JP3203121B2 - 光学ヘッド - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はビーム径、特に集光スポ
ットを小さくし得るビームに変換する光学素子を用いた
光学ヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、光情報処理装置等において、多く
の情報量を記録、再生又は消去できることが望まれてい
る。例えば、読出し専用の光ディスク装置においても、
情報の高密度化が要求されている。

【０００３】斯る光ディスク装置等の光情報処理装置で
は、光源である半導体レーザからのレーザビームを光記
録媒体に集光用レンズを介して集光させて、情報の記
録、再生又は消去を行っている。

【０００４】斯る装置において、情報を高密度化するた
めには、光記録媒体に出来る限り小さな集光スポットを
形成する必要がある。

【０００５】ところで、光記録媒体に形成される集光ス
ポットは、集光用レンズの開口数をＮＡ、ビームの波長
をλ、ビーム進行方向に垂直方向（径方向）の光強度分
布が均一であるビームを仮定した場合、集光スポットの
１／ｅ²幅は、０．９６λ／ＮＡで与えられる。

【０００６】しかしながら、図９に示すように、半導体
レーザ１０１から出力したレーザビームはガウス分布に
近似した光強度分布（径方向）を有するため、集光用レ
ンズ１０２で光記録媒体１０３へ集光した時の集光スポ
ットの１／ｅ²幅は、０．９６λ／ＮＡより大きくなっ
てしまうといった問題があった。

【０００７】しかしながら、光記録媒体１０３での集光
スポットサイズと、半導体レーザ１０１と集光用レンズ
１０２の距離Ｌ（ｍｍ）とには、図１０に示すような関
係がある。ここでは、集光用レンズ１０２の開口径は３
ｍｍφであり、実線はガウス分布の光強度分布（径方
向）の場合を示す。

【０００８】この図から判るように、上記問題を解決す
るために、従来は半導体レーザ１０１と集光用レンズ１
０２の距離Ｌを十分大きくして、例えばコンパクトディ
スク装置ではこの距離Ｌを約２０ｍｍとして、集光用レ
ンズにレーザビームの中心部の光だけを透過させるよう
にしていた。この方法は、レーザビーム全体を使用する
より、集光用レンズ１０２を透過するビームは光強度分
布が比較的均一な部分のみからなるので、前記１／ｅ²
幅をある程度小さくできる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ようにレーザビームの中心部の光だけを使用する方法で
も、１／ｅ²幅が０．９６λ／ＮＡに略等しいスポット
が得られず、しかも、光源と集光用レンズの距離Ｌが大
きくなるため光学系が大型化するといった問題があっ
た。尚、光源として半導体レーザ以外の光源を使用した
場合にも、光源から出力される光が径方向の光強度分布
が不均一であるため、同様の問題が生じる。

【００１０】本発明は斯る問題点を鑑みて成されたもの
であり、光学系の小型化が可能で、且つ小さな集光スポ
ットが形成できる光学素子を用いた光学ヘッドを提供す
ることを目的とする。

【００１１】

【００１２】

【００１３】

【００１４】

【００１５】

【００１６】

【００１７】

【００１８】

【００１９】

【課題を解決するための手段】 本発明の光学ヘッドは、
光源と、該光源から出射されたビームを該ビームの中心
近傍の光を除去することにより中心近傍のビーム強度が
一定である主ビームに変換する光学素子とを備え、前記
光学素子により変換された主ビームを記録媒体に照射す
る光学ヘッドであって、前記光学素子は、入射ビームの
中心近傍の光を前記主ビームとは光軸方向が異なる方向
に平行光または収束光として回折して分岐ビームとして
除去することにより０次回折の前記主ビームを生成する
ホログラム素子よりなり、該ホログラム素子により回折
された平行光又は収束光である前記分岐ビームの強度を
モニターすることを特徴とする。

