JP3204514B2 - カルボニル化触媒系 - Google Patents
カルボニル化触媒系Info
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/10—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reaction with carbon monoxide
- C07C51/14—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reaction with carbon monoxide on a carbon-to-carbon unsaturated bond in organic compounds
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
- B01J31/02—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
- B01J31/0234—Nitrogen-, phosphorus-, arsenic- or antimony-containing compounds
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は第三アミンを含む新規な
触媒系およびこの触媒系をアセチレン状不飽和化合物お
よびオレフィン状不飽和化合物のカルボニル化(Car
bonylation)において使用する方法に関す
る。
触媒系およびこの触媒系をアセチレン状不飽和化合物お
よびオレフィン状不飽和化合物のカルボニル化(Car
bonylation)において使用する方法に関す
る。
【0002】
【発明の背景】アセチレン状不飽和化合物およびオレフ
ィン状不飽和化合物をカルボニル化するための多くの方
法が当該技術において知られている。このような方法の
展望は、ジェイ・ファルベ(J.Falbe)著、“一
酸化炭素による新しい合成(New Synthese
s with Carbon Monoxide)”、
スプリンガー−フェルラーク(Springer−Ve
rlag)、ベルリンハイデルベルグ ニューヨーク、
1980、第273頁〜第291頁によって提供され
る。典型的には、これらの方法は、カルボニル化触媒系
の存在下において、アセチレン状不飽和化合物またはオ
レフィン状不飽和化合物を一酸化炭素および、場合によ
っては、除去可能な水素原子を有する求核性化合物と反
応させることを含んでいる。多くの場合、カルボニル化
触媒系は第VIII族金属源およびホスフィンのような配位
子を含んでいる。つい最近、第VIII族金属化合物、特に
パラジウム化合物、ホスフィンおよびプロトン酸からな
るカルボニル化触媒系の使用を伴う、アセチレン状不飽
和化合物およびオレフィン状不飽和化合物のカルボニル
化方法が幾つか開示された。これらの方法は著しく高い
反応速度で進行する。
ィン状不飽和化合物をカルボニル化するための多くの方
法が当該技術において知られている。このような方法の
展望は、ジェイ・ファルベ(J.Falbe)著、“一
酸化炭素による新しい合成(New Synthese
s with Carbon Monoxide)”、
スプリンガー−フェルラーク(Springer−Ve
rlag)、ベルリンハイデルベルグ ニューヨーク、
1980、第273頁〜第291頁によって提供され
る。典型的には、これらの方法は、カルボニル化触媒系
の存在下において、アセチレン状不飽和化合物またはオ
レフィン状不飽和化合物を一酸化炭素および、場合によ
っては、除去可能な水素原子を有する求核性化合物と反
応させることを含んでいる。多くの場合、カルボニル化
触媒系は第VIII族金属源およびホスフィンのような配位
子を含んでいる。つい最近、第VIII族金属化合物、特に
パラジウム化合物、ホスフィンおよびプロトン酸からな
るカルボニル化触媒系の使用を伴う、アセチレン状不飽
和化合物およびオレフィン状不飽和化合物のカルボニル
化方法が幾つか開示された。これらの方法は著しく高い
反応速度で進行する。
【0003】欧州特許出願公開公報EP−A1−106
379号、EP−A1−235864号、EP−A1−
274795号およびEP−A1−279477号に
は、パラジウム化合物、トリアリールホスフィンおよび
プロトン酸(protonicacid)を含む触媒系
が使用される、オレフィン状不飽和化合物のカルボニル
化方法が開示されている。それらのすべての実施例にお
いて、使用されているトリアリールホスフィンはトリフ
ェニルホスフィンである。欧州特許出願公開公報EP−
A1−0186228号には、パラジウム化合物、ホス
フィンおよびプロトン酸からなる触媒系を使用する、ア
セチレン状不飽和化合物のカルボニル化方法が開示され
ている。その実施例には、トリフェニルホスフィンのよ
うな、随意に置換されているヒドロカルビルホスフィン
を使用することが説明されている。さらに最近では、パ
ラジウム化合物、ピリジルホスフィンおよび酸からなる
触媒系の使用を含む、アセチレン状不飽和化合物および
オレフィン状不飽和化合物のカルボニル化方法が幾つか
発表された。
379号、EP−A1−235864号、EP−A1−
274795号およびEP−A1−279477号に
は、パラジウム化合物、トリアリールホスフィンおよび
プロトン酸(protonicacid)を含む触媒系
が使用される、オレフィン状不飽和化合物のカルボニル
化方法が開示されている。それらのすべての実施例にお
いて、使用されているトリアリールホスフィンはトリフ
ェニルホスフィンである。欧州特許出願公開公報EP−
A1−0186228号には、パラジウム化合物、ホス
フィンおよびプロトン酸からなる触媒系を使用する、ア
セチレン状不飽和化合物のカルボニル化方法が開示され
ている。その実施例には、トリフェニルホスフィンのよ
うな、随意に置換されているヒドロカルビルホスフィン
を使用することが説明されている。さらに最近では、パ
ラジウム化合物、ピリジルホスフィンおよび酸からなる
触媒系の使用を含む、アセチレン状不飽和化合物および
オレフィン状不飽和化合物のカルボニル化方法が幾つか
発表された。
【0004】欧州特許出願公開公報EP−A1−259
914号、EP−A1−282142号およびEP−A
1−305012号には、パラジウム化合物、ピリジル
ホスフィンおよびプロトン酸を含む触媒系を使用する、
オレフィン状不飽和化合物のカルボニル化方法が開示さ
れている。欧州特許出願公開公報EP−A1−0271
144号には、パラジウム化合物、ピリジルホスフィン
およびプロトン酸を含む触媒系を使用する、アセチレン
状不飽和化合物のカルボニル化方法が開示されている。
上記欧州特許明細書のいずれも、第三アミンを付加的に
含む触媒を開示していないばかりでなく、このような触
媒系がアセチレン状不飽和化合物およびオレフィン状不
飽和化合物のカルボニル化において興味を引き起こすこ
とも示唆していない。第三アミンは塩基性化合物である
ので、酸含有触媒系の性能に著しい阻害作用を及ぼすも
のと予測されていた。事実、本出願人は、トリアリール
ホスフィンを基剤とする触媒系に第三アミンを含有させ
ると、その触媒系の性能がオレフィンのカルボニル化に
おいて著しく損われることを見出している。
914号、EP−A1−282142号およびEP−A
1−305012号には、パラジウム化合物、ピリジル
ホスフィンおよびプロトン酸を含む触媒系を使用する、
オレフィン状不飽和化合物のカルボニル化方法が開示さ
れている。欧州特許出願公開公報EP−A1−0271
144号には、パラジウム化合物、ピリジルホスフィン
およびプロトン酸を含む触媒系を使用する、アセチレン
状不飽和化合物のカルボニル化方法が開示されている。
上記欧州特許明細書のいずれも、第三アミンを付加的に
含む触媒を開示していないばかりでなく、このような触
媒系がアセチレン状不飽和化合物およびオレフィン状不
飽和化合物のカルボニル化において興味を引き起こすこ
とも示唆していない。第三アミンは塩基性化合物である
ので、酸含有触媒系の性能に著しい阻害作用を及ぼすも
のと予測されていた。事実、本出願人は、トリアリール
ホスフィンを基剤とする触媒系に第三アミンを含有させ
ると、その触媒系の性能がオレフィンのカルボニル化に
おいて著しく損われることを見出している。
【0005】しかしながら、驚くべきことには、本出願
人は、パラジウム化合物、ピリジルホスフィン、プロト
ン酸および第三アミンを含む触媒系を使用すると、アセ
チレン状不飽和化合物およびオレフィン状不飽和化合物
を、優れた反応速度でカルボニル化できることを、ここ
に発見した。
人は、パラジウム化合物、ピリジルホスフィン、プロト
ン酸および第三アミンを含む触媒系を使用すると、アセ
チレン状不飽和化合物およびオレフィン状不飽和化合物
を、優れた反応速度でカルボニル化できることを、ここ
に発見した。
【0006】
【発明の構成および具体的な説明】したがって、本発明
は a)第VIII族金属源; b)イミノ窒素原子含有芳香族置換基を有するホスフィ
ン; c)プロトン酸;および d)第三アミン を含む触媒系を提供するものである。
は a)第VIII族金属源; b)イミノ窒素原子含有芳香族置換基を有するホスフィ
ン; c)プロトン酸;および d)第三アミン を含む触媒系を提供するものである。
【0007】本発明の触媒系はアセチレン状不飽和化合
物およびオレフィン状不飽和化合物のカルボニル化にお
いて高い活性を示すことが見出された。この知見は、そ
れが、活性の高い第VIII族金属/ピリジルホスフィン/
プロトン酸触媒系を塩基性条件下で使用して、アセチレ
ン状不飽和化合物およびオレフィン状不飽和化合物をカ
ルボニル化できることを意味しているので、非常に驚く
べきことであった。塩基性条件下でしか満足に遂行でき
ない多くの反応が、今や可能となった。例えば、シラノ
ールおよび第三アルコールのような酸感応性ヒドロキシ
ル化合物のエステルが本発明の触媒を使用して、申し分
のない選択率で製造できることがわかった。
物およびオレフィン状不飽和化合物のカルボニル化にお
いて高い活性を示すことが見出された。この知見は、そ
れが、活性の高い第VIII族金属/ピリジルホスフィン/
プロトン酸触媒系を塩基性条件下で使用して、アセチレ
ン状不飽和化合物およびオレフィン状不飽和化合物をカ
ルボニル化できることを意味しているので、非常に驚く
べきことであった。塩基性条件下でしか満足に遂行でき
ない多くの反応が、今や可能となった。例えば、シラノ
ールおよび第三アルコールのような酸感応性ヒドロキシ
ル化合物のエステルが本発明の触媒を使用して、申し分
のない選択率で製造できることがわかった。
【0008】驚くべきことには、本発明の触媒系は、ア
セチレン状不飽和化合物のありふれた不純物であるアレ
ンに対して改善された寛容性を示すことも発見された。
なおさらに、驚くべきことには、本発明の触媒系の存在
下においてアルケンを、アルカノールおよびホルムアル
デヒドでカルボニル化することによって、アルコキシメ
トキシアルカノエートを製造できることも発見された。
なおさらに、驚くべきことには、本発明の触媒系は第三
アミンを含まない、対応する触媒系よりも長い期間にわ
たって安定性を示すことも発見された。本発明の触媒系
は第VIII族金属源を含んでいる。この第VIII族金属源は
金属状の元素または、好ましくは、第VIII族金属の化合
物であり得る。
セチレン状不飽和化合物のありふれた不純物であるアレ
ンに対して改善された寛容性を示すことも発見された。
なおさらに、驚くべきことには、本発明の触媒系の存在
下においてアルケンを、アルカノールおよびホルムアル
デヒドでカルボニル化することによって、アルコキシメ
トキシアルカノエートを製造できることも発見された。
なおさらに、驚くべきことには、本発明の触媒系は第三
アミンを含まない、対応する触媒系よりも長い期間にわ
たって安定性を示すことも発見された。本発明の触媒系
は第VIII族金属源を含んでいる。この第VIII族金属源は
金属状の元素または、好ましくは、第VIII族金属の化合
物であり得る。
【0009】第VIII族金属の例は鉄、コバルト、ニッケ
