルジメチ
ルペンチルアンモニウムクロライド95.1ｇ（0.46モル）
を 400ｇの30％エタノール水溶液に溶解させた溶液を５
時間で滴下する。その後、60℃を保ち、15時間反応を行
った。反応終了後、減圧下で溶媒を留去し、残渣を10倍
量のアセトンで洗浄し、未反応のグリシジルジメチルペ
ンチルアンモニウムクロライドと、これのエポキシ開環
物を除去した。

【００３８】得られた粗生成物を80％エタノール水溶液
により洗浄し、薄層クロマトグラフィーで単一のスポッ
トを与えるまで精製し、純粋な 2,3−ジヒドロキシプロ
ピル〔２−ヒドロキシ−３−（N,N −ジメチル−N −ペ
ンチルアンモニオ）プロピル〕ホスフェート25ｇを得た
（単離収率35％）。

【００３９】¹H-NMR (D₂O)；δ（ppm)0.87(t,3H,ａ),
1.28(broad,4H,ｂ), 1.75(m,2H,ｃ), 3.17(s,6H,ｄ),3.
30〜3.90(m,11H,ｅ), 4.35(broad,1H,ｆ)

【００４０】

【化１３】

【００４１】質量分析（FAB イオン化法) ； M/Z 344（M＋H)⁺ （M＝C₁₃H₃₀O₇NP) 実施例５ 反応器にα−グリセロリン酸二ナトリウム50ｇ（0.23モ
ル）と水 500ｇ及び1N塩酸 230ｇを入れ、60℃に昇温し
た。次に反応系を60℃に保ちながら、グリシジルジメチ
ルヘキサデシルアンモニウムクロライド166.5 ｇ（0.46
モル）を 600ｇの30％エタノール水溶液に溶解させた溶
液を３時間で滴下する。その後、60℃を保ち、20時間反
応を行った。反応終了後、減圧下で溶媒を留去し、残渣
を10倍量のアセトンで洗浄し、未反応のグリシジルジメ
チルヘキサデシルアンモニウムクロライドと、これのエ
ポキシ開環物を除去した。得られた粗生成物を90％エタ
ノール水溶液により洗浄し、薄層クロマトグラフィーで
単一のスポットを与えるまで精製し、純粋な 2,3−ジヒ
ドロキシプロピル〔２−ヒドロキシ−３−（N,N −ジメ
チル−N −ヘキサデシルアンモニオ）プロピル〕ホスフ
ェート53ｇを得た（単離収率46％）。

【００４２】¹H-NMR (D₂O)；δ（ppm)0.88(t,3H,ａ),
1.28(broad,26H,ｂ), 1.75(m,2H,ｃ), 3.16(s,6H,ｄ),
3.30〜4.00(m,11H,ｅ), 4.36(broad,1H,ｆ)

【００４３】

【化１４】

【００４４】質量分析（FAB イオン化法) ；M/Z 498
（M＋H)⁺ （M＝C₂₄H₅₂O₇NP)実施例６反応器に下記合
成例１に基づき調製したソルビトールリン酸エステルナ
トリウム塩 8.9ｇ（0.032 モル）と水 100ｇを入れ、60
℃に加温した。次に反応系を60℃に保ちながら、グリシ
ジルジメチルヘキサデシルアンモニウムクロライド17.4
ｇ（0.048 モル）を 100ｇの30％エタノール水溶液に溶
解させた溶液を２時間で滴下する。その後、60℃を保
ち、10時間反応を行った。反応終了後、減圧下で溶媒を
留去し、残渣を10倍量のアセトンで洗浄し、未反応のグ
リシジルジメチルヘキサデシルアンモニウムクロライド
と、これのエポキシ開環物を除去した。