【００２０】

【００２１】特に、前記ホログラム素子は透過型ホログ
ラム素子であることを特徴とする。

【００２２】特に、前記ホログラム素子は反射型ホログ
ラム素子であることを特徴とする。

【００２３】

【００２４】

【００２５】特に、前記光源から出力されたビームは最
初に前記光学素子に入射することを特徴とする。

【００２６】

【００２７】

【作用】本発明の光学ヘッドは、入射ビームを、中心近
傍のビーム強度が一定であるビームに変換するので、光
源と集光用レンズとの距離が小さい場合でも、１／ｅ²
幅が０．９６／ＮＡに略等しい小さな集光スポットが得
られ、情報の高密度化及び小型化が可能となる。

【００２８】また、光学素子が分岐ビームとして平行光
又は収束光を回折するホログラム素子からなるため、平
行光又は収束光のビーム強度を効率良くモニターして光
源の出力ビームを制御することができる。そして、斯る
構成を光学ヘッドにおいて用いた場合、記録媒体に照射
する側のビームを検出できるので、光源として半導体レ
ーザを用いる場合、記録媒体に照射するビームを出力す
る端面とは異なる他の端面から出力するビームをモニタ
ーするより、該記録媒体に照射するビームを高精度に制
御できる。更に、光源として半導体レーザを用いる場合
には、高出力が可能な一方の端面からのみビームを出力
するレーザを使用できる。

【００２９】

【実施例】本発明に係る一実施例を図面を参照しつつ詳
細に説明する。図１は本実施例の光学ヘッドを示す模式
構造図、図２はこの光学ヘッドに使用するホログラム素
子のホログラム面の模式上面図である。

【００３０】図１中、１はコンパクトディスク等の光記
録媒体、２はレーザビームを出力する半導体レーザ（光
源）である。

【００３１】３は一定光強度以上の光を入射ビーム光軸
に対して斜め方向であって且つ他の光学素子に入射しな
いように分岐（１次又は−１次で回折）する透過型ホロ
グラム素子（光学素子）であって、該素子３に入射され
た半導体レーザ２からのレーザビームは、一定光強度以
上の光が分岐されることにより、中心近傍のビーム強度
が一定であるビームに変換されて該素子３を透過（０次
回折）する。尚、図２は上記ホログラム素子３のホログ
ラム面４の模式上面図であり、実際にはホログラム面を
構成する格子上面形状は滑らかな曲線を有する。

【００３２】５はホログラム素子３から出射される中心
近傍のビーム強度が一定であるビームを光記録媒体１上
に集光させて、該媒体１上に集光スポットを形成するた
めの集光用レンズである。

【００３３】上記ホログラム素子３では分岐光は平行光
であったが、収束光でもよく、以下に、本実施例で用い
られるホログラム素子３の設計方法を詳細に説明する。

【００３４】まず、図３に示すように、ホログラム面４
を構成する格子の凹凸の幅の比率を意味するデューティ
比ｒ（Ｘ，Ｙ）は以下のように求められる。尚、図中、
一点鎖線は格子ライン（凸部）中心、Λは格子ライン
（凸部）幅を示す。

【００３５】図４に示すように、ビームの光軸に垂直な
面内（図中、ｘｙ平面）での光強度分布ｕ（Ｘ，Ｙ）が
中心から周囲に漸次的に減少する場合（例えば、半導体
レーザからの出力ビーム）を考える。尚、図４の縦軸は
規格化されている。

【００３６】０次回折光の回折効率は、一般に次式
（１）で与えられる。

【００３７】η₀（Ｘ，Ｙ）＝１−ａｒ（１−ｒ），
ａ：定数 ・・・ （１） 従って、ビームの光軸の中心部における光軸に垂直な面
内での光強度分布をｕ ₀（一定）とする場合、η₀＝ｕ₀
／ｕと設定すればよいので、デューティ比ｒは次式
（２）より求められる。