ル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウムお
よび白金である。本発明の触媒系は好ましくはパラジウ
ム化合物源を含んでいる。第VIII族金属化合物の例は
塩、例えば硝酸塩;硫酸塩;スルホン酸塩;ホスホン酸
塩;過ハロゲン酸塩;12以下の炭素原子を有するアル
カンカルボン酸、例えば酢酸のようなカルボン酸の塩;
およびハロゲン化水素酸の塩を包含している。ハロゲン
イオンは腐蝕性を示す傾向があるので、ハロゲン化水素
酸の塩は好ましくない。第VIII族金属化合物のその他の
例は、アセチルアセトネート、ホスフィンおよび/また
は一酸化炭素との錯体のような、錯体を包含している。
例えば第VIII族金属の化合物はアセチルアセトン酸パラ
ジウム、テトラキス−トリフェニルホスフィンパラジウ
ム、酢酸ビス−トリ−o−トリルホスフィンパラジウ
ム、酢酸ビス−ジフェニル−2−ピリジルホスフィンパ
ラジウム、テトラキス−ジフェニル−2−ピリジルホス
フィンパラジウム、酢酸ビス−ジ−o−トリルピリジル
ホスフィンパラジウム、または硫酸ビス−ジフェニルピ
リジルホスフィンパラジウムであり得る。
ル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウムお
よび白金である。本発明の触媒系は好ましくはパラジウ
ム化合物源を含んでいる。第VIII族金属化合物の例は
塩、例えば硝酸塩;硫酸塩;スルホン酸塩;ホスホン酸
塩;過ハロゲン酸塩;12以下の炭素原子を有するアル
カンカルボン酸、例えば酢酸のようなカルボン酸の塩;
およびハロゲン化水素酸の塩を包含している。ハロゲン
イオンは腐蝕性を示す傾向があるので、ハロゲン化水素
酸の塩は好ましくない。第VIII族金属化合物のその他の
例は、アセチルアセトネート、ホスフィンおよび/また
は一酸化炭素との錯体のような、錯体を包含している。
例えば第VIII族金属の化合物はアセチルアセトン酸パラ
ジウム、テトラキス−トリフェニルホスフィンパラジウ
ム、酢酸ビス−トリ−o−トリルホスフィンパラジウ
ム、酢酸ビス−ジフェニル−2−ピリジルホスフィンパ
ラジウム、テトラキス−ジフェニル−2−ピリジルホス
フィンパラジウム、酢酸ビス−ジ−o−トリルピリジル
ホスフィンパラジウム、または硫酸ビス−ジフェニルピ
リジルホスフィンパラジウムであり得る。
【0010】本発明方法において使用される触媒系はさ
らに、イミノ窒素原子含有芳香族置換基を有するホスフ
ィンを含んでいる。本明細書中で使用されている“イミ
ノ窒素原子”という用語は、式
らに、イミノ窒素原子含有芳香族置換基を有するホスフ
ィンを含んでいる。本明細書中で使用されている“イミ
ノ窒素原子”という用語は、式
【化1】 により、窒素を含む芳香族置換基の構造式で表わすこと
ができる窒素原子を意味している。例えば、この芳香族
置換基がピリジル基である場合、芳香族置換基の構造式
は
ができる窒素原子を意味している。例えば、この芳香族
置換基がピリジル基である場合、芳香族置換基の構造式
は
【化2】 となる。
【0011】ホスフィンは好ましくは1個または2個の
燐原子を含んでいる。各燐原子は3個の置換基を有す
る。これらの置換基のうちの少なくとも1個は、イミノ
窒素原子を含む芳香族置換基である。残りの置換基は、
好ましくは、随意に置換されている脂肪族および芳香族
のヒドロカルビル基から選ばれる。ホスフィンが1個よ
りも多い燐原子を含むときには、例えば
燐原子を含んでいる。各燐原子は3個の置換基を有す
る。これらの置換基のうちの少なくとも1個は、イミノ
窒素原子を含む芳香族置換基である。残りの置換基は、
好ましくは、随意に置換されている脂肪族および芳香族
のヒドロカルビル基から選ばれる。ホスフィンが1個よ
りも多い燐原子を含むときには、例えば
【化3】 のように、1個の置換基に対して、1個よりも多い燐原
子を割り当てることができる。
子を割り当てることができる。
【0012】イミノ窒素を含む芳香族置換基は、好まし
くは、1個、2個または3個の窒素原子を含む6員環で
ある。芳香族置換基は、それ自体随意に置換されていて
もよい。本明細書中で、置換基が随意に置換されている
と言うときには、別に明記されていない限り、その置換
基は、置換されていないか、あるいは1個または2個以
上の置換基によって置換されていてよい。適当な置換基
の例はハロゲン原子;アルキル基;アルコキシ基;ハロ
アルキル基;ハロアルコキシ基;アシル基;アシルオキ
シ基;アミノ基、好ましくはアルキルアミノ基またはジ
アルキルアミノ基;ヒドロキシ基;ニトリル基;アリー
ルアミノ基;および芳香族ヒドロカルビル基を包含して
いる。
くは、1個、2個または3個の窒素原子を含む6員環で
ある。芳香族置換基は、それ自体随意に置換されていて
もよい。本明細書中で、置換基が随意に置換されている
と言うときには、別に明記されていない限り、その置換
基は、置換されていないか、あるいは1個または2個以
上の置換基によって置換されていてよい。適当な置換基
の例はハロゲン原子;アルキル基;アルコキシ基;ハロ
アルキル基;ハロアルコキシ基;アシル基;アシルオキ
シ基;アミノ基、好ましくはアルキルアミノ基またはジ
アルキルアミノ基;ヒドロキシ基;ニトリル基;アリー
ルアミノ基;および芳香族ヒドロカルビル基を包含して
いる。
【0013】脂肪酸ヒドロカルビル基は好ましくはアル
キル基、例えばC1-4 アルキル基;またはシクロアルキ
ル基、例えばC3-6 シクロアルキル基である。芳香族ヒ
ドロカルビル基は好ましくはフェニル基である。ハロゲ
ン原子それ自身の形のハロゲン原子またはハロアルキル
基の中のハロゲン原子は、好ましくは弗素原子、塩素原
子または臭素原子である。アシル基、アシルオキシ基ま
たはアシルアミノ基の中のアシル基は好ましくはアセチ
ル基のようなC2-5 アルカノイル基である。
キル基、例えばC1-4 アルキル基;またはシクロアルキ
ル基、例えばC3-6 シクロアルキル基である。芳香族ヒ
ドロカルビル基は好ましくはフェニル基である。ハロゲ
ン原子それ自身の形のハロゲン原子またはハロアルキル
基の中のハロゲン原子は、好ましくは弗素原子、塩素原
子または臭素原子である。アシル基、アシルオキシ基ま
たはアシルアミノ基の中のアシル基は好ましくはアセチ
ル基のようなC2-5 アルカノイル基である。
【0014】イミノ窒素原子を含む芳香族置換基の例は
ピリジル、ピラジニル、キノリル、イソキノリル、ピリ
ミジニル、ピリダジニル、シンノリニル、トリアジニ
ル、キノキサリニル、およびキナゾリニルである。好ま
しい置換基はピリジルおよびピリミジルである。イミノ
窒素原子を含む芳香族置換基の中のイミノ基は好ましく
は、ただ1個の橋架け炭素原子を通して燐原子に結合し
ている。例えば、芳香族置換基がピリジル基である場
合、それは好ましくは、炭素原子を通して、ピリジル基
の2位に結合している。したがって、イミノ窒素原子を
含む好ましい芳香族置換基の例は2−ピリジル;2−ピ
ラジニル;2−キノリル;1−イソキノリル;3−イソ
キノリル;2−ピリミジニル;3−ピリダジニル;3−
シンノリニル;2−トリアジニル;2−キノキサリニ
ル;および2−キナゾリニルである。2−ピリジル、2
−ピリミジルおよび2−トリアジニルが特に好ましい。
ピリジル、ピラジニル、キノリル、イソキノリル、ピリ
ミジニル、ピリダジニル、シンノリニル、トリアジニ
ル、キノキサリニル、およびキナゾリニルである。好ま
しい置換基はピリジルおよびピリミジルである。イミノ
窒素原子を含む芳香族置換基の中のイミノ基は好ましく
は、ただ1個の橋架け炭素原子を通して燐原子に結合し
ている。例えば、芳香族置換基がピリジル基である場
合、それは好ましくは、炭素原子を通して、ピリジル基
の2位に結合している。したがって、イミノ窒素原子を
含む好ましい芳香族置換基の例は2−ピリジル;2−ピ
ラジニル;2−キノリル;1−イソキノリル;3−イソ
キノリル;2−ピリミジニル;3−ピリダジニル;3−
シンノリニル;2−トリアジニル;2−キノキサリニ
ル;および2−キナゾリニルである。2−ピリジル、2
−ピリミジルおよび2−トリアジニルが特に好ましい。
【0015】ホスフィンが1個の燐原子を含むとき、そ
れは好都合には、一般式
れは好都合には、一般式
【化4】 によって表わすことができ、式中R1 はイミノ窒素原子
を含む芳香族置換基を表し、そしてR2 およびR3 は、
同じか、または異なっていて、基R1 または随意に置換
された脂肪族または芳香族ヒドロカルビル基を表す。
を含む芳香族置換基を表し、そしてR2 およびR3 は、
同じか、または異なっていて、基R1 または随意に置換
された脂肪族または芳香族ヒドロカルビル基を表す。
【0016】特に好ましいホスフィンは、ビスフェニル
−(2−ピリジル)ホスフィン、ビス(2−ピリジル)
フェニルホスフィン、トリス(2−ピリジル)ホスフィ
ン、ジフェニル(6−メトキシ−2−ピリジル)ホスフ
ィン、ビス(6−エトキシ−2−ピリジル)フェニルホ
スフィン、ビス(6−クロル−2−ピリジル)フェニル
ホスフィン、ビス(6−ブロム−2−ピリジル)フェニ
ルホスフィン、トリス(6−メチル−2−ピリジル)ホ
スフィン、ビス(6−メチル−2−ピリジル)フェニル
ホスフィン、ビスフェニル(6−メチル−2−ピリジ
ル)ホスフィン、ビス(3−メチル−2−ピリジル)フ
ェニルホスフィン、ビスフェニル(4,6−ジメチル−
2−ピリジル)ホスフィン、ジ(n−ブチル)−2−ピ
リジルホスフィン、ジメチル−2−ピリジルホスフィ
ン、メチル フェニル−2−ピリジルホスフィン、n−
ブチル 第三ブチル 2−ピリジルホスフィン、n−ブ
チル(4−メトキシフェニル)(2−ピリジル)ホスフ
ィン、およびメチルジ(2−ピリジル)ホスフィンであ
る。
−(2−ピリジル)ホスフィン、ビス(2−ピリジル)
フェニルホスフィン、トリス(2−ピリジル)ホスフィ
ン、ジフェニル(6−メトキシ−2−ピリジル)ホスフ
ィン、ビス(6−エトキシ−2−ピリジル)フェニルホ
スフィン、ビス(6−クロル−2−ピリジル)フェニル
ホスフィン、ビス(6−ブロム−2−ピリジル)フェニ
ルホスフィン、トリス(6−メチル−2−ピリジル)ホ
スフィン、ビス(6−メチル−2−ピリジル)フェニル
ホスフィン、ビスフェニル(6−メチル−2−ピリジ
ル)ホスフィン、ビス(3−メチル−2−ピリジル)フ
ェニルホスフィン、ビスフェニル(4,6−ジメチル−
2−ピリジル)ホスフィン、ジ(n−ブチル)−2−ピ
リジルホスフィン、ジメチル−2−ピリジルホスフィ
ン、メチル フェニル−2−ピリジルホスフィン、n−
ブチル 第三ブチル 2−ピリジルホスフィン、n−ブ
チル(4−メトキシフェニル)(2−ピリジル)ホスフ
ィン、およびメチルジ(2−ピリジル)ホスフィンであ
る。
【0017】ホスフィンが2個の燐原子を含有すると
き、それは好都合には、一般式
き、それは好都合には、一般式
【化5】 によって表すことができ、式中、R4 ,R5 ,R6 およ
びR7 のうちの少なくとも1個はイミノ窒素原子を含む
芳香族置換基を表し、R4 ,R5 ,R6 およびR7 のう
ちの残りは独立して、随意に置換されているヒドロカル
ビル基または複素環式基を表し、そしてXは橋の中に1
ないし10個の炭素原子を含む2価の架橋基を表す。
びR7 のうちの少なくとも1個はイミノ窒素原子を含む
芳香族置換基を表し、R4 ,R5 ,R6 およびR7 のう
ちの残りは独立して、随意に置換されているヒドロカル
ビル基または複素環式基を表し、そしてXは橋の中に1
ないし10個の炭素原子を含む2価の架橋基を表す。
【0018】Xによって表される架橋基は好ましくは、
炭化水素残基、エーテル残基またはチオエーテル残基で
ある。例えば、架橋基は
炭化水素残基、エーテル残基またはチオエーテル残基で
ある。例えば、架橋基は
【化6】 におけるように、1個または2個以上の酸素原子および
/または硫黄原子によって随意に中断されているアルキ
レン連鎖であり得る。
/または硫黄原子によって随意に中断されているアルキ
レン連鎖であり得る。
【0019】それはまた
【化7】 におけるような、シラン残基であってもよい。架橋基は
好ましくは、橋の中に2ないし8個の原子、より好まし
くは3ないし5個の原子を含んでいる。例えば、架橋基