【００４５】得られた粗生成物を90％エタノール水溶液
により洗浄し、薄層クロマトグラフィーで単一のスポッ
トを与えるまで精製し、純粋な 2,3,4,5,6−ペンタヒド
ロキシヘキシル〔２−ヒドロキシ−３−（N,N −ジメチ
ル−N −ヘキサデシルアンモニオ）プロピル〕ホスフェ
ート 5.6ｇを得た（単離収率30％）。

【００４６】¹H-NMR (D₂O)；δ（ppm)0.87(t,3H,ａ),
1.29(broad,26H,ｂ), 1.75(m,2H,ｃ), 3.16(s,6H,ｄ),
3.20〜4.00(m,14H,ｅ), 4.34(broad,1H,ｆ)

【００４７】

【化１５】

【００４８】質量分析（FAB イオン化法) ； M/Z 588（M＋H)⁺ （M＝C₂₇H₅₈O₁₀NP) 実施例７ 反応器に下記合成例１に基づき調製したソルビトールリ
ン酸エステルナトリウム塩 8.9ｇ（0.032 モル）と水 1
00ｇを入れ、60℃に加温した。次に反応系を60℃に保ち
ながら、グリシジルジメチルペンチルアンモニウムクロ
ライド10ｇ（0.048 モル）を 100ｇの30％エタノール水
溶液に溶解させた溶液を２時間で滴下する。その後、60
℃を保ち、９時間反応を行った。反応終了後、減圧下で
溶媒を留去し、残渣を10倍量のアセトンで洗浄し、未反
応のグリシジルジメチルペンチルアンモニウムクロライ
ドと、これのエポキシ開環物を除去した。

【００４９】得られた粗生成物を90％エタノール水溶液
により洗浄し、薄層クロマトグラフィーで単一のスポッ
トを与えるまで精製し、純粋な 2,3,4,5,6−ペンタヒド
ロキシヘキシル〔２−ヒドロキシ−３−（N,N −ジメチ
ル−N −ペンチルアンモニオ）プロピル〕ホスフェート
3.3ｇを得た（単離収率26％）。

【００５０】¹H-NMR (D₂O)；δ（ppm)0.87(t,3H,ａ),
1.28(broad,4H,ｂ), 1.75(m,2H,ｃ), 3.17(s,6H,ｄ),3.
35〜3.90(m,14H,ｅ), 4.35(broad,1H,ｆ)

【００５１】

【化１６】

【００５２】質量分析（FAB イオン化法) ； M/Z 434（M＋H)⁺ （M＝C₁₆H₃₆O₁₀NP) 実施例８ 反応器に下記合成例２に従い合成したマルトースリン酸
二ナトリウム塩47ｇ（0.1 モル）と水 400ｇ及び1N塩酸
200 ｇを入れ、撹拌溶解後70℃に昇温した。これにグリ
シジルジメチルドデシルアンモニウムクロライド122 ｇ
（0.4 モル）を300ｇの水に溶解させた溶液を徐々に滴
下した後、70℃で20時間反応させた。反応終了後、反応
物溶液から凍結乾燥することで反応溶媒を除去した。得
られた反応物を10倍量のアセトンで洗浄し、未反応のグ
リシジルジメチルドデシルアンモニウムクロライドとこ
れのエポキシ開環物を除いた。

【００５３】この後、イオン交換クロマトグラフィー
（イオン交換樹脂：BIO RAD 社製 AG501-X8）により精
製し、マルトース〔２−ヒドロキシ−３−（N,N −ジメ
チル−N −ドデシルアンモニオ）プロピル〕ホスフェー
ト35ｇを得た（単離収率51％）。

【００５４】¹H-NMR (D₂O)；δ（ppm)