【００３８】 ａｒ²−ａｒ＋１−ｕ₀／ｕ＝０ ・・・ （２） 尚、定数ａは、ｕ（０，０）＝１でのデューティ比ｒを
０＜ｒ＜１の任意の値に設定することにより求めればよ
い。しかし、ｒ（０，０）が０．５に近い値を設定する
場合に、ホログラム面の中心部と周辺部のデューティ比
ｒ（Ｘ，Ｙ）の差が大きく異なり、ホログラム面の作製
誤差が小さくなるので望ましい。例えば、ｒ（０，０）
＝０．５の時、定数ａは４（１−ｕ₀）である。

【００３９】次に、図５に示すように、光源２から距離
Ｚ₀の位置にホログラム素子３のホログラム面が位置
し、入射ビームの一定強度以上の光（分岐光）がホログ
ラム面（図中、Ｘ軸方向）と角度θをなして回折する場
合に、ホログラム面の各格子ライン中心の形状は次式
（３）から求められる。

【００４０】

【数１】

【００４１】但し、λはビームの波長、ｍ（ｍ＝０，±
１，±２，・・・の整数）は格子ライン番号、ｆは原点
（０，０，０）から収束点又は仮想発散光源までの距
離、θは平行光、又は収束光がホログラム面（図中、ｘ
軸方向）となす角度、ｓは収束光である場合ｓ＝１であ
る。

【００４２】また、ホログラム面の格子ラインの幅は次
式（４）から求められる。

【００４３】

【数２】

【００４４】尚、分岐光が平行光（ｆ：無限大）になる
場合、ホログラム面の各格子ラインの形状及び格子ライ
ンの幅はそれぞれ次式（５）及び次式（６）から求めら
れる。尚、これら式は一般式（３）及び一般式（４）の
特殊な場合である。

【００４５】

【数３】

【００４６】尚、ホログラム面を構成する格子の凹凸の
高低差（深さ）は一定であり、例えばη₀（０，０）＝
ｕ₀となるように設定すればよい。

【００４７】図６に、斯る光学ヘッドでの各位置でのビ
ームの光強度分布を示す。尚、ここでは、一例として分
岐光は平行光である場合を示す。

【００４８】図６（ａ）は、半導体レーザ２とホログラ
ム素子３の間の位置Ａでの光強度分布を示す。この図か
ら、半導体レーザ２から出力されたレーザビームの光強
度分布がガウス分布近似であることが判る。

【００４９】図６（ｂ）は、位置Ｂでの光の光強度分布
を示す。この図から、ホログラム素子３にて分岐された
光が半導体レーザ２から出力されたレーザビームの一定
強度以上の光であることが判る。

【００５０】図６（ｃ）は、ホログラム素子３と集光用
レンズ５の間の位置Ｃでの光強度分布を示す。この図か
ら、集光用レンズ５に入射する前のビームは中心近傍の
ビーム強度が一定（均一）であることが判る。

【００５１】この図６に示すように、本実施例では、半
導体レーザ２から出力されるガウス分布近似の光強度分
布を有するレーザビームは、ホログラム素子３を透過
後、中心近傍のビーム強度が一定であるビームに変換さ
れるので、集光用レンズ５にて集光されて、光記録媒体
１上に形成される集光スポットは、距離に依存せず、１
／ｅ²幅が０．９６λ／ＮＡに近い小さいスポット径と
なる。

【００５２】上記光学ヘッドにおいて、λ＝６３５ｎ
ｍ、Ｚ₀＝５ｍｍ（半導体レーザ２とホログラム素子３
の距離が５ｍｍ）、半導体レーザ２の出力レーザビーム
がガウス分布（半値角：３４°×１２°）、ｕ₀＝０．
５である場合、半導体レーザ２と集光レンズ５の距離を
小さく設定した状態で集光スポットを解析限界理論の
１．０２μｍに略等しい値にできる。