がプロパン残基であるとき、この橋は3個の原子を含ん
でいる。Xがジアルキルエーテル残基を表している一般
式(II) の有機ジホスフィンを使用すると、特に高い反
応速度が得られた。したがって、本発明方法において
は、このような化合物を使用するのが好ましい。
好ましくは、橋の中に2ないし8個の原子、より好まし
くは3ないし5個の原子を含んでいる。例えば、架橋基
がプロパン残基であるとき、この橋は3個の原子を含ん
でいる。Xがジアルキルエーテル残基を表している一般
式(II) の有機ジホスフィンを使用すると、特に高い反
応速度が得られた。したがって、本発明方法において
は、このような化合物を使用するのが好ましい。
【0020】R4 ,R5 ,R6 およびR7 の残りは、好
ましくは、随意に置換されているアルキル基または随意
に置換されているフェニル基である。最も好ましくは、
それらは随意に置換されているフェニル基である。 本発明方法において使用できる有機ジホスフィンの例は ビス〔(2−ピリジル)フェニルホスフィノ〕メタン、
1,2−ビス〔(2−ピリジル)フェニルホスフィノ〕
エタン、1,3−ビス〔(2−ピリジル)フェニルホス
フィノ〕プロパン、1,5−ビス〔(2−ピリジル)フ
ェニルホスフィノ〕−3−オキサペンタン、1,8−ビ
ス〔(2−ピリジル)フェニルホスフィノ〕−3,6−
ジオキサオクタン、1,3−ビス〔(2−ピリジル)ブ
チルホスフィノ〕プロパン、および1,3−ビス〔ジ−
(2−ピリジル)ホスフィノ〕プロパンである。
ましくは、随意に置換されているアルキル基または随意
に置換されているフェニル基である。最も好ましくは、
それらは随意に置換されているフェニル基である。 本発明方法において使用できる有機ジホスフィンの例は ビス〔(2−ピリジル)フェニルホスフィノ〕メタン、
1,2−ビス〔(2−ピリジル)フェニルホスフィノ〕
エタン、1,3−ビス〔(2−ピリジル)フェニルホス
フィノ〕プロパン、1,5−ビス〔(2−ピリジル)フ
ェニルホスフィノ〕−3−オキサペンタン、1,8−ビ
ス〔(2−ピリジル)フェニルホスフィノ〕−3,6−
ジオキサオクタン、1,3−ビス〔(2−ピリジル)ブ
チルホスフィノ〕プロパン、および1,3−ビス〔ジ−
(2−ピリジル)ホスフィノ〕プロパンである。
【0021】本発明方法において使用される触媒系はさ
らにプロトン酸を含んでいる。このプロトン酸の役目は
プロトン源を提供することである。したがって、プロト
ン酸は現場で発生させてもよい。好ましくはプロトン酸
は非配位アニオンを有する酸から選ばれる。このような
酸の例は硫酸;スルホン酸、例えば、ベンゼンスルホン
酸、p−トルエンスルホン酸、ナフタリンスルホン酸の
ような、随意に置換されているヒドロカルビルスルホン
酸;アルキルスルホン酸、例えばメタンスルホン酸また
は第三ブチルスルホン酸、または2−ヒドロキシプロパ
ンスルホン酸、トリフルオルメタンスルホン酸、クロル
スルホン酸またはフルオルスルホン酸;ホスホン酸、例
えばオルトホスホン酸、ピロホスホン酸またはベンゼン
ホスホン酸;カルボン酸、例えばクロル酢酸、ジクロル
酢酸、トリクロル酢酸、トリフルオル酢酸、しゅう酸ま
たはテレフタル酸;または過塩素酸のような過ハロゲン
酸を包含している。プロトン酸はまた酸性イオン交換樹
脂でもよい。
らにプロトン酸を含んでいる。このプロトン酸の役目は
プロトン源を提供することである。したがって、プロト
ン酸は現場で発生させてもよい。好ましくはプロトン酸
は非配位アニオンを有する酸から選ばれる。このような
酸の例は硫酸;スルホン酸、例えば、ベンゼンスルホン
酸、p−トルエンスルホン酸、ナフタリンスルホン酸の
ような、随意に置換されているヒドロカルビルスルホン
酸;アルキルスルホン酸、例えばメタンスルホン酸また
は第三ブチルスルホン酸、または2−ヒドロキシプロパ
ンスルホン酸、トリフルオルメタンスルホン酸、クロル
スルホン酸またはフルオルスルホン酸;ホスホン酸、例
えばオルトホスホン酸、ピロホスホン酸またはベンゼン
ホスホン酸;カルボン酸、例えばクロル酢酸、ジクロル
酢酸、トリクロル酢酸、トリフルオル酢酸、しゅう酸ま
たはテレフタル酸;または過塩素酸のような過ハロゲン
酸を包含している。プロトン酸はまた酸性イオン交換樹
脂でもよい。
【0022】本発明方法において使用される触媒系は均
質でも、あるいは不均質でもよい。好ましくはそれは均
質である。第VIII族金属1グラム原子当りのホスフィン
のモル数の比は臨界的でない。好ましくはその比は1な
いし1000、より好ましくは2ないし500、特に1
0ないし100の範囲にある。プロトン酸1モル当りの
ホスフィンのモル数の比は臨界的でない。プロトン酸の
役目はプロトン源を提供することである。したがって、
プロトン酸は現場で発生させてもよい。好ましくはそれ
は0.1ないし50、より好ましくは0.5ないし5の
範囲にある。第三アミンの例は、随意に置換されている
芳香族の複素環式第三アミン、例えばピリジン、キノリ
ン、イソキノリン、ピリミジン、ピラジン、トリアゾー
ル、トリアジン、ピリダジン、プリン、チアゾール、ベ
ンズイミダゾール、オキサゾール、ピラゾールおよびイ
ソチアゾール;脂肪族第三アミン、例えばジメチルアミ
ンまたはジエチルアミンのようなジアルキルアミン;お
よび随意に置換されている第三アニリン、例えばN,N
−ジメチルアニリンのようなN,N−ジアルキルアニリ
ンを包含している。
質でも、あるいは不均質でもよい。好ましくはそれは均
質である。第VIII族金属1グラム原子当りのホスフィン
のモル数の比は臨界的でない。好ましくはその比は1な
いし1000、より好ましくは2ないし500、特に1
0ないし100の範囲にある。プロトン酸1モル当りの
ホスフィンのモル数の比は臨界的でない。プロトン酸の
役目はプロトン源を提供することである。したがって、
プロトン酸は現場で発生させてもよい。好ましくはそれ
は0.1ないし50、より好ましくは0.5ないし5の
範囲にある。第三アミンの例は、随意に置換されている
芳香族の複素環式第三アミン、例えばピリジン、キノリ
ン、イソキノリン、ピリミジン、ピラジン、トリアゾー
ル、トリアジン、ピリダジン、プリン、チアゾール、ベ
ンズイミダゾール、オキサゾール、ピラゾールおよびイ
ソチアゾール;脂肪族第三アミン、例えばジメチルアミ
ンまたはジエチルアミンのようなジアルキルアミン;お
よび随意に置換されている第三アニリン、例えばN,N
−ジメチルアニリンのようなN,N−ジアルキルアニリ
ンを包含している。
【0023】好ましくは第三アミンはピリジンまたは
N,N−ジアルキルアニリンである。ピリジンの好まし
い例はピリジン、アルキル置換ピリジン、例えば2,6
−ジメチルピリジンおよびポリビニルピリジンである。
プロトン1モル当りに存在する第三アミンの当量数は、
好ましくは少なくとも0.5、より好ましくは少なくと
も1、より一層好ましくは少なくとも2、特に少なくと
も5である。触媒系を使用すべき個々のカルボニル化方
法にしたがって、第三アミンは好ましくは触媒量で、あ
るいは溶剤量で存在する。第三アミンが触媒量で存在す
るとき、プロトン1モル当りの第三アミンの当量数は、
好ましくは0.1ないし200、より好ましくは0.5
ないし100、特に1ないし50の範囲にある。
N,N−ジアルキルアニリンである。ピリジンの好まし
い例はピリジン、アルキル置換ピリジン、例えば2,6
−ジメチルピリジンおよびポリビニルピリジンである。
プロトン1モル当りに存在する第三アミンの当量数は、
好ましくは少なくとも0.5、より好ましくは少なくと
も1、より一層好ましくは少なくとも2、特に少なくと
も5である。触媒系を使用すべき個々のカルボニル化方
法にしたがって、第三アミンは好ましくは触媒量で、あ
るいは溶剤量で存在する。第三アミンが触媒量で存在す
るとき、プロトン1モル当りの第三アミンの当量数は、
好ましくは0.1ないし200、より好ましくは0.5
ないし100、特に1ないし50の範囲にある。
【0024】第三アミンが溶剤量で存在するとき、プロ
トン1モル当りの第三アミンの当量数は、好ましくは1
ないし2500、より好ましくは1.5ないし150
0、特に10ないし1000の範囲にある。不明確にな
ることを避けるため、この第三アミンはホスフィンでな
く、例えばイミノ窒素原子含有芳香族置換基を有するホ
スフィンではあり得ない。
トン1モル当りの第三アミンの当量数は、好ましくは1
ないし2500、より好ましくは1.5ないし150
0、特に10ないし1000の範囲にある。不明確にな
ることを避けるため、この第三アミンはホスフィンでな
く、例えばイミノ窒素原子含有芳香族置換基を有するホ
スフィンではあり得ない。
【0025】我々の共同係属出願中の英国特許出願第9
002491.0号においては、a)第VIII族金属源; b)イミノ窒素原子含有芳香族置換基を有するホスフィ
ン源; c)プロトン源;および d)アルキルスルホン酸アニオン源 を含むカルボニル化触媒系、およびこのような触媒組成
物を不飽和化合物のカルボニル化において使用する方法
が開示され、かつ請求されている。
002491.0号においては、a)第VIII族金属源; b)イミノ窒素原子含有芳香族置換基を有するホスフィ
ン源; c)プロトン源;および d)アルキルスルホン酸アニオン源 を含むカルボニル化触媒系、およびこのような触媒組成
物を不飽和化合物のカルボニル化において使用する方法
が開示され、かつ請求されている。
【0026】我々の共同係属出願中の英国特許出願第9
002508.1号においては、 a)第VIII族金属源、および b)一般式
002508.1号においては、 a)第VIII族金属源、および b)一般式
【化8】 で表されるホスフィン〔式中、R1 ,R2 およびR3 は
独立して、随意に置換されているアリール基および一般
式
独立して、随意に置換されているアリール基および一般
式
【化9】
【0027】(式中、A,X,YおよびZの各々は独立
して、窒素原子、CH基および式CRで表される基から
選ばれ、ここでRはヒドロキシル基、アミノ基、アミド
基、シアノ基、アシル基、アシルオキシ基、ハロゲン原
子、随意に置換されているヒドロカルビル基または随意
に置換されているヒドロカルビルオキシ基を表し、そし
てそれはまた、R1 ,R2 およびR3 のうちの少なくと
も1個が式(III)の基を表すことを条件として、隣接す
る2個のCR基が環を形成できる基であり、そして式中
AおよびZのうちの少なくとも1個は式CR基を表す)
で表される基から選ばれる〕;またはそれの酸付加塩を
含む触媒系、およびこのような触媒系をオレフイン状ま
たはアセチレン状不飽和化合物のカルボニル化反応にお
いて使用することが開示され、かつ請求されている。
して、窒素原子、CH基および式CRで表される基から
選ばれ、ここでRはヒドロキシル基、アミノ基、アミド
基、シアノ基、アシル基、アシルオキシ基、ハロゲン原
子、随意に置換されているヒドロカルビル基または随意
に置換されているヒドロカルビルオキシ基を表し、そし
てそれはまた、R1 ,R2 およびR3 のうちの少なくと
も1個が式(III)の基を表すことを条件として、隣接す
る2個のCR基が環を形成できる基であり、そして式中
AおよびZのうちの少なくとも1個は式CR基を表す)
で表される基から選ばれる〕;またはそれの酸付加塩を
含む触媒系、およびこのような触媒系をオレフイン状ま
たはアセチレン状不飽和化合物のカルボニル化反応にお
いて使用することが開示され、かつ請求されている。
【0028】我々の共同係属出願中の英国特許出願第9
002509.9号においては、 a)第VIII族金属化合物、および b)式
002509.9号においては、 a)第VIII族金属化合物、および b)式
【化10】 で表されるホスフィン〔式中、R1 は脂肪族ヒドロカル
ビル基を表し、R2 は環原子のうちの少なくとも1個が
窒素であり、そして随意に置換されている、より大きな
縮合環構造の一部を形成することができる、5個または
6個の環原子を有する、随意に置換された芳香族複素環
式基を表し、そしてR3 は独立して、R2 の意味を有す
るか、あるいは随意に置換されているアリール基を表
す〕またはそれの酸付加塩を含む触媒系、およびこの触
媒系を不飽和化合物のカルボニル化反応において使用す