【００５５】

【化１７】

【００５６】質量分析（FAB イオン化法) ； M/Z 692（M＋H)⁺ （M＝C₂₉H₅₈O₁₅NP) 実施例９ 反応器にフルクトース−1,6 −ジリン酸三ナトリウム塩
６水和物45ｇ（0.09モル）と水 200ｇを入れ、60℃に昇
温した。次に反応系を60℃に保ちながら、グリシジルジ
メチルペンチルアンモニウムクロライド84ｇ（0.4 モ
ル）を 200ｇの水に溶解させた溶液を徐々に滴下した
後、60℃で20時間反応させた。反応終了後、反応物溶液
から凍結乾燥することで反応溶媒を除いた。得られた反
応物を10倍量のアセトンで洗浄し、未反応のグリシジル
ジメチルペンチルアンモニウムクロライドとこれのエポ
キシ開環物を除いた。この後、イオン交換クロマトグラ
フィー（イオン交換樹脂：BIO RAD 社製 AG 501-X8)に
より薄層クロマトグラフィーで単一スポットを与えるま
で精製し、フルクトース−1,6 −ジ〔２−ヒドロキシ−
３−（N,N −ジメチル−N −ペンチルアンモニオ）プロ
ピル〕ホスフェート32ｇを得た（単離収率52％）。

【００５７】¹H-NMR (D₂O)；δ（ppm)0.88(t,6H,ａ),
1.31(broad,8H,ｂ), 1.76(m,4H,ｃ), 3.19(s,12H,ｄ),
3.28〜4.00(broad,19H,ｅ), 4.35(broad,2H,ｆ)

【００５８】

【化１８】

【００５９】質量分析（FAB イオン化法) ；M/Z 683
（M＋H)⁺ （M＝C₂₆H₅₆O₁₄N₂P₂) 合成例１ ソルビトールリン酸エステルナトリウム塩は公知の方法
（特公昭50−8052号公報）に基づいて合成を行った。

【００６０】即ち、ソルビトール45.5ｇを水 125mlに溶
解し、この中へオキシ塩化リン３８．４ｇを０〜５℃に
おいてかきまぜながら約２時間で滴下した。この際１０
Ｎ −カセイソーダ水溶液を添加して、反応液のpHを常
に13.5に維持し、オキシ塩化リン添加終了後もpHの変化
が認められなくなるまでアルカリを滴下した。反応混合
物をカチオン交換樹脂（ダウエックス50×4H⁺ 型）を用
いて中和し、減圧下濃縮し、カセイソーダ水溶液を加え
てpHを10に調整した。次にエタノール 120mlを加えて冷
却し、析出した無機塩を濾去したのち、２層に分離した
濾液の下層を分取した。これに水を加えて 250mlとし、
さらにメタノール１リットルを加え、析出したソルビト
ールリン酸エステルナトリウム塩を濾別し、乾燥した。

【００６１】この粗製物を再度水 100mlに溶かし、エタ
ノールを加えて再沈させる事により、精製ソルビトール
リン酸エステルナトリウム塩45ｇを得た。

【００６２】合成例２マルトースリン酸二ナトリウム塩
は公知の方法（特公昭50−8052号公報）に基づいて合成
を行った。

【００６３】即ち、マルトース85.4ｇを水 250mlに溶解
した以外は合成例１と同様に反応を行い、精製マルトー
スリン酸二ナトリウム塩60ｇを得た。

【００６４】比較例１短鎖アルキル基を有する糖ホスホ
ベタインとして、α−D −グルコピラノース−１−〔２
−ヒドロキシ−（N,N,N −トリメチルアンモニオ）プロ
ピル〕ホスフェートを公知の方法（特開昭61−22096 号
公報）に基づき合成した。

【００６５】即ち、反応器にα−D −グルコース−１−
ホスフェートジナトリウム塩 100ｇと水100 ｇ及び4N塩
酸70ｇを入れ、60℃に昇温した。これにグリシジルトリ
メチルアンモニウムクロライド 160ｇを 140ｇの水に溶
解させた溶液を徐々に滴下した後、60℃で４時間反応さ
せた。反応終了後反応液を濾過して浮遊性の不純物を除
去した。この溶液を電気透析装置に通し、イオン性の不
純物を脱塩し、更に反応液から水を留去して、α−D −
グルコピラノース−１−〔２−ヒドロキシ−（N,N,N −
トリメチルアンモニオ）プロピル〕ホスフェート77ｇを
得た。