【００５３】本発明に係る第２実施例を図面を参照しつ
つ詳細に説明する。図７は本実施例の光学ヘッドを示す
模式構造図である。

【００５４】図７中、１１はコンパクトディスク等の光
記録媒体、１２はレーザビームを出力する半導体レーザ
（光源）である。

【００５５】１３は一定光強度以上の光を分岐する反射
型ホログラム素子（光学素子）であって、該素子１３に
入射された半導体レーザ２からのレーザビームは、一定
光強度以上の光が分岐されることにより、中心近傍のビ
ーム強度が一定であるビームに変換されて該素子１３で
反射する。

【００５６】１５はホログラム素子１３で反射される中
心近傍のビーム強度が一定であるビームを光記録媒体１
１上に集光させて、該媒体１１上に集光スポットを形成
するための集光用レンズである。

【００５７】本実施例の装置でも、半導体レーザ１２か
ら出力されるガウス分布近似の光強度分布を有するレー
ザビームは、ホログラム素子１３による反射後、中心近
傍のビーム強度が一定であるビームになるので、集光用
レンズ１５にて集光されて、光記録媒体１上に形成され
る集光スポットは、距離に依存せず、１／ｅ²幅が０．
９６λ／ＮＡに略等しい小さいスポット径にできる。

【００５８】上述では、説明を簡単化するため、光記録
媒体からの情報を読取る光検出部等は省いたが、以下の
第３実施例に３ビーム法を用いてトラッキング・サーボ
を行う光学ヘッドについて詳説する。図８は本実施例の
３ビーム法を用いてトラッキング・サーボを行う光学ヘ
ッドの概略構成図である。尚、図８おいて電極やボンデ
ィング線等は図示しない。

【００５９】図８中、２１はコンパクト・ディスク等の
光ディスクからなる光記録媒体である。２２はｎ⁺型Ｓ
ｉ（シリコン）等からなる導電性半導体材料又は銅等の
導電性金属からなる良熱伝導性基体であって、この基体
は上平面部２２ａとこの上平面部２２ａに対して４５度
の角度をなす傾斜部２２ｂを有する。

【００６０】２３は前記上平面部２２ａ上にダイボンド
され基体２２と電気的に接続された半導体レーザ（レー
ザ・ダイオード）載置用導電性ヒートシンクとしてのｎ
⁺型Ｓｉ半導体基板である。

【００６１】２４は前記半導体基板２３の一端側表面部
上に図示しない電極側とダイボンドされ該基板２３と電
気的に接続された上面に図示しない他の電極を備えた半
導体レーザであって、その前端面が前記傾斜部２２ｂに
対向するように配置されている。この素子２４は前記表
面部と平行に延在する図示しない活性領域でレーザビー
ムが発生し、素子２４の前端面側から光記録媒体信号検
出用のレーザビームを出力する。

【００６２】２５は光記録媒体２１から戻ってきた帰還
ビーム（反射光）を検出してトラッキング・サーボ、フ
ォーカシング・サーボ及び再生を行うためのＰＩＮ型フ
ォトダイオード等からなる信号検出用光検出素子（信号
検出用光検出部）であって、前記基体２２の上平面部２
２ａ上に図示しない電極側とダイボンドされ基板２２と
電気的に接続されている。

【００６３】２６は前記半導体レーザ２４の前端面の前
方に配置された一定光強度以上の光を分岐する透過型ホ
ログラム素子（光学素子）であって、該素子２６に入射
された半導体レーザ２４からのレーザビームは、一定光
強度以上の光が分岐されることにより、中心近傍のビー
ム強度が一定であるビームに変換されて該素子２６を透
過する。

【００６４】２７は前記透過型ホログラム素子２６で分
岐された光を検出して前記半導体レーザから出力ビーム
の光強度をモニターするモニター用光検出素子である。

【００６５】２８は前記傾斜部２２ｂに固定された反射
型ホログラム素子（反射型３分割用回折格子）であっ
て、透過型ホログラム素子２６から出射した中心近傍の
ビーム強度が一定であるビームを０次、±１次の回折ビ
ーム（以下、０次ビームを主ビーム、＋１次ビームを副
ビームＸ、−１次ビームを副ビームＹと呼ぶ）に分割す
ると共に上方に反射する。