ることが開示され、かつ請求されている。
ビル基を表し、R2 は環原子のうちの少なくとも1個が
窒素であり、そして随意に置換されている、より大きな
縮合環構造の一部を形成することができる、5個または
6個の環原子を有する、随意に置換された芳香族複素環
式基を表し、そしてR3 は独立して、R2 の意味を有す
るか、あるいは随意に置換されているアリール基を表
す〕またはそれの酸付加塩を含む触媒系、およびこの触
媒系を不飽和化合物のカルボニル化反応において使用す
ることが開示され、かつ請求されている。
【0029】前に述べたように、驚くべきことには、本
発明の組成物は不飽和炭化水素のカルボニル化において
優れた活性を示すことがわかった。したがって、本発明
はさらに、前に定義した触媒系をアセチレン状またはオ
レフィン状不飽和炭化水素のカルボニル化において使用
する方法を提供する。別の局面によれば、本発明は、前
に定義された触媒系の存在下でアセチレン状不飽和化合
物またはオレフィン状不飽和化合物を一酸化炭素と反応
させることからなる、アセチレン状不飽和化合物または
オレフィン状不飽和化合物のカルボニル化方法を提供す
るものである。
発明の組成物は不飽和炭化水素のカルボニル化において
優れた活性を示すことがわかった。したがって、本発明
はさらに、前に定義した触媒系をアセチレン状またはオ
レフィン状不飽和炭化水素のカルボニル化において使用
する方法を提供する。別の局面によれば、本発明は、前
に定義された触媒系の存在下でアセチレン状不飽和化合
物またはオレフィン状不飽和化合物を一酸化炭素と反応
させることからなる、アセチレン状不飽和化合物または
オレフィン状不飽和化合物のカルボニル化方法を提供す
るものである。
【0030】アセチレン状またはオレフィン状不飽和化
合物は好ましくは非対称のアセチレンまたはオレフィ
ン、最も好ましくはアルファ アセチレンまたはアルフ
ァ オレフィンである。オレフィン状不飽和化合物は好
ましくは、1分子に付き2〜30個、好ましくは3〜2
0個の炭素原子を有する、置換されているか、または置
換されていないアルケンまたはシクロアルケンである。
アセチレン状不飽和化合物は好ましくは、1分子に付き
2〜20個、特に3〜10個の炭素原子を有する、置換
されているか、または置換されていないアルキンであ
る。アセチレン状またはオレフィン状不飽和化合物は、
2個のオレフィン結合が隣り合って同じ炭素原子に結合
していないことを条件として、1個または2個以上のア
セチレン結合またはオレフィン結合、例えば1個、2個
または3個のアセチレン結合またはオレフィン結合を含
むことができる。
合物は好ましくは非対称のアセチレンまたはオレフィ
ン、最も好ましくはアルファ アセチレンまたはアルフ
ァ オレフィンである。オレフィン状不飽和化合物は好
ましくは、1分子に付き2〜30個、好ましくは3〜2
0個の炭素原子を有する、置換されているか、または置
換されていないアルケンまたはシクロアルケンである。
アセチレン状不飽和化合物は好ましくは、1分子に付き
2〜20個、特に3〜10個の炭素原子を有する、置換
されているか、または置換されていないアルキンであ
る。アセチレン状またはオレフィン状不飽和化合物は、
2個のオレフィン結合が隣り合って同じ炭素原子に結合
していないことを条件として、1個または2個以上のア
セチレン結合またはオレフィン結合、例えば1個、2個
または3個のアセチレン結合またはオレフィン結合を含
むことができる。
【0031】オレフィンまたはアセチレンは、例えば、
ハロゲン原子、シアノ基、アセチル基のようなアシル
基、アセトキシ基のようなアシルオキシ基、ジアルキル
アミノのようなアミノ基、メトキシのようなアルコキシ
基、トリフルオルメチルのようなハロアルキル基、トリ
フルオルメトキシのようなハロアルコキシ基、アセトア
ミドのようなアミド基、またはヒドロキシ基によって置
換されていてもよい。これらの基のうちの或ものは的確
な反応条件にしたがって反応に参加することができる。
例えば、或種のアセチレン状不飽和アルコール、例えば
3−ブチン−1−オール、4−ペンチン−1−オールま
たは3−ペンチン−1−オールをカルボニル化すること
によってラクトンを得ることができる。このようにして
3−ブチン−1−オールをα−メチレン−δ−ブチロラ
クトンに転化することができる。アルキンの例はエチ
ン、プロピン、フェニルアセチレン、1−ブチン、2−
ブチン、1−ペンチン、1−ヘキシン、1−ヘプチン、
1−オクチン、2−オクチン、4−オクチン、1,7−
オクタジイン、5−メチル−3−ヘプチン、4−プロピ
ル−2−ペンチン、1−ノニン、ベンジルエチンおよび
シクロヘキシルエチンである。アルケンの例はエテン、
プロペン、フェニルエテン、1−ブテン、2−ブテン、
1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オク
テン、2−オクテン、4−オクテン、シクロヘキセンお
よびノルボルナジエンである。
ハロゲン原子、シアノ基、アセチル基のようなアシル
基、アセトキシ基のようなアシルオキシ基、ジアルキル
アミノのようなアミノ基、メトキシのようなアルコキシ
基、トリフルオルメチルのようなハロアルキル基、トリ
フルオルメトキシのようなハロアルコキシ基、アセトア
ミドのようなアミド基、またはヒドロキシ基によって置
換されていてもよい。これらの基のうちの或ものは的確
な反応条件にしたがって反応に参加することができる。
例えば、或種のアセチレン状不飽和アルコール、例えば
3−ブチン−1−オール、4−ペンチン−1−オールま
たは3−ペンチン−1−オールをカルボニル化すること
によってラクトンを得ることができる。このようにして
3−ブチン−1−オールをα−メチレン−δ−ブチロラ
クトンに転化することができる。アルキンの例はエチ
ン、プロピン、フェニルアセチレン、1−ブチン、2−
ブチン、1−ペンチン、1−ヘキシン、1−ヘプチン、
1−オクチン、2−オクチン、4−オクチン、1,7−
オクタジイン、5−メチル−3−ヘプチン、4−プロピ
ル−2−ペンチン、1−ノニン、ベンジルエチンおよび
シクロヘキシルエチンである。アルケンの例はエテン、
プロペン、フェニルエテン、1−ブテン、2−ブテン、
1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オク
テン、2−オクテン、4−オクテン、シクロヘキセンお
よびノルボルナジエンである。
【0032】アセチレン状不飽和化合物またはオレフィ
ン状不飽和化合物は、例えば3−メチル−ブト−3−エ
ン−2−インにおけるように、アセチレンであって、そ
の上オレフィンであってもよい。本発明の触媒系は、オ
レフィン基の存在下において、アセチレン基に対して高
度に選択性であることがわかった。不飽和化合物は単独
でカルボニル化しても、あるいはその他の反応剤、例え
ば水素または除去できる水素原子を持つ求核性化合物の
存在下でカルボニル化してもよい。除去可能な水素原子
を持つ求核性化合物の例はヒドロキシル基含有化合物で
ある。ヒドロキシル基含有化合物は好ましくはアルコー
ル、水、カルボン酸またはシラノールである。シラノー
ルをカルボニル化する本発明の触媒系の能力は特に驚く
べきことである。
ン状不飽和化合物は、例えば3−メチル−ブト−3−エ
ン−2−インにおけるように、アセチレンであって、そ
の上オレフィンであってもよい。本発明の触媒系は、オ
レフィン基の存在下において、アセチレン基に対して高
度に選択性であることがわかった。不飽和化合物は単独
でカルボニル化しても、あるいはその他の反応剤、例え
ば水素または除去できる水素原子を持つ求核性化合物の
存在下でカルボニル化してもよい。除去可能な水素原子
を持つ求核性化合物の例はヒドロキシル基含有化合物で
ある。ヒドロキシル基含有化合物は好ましくはアルコー
ル、水、カルボン酸またはシラノールである。シラノー
ルをカルボニル化する本発明の触媒系の能力は特に驚く
べきことである。
【0033】使用されるアルコールは脂肪族、脂環式ま
たは芳香族であることができ、そして1個または2個以
上の置換基を持つことができる。アルコールは好ましく
は、1分子に付き20個までの炭素原子を含む。それ
は、例えばアルカノール、シクロアルカノールまたはフ
ェノールであり得る。1個または2個以上のヒドロキシ
ル基が存在することができ、その場合には、使用される
反応剤のモル比にしたがって、幾つかの生成物が形成さ
れ得る。アルカノールの例はメタノール、エタノール、
1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノー
ル、2−ブタノール、1−メチルプロパン−1−オー
ル、および2−メチルプロパン−2−オールを包含して
いる。フェノールの例はフェノール、アルキルフェノー
ル、カテコール、および2,2−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)プロパンを包含している。
たは芳香族であることができ、そして1個または2個以
上の置換基を持つことができる。アルコールは好ましく
は、1分子に付き20個までの炭素原子を含む。それ
は、例えばアルカノール、シクロアルカノールまたはフ
ェノールであり得る。1個または2個以上のヒドロキシ
ル基が存在することができ、その場合には、使用される
反応剤のモル比にしたがって、幾つかの生成物が形成さ
れ得る。アルカノールの例はメタノール、エタノール、
1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノー
ル、2−ブタノール、1−メチルプロパン−1−オー
ル、および2−メチルプロパン−2−オールを包含して
いる。フェノールの例はフェノール、アルキルフェノー
ル、カテコール、および2,2−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)プロパンを包含している。
【0034】アルコールのその他の列は多価アルコー
ル、特に低糖類(lower sugars)、例えば
グルコース、フラクトース、マンノ−ス、ガラクトー
ス、サッカロース、アルドキソース(aldoxos
e)、アルドペントース、アルトロース、アロース、タ
ロース、グロース、イドース、リボース、アラボノース
(arabonose)、キシロース、リキソース、エ
リトロースまたはトレオース、セルロース、ベンジルア
ルコール、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブ
タノール、ステアリルアルコール、シクロヘキサノー
ル、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、
1,4−ブタンジオール、ポリエチレングリコール、グ
リセロールおよび1,6−ヘキサンジオールを包含して
いる。本発明の触媒系の存在下でオレフィンをアルカノ
ールおよびホルムアルデヒドでカルボニル化するときに
は、興味ある反応が起こることが発見された。どの理論
にも縛られることは望まないで、アルコールおよびホル
ムアルデヒドは互に反応してヘミアセタールを生じるも
のと思われる。ヒドロキシル基含有化合物であるヘミア
セタールはその後オレフィンと反応してアルカン酸アル
キルオキシメチルを生成する。例えば、エテン、一酸化
炭素、ホルムアルデヒドおよびメタノールは互に反応し
てプロピオン酸メトキシメチルを生成できる。
ル、特に低糖類(lower sugars)、例えば
グルコース、フラクトース、マンノ−ス、ガラクトー
ス、サッカロース、アルドキソース(aldoxos
e)、アルドペントース、アルトロース、アロース、タ
ロース、グロース、イドース、リボース、アラボノース
(arabonose)、キシロース、リキソース、エ
リトロースまたはトレオース、セルロース、ベンジルア
ルコール、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブ
タノール、ステアリルアルコール、シクロヘキサノー
ル、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、
1,4−ブタンジオール、ポリエチレングリコール、グ
リセロールおよび1,6−ヘキサンジオールを包含して