【００６６】試験例 実施例１, ３〜７及び９で得られた本発明化合物を用
い、下記方法で表１に示す組成のヘアコンディショニン
グ剤を製造し、下記方法でそのコンディショニング効果
を調べた。また表１に示す組成の比較品についても同様
にそのコンディショニング効果を調べた。結果を表１に
示す。

【００６７】＜製造法＞70℃に加熱した水に、各成分を
加え、撹拌して混合させた後、撹拌しながら室温まで冷
却し、ヘアコンディショニング剤を得た。

【００６８】＜評価方法＞今までにコールドパーマ、ブ
リーチ等の美容処理を行ったことのない日本人女性の毛
髪20ｇ（長さ15cm）を束ね、この毛髪束をアニオン活性
剤を主成分とする市販シャンプーで洗浄処理し、表１に
示す組成の各種ヘアコンディショニング剤２ｇを均一に
塗布し、次いで30秒間流水ですすぎ洗いした後、タオル
ドライを行った。この湿潤状態の毛髪束について、柔軟
性、平滑性及びしっとり感を官能評価した。評価基準
は、特に優れているものは◎、良好なものは○、普通の
ものは△、劣るものは×として示した。

【００６９】

【表１】

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１で得られたα−D −グルコピラノース
−１−〔２−ヒドロキシ−３−(N,N−ジメチル−N −オ
クタデシルアンモニオ）プロピル〕ホスフェートの¹H−
NMR スペクトル図である。

【図２】実施例１で得られたα−D −グルコピラノース
−１−〔２−ヒドロキシ−３−(N,N−ジメチル−N −オ
クタデシルアンモニオ）プロピル〕ホスフェートのIRス
ペクトル図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｆ 17/14 Ｂ０１Ｆ 17/14 (56)参考文献 特開 昭61−22096（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C07F 9/10 C07H 11/04 ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ）で示されるホスホベタイ
   ン。 【化１】 ここで、R¹，R²，R³は同一又は異なって直鎖又は分岐鎖
   の炭素数１〜24のアルキル基又はアルケニル基を示し、
   R¹，R²，R³のうち少なくとも一つは炭素数５〜24のアル
   キル基又はアルケニル基である。 M は、同一又は異なって水素原子又は陽イオンを示す。 m は０以上の数を示し、n は１以上の数を示す。但し、
   m＋n は単糖、オリゴ糖、糖アルコール又はグリセリン
   がそれぞれ有する水酸基の数を超えない数を示す。〕
2. 【請求項２】 前記一般式（Ｉ）において、m が０であ
   る請求項１記載のホスホベタイン。
3. 【請求項３】 前記一般式（Ｉ）において、m が０であ
   り、Z がグルコース又はフルクトースよりn 個（n は前
   記の意味を示す）の水酸基を除いたあとに残る残基であ
   る請求項２記載のホスホベタイン。
4. 【請求項４】 前記一般式（Ｉ）において、m が０であ
   り、Z がソルビトールよりn 個（n は前記の意味を示
   す）の水酸基を除いたあとに残る残基である請求項２記
   載のホスホベタイン。
5. 【請求項５】 前記一般式（Ｉ）において、m が０であ
   り、Z が縮合度10未満のマルトオリゴ糖、ショ糖又は乳
   糖よりn 個（n は前記の意味を示す）の水酸基を除いた
   あとに残る残基である請求項２記載のホスホベタイン。
6. 【請求項６】 一般式（II） 【化２】 で表されるリン酸エステルに、一般式（III) 【化３】 で表されるエポキシ化合物を反応させることを特徴とす
   る、一般式（Ｉ） 【化４】 〔式中、Z, R¹, R², R³, M, m, nは前記と同じ意味を示
   す。〕で表されるホスホベタインの製造方法。