【００６６】２９は前記反射型ホログラム素子２８の上
方に設けられた透過型（透光型）ホログラム素子であ
る。この素子２９は前記０次、±１次のビーム（主ビー
ム及び副ビームＸ、Ｙ）を透過（０次回折）し、また光
記録媒体２１から反射して戻ってきたこれら０次、±１
次の帰還ビーム（主ビーム及び副ビームＸ、Ｙ）を１次
（又は−１次）で回折して前記反射型ホログラム素子２
８の側方に位置する光検出素子２５の光検出部へ収束
（集光）させる。

【００６７】尚、この透過型ホログラム素子２９は、こ
の素子２９で＋１次（又は−１次）で回折された帰還ビ
ームがその光軸を入射ビームの光軸に対して斜めに変換
すると共に、ビーム進行方向と直交する一方向とこの一
方向と直交する方向で焦点距離が異なるように集光する
（非点収差）作用を及ぼす。即ち、この透過型ホログラ
ム素子２９は、ビームスプリッタ、集光レンス及びシリ
ンドリカルレンズの機能を合わせもつ。

【００６８】３０は前記透過型ホログラム素子２９の上
方に設けられ該ホログラム素子２９を透過（０次回折）
した前記０次、±１次のビーム（主ビーム及び副ビーム
Ｘ、Ｙ）を光記録媒体２１の表面に収束して、それぞれ
主ビームスポットと該主ビームスポットの両側に副ビー
ムスポットＸ、副ビームスポットＹを形成するための収
束光学系としての対物レンズである。ここで、光学ヘッ
ドの光学系は、主スポットが再生しようとするトラック
を走査し、副スポットＸ、Ｙが主スポットの両側を前記
トラックに僅かにかかって走査するように調整配置され
ている。

【００６９】前記光検出素子２５は、非点収差法を用い
たフォーカシングサーボを行うための中心部に４分割さ
れた光検出部と、この両側に設けられた３ビーム法を用
いたトラッキングサーボを行うためのトラッキング用光
検出部からなり、この４分割された光検出部の中心には
ホログラム素子２９で１次（又は−１次）回折された主
ビームが入射し、トラッキング用光検出部にはそれぞれ
同様に１次（又は−１次）回折された副ビームＸ、Ｙが
入射する従来周知の構成である。これら検出部の検出信
号は図示しない演算回路に送られ、フォーカスエラー
（ＦＥ）信号、トラッキングエラー（ＴＥ）信号、及び
再生信号が算出される。

【００７０】斯る光学ヘッドにおける再生、トラッキン
グ・サーボ及びフォーカシング・サーボ等は次のように
行われる。

【００７１】前記半導体レーザ２４の前端面側から出力
されたレーザビームの一定強度以上の光は透過型ホログ
ラム素子２６で分岐され、この光がモニター用光検出素
子２７で受光され、この受光量に応じた信号に基づいて
図示しないＡＰＣ回路にて半導体レーザからの出力ビー
ムが一定に制御される。一方、前端面側から出力され透
過型ホログラム素子２６を透過したビームは反射型ホロ
グラム素子２８で０次、±１次の回折ビーム（主ビーム
及び副ビームＸ、Ｙ）に分割されると共に、直角上方に
反射される。この上方に反射された主ビーム及び副ビー
ムＸ、Ｙは前記透過型ホログラム素子２９の一方から入
射する。その後、この素子２９で０次回折（透過）した
前記主ビーム及び副ビームＸ、Ｙは対物レンズ３０によ
り光記録媒体２１上に前述した主ビームスポット、副ビ
ームスポットＸ、Ｙとして収束（集光）される。これら
主スポット、副スポットＸ、Ｙからの情報信号を含んだ
帰還ビーム（主ビーム及び副ビームＸ、Ｙ）は対物レン
ズ３０を通った後、透過型フォログラム素子２９で１次
（又は−１次）で回折され、主ビームは光検出素子５の
４分割された光検出部に入射され、副ビームＸ、Ｙはそ
れぞれトラッキング用検出部に入射される。そして、光
検出素子２５で得られた信号が図示しない上記演算回路
で演算処理され、再生信号、ＦＥ信号及びＴＥ信号を得
られる。このＦＥ信号及びＴＥ信号に基づいて対物レン
ズ３０が図示しない駆動機構により駆動されてトラッキ
ング・サーボ、フォーカシング・サーボが行われる。

【００７２】斯る光学ヘッドでは、第１、第２実施例と
同じく、半導体レーザ２４から出力されるガウス分布近
似の光強度分布を有するレーザビームは、ホログラム素
子２６を透過後、中心近傍のビーム強度が一定であるビ
ームに変換されるので、集光用レンズ３０にて集光され
て、光記録媒体２１上に形成される集光スポットは、距
離に依存せず、１／ｅ²幅が０．９６λ／ＮＡに略等し
い小さいスポット径になる。加えて、反射型ホログラム
素子２８によって半導体レーザ２４から光記録媒体２１
までの光路が屈曲される。従って、より小型化及び薄型
化が図れる。

【００７３】また、斯る装置では、ホログラム素子２６
で分岐された光を用いて半導体レーザ２４からのビーム
強度をモニターするので、半導体レーザ２４は一方の端
面からのみ出力するもの、即ち高出力可能な半導体レー
ザが使えるといった効果もある。但し、分岐された光を
モニターしない場合には、両端面から出力する半導体レ
ーザを用い、後端面から出力されるビームをモニターす
ればよい。

【００７４】尚、ホログラム素子２６で回折された光を
モニターしない等の場合には、この光が迷光とならない
ように、この光を吸収する光吸収手段やこの光を遮蔽す
る遮蔽手段を設けるのが望ましい。

【００７５】また、上述のように半導体レーザ２４から
出力されたビームは最初にホログラム素子２６を透過す
るようにするのが、より正確にビーム強度分布を均一化
でき、最も集光スポットを小さくできる。

【００７６】更に、半導体レーザ２４と信号検出用光検
出素子２５は、同一の上平面部２２ａ上に設けられてい
るので、これら素子へのワイヤボンディングが容易であ
る。

【００７７】上述では、入射ビームを、中心近傍のビー
ム強度が一定であるビームに変換するホログラム素子と
して、一方向に回折するものを示したが、複数の方向に
回折するように分割してなるホログラム面を用いてもよ
い。

【００７８】

【００７９】中心近傍のビーム強度が一定であるビーム
に変換する光学素子は、光源と集光用レンズの間にあれ
ばよいが、上述したように光源から出力されたビームは
最初に該光学素子を入射するようにするのが、より正確
にビーム強度分布を均一化でき、最も集光スポットを小
さくできるので望ましい。

【００８０】尚、本発明の光学素子は、種々の光学ヘッ
ドに配置しても勿論距離に依存せず、１／ｅ²幅が０．
９６λ／ＮＡに略等しい小さなスポット径の集光スポッ
トが得られる。

【００８１】即ち、光源と、該光源から出力されたビー
ムを光記録媒体に収束（集光）する収束用レンズと、前
記光記録媒体と前記光源の間に該光源から出射されたビ
ームのビーム径（集光スポット）を小さくし得るビーム
に変換する光学素子と、を備えた光学ヘッドであればよ
く、該光学素子は、例えば、入射ビームの所定強度以上
の光を除去して中心近傍のビーム強度が一定であるビー
ムに変換する光学素子でよい。

【００８２】尚、上述では、ビーム強度が一定である部
分のみを集光用レンズに入射し、１／ｅ²幅が０．９６
λ／ＮＡに略等しい小さな集光スポットを得た。しか
し、効果は低減するが、多少なら他の不均一な部分が集
光用レンズに入射してもよい。

【００８３】

【００８４】

【発明の効果】本発明の光学ヘッドは、入射ビームを、
中心近傍のビーム強度が一定であるビームに変換するの
で、光源と集光用レンズとの距離が小さい場合でも、１
／ｅ²幅が０．９６λ／ＮＡに略等しい小さな集光スポ
ットが得られ、情報の高密度化及び小型化が可能とな
る。

【００８５】また、光学素子が分岐ビームとして平行光
又は収束光を回折するホログラム素子からなるため、平
行光又は収束光のビーム強度を効率良くモニターして光
源の出力ビームを制御することができる。そして、斯る
構成を光学ヘッドにおいて用いた場合、記録媒体に照射
する側のビームを検出できるので、光源として半導体レ
ーザを用いる場合、記録媒体に照射するビームを出力す
る端面とは異なる他の端面から出力するビームをモニタ
ーするより、該記録媒体に照射するビームを高精度に制
御できる。更に、光源として半導体レーザを用いる場合
には、高出力が可能な一方の端面からのみビームを出力
するレーザを使用できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る第１実施例の光学ヘッドを示す模
式構造図である。

【図２】上記実施例で用いるホログラム素子のホログラ
ム面の模式上面図である。

【図３】上記ホログラム素子の模式断面図である。

【図４】光源から出力されたビームの径方向の光強度分
布を示す図である。

【図５】上記ホログラム素子の光路を示す模式図であ
る。

【図６】上記光学ヘッドにおけるビームの径方向の光強
度分布を示す図である。

【図７】本発明に係る第２実施例の光学ヘッドを示す模
式構造図である。

【図８】本発明に係る第３実施例の光学ヘッドを示す模
式構造図である。

【図９】従来の光学ヘッドを示す模式構造図である。

【図１０】集光スポットサイズと距離Ｌの関係を示す図
である。

【符号の説明】

１ 光記録媒体 ３ ホログラム素子（光学素子） ５ 集光用レンズ １１ 光記録媒体 １３ ホログラム素子（光学素子） １５ 集光用レンズ ２１ 光記録媒体 ２６ ホログラム素子（光学素子） ２７ モニタ用光検出素子 ３０ 集光用レンズ

フロントページの続き (72)発明者 山口 隆夫 大阪府守口市京阪本通２丁目５番５号 三洋電機株式会社内 (56)参考文献 特開 平３−3128（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−18502（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−223703（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−147401（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−157001（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−222340（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−236152（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−141681（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G11B 7/12 - 7/22 G02B 5/18,5/30,5/32

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光源と、該光源から出射されたビームを
   該ビームの中心近傍の光を除去することにより中心近傍
   のビーム強度が一定である主ビームに変換する光学素子
   とを備え、前記光学素子により変換された主ビームを記
   録媒体に照射する光学ヘッドであって、前記光学素子
   は、入射ビームの中心近傍の光を前記主ビームとは光軸
   方向が異なる方向に平行光または収束光として回折して
   分岐ビームとして除去することにより０次回折の前記主
   ビームを生成するホログラム素子よりなり、該ホログラ
   ム素子により回折された平行光又は収束光である前記分
   岐ビームの強度をモニターすることを特徴とする光学ヘ
   ッド。
2. 【請求項２】 前記ホログラム素子は透過型ホログラム
   素子であることを特徴とする請求項１記載の光学ヘッ
   ド。
3. 【請求項３】 前記ホログラム素子は反射型ホログラム
   素子であることを特徴とする請求項１記載の光学ヘッ
   ド。
4. 【請求項４】 前記分岐ビームの光強度をモニターする
   ことを特徴とする請求項１、２又は３記載の光学ヘッ
   ド。
5. 【請求項５】 前記光源から出力されたビームは最初に
   前記光学素子に入射することを特徴とする請求項１、
   ２、３又は４記載の光学ヘッド。