いる。本発明の触媒系の存在下でオレフィンをアルカノ
ールおよびホルムアルデヒドでカルボニル化するときに
は、興味ある反応が起こることが発見された。どの理論
にも縛られることは望まないで、アルコールおよびホル
ムアルデヒドは互に反応してヘミアセタールを生じるも
のと思われる。ヒドロキシル基含有化合物であるヘミア
セタールはその後オレフィンと反応してアルカン酸アル
キルオキシメチルを生成する。例えば、エテン、一酸化
炭素、ホルムアルデヒドおよびメタノールは互に反応し
てプロピオン酸メトキシメチルを生成できる。
【0035】本発明方法は様々な種類のカルボン酸を使
用して遂行できる。例えば、このカルボン酸はアセチレ
ン状不飽和化合物およびオレフィン状不飽和化合物に関
連して名を挙げたもののような、脂肪族、脂環式または
芳香族でよく、そして1個または2個以上の置換基を持
っていてよい。本発明方法において好ましくは使用され
るカルボン酸は、20個までの炭素原子を含むカルボン
酸を包含している。1個または2個以上のカルボン酸基
が存在していてもよく、このようにして、使用される反
応剤のモル比に応じて、意のままに種々の生成物を得る
ことができる。カルボン酸は、例えば、アルカンカルボ
ン酸またはアルケンカルボン酸であり得る。カルボン酸
の例は蟻酸、酢酸、プロピオン酸、n−酪酸、イソ酪
酸、ピバリン酸、n−吉草酸、n−カプロン酸、カプリ
ル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミ
チン酸、ステアリン酸、安息香酸、o−フタル酸、m−
フタル酸、テレフタル酸およびトルイル酸である。アル
ケンカルボン酸の例はアクリル酸、プロピオール酸、メ
タクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、オレイン
酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸およびメサコ
ン酸である。
用して遂行できる。例えば、このカルボン酸はアセチレ
ン状不飽和化合物およびオレフィン状不飽和化合物に関
連して名を挙げたもののような、脂肪族、脂環式または
芳香族でよく、そして1個または2個以上の置換基を持
っていてよい。本発明方法において好ましくは使用され
るカルボン酸は、20個までの炭素原子を含むカルボン
酸を包含している。1個または2個以上のカルボン酸基
が存在していてもよく、このようにして、使用される反
応剤のモル比に応じて、意のままに種々の生成物を得る
ことができる。カルボン酸は、例えば、アルカンカルボ
ン酸またはアルケンカルボン酸であり得る。カルボン酸
の例は蟻酸、酢酸、プロピオン酸、n−酪酸、イソ酪
酸、ピバリン酸、n−吉草酸、n−カプロン酸、カプリ
ル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミ
チン酸、ステアリン酸、安息香酸、o−フタル酸、m−
フタル酸、テレフタル酸およびトルイル酸である。アル
ケンカルボン酸の例はアクリル酸、プロピオール酸、メ
タクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、オレイン
酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸およびメサコ
ン酸である。
【0036】シラノールは好ましくはトリアルキルシラ
ノール、より好ましくはトリ(C1-6 )アルキルシラノ
ール、例えばトリエチルシラノールである。不飽和炭化
水素およびヒドロキシル基含有化合物が同じ化合物であ
り得ることが理解されるであろう。アセチレン状不飽和
化合物を水および一酸化炭素と反応させるときには、
α,β−不飽和カルボン酸が生成する。水の代りにアル
コールを使用する場合には、α,β−不飽和カルボン酸
エステルが生成する。水の代りにカルボン酸を使用する
ときには、α,β−不飽和酸無水物が生成する。α,β
−不飽和生成物は、使用される反応条件にしたがって、
さらに反応を受けることができる。
ノール、より好ましくはトリ(C1-6 )アルキルシラノ
ール、例えばトリエチルシラノールである。不飽和炭化
水素およびヒドロキシル基含有化合物が同じ化合物であ
り得ることが理解されるであろう。アセチレン状不飽和
化合物を水および一酸化炭素と反応させるときには、
α,β−不飽和カルボン酸が生成する。水の代りにアル
コールを使用する場合には、α,β−不飽和カルボン酸
エステルが生成する。水の代りにカルボン酸を使用する
ときには、α,β−不飽和酸無水物が生成する。α,β
−不飽和生成物は、使用される反応条件にしたがって、
さらに反応を受けることができる。
【0037】オレフィン状不飽和化合物を一酸化炭素お
よび水と反応させるときには、カルボン酸が生成する。
水の代りにアルコールを使用する場合にはカルボン酸エ
ステルが生成し;例えばエテン、一酸化炭素および水の
反応はプロピオン酸メチルを生成し、水の代りにカルボ
ン酸を使用する場合には酸無水物が生成し;例えばエテ
ン、一酸化炭素およびプロピオン酸の反応は無水プロピ
オン酸を生成する。水の代りにシラノールを使用する場
合にはシリルエステルが得られ;例えばエテン、一酸化
炭素およびトリエチルシラノールの反応はプロピオン酸
トリエチルシリルを与える。本発明触媒系の驚くべき特
性は、第三アルカノールのような酸感応性のヒドロキシ
化合物、例えば2−メチル−プロパン−2−オール(第
三ブタノール)およびシラノール、例えばトリエチルシ
ラノールによって不飽和化合物を選択的にカルボニル化
できる能力である。それ故、好ましい局面によれば、本
発明は、前に定義した触媒系の存在下においてアセチレ
ン状不飽和化合物またはオレフィン状不飽和化合物を一
酸化炭素および第三アルカノールまたはシラノールと反
応させる、アセチレン状不飽和化合物またはオレフィン
状不飽和化合物のカルボニル化方法を提供するものであ
る。
よび水と反応させるときには、カルボン酸が生成する。
水の代りにアルコールを使用する場合にはカルボン酸エ
ステルが生成し;例えばエテン、一酸化炭素および水の
反応はプロピオン酸メチルを生成し、水の代りにカルボ
ン酸を使用する場合には酸無水物が生成し;例えばエテ
ン、一酸化炭素およびプロピオン酸の反応は無水プロピ
オン酸を生成する。水の代りにシラノールを使用する場
合にはシリルエステルが得られ;例えばエテン、一酸化
炭素およびトリエチルシラノールの反応はプロピオン酸
トリエチルシリルを与える。本発明触媒系の驚くべき特
性は、第三アルカノールのような酸感応性のヒドロキシ
化合物、例えば2−メチル−プロパン−2−オール(第
三ブタノール)およびシラノール、例えばトリエチルシ
ラノールによって不飽和化合物を選択的にカルボニル化
できる能力である。それ故、好ましい局面によれば、本
発明は、前に定義した触媒系の存在下においてアセチレ
ン状不飽和化合物またはオレフィン状不飽和化合物を一
酸化炭素および第三アルカノールまたはシラノールと反
応させる、アセチレン状不飽和化合物またはオレフィン
状不飽和化合物のカルボニル化方法を提供するものであ
る。
【0038】本発明の触媒系はアレンの存在下における
アセチレン状不飽和化合物のカルボニル化に対して驚く
ほど優れていることも発見された。それ故、好ましい局
面によれば、本発明は、アレンおよび前に定義された触
媒系の存在下においてアセチレン状不飽和化合物を一酸
化炭素と反応させる、アセチレン状不飽和化合物のカル
ボニル化方法を提供するものである。好ましくは、アレ
ンはアセチレン状不飽和化合物の重量に基づいて、0.
3ないし10重量%の量で存在する。アレンが存在する
とき、第三アミンは好ましくは触媒量で使用される。
アセチレン状不飽和化合物のカルボニル化に対して驚く
ほど優れていることも発見された。それ故、好ましい局
面によれば、本発明は、アレンおよび前に定義された触
媒系の存在下においてアセチレン状不飽和化合物を一酸
化炭素と反応させる、アセチレン状不飽和化合物のカル
ボニル化方法を提供するものである。好ましくは、アレ
ンはアセチレン状不飽和化合物の重量に基づいて、0.
3ないし10重量%の量で存在する。アレンが存在する
とき、第三アミンは好ましくは触媒量で使用される。
【0039】本発明方法において別個の溶剤を使用する
ことは必須でない。しかしながら、場合によっては、別
個の溶剤を使用することが望ましくなり得る。その目的
のためには、いずれの不活性溶剤でも使用できる。該溶
剤は、例えば、スルホキシドおよびスルホン、例えばジ
メチルスルホキシド、ジイソプロピルスルホンまたはテ
トラヒドロチオフェン−2,2−ジオキシド(スルホラ
ンとも称する)、2−メチルスルホラン、3−メチルス
ルホラン、2−メチル−4−ブチルスルホラン;ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素;酢酸
メチルおよびブチロラクトンのようなエステル;アセト
ンまたはメチルイソブチルケトンのようなケトン、アニ
ソール、2,5,8−トリオキサノナン(ジグライムと
も称する)、ジフェニルエーテルおよびジイソプロピル
エーテルのようなエーテル、およびジメチルアセトアミ
ドまたはN−メチルピロリドンのようなアミドからなる
ことができる。本発明方法は、好都合には、10℃〜2
00℃、特に20℃〜130℃の範囲の温度において遂
行される。本発明方法は、好ましくは、1〜100バー
ルの圧力において遂行される。100バールよりも高い
圧力を使用することができるが、特別な装置を必要とす
るので、概して経済的に魅力がない。
ことは必須でない。しかしながら、場合によっては、別
個の溶剤を使用することが望ましくなり得る。その目的
のためには、いずれの不活性溶剤でも使用できる。該溶
剤は、例えば、スルホキシドおよびスルホン、例えばジ
メチルスルホキシド、ジイソプロピルスルホンまたはテ
トラヒドロチオフェン−2,2−ジオキシド(スルホラ
ンとも称する)、2−メチルスルホラン、3−メチルス
ルホラン、2−メチル−4−ブチルスルホラン;ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素;酢酸
メチルおよびブチロラクトンのようなエステル;アセト
ンまたはメチルイソブチルケトンのようなケトン、アニ
ソール、2,5,8−トリオキサノナン(ジグライムと
も称する)、ジフェニルエーテルおよびジイソプロピル
エーテルのようなエーテル、およびジメチルアセトアミ
ドまたはN−メチルピロリドンのようなアミドからなる
ことができる。本発明方法は、好都合には、10℃〜2
00℃、特に20℃〜130℃の範囲の温度において遂
行される。本発明方法は、好ましくは、1〜100バー
ルの圧力において遂行される。100バールよりも高い
圧力を使用することができるが、特別な装置を必要とす
るので、概して経済的に魅力がない。
【0040】ヒドロキシル基含有化合物対不飽和炭化水
素のモル比は広範囲に変化することができ、一般に0.
01:1ないし100:1の範囲内にある。本発明方法
に必要な一酸化炭素は実際上純粋な形または不活性ガ
ス、例えば窒素で希釈された形で使用できる。ガスの流
れの中に少量を越える量の水素が存在するのは、反応条
件下で不飽和炭化水素の水素添加が起こるおそれがある
ために、望ましくない。一般に、供給されるガスの流れ
の中の水素の量は5容量%未満であるのが好ましい。本
発明方法において使用される触媒系は液相で構成されて
いる。それらの触媒系はいずれの好都合な方法で製造し
てもよい。したがって、その触媒系は液相の状態で別個
の第VIII族金属化合物、ホスフィン(I)、プロトン酸
および第三アミンを混ぜ合わせることによって調製でき
る。別法として、それらは液相の状態で第VIII族金属化
合物およびホスフィンの酸付加塩および第三アミンを混
ぜ合わせることによって調製できる。別法として、それ
らは液相の状態で、第VIII族金属とホスフィンとの錯体
である第VIII族金属化合物、プロトン酸および第三アミ
ンから調製できる。別法として、それらは液相の状態で
第VIII族金属化合物、ホスフィンおよび第三アミンの酸
付加塩を混ぜ合わせることによって調製できる。
素のモル比は広範囲に変化することができ、一般に0.
01:1ないし100:1の範囲内にある。本発明方法
に必要な一酸化炭素は実際上純粋な形または不活性ガ
ス、例えば窒素で希釈された形で使用できる。ガスの流
れの中に少量を越える量の水素が存在するのは、反応条
件下で不飽和炭化水素の水素添加が起こるおそれがある
ために、望ましくない。一般に、供給されるガスの流れ
の中の水素の量は5容量%未満であるのが好ましい。本
発明方法において使用される触媒系は液相で構成されて
いる。それらの触媒系はいずれの好都合な方法で製造し
てもよい。したがって、その触媒系は液相の状態で別個
の第VIII族金属化合物、ホスフィン(I)、プロトン酸
および第三アミンを混ぜ合わせることによって調製でき
る。別法として、それらは液相の状態で第VIII族金属化
合物およびホスフィンの酸付加塩および第三アミンを混
ぜ合わせることによって調製できる。別法として、それ
らは液相の状態で、第VIII族金属とホスフィンとの錯体
である第VIII族金属化合物、プロトン酸および第三アミ
ンから調製できる。別法として、それらは液相の状態で
第VIII族金属化合物、ホスフィンおよび第三アミンの酸
付加塩を混ぜ合わせることによって調製できる。
【0041】液相は、好都合には、使用すべき触媒系を
含む1種または2種以上の反応剤によって形成させても
よい。別法として、それは溶剤によって形成させてもよ
い。それはまた、触媒系のうちの1つの成分、例えば第
三アミンによって形成することもできる。イミノ窒素原
子含有芳香族置換基を有するホスフィンは当該技術にお
いて公知である。それらは好都合には、ハロゲン化燐ま
たはアルカリ金属燐化物を、イミノ窒素原子を含む芳香
族化合物の適当なアルカリ金属誘導体またはハライド誘
導体と反応させることによって製造される。
含む1種または2種以上の反応剤によって形成させても
よい。別法として、それは溶剤によって形成させてもよ
い。それはまた、触媒系のうちの1つの成分、例えば第
三アミンによって形成することもできる。イミノ窒素原
子含有芳香族置換基を有するホスフィンは当該技術にお
いて公知である。それらは好都合には、ハロゲン化燐ま
たはアルカリ金属燐化物を、イミノ窒素原子を含む芳香
族化合物の適当なアルカリ金属誘導体またはハライド誘
導体と反応させることによって製造される。
【0042】イミノ窒素原子含有芳香族置換基を少なく
とも1個有する有機ジホスフィンは、例えば欧州特許出
願公告公報EP−A2−0305012号に記載された
方法にしたがって製造できる。したがって、例えば、こ
の有機ジホスフィンは適当なアルカリ金属燐化物を適当
なジハロ化合物と反応させることによって製造できる。
ここで本発明を以下の実施例によって説明する。
とも1個有する有機ジホスフィンは、例えば欧州特許出
願公告公報EP−A2−0305012号に記載された
方法にしたがって製造できる。したがって、例えば、こ
の有機ジホスフィンは適当なアルカリ金属燐化物を適当
なジハロ化合物と反応させることによって製造できる。
ここで本発明を以下の実施例によって説明する。
【0043】
【実施例】製造例1 ジフェニル−(6−メチル−2−ピリジル)−ホスフィ
ンの製造 すべての操作を不活性雰囲気(窒素またはアルゴン)中
で遂行した。使用に先立って溶剤を乾燥し、そして蒸留
した。n−ブチルリチウムの1.6Mヘキサン溶液36
mlを40mlのジエチルエーテルに加えてから、その混合
物を−40℃に冷却した。攪拌されている混合物に、1
0gの2−ブロム−6−メチルピリジンを15mlのジエ
チルエーテルに溶かした溶液を20分間かけて加え;こ
の添加中に温度を−40℃に保った。添加後、温度を−
5℃まで上昇させ、その温度に5分間保ち、ついで再び
−40℃まで温度を低下させた。15mlジエチルエーテ
ル中に12.8gのクロルジフェニルホスフィンが溶け
ている溶液を、15分間にわたって、攪拌されている混
合物に加えた。添加後、混合物を室温まで温め、溶剤を
真空中で除去し、そして50mlの水と50mlのジクロル
メタンを加えた。5分間激しく攪拌した後、ジクロルメ
タン層を分離した。50mlずつのジクロルメタンで水の
層を2回抽出し、有機留分を混ぜ合わせ、そして溶剤を
真空中で除去した。残渣をトルエン/ヘキサンから晶出
させると、灰色がかった白色結晶の形で12g(75
%)のジフェニル−(6−メチル−2−ピリジル)−ホ
スフィンが得られた。この生成物は31P NMR:δp
=−5.6ppm によって特徴づけられた。
ンの製造 すべての操作を不活性雰囲気(窒素またはアルゴン)中
で遂行した。使用に先立って溶剤を乾燥し、そして蒸留
した。n−ブチルリチウムの1.6Mヘキサン溶液36
mlを40mlのジエチルエーテルに加えてから、その混合
物を−40℃に冷却した。攪拌されている混合物に、1
0gの2−ブロム−6−メチルピリジンを15mlのジエ
チルエーテルに溶かした溶液を20分間かけて加え;こ
の添加中に温度を−40℃に保った。添加後、温度を−
5℃まで上昇させ、その温度に5分間保ち、ついで再び
−40℃まで温度を低下させた。15mlジエチルエーテ
ル中に12.8gのクロルジフェニルホスフィンが溶け
ている溶液を、15分間にわたって、攪拌されている混
合物に加えた。添加後、混合物を室温まで温め、溶剤を
真空中で除去し、そして50mlの水と50mlのジクロル
メタンを加えた。5分間激しく攪拌した後、ジクロルメ
タン層を分離した。50mlずつのジクロルメタンで水の
層を2回抽出し、有機留分を混ぜ合わせ、そして溶剤を
真空中で除去した。残渣をトルエン/ヘキサンから晶出
させると、灰色がかった白色結晶の形で12g(75
%)のジフェニル−(6−メチル−2−ピリジル)−ホ
スフィンが得られた。この生成物は31P NMR:δp
=−5.6ppm によって特徴づけられた。
【0044】製造例2 ジフェニル−(3−メチル−2−ピリジル)−ホスフィ
ンの製造 この化合物は製造例1に述べた方法と同様にして製造し
たが、2−ブロム−6−メチルピリジンの代りに10.
0gの2−ブロム−3−メチルピリジンを使用した。そ
れは31P NMR:δp=−8.1ppm によって特徴づ
けられた。
ンの製造 この化合物は製造例1に述べた方法と同様にして製造し
たが、2−ブロム−6−メチルピリジンの代りに10.
0gの2−ブロム−3−メチルピリジンを使用した。そ
れは31P NMR:δp=−8.1ppm によって特徴づ
けられた。
【0045】製造例3 フェニル−ビス(6−メチル−2−ピリジル)−ホスフ
ィンの製造 この化合物は製造例1に述べた方法と同様にして製造し
たが、クロルジフェニルホスフィンの代りに5.2gの
フェニルジクロルホスフィンを使用した。それは31P
NMR:δp=−5.1ppm によって特徴づけられた。
ィンの製造 この化合物は製造例1に述べた方法と同様にして製造し
たが、クロルジフェニルホスフィンの代りに5.2gの
フェニルジクロルホスフィンを使用した。それは31P
NMR:δp=−5.1ppm によって特徴づけられた。
【0046】製造例4 トリス(6−メチル−2−ピリジル)−ホスフィンの製
造 この化合物は製造例1に述べた方法と同様にして製造し
たが、クロルジフェニルホスフィンの代りに2.7gの
三塩化燐を使用した。それは31P NMR:δp=−
3.8ppm によって特徴づけられた。
造 この化合物は製造例1に述べた方法と同様にして製造し
たが、クロルジフェニルホスフィンの代りに2.7gの
三塩化燐を使用した。それは31P NMR:δp=−
3.8ppm によって特徴づけられた。
【0047】製造例5 ジフェニル−(4,6−ジメチル−2−ピリジル)−ホ
スフィンの製造 この化合物は製造例1に述べた方法と同様にして製造し
たが、2−ブロム−6−メチルピリジンの代りに10.
8gの2−ブロム−4,6−ジメチルピリジンを使用し
た。それは31P NMR:δp=−5.6ppm によって
特徴づけられた。
スフィンの製造 この化合物は製造例1に述べた方法と同様にして製造し
たが、2−ブロム−6−メチルピリジンの代りに10.
8gの2−ブロム−4,6−ジメチルピリジンを使用し
た。それは31P NMR:δp=−5.6ppm によって
特徴づけられた。
【0048】製造例6 ジフェニル−(6−メトキシ−2−ピリジル)−ホスフ
ィンの製造 −80℃において100mlの液体アンモニアに2.7g
のナトリウムを加え、ついで攪拌しながら15.2gの
トリフェニルホスフィンを6つの部分に分けて加えた。
その溶液を徐々に−40℃まで温め、その温度に30分
間保持してから、再び−80℃に冷却した。ついで、攪
拌されている溶液に3.1gの塩化アンモニウムを加え
てから、10.9gの2−ブロム−6−メトキシピリジ
ンを3つの部分に分けて添加した。冷却浴を取り外して
アンモニアを蒸発させた。製造例1で述べたようにし
て、残渣を水/ジクロルメタンで仕上げた。ヘキサンか
ら晶出させると、若干不純な生成物(31P NMR:δ
p=−4.4ppm によって特徴づけられる)7gが得ら
れ、これはそのまま後記の実施例において使用された。
ィンの製造 −80℃において100mlの液体アンモニアに2.7g
のナトリウムを加え、ついで攪拌しながら15.2gの
トリフェニルホスフィンを6つの部分に分けて加えた。
その溶液を徐々に−40℃まで温め、その温度に30分
間保持してから、再び−80℃に冷却した。ついで、攪
拌されている溶液に3.1gの塩化アンモニウムを加え
てから、10.9gの2−ブロム−6−メトキシピリジ
ンを3つの部分に分けて添加した。冷却浴を取り外して
アンモニアを蒸発させた。製造例1で述べたようにし
て、残渣を水/ジクロルメタンで仕上げた。ヘキサンか
ら晶出させると、若干不純な生成物(31P NMR:δ
p=−4.4ppm によって特徴づけられる)7gが得ら
れ、これはそのまま後記の実施例において使用された。
【0049】製造例7 ジ(n−ブチル)−2−ピリジルホスフィンの製造 −80℃に冷却され、磁気攪拌されている、20モルの
テトラヒドロフランに2.5gのフェニル(2−ピリジ
ル)2 Pが溶けている溶液を、n−ブチルリチウムの
1.6Mヘキサン溶液5.9mlに、10分間かけて添加
した。その結果生成した深赤色の溶液を室温まで温めて
から、溶液を31P NMRによって分析すると、それは
唯一の燐含有化合物(δp=−16.3ppm )として
(n−ブチル)(2−ピリジル)PLi燐化物を含むこ
とを示した。溶液を−40℃に冷却し、そして10mlの
テトラヒドロフラン中に1.3gの1−ブロムブタンを
溶かした溶液を加えた。混合物を再び室温まで温め、溶
剤を真空中で除去し、そしてジエチルエーテル25mlお
よび水10mlを加えた。10分間攪拌した後、有機層を
分離し、そして水層を10mlのエーテルで抽出した。有
機層を混ぜ合わせてから溶剤を真空中(66Pa)で除
去した。その結果生成した淡黄色の液体を 1H,13Cお
よび31P NMRによって分析すると、この液体は2−
フェニルピリジンと(n−ブチル)2 (2−ピリジル)
P(δp=−19.5ppm )との1:1(モル比)混合
物からなることが示された。
テトラヒドロフランに2.5gのフェニル(2−ピリジ
ル)2 Pが溶けている溶液を、n−ブチルリチウムの
1.6Mヘキサン溶液5.9mlに、10分間かけて添加
した。その結果生成した深赤色の溶液を室温まで温めて
から、溶液を31P NMRによって分析すると、それは
唯一の燐含有化合物(δp=−16.3ppm )として
(n−ブチル)(2−ピリジル)PLi燐化物を含むこ
とを示した。溶液を−40℃に冷却し、そして10mlの
テトラヒドロフラン中に1.3gの1−ブロムブタンを
溶かした溶液を加えた。混合物を再び室温まで温め、溶
剤を真空中で除去し、そしてジエチルエーテル25mlお
よび水10mlを加えた。10分間攪拌した後、有機層を
分離し、そして水層を10mlのエーテルで抽出した。有
機層を混ぜ合わせてから溶剤を真空中(66Pa)で除
去した。その結果生成した淡黄色の液体を 1H,13Cお
よび31P NMRによって分析すると、この液体は2−
フェニルピリジンと(n−ブチル)2 (2−ピリジル)
P(δp=−19.5ppm )との1:1(モル比)混合
物からなることが示された。
【0050】製造例8 ジメチル 2−ピリジルホスフィンおよびメチルフェニ
ル−2−ピリジルホスフィンの製造 n−ブチルリチウム溶液の代りにメチルリチウムの1.
6Mジエチルエーテル溶液を使用し、そしてブロムブタ
ンの代りに1.3gのヨードメタンを使用した点を除
き、製造例7の方法を繰り返した。反応生成物はほぼ7
0:30:60の割合の(メチル)2 (2−ピリジル)
P、メチルフェニル 2−ピリジルホスフィンおよび2
−フェニルピリジンの混合物であって、この混合物から
(メチル)2 (2−ピリジル)Pを蒸留によって単離さ
せた。生成物の物理的特性はδp=−41.2ppm (ジ
メチル−2−ピリジルホスフィン)およびδp=−2
4.1ppm (メチルフェニル−2−ピリジルホスフィ
ン)であった。
ル−2−ピリジルホスフィンの製造 n−ブチルリチウム溶液の代りにメチルリチウムの1.
6Mジエチルエーテル溶液を使用し、そしてブロムブタ
ンの代りに1.3gのヨードメタンを使用した点を除
き、製造例7の方法を繰り返した。反応生成物はほぼ7
0:30:60の割合の(メチル)2 (2−ピリジル)
P、メチルフェニル 2−ピリジルホスフィンおよび2
−フェニルピリジンの混合物であって、この混合物から
(メチル)2 (2−ピリジル)Pを蒸留によって単離さ
せた。生成物の物理的特性はδp=−41.2ppm (ジ
メチル−2−ピリジルホスフィン)およびδp=−2
4.1ppm (メチルフェニル−2−ピリジルホスフィ
ン)であった。
【0051】製造例9 n−ブチル 第三ブチル 2−ピリジルホスフィンの製
造 n−ブチルリチウム溶液の代りにt−ブチルリチウムの
1.7Mペンタン溶液5.6mlを使用した点を除き、製
造例7の方法を繰り返した。最終生成物はNMR分析
(δp=−7.4ppm )によりn−ブチル t−ブチル
2−ピリジルホスフィンと同定された。
造 n−ブチルリチウム溶液の代りにt−ブチルリチウムの
1.7Mペンタン溶液5.6mlを使用した点を除き、製
造例7の方法を繰り返した。最終生成物はNMR分析
(δp=−7.4ppm )によりn−ブチル t−ブチル
2−ピリジルホスフィンと同定された。
【0052】製造例10 ジメチル 2−ピリジルホスフィンの製造 1.91gのメチル(2−ピリジル)2 Pと僅かに0.
7gのヨードメタンを使用した点を除き、製造例8の方
法を繰り返した。製造例1に述べたようにして仕上げる
と、ジメチル 2−ピリジルホスフィンが得られ、これ
をさらに蒸留によって精製した(収率65%)(δp=
−41.2ppm )。
7gのヨードメタンを使用した点を除き、製造例8の方
法を繰り返した。製造例1に述べたようにして仕上げる
と、ジメチル 2−ピリジルホスフィンが得られ、これ
をさらに蒸留によって精製した(収率65%)(δp=
−41.2ppm )。
【0053】製造例11 n−ブチル(4−メトキシフェニル)(2−ピリジル)
ホスフィンの製造 すべての操作を不活性雰囲気(窒素またはアルゴン)中
で遂行した。使用に先立って溶剤を乾燥し、そして蒸留
した。n−ブチルリチウムの1.6Mヘキサン溶液18
mlを30mlのジエチルエーテルに加えてから、その混合
物を−40℃に冷却した。攪拌されている混合物に、
4.6gの2−ブロムピリジンを15mlのジエチルエー
テルに溶かした溶液を20分間かけて加え;この添加中
に温度を−40℃に保った。添加後、温度を−5℃まで
上昇させ、その温度に5分間保ち、ついで再び温度を−
40℃まで低下させた。その結果生成した溶液を、30
mlのTHF中に7.6gの4−メトキシフェニル−ビス
(2−ピリジル)−ホスフィンが溶けている、冷却され
ている(−40℃)溶液に加えた。混合物を室温まで温
めた。10分間攪拌した後、溶剤を真空中で除去した。
水(25ml)およびジクロルメタン(25ml)を加え
た。5分間激しく攪拌した後、ジクロルメタン層を分離
した。25mlずつのジクロルメタンで水の層を2回抽出
し、有機留分を混ぜ合わせ、そして溶剤を真空中で除去
した。残渣を蒸留すると、帯黄色液体の形で(n−ブチ
ル)(4−メトキシフェニル)(2−ピリジル)ホスフ
ィン4.7g(60%)が得られた。この生成物は31P
NMR:δp=−14.9ppm によって特徴づけられ
た。
ホスフィンの製造 すべての操作を不活性雰囲気(窒素またはアルゴン)中
で遂行した。使用に先立って溶剤を乾燥し、そして蒸留
した。n−ブチルリチウムの1.6Mヘキサン溶液18
mlを30mlのジエチルエーテルに加えてから、その混合
物を−40℃に冷却した。攪拌されている混合物に、
4.6gの2−ブロムピリジンを15mlのジエチルエー
テルに溶かした溶液を20分間かけて加え;この添加中
に温度を−40℃に保った。添加後、温度を−5℃まで
上昇させ、その温度に5分間保ち、ついで再び温度を−
40℃まで低下させた。その結果生成した溶液を、30
mlのTHF中に7.6gの4−メトキシフェニル−ビス
(2−ピリジル)−ホスフィンが溶けている、冷却され
ている(−40℃)溶液に加えた。混合物を室温まで温
めた。10分間攪拌した後、溶剤を真空中で除去した。
水(25ml)およびジクロルメタン(25ml)を加え
た。5分間激しく攪拌した後、ジクロルメタン層を分離
した。25mlずつのジクロルメタンで水の層を2回抽出
し、有機留分を混ぜ合わせ、そして溶剤を真空中で除去
した。残渣を蒸留すると、帯黄色液体の形で(n−ブチ
ル)(4−メトキシフェニル)(2−ピリジル)ホスフ
ィン4.7g(60%)が得られた。この生成物は31P
NMR:δp=−14.9ppm によって特徴づけられ
た。
【0054】この実験においては、n−ブチルリチウム
が2−ブロムピリジンと反応して、臭化n−ブチルと2
−ピリジルリチウムとの混合物を与えるものと思われ
る。ついで2−ピリジルリチウムは4−メトキシ−ビス
(2−ピリジル)ホスフィンと反応して燐化4−メトキ
シフェニル(2−ピリジル)リチウム(および2,2′
−ビピリジン)を生成する。その後この燐化リチウムは
臭化n−ブチルと反応して(n−ブチル)(4−メトキ
シフェニル)(2−ピリジル)ホスフィンを与える。
が2−ブロムピリジンと反応して、臭化n−ブチルと2
−ピリジルリチウムとの混合物を与えるものと思われ
る。ついで2−ピリジルリチウムは4−メトキシ−ビス
(2−ピリジル)ホスフィンと反応して燐化4−メトキ
シフェニル(2−ピリジル)リチウム(および2,2′
−ビピリジン)を生成する。その後この燐化リチウムは
臭化n−ブチルと反応して(n−ブチル)(4−メトキ
シフェニル)(2−ピリジル)ホスフィンを与える。
【0055】製造例12 メチル ジ(2−ピリジル)ホスフィンの製造 すべての操作を不活性雰囲気(窒素またはアルゴン)中
で遂行した。使用に先立って溶剤を乾燥し、そして蒸留
した。n−ブチルリチウムの1.6Mヘキサン溶液36
mlを40mlのジエチルエーテルに加えてから、その混合
物を−40℃に冷却した。攪拌されている混合物に、
9.2gの2−ブロムピリジンを15mlのジエチルエー
テルに溶かした溶液を20分間にわたって加え;この添
加中に温度を−40℃に保った。添加後、温度を−5℃
まで上昇させ、その温度に5分間保ち、ついで再び温度
を−40℃まで低下させた。15mlのジエチルエーテル
中に3.4gのメチルジグロルホスフィンが溶けている
溶液を、攪拌されている混合物に加えた。添加後、混合
物を室温まで温め、溶剤を真空中で除去し、そして50
mlの水と50mlのジクロルメタンを加えた。5分間激し
く攪拌した後、ジクロルメタン層を分離した。50mlず
つのジクロルメタンで水の層を2回抽出し、有機留分を
混ぜ合わせ、そして溶剤を真空中で除去した。残渣を蒸
留すると、帯黄色液体の形で4.0g(68%)のメチ
ル−ビス(2−ピリジル)ホスフィンが得られた。この
生成物は31P NMR:δp=−20.5ppm によって
特徴づけられた。
で遂行した。使用に先立って溶剤を乾燥し、そして蒸留
した。n−ブチルリチウムの1.6Mヘキサン溶液36
mlを40mlのジエチルエーテルに加えてから、その混合
物を−40℃に冷却した。攪拌されている混合物に、
9.2gの2−ブロムピリジンを15mlのジエチルエー
テルに溶かした溶液を20分間にわたって加え;この添
加中に温度を−40℃に保った。添加後、温度を−5℃
まで上昇させ、その温度に5分間保ち、ついで再び温度
を−40℃まで低下させた。15mlのジエチルエーテル
中に3.4gのメチルジグロルホスフィンが溶けている
溶液を、攪拌されている混合物に加えた。添加後、混合
物を室温まで温め、溶剤を真空中で除去し、そして50
mlの水と50mlのジクロルメタンを加えた。5分間激し
く攪拌した後、ジクロルメタン層を分離した。50mlず
つのジクロルメタンで水の層を2回抽出し、有機留分を
混ぜ合わせ、そして溶剤を真空中で除去した。残渣を蒸
留すると、帯黄色液体の形で4.0g(68%)のメチ
ル−ビス(2−ピリジル)ホスフィンが得られた。この
生成物は31P NMR:δp=−20.5ppm によって
特徴づけられた。
【0056】実施例1 磁気攪拌される250mlのステンレス鋼オートクレーブ
に、酢酸パラジウム(II)0.1ミリモル、ビスフェニ
ル(2−ピリジル)ホスフィン5ミリモル、パラトルエ
ンスルホン酸4ミリモル、ピリジン50ml(620ミリ
モル)およびトリエチルシラノール10ml(65ミリモ
ル)を装入した。ついでオートクレーブから空気を追い
出した後、一酸化炭素(30バール)およびエチレン
(20バール)を加えた。その後オートクレーブを密封
して110℃の温度まで加熱した。4.5時間反応させ
た後、オートクレーブの中身の試料を取り出して気液ク
ロマトグラフィーによって分析した。60%(シラノー
ルに基づいて)の選択率でプロピオン酸トリエチルシリ
ルが生成した。約40%(シラノールに基づいて)の選
択率でジ−トリエチルシリルエーテルも生成した。平均
転化速度はエテン200モル/Pdグラム原子/時と計
算された。
に、酢酸パラジウム(II)0.1ミリモル、ビスフェニ
ル(2−ピリジル)ホスフィン5ミリモル、パラトルエ
ンスルホン酸4ミリモル、ピリジン50ml(620ミリ
モル)およびトリエチルシラノール10ml(65ミリモ
ル)を装入した。ついでオートクレーブから空気を追い
出した後、一酸化炭素(30バール)およびエチレン
(20バール)を加えた。その後オートクレーブを密封
して110℃の温度まで加熱した。4.5時間反応させ
た後、オートクレーブの中身の試料を取り出して気液ク
ロマトグラフィーによって分析した。60%(シラノー
ルに基づいて)の選択率でプロピオン酸トリエチルシリ
ルが生成した。約40%(シラノールに基づいて)の選
択率でジ−トリエチルシリルエーテルも生成した。平均
転化速度はエテン200モル/Pdグラム原子/時と計
算された。
【0057】比較例A ビスフェニル(2−ピリジル)ホスフィンの代りにトリ
フェニルホスフィンを使用し、そして4.5時間後の代
りに5時間後にオートクレーブの中身の試料を取り出し
た点を除いて、実施例1の方法を繰り返した。プロピオ
ン酸トリエチルシリルは痕跡量しか検出されなかった。
フェニルホスフィンを使用し、そして4.5時間後の代
りに5時間後にオートクレーブの中身の試料を取り出し
た点を除いて、実施例1の方法を繰り返した。プロピオ
ン酸トリエチルシリルは痕跡量しか検出されなかった。
【0058】比較例B 50mlのピリジンの代りに50mlのプロピオン酸メチル
を使用し、そして110℃の代りに80℃まで加熱した
点を除いて、比較例Aの方法を繰り返した。90%を越
える選択率でジ(トリエチルシリル)エーテルが生成し
た。プロピオントリエチルシリルは痕跡量しか検出され
なかった。
を使用し、そして110℃の代りに80℃まで加熱した
点を除いて、比較例Aの方法を繰り返した。90%を越
える選択率でジ(トリエチルシリル)エーテルが生成し
た。プロピオントリエチルシリルは痕跡量しか検出され
なかった。
【0059】実施例2 磁気攪拌される250mlのステンレス鋼オートクレーブ
に、酢酸パラジウム(II)0.1ミリモル、ビスフェニ
ル(2−ピリジル)ホスフィン5ミリモル、パラトルエ
ンスルホン酸4ミリモル、ピリジン40ml(500ミリ
モル)、メタノール20mlおよびパラホルムアルデヒド
5gを装入した。ついでオートクレーブから空気を追い
出した後、一酸化炭素(30バール)およびエテン(2
0バール)を加えた。その後オートクレーブを密封して
110℃の温度まで加熱した。5時間反応させた後、オ
ートクレーブの中身の試料を取り出して気液クロマトグ
ラフィーによって分析した。2種の生成物、すなわち、
10%の選択率で生成したプロピオン酸メトキシメチ
ル、および90%の選択率で生成したプロピオン酸メチ
ルが確認された。平均反応速度はエテン200モル/P
dグラム原子/時であると算出された。
に、酢酸パラジウム(II)0.1ミリモル、ビスフェニ
ル(2−ピリジル)ホスフィン5ミリモル、パラトルエ
ンスルホン酸4ミリモル、ピリジン40ml(500ミリ
モル)、メタノール20mlおよびパラホルムアルデヒド
5gを装入した。ついでオートクレーブから空気を追い
出した後、一酸化炭素(30バール)およびエテン(2
0バール)を加えた。その後オートクレーブを密封して
110℃の温度まで加熱した。5時間反応させた後、オ
ートクレーブの中身の試料を取り出して気液クロマトグ
ラフィーによって分析した。2種の生成物、すなわち、
10%の選択率で生成したプロピオン酸メトキシメチ
ル、および90%の選択率で生成したプロピオン酸メチ
ルが確認された。平均反応速度はエテン200モル/P
dグラム原子/時であると算出された。
【0060】比較例C ビスフェニル(2−ピリジル)ホスフィンの代りにトリ
フェニルホスフィンを使用して実施例2の方法を繰り返
した。カルボニル化生成物は痕跡量しか観察されなかっ
た。
フェニルホスフィンを使用して実施例2の方法を繰り返
した。カルボニル化生成物は痕跡量しか観察されなかっ
た。
【0061】比較例D 実施例2の方法を繰り返したが、ピリジンを使用しない
で20mlのメタノールの代りに50mlのメタノールを使
用した。2時間の反応時間後にオートクレーブの中身の
試料を取り出した。プロピオン酸メトキシメチルは痕跡
量しか観察されなかった。95%を越える選択率でプロ
ピオン酸メチルが生成したことがわかった。平均反応速
度はエテン1000モル/Pdグラム原子/時であると
計算された。
で20mlのメタノールの代りに50mlのメタノールを使
用した。2時間の反応時間後にオートクレーブの中身の
試料を取り出した。プロピオン酸メトキシメチルは痕跡
量しか観察されなかった。95%を越える選択率でプロ
ピオン酸メチルが生成したことがわかった。平均反応速
度はエテン1000モル/Pdグラム原子/時であると
計算された。
【0062】実施例3 実施例2の方法を繰り返したが、40mlのピリジンの代
りに40ml(350ミリモル)の2,6−ジメチルピリ
ジンを使用し、110℃の代りに125℃に加熱し、そ
して5時間後の代りに4.5時間後にオートクレーブの
中身の試料を分析をした。プロピオン酸メトキシメチル
は35%の選択率で生成し、そしてプロピオン酸メチル
は60%の選択率で生成したことがわかった。平均反応
速度はエテン150モル/Pdグラム原子/時であると
計算された。
りに40ml(350ミリモル)の2,6−ジメチルピリ
ジンを使用し、110℃の代りに125℃に加熱し、そ
して5時間後の代りに4.5時間後にオートクレーブの
中身の試料を分析をした。プロピオン酸メトキシメチル
は35%の選択率で生成し、そしてプロピオン酸メチル
は60%の選択率で生成したことがわかった。平均反応
速度はエテン150モル/Pdグラム原子/時であると
計算された。
【0063】実施例4 実施例2の方法を繰り返したが、ピリジンの代りに40
ml(350ミリモル)の2,6−ジメチルピリジンを使
用し、20mlのメタノールの代りに10mlのメタノール
を使用し、そして110℃の代りに125℃に加熱し
た。プロピオン酸メトキシメチルは60%の選択率で生
成し、そしてプロピオン酸メチルは30%の選択率で生
成したことがわかった。平均反応速度はエテン100モ
ル/Pdグラム原子/時であると計算された。
ml(350ミリモル)の2,6−ジメチルピリジンを使
用し、20mlのメタノールの代りに10mlのメタノール
を使用し、そして110℃の代りに125℃に加熱し
た。プロピオン酸メトキシメチルは60%の選択率で生
成し、そしてプロピオン酸メチルは30%の選択率で生
成したことがわかった。平均反応速度はエテン100モ
ル/Pdグラム原子/時であると計算された。
【0064】実施例5 磁気攪拌される250mlのステンレス鋼オートクレーブ
に、酢酸パラジウム(II)0.1ミリモル、ビスフェニ
ル(2−ピリジル)ホスフィン2ミリモル、パラトルエ
ンスルホン酸10ミリモル、ピリジン40ml(500ミ
リモル)およびメタノール10mlを装入した。ついでオ
ートクレーブ排気した後、20バールのエテンおよび3
0バールの一酸化炭素を加えた。その後オートクレーブ
を密封して110℃の温度に加熱した。5時間反応させ
た後、オートクレーブの中身の試料を取り出して気液ク
ロマトグラフィーによって分析した。プロピオン酸メチ
ルが生成したことがわかった。平均反応速度はエテン3
00モル/Pdグラム原子/時であると計算された。パ
ラトルエンスルホン酸メチルトリフェニルホスホニウム
は検出されず、これは反応の進行中に触媒が安定な状態
に維持されていたことを示している。
に、酢酸パラジウム(II)0.1ミリモル、ビスフェニ
ル(2−ピリジル)ホスフィン2ミリモル、パラトルエ
ンスルホン酸10ミリモル、ピリジン40ml(500ミ
リモル)およびメタノール10mlを装入した。ついでオ
ートクレーブ排気した後、20バールのエテンおよび3
0バールの一酸化炭素を加えた。その後オートクレーブ
を密封して110℃の温度に加熱した。5時間反応させ
た後、オートクレーブの中身の試料を取り出して気液ク
ロマトグラフィーによって分析した。プロピオン酸メチ
ルが生成したことがわかった。平均反応速度はエテン3
00モル/Pdグラム原子/時であると計算された。パ
ラトルエンスルホン酸メチルトリフェニルホスホニウム
は検出されず、これは反応の進行中に触媒が安定な状態
に維持されていたことを示している。
【0065】比較例E 実施例5の方法を繰り返したが、ビスフェニル(2−ピ
リジル)ホスフィンの代りにトリフェニルホスフィンを
使用した。プロピオン酸メチルが検出されたが、平均反
応速度はエテン10モル/Pdグラム原子/時であると
計算された。
リジル)ホスフィンの代りにトリフェニルホスフィンを
使用した。プロピオン酸メチルが検出されたが、平均反
応速度はエテン10モル/Pdグラム原子/時であると
計算された。
【0066】比較例F ビスフェニル(2−ピリジル)ホスフィンの代りにトリ
ス(p−クロルフェニル)ホスフィンを使用し、4ミリ
モルのパラトルエンスルホン酸を使用し、130℃まで
加熱し、そして4時間後にオートクレーブから試料を取
り出した点を除き、実施例5の方法を繰り返した。プロ
ピオン酸メチルが検出された。平均反応速度はエテン1
0モル/Pdグラム原子/時未満であると計算された。
ス(p−クロルフェニル)ホスフィンを使用し、4ミリ
モルのパラトルエンスルホン酸を使用し、130℃まで
加熱し、そして4時間後にオートクレーブから試料を取
り出した点を除き、実施例5の方法を繰り返した。プロ
ピオン酸メチルが検出された。平均反応速度はエテン1
0モル/Pdグラム原子/時未満であると計算された。
【0067】実施例6 実施例5の方法を繰り返したが、40mlのピリジンの代
りに40ml(320ミリモル)のN,N−ジメチルアニ
リンを使用し、110℃の代りに100℃に加熱し、そ
して5時間後の代りに1.5時間後にオートクレーブか
ら試料を取り出した。プロピオン酸メチルが生成した。
平均反応速度はエテン700モル/Pdグラム原子/時
であると計算された。
りに40ml(320ミリモル)のN,N−ジメチルアニ
リンを使用し、110℃の代りに100℃に加熱し、そ
して5時間後の代りに1.5時間後にオートクレーブか
ら試料を取り出した。プロピオン酸メチルが生成した。
平均反応速度はエテン700モル/Pdグラム原子/時
であると計算された。
【0068】実施例7 実施例5の方法を繰り返したが、20mlのメタノールの
代りに20ml(270ミリモル)のプロピオン酸を使用
し、そして110℃の代りに90℃に加熱した。無水プ
ロピオン酸が生成した。平均反応速度はエテン250モ
ル/Pdグラム原子/時であると計算された。
代りに20ml(270ミリモル)のプロピオン酸を使用
し、そして110℃の代りに90℃に加熱した。無水プ
ロピオン酸が生成した。平均反応速度はエテン250モ
ル/Pdグラム原子/時であると計算された。
【0069】実施例8 実施例5の方法を繰り返したが、ビスフェニル(2−ピ
リジル)ホスフィン5ミリモル、パラトルエンスルホン
酸4ミリモル、メタノール30mlを使用し、そして5時
間の代りに3時間加熱した。プロピオン酸メチルが生成
した。平均転化速度はエテン800モル/Pdグラム原
子/時であると計算された。
リジル)ホスフィン5ミリモル、パラトルエンスルホン
酸4ミリモル、メタノール30mlを使用し、そして5時
間の代りに3時間加熱した。プロピオン酸メチルが生成
した。平均転化速度はエテン800モル/Pdグラム原
子/時であると計算された。
【0070】実施例9 実施例5の方法を繰り返したが、ビスフェニル(2−ピ
リジル)ホスフィン5ミリモル、トリフルオルメタンス
ルホン酸4ミリモルを使用し、そして3時間後にオート
クレーブの中身の試料を取り出した。プロピオン酸メチ
ルが生成した。平均反応速度はエテン1000モル/P
dグラム原子/時であると計算された。
リジル)ホスフィン5ミリモル、トリフルオルメタンス
ルホン酸4ミリモルを使用し、そして3時間後にオート
クレーブの中身の試料を取り出した。プロピオン酸メチ
ルが生成した。平均反応速度はエテン1000モル/P
dグラム原子/時であると計算された。
【0071】実施例10 実施例5の方法を繰り返したが、ビスフェニル(2−ピ
リジル)ホスフィン5ミリモル、パラトルエンスルホン
酸4ミリモル、20mlの代りに50mlのメタノール、お
よび40mlのピリジンの代りに10g(95ミリモル)
のポリ−4−ビニル−ピリジン(架橋している)を使用
した。平均反応速度はエテン400モル/Pdグラム原
子/時であると計算された。
リジル)ホスフィン5ミリモル、パラトルエンスルホン
酸4ミリモル、20mlの代りに50mlのメタノール、お
よび40mlのピリジンの代りに10g(95ミリモル)
のポリ−4−ビニル−ピリジン(架橋している)を使用
した。平均反応速度はエテン400モル/Pdグラム原
子/時であると計算された。
【0072】実施例11 磁気攪拌される300mlのステンレス鋼オートクレーブ
に、酢酸パラジウム(II)0.025ミリモル、ビスフ
ェニル(6−メチル−2−ピリジル)ホスフィン1ミリ
モル、2−メチル−2−プロピルスルホン酸2ミリモ
ル、溶剤としてメタクリル酸メチル30ml、メタノール
30mlおよびジメチルアニリン10ミリモルを連続して
装入した。ついでオートクレーブから空気を追い出した
後、0.4%のアレンを含むプロピンを30ml加えた。
つぎに一酸化炭素を加えて60バールの圧力にした。そ
の後オートクレーブを密封して60℃の温度に加熱し
た。60℃において0.1時間反応させた後、オートク
レーブの中身の試料を気液クロマトグラフィーによって
分析した。分析結果から、メタクリル酸メチルへの選択
率は99.94%であり、そして平均転化速度はプロピ
ン90,000モル/Pdグラム原子/時であることが
算出された。実施例12ないし18および比較例G実施
例11と異なる第三アミンを使用し、そしてプロピン中
の異なるアレン量を用いて実施例11の方法を繰り返し
た。これらの結果は表1にまとめて示される。これらの
結果は、触媒に対するアレンの阻害作用が、第三アミン
を使用することによって中和できることを示している。
に、酢酸パラジウム(II)0.025ミリモル、ビスフ
ェニル(6−メチル−2−ピリジル)ホスフィン1ミリ
モル、2−メチル−2−プロピルスルホン酸2ミリモ
ル、溶剤としてメタクリル酸メチル30ml、メタノール
30mlおよびジメチルアニリン10ミリモルを連続して
装入した。ついでオートクレーブから空気を追い出した
後、0.4%のアレンを含むプロピンを30ml加えた。
つぎに一酸化炭素を加えて60バールの圧力にした。そ
の後オートクレーブを密封して60℃の温度に加熱し
た。60℃において0.1時間反応させた後、オートク
レーブの中身の試料を気液クロマトグラフィーによって
分析した。分析結果から、メタクリル酸メチルへの選択
率は99.94%であり、そして平均転化速度はプロピ
ン90,000モル/Pdグラム原子/時であることが
算出された。実施例12ないし18および比較例G実施
例11と異なる第三アミンを使用し、そしてプロピン中
の異なるアレン量を用いて実施例11の方法を繰り返し
た。これらの結果は表1にまとめて示される。これらの
結果は、触媒に対するアレンの阻害作用が、第三アミン
を使用することによって中和できることを示している。
【0073】
【表1】
【0074】
【表2】
【0075】
【表3】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B01J 21/00 - 37/36
Claims (3)
- 【請求項1】 a)第III族金属源; b)イミノ窒素原子含有芳香族置換基を有するホスフィ
ン; c)プロトン源;および d)第三アミン; を含む、アセチレン状不飽和化合物またはオレフィン状
不飽和化合物のカルボニル化用触媒系。 - 【請求項2】 第三アミンがピリジンまたはN,N−ジ
アルキルアニリンである請求項1の触媒系。 - 【請求項3】 請求項1または2に定義される触媒系の
存在下で、アセチレン状不飽和化合物またはオレフィン
状不飽和化合物を反応させることからなる、アセチレン
状不飽和化合物またはオレフィン状不飽和化合物のカル
ボニル化方法。
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| WO2001028972A1 (en) * | 1999-10-22 | 2001-04-26 | Shell Internationale Research Maatschappij B.V. | Process for the carbonylation of an acetylenically unsaturated compound |
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| ATE77383T1 (de) * | 1985-10-18 | 1992-07-15 | Hoffmann La Roche | Chirale rhodium-diphosphinkomplexe fuer asymmetrische hydrierungen. |
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| GB8705699D0 (en) * | 1987-03-11 | 1987-04-15 | Shell Int Research | Carbonylation of olefinically unsaturated compounds |
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- 1991-02-04 US US07/650,352 patent/US5124300A/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-02-05 ES ES91200236T patent/ES2054428T3/es not_active Expired - Lifetime
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- 1991-02-05 EP EP91200236A patent/EP0441446B1/en not_active Expired - Lifetime
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- 1991-02-05 JP JP03524891A patent/JP3204514B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |