JP3209078B2 - レーザ加工装置 - Google Patents

レーザ加工装置

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JP3209078B2
JP3209078B2 JP06104396A JP6104396A JP3209078B2 JP 3209078 B2 JP3209078 B2 JP 3209078B2 JP 06104396 A JP06104396 A JP 06104396A JP 6104396 A JP6104396 A JP 6104396A JP 3209078 B2 JP3209078 B2 JP 3209078B2
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laser
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laser beam
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悌史 高橋
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0011Working of insulating substrates or insulating layers
    • H05K3/0017Etching of the substrate by chemical or physical means

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  • Laser Beam Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は高速高精度にレーザ
穴あけ加工、レーザ切断加工、マーキング等を行うレー
ザ加工装置に関する。
【0002】
【従来の技術】プリント配線板のような薄板の穴あけ、
切断加工を行うレーザ加工機では、高速高精度にレーザ
光を走査し加工を行う必要がある。高速高精度にレーザ
光を走査するためにはガルバノメータビームスキャナを
用いてレーザ光を走査する方法が一般的である。このよ
うなレーザ加工装置は、ビームスキャナによりレーザ光
を走査する高速なレーザ光走査系と、被加工物の設置台
を移動させるXYテーブル制御系の2つ位置制御系を併
用する場合が多い。レーザ光走査制御系は、ミラーを用
いてレーザ光を走査するので高速にレーザ光を走査をで
きるが、ビームスキャナやレーザ光を集光、光路修正に
用いるレンズ特性のため非線形なビーム位置決め誤差が
発生する。また、ビームスキャナやレンズの取り付け誤
差でもレーザ光の位置決め誤差が発生する。また、被加
工物は前記テーブル制御系上に設置され、レーザ加工さ
れるので、前記のレーザ光の位置決め誤差以外に被加工
物の取り付け誤差により、加工誤差を発生する。従来、
このようなレーザ加工装置では、校正用被加工物にレー
ザ加工を行い、テレビカメラ等を用いた外部計測系によ
り前記レーザ加工位置を計測し、レーザ光の位置決め誤
差を補正する特開平3ー35892号公報に記載された
レーザ加工装置のようなものがある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来のレーザ加工装置
は、レーザ光走査系によるレーザ光の位置決め誤差を補
正することは可能であるが、XYテーブル上に設置され
る被加工物の取り付け誤差によって発生するレーザ光の
位置決め誤差を補正する機能がない。そのため、従来の
レーザ加工装置は、被加工物をXYテーブル上に正確を
位置合わせして取り付ける必要があり、被加工物を高精
度に固定できる治具を用いなければならずコスト高とな
る。また、前記のような治具を用いても、治具の熱変形
や被加工物の変形により、取り付け誤差が発生し、高精
度なレーザ加工ができないという問題点があった。
【0004】本発明は、上述のような課題を解決するた
めになされたもので、複雑な操作を必要とせず、高精度
なレーザ加工ができるレーザ加工装置を提供することを
目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明に係るレーザ加工
装置においては、レーザ光を前記被加工物に照射するレ
ーザ発振部と、前記レーザ発振部で照射されるレーザ光
の軌道を変化させてレーザ光の照射位置を走査するレー
ザ光走査部と、前記レーザ光走査部の位置指令を生成す
るレーザ光位置指令部と、前記位置指令を入力し、被加
工物の位置誤差を補正する第1の補正位置指令を出力す
る第1の被加工物補正部と、前記第1の補正位置指令を
入力し、レーザ光走査部の位置誤差を補正する第2の補
正位置指令を出力するレーザ光走査補正部と、前記第2
の補正位置指令を前記レーザ光走査部に入力してレーザ
光の照射位置を走査するものである。
【0006】また、レーザ発振部から照射されるレーザ
光の被加工物への照射位置を被加工物の位置を変化させ
て制御する被加工物位置制御部と、前記被加工物位置制
御部の位置指令を生成する被加工物位置指令部と、前記
被加工物位置指令部からの位置指令を入力し、前記被加
工物の位置誤差を補正する第3の補正位置指令を出力す
る第2の被加工物補正部と、前記第3の補正位置指令を
前記被加工物位置制御部に入力して被加工物への照射位
置を制御するものである。
【0007】また、被加工物の特徴位置を計測して出力
する特徴位置計測部を備え、前記特徴位置計測部の出力
を前記第1の被加工物補正部に入力して前記第1の補正
位置指令を出力するものである。
【0008】また、被加工物の特徴位置を計測して出力
する特徴位置計測部を備え、前記特徴位置計測部の出力
を前記第2の被加工物補正部に入力して前記第3の補正
位置指令を出力するものである。
【0009】また、この発明に係るレーザ加工装置は、
レーザ光走査部の走査が静止したことを判断するレーザ
光走査静止判断部を備え、前記レーザ光走査静止判断部
の出力に基づいて前記レーザ発振部にレーザ発振指令を
制御するものである。
【0010】また、レーザ光走査静止判断部は、前記レ
ーザ光走査部の移動距離情報と、前記レーザ光走査部の
移動距離と静止時間との関係を示したデータと、前記静
止時間を計測するタイマを用いて判断結果を出力するも
のである。
【0011】また、レーザ発振部がレーザ光を照射し終
わったことを判断するレーザ光発振終了判断部を備え、
前記レーザ光発振終了判断部の出力に基づいて前記レー
ザ光位置指令部の位置指令を制御するものである。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明をその発明の実施の
形態を示す図面に基づいて具体的に説明する。 実施の形態1. 図1は本発明の実施の形態1に係るレーザ加工装置を示
すブロック図である。図において、1は本レーザ加工装
置のレーザ機械制御部、2はガルバノビームスキャナ
(以下、スキャナと略す)やミラー、レンズ等から構成
されるレーザ光を走査するレーザ光走査部、3はレーザ
発振器部、4はテレビカメラ等を用いて被加工物の特徴
点の位置を計測する特徴位置計測部、5は被加工物を設
置し位置決め制御するXYテーブル等からなる被加工物
位置制御部、10は本レーザ加工装置を統括して制御す
るシステム制御部、11はプログラムを解読してプログ
ラムに従って処理を行い指令値を出力するメイン制御
部、12はメイン制御部11からレーザ光走査部2の位
置指令を入力記憶し、処理周期に応じて位置指令を出力
するレーザ光位置指令部、13は前記レーザ光位置指令
部から前記位置指令を入力し、被加工物の取り付け誤差
を補正する第1の補正位置指令を出力する第1の被加工
物補正部、14は前記第1の補正位置指令を入力し、レ
ーザ光走査部の取り付け誤差や光学特性による非線形特
性を補正する第2の補正位置指令を出力するレーザ光走
査補正部である。前記第2の補正位置指令はレーザ走査
部2に入力される。15はメイン処理部からのレーザ発
振部3の制御指令を入力記憶し、レーザ発振部3にレー
ザ発振のトリガ信号を出力するレーザ発振指令部であ
る。16は特徴位置計測部4から計測データを入力し処
理する計測処理部である。前記計測情報はメイン処理部
11に出力される。17は被加工物位置指令部であり、
メイン制御部11から被加工物位置制御部5の位置指令
を入力記憶し、処理周期に応じて位置指令を出力する。
18は前記位置指令を入力し前記被加工物の取り付け誤
差を補正する第3の補正位置指令を出力する第2の被加
工物補正部である。前記第3の補正位置指令は、被加工
物位置補正部5に入力される。上記システム制御部10
は、1つあるいは複数のCPU(中央処理装置)、メモ
リ、入出力インターフェイス等で構成されるコンピュー
タシステムから成る。
【0013】図2は本発明の実施の形態1に係るレーザ
機械制御部を示す図である。図において、20はXYテ
ーブル、21はXYテーブル20のX軸を駆動するモー
タ、22はX軸のテーブルの位置を計測するエンコー
ダ、23はY軸テーブルを駆動するモータ、24はY軸
のテーブル位置を計測するエンコーダ、25は被加工
物、26は被加工物25を設置するXYテーブル面、2
7はレーザ加工痕、28は被加工物25の位置合わせに
用いる基準点である。前記基準点28は通常、被加工物
25を作成するときに被加工物25上に取り付けられて
いる。29はXYテーブル20の位置制御を行うテーブ
ル制御装置であり、位置制御演算を行いモータ21、2
3を駆動する。テーブル制御装置29は前記第2の被加
工物補正部の前記第3の補正位置指令を入力し、前記位
置制御演算を行う。30はレーザ光、31はレーザ発振
器、32はレーザ発振器を制御する発振器制御部であ
る。前記発振器制御部は前記レーザ発振指令部16から
発振指令を入力し指令に応じてレーザ光30を照射する
ように働く。33はレーザ光30を反射するベンドミラ
ー、34はX軸方向にレーザ光を走査するガルバノメー
タビームスキャナ(スキャナと略す)、35はX軸のミ
ラー、36はY軸方向にレーザ光を走査するスキャナ、
37はY軸のミラー、38はレーザ光を集光、光路補正
を行うレンズ、39はスキャナ34、36の位置制御を
行うスキャナ制御装置である。前記スキャナ制御装置3
8は前記レーザ光走査補正部14の第2の補正位置指令
を入力し、レーザ光の走査、位置決め動作を行う。40
はテレビカメラ、41はテレビカメラ40で計測した画
像情報をパターンマッチング等の方法を用いて処理し、
画像中に含まれる特徴形状の2次元座標値を出力する画
像処理装置であり、ここでは被加工物25上の前記レー
ザ加工痕27や前記基準点28の2次元座標を出力す
る。前記画像処理装置41の出力は前記計測情報処理部
16へ出力される。43はレーザ光30の稼働範囲であ
るレーザ走査領域である。レーザ光走査部2は、スキャ
ナ34、36、ミラー35、37、レンズ38、ベンド
ミラー33、スキャナ制御装置39の構成からなる。レ
ーザ発振部3はレーザ発振器31および発振器制御部3
2の構成からなる。特徴位置計測部4はテレビカメラ1
8および画像処理装置19の構成からなる。また、被加
工物位置制御部5はXYテーブル20、モータ21、2
3、エンコーダ22、24、XYテーブル面26、テー
ブル制御装置29の構成からなる。
【0014】次に本実施の形態1に係るレーザ加工装置
のレーザ光走査補正部の動作について説明する。レーザ
光走査部2は、スキャナ34、36の回転角を制御しX
Yテーブル面26上にレーザ光30を走査、位置決めす
るように働くが、通常、スキャナ、ミラー、レンズ等の
光学要素の取り付け誤差や非線形特性のために光学的誤
差が発生し(以下、レーザ光走査誤差と称す)、レーザ
光30の照射位置誤差が発生する。このレーザ光走査誤
差を補正するために、前記レーザ光走査補正部14は第
2の補正位置指令を出力し、前記光学要素誤差を除去す
る。レーザ光走査補正部14の補正動作は、レーザ光走
査部2に入力される位置指令Xsc、Yscと、前記位置指令
でレーザ光30を照射したときの被加工物25上のレー
ザ加工痕27の位置Xw、Ywの対応関係から補正量を求め
る。前記Xsc、YscとXw、Ywの対応関係は、対応データ表
や座標変換式で表現され、これらによって補正量を計算
して行う。なお、前記加工痕27の位置は前記特徴位置
計測部4で計測される。
【0015】次に、第1および第2の被加工物補正部1
3、18の補正動作について説明する。レーザ光走査部
2が指令通りにレーザ光30を制御し、XYテーブル面
26上に正確に照射されたとしても、被加工物25がX
Yテーブル面26の設置位置に正確に取り付けられてい
なければ加工誤差を発生する。そこで、第1の被加工物
補正部13は、被加工物25の取り付け誤差を補正する
ため、レーザ光位置指令部12から入力した位置指令を
前記被加工物25の取り付け誤差に応じて座標変換して
補正する。前記座標変換するためには被加工物25にあ
らかじめ設置されている複数の基準点28の位置を特徴
位置計測部4で計測する。前記基準点28の計測した位
置をXm、Ymとし、被加工物25がXYテーブル面26に
正確に取り付けられた場合の前記基準点28の位置をX
b、Ybとすると、以下の座標変換式を用いてこれらの関
係をあらわすことができる。 Xm=Pw1・Xb + Pw2・Yb + Pw3 (1) Ym=Pw4・Xb + Pw5・Yb + Pw6 (2) ただし、Pw1、Pw2、Pw3、Pw4、Pw5、Pw6はパラメータで
ある。前記パラメータは基準点28を被加工物25上に
3点以上設け、特徴点位置計測部4によって計測するこ
とで求められる。そこで、第1の被加工物補正部13の
座標変換は、式1、2を用いて以下の計算を行う。レー
ザ光位置指令部12から入力される位置指令をXsr、Ys
r、出力をXsr1、Ysr1とすると、 Xsr1 = Pw1・Xsr + Pw2・Ysr + Pw3 (3) Ysr1 = Pw4・Xsr + Pw5・Ysr + Pw6 (4) となる。
【0016】また、第2の被加工物補正部18は、同様
に前記被加工物25の取り付け誤差を補正するため被加
工物位置指令部17から出力される位置指令を座標変換
して第3の補正位置指令を作成する。第2の被加工物補
正部18の補正計算式は、被加工物位置指令部17から
出力される位置指令をX tr、Y trとし、座標変換した第
3の補正位置指令をX tr1、Y tr1とすると以下の計算が
行われる。 Xtr1 = Pw1・Xtr + Pw2・Ytr + Pw3 (5) Ytr1 = Pw4・Xtr + Pw5・Ytr + Pw6 (6)
【0017】以下に前記第1および第2の被加工物補正
部13、18を同時に作動させる場合の補正について説
明する。今、被加工物位置制御部5とレーザ光走査部2
の特質を比較すると、被加工物位置制御部5はストロー
クが長く、レーザ光走査部2はストロークが短いが高速
にレーザ光を制御できるという特徴がある。そこでスト
ロークの長い被加工物位置制御部5にオフセット分も含
んだ座標変換式を用いるとレーザ光走査部のオフセット
は0になり、有利な加工ができる。前記第2の被加工物
補正部の座標変換式は、式7、8で表させ、 Xtr1 = Pw1・Xtr + Pw2・Ytr + Pw3 (7) Ytr1 = Pw4・Xtr + Pw5・Ytr + Pw6 (8) となるが、前記第2の被加工物補正部の座標変換式は式
3、4、5、6より、 Xsr1 = Pw1(Xsr −Xtr)+ Pw2(Ysr −Ytr) (9) Ysr1 = Pw4(Xsr −Xtr)+ Pw5(Ysr −Ytr) (10) となる。なお、式7、8、9、10のパラメータPw1、P
w2、Pw3、Pw4、Pw5、Pw6は図2の被加工物25上の基準
点28を3点以上持っており、前記基準点28を前記特
徴位置計測部4で位置計測することで求めることができ
る。なお、式1〜10の座標変換式は、6個のパラメー
タPw1、Pw2、Pw3、Pw4、Pw5、Pw6を用いる方法である
が、被加工物の取り付け誤差が、オフセットと回転ずれ
の場合はPw4=-Pw2、Pw5=Pw1となり、被加工物25の基
準点は2点以上必要となる。
【0018】図1のシステム制御部10の動作を図3に
従って説明する。図3は本発明の実施の形態1に係るシ
ステム制御部の動作を示すフローチャートである。ステ
ップS1では特徴位置計測部4の計測情報と被加工物位
置制御部5の位置情報を入力して前記基準点28の位置
を計算する。ステップS2では前記基準点28の位置計
測値から第1の被加工物補正部13と、第2の被加工物
補正部18の前記パラメータを計算する。ステップS3
では、加工プログラムを読み出し、レーザ光走査部2の
位置指令と被加工物位置制御部5の位置指令を求める。
ステップS4では、前記位置指令に基づき第1および第
2の被加工物補正部13、18の補正演算を行い、前記
第1の補正位置指令と第3の補正位置指令を計算する。
ステップS5では、前記第1の補正位置指令をレーザ光
走査補正部の補正演算を行い、前記第2の補正位置指令
を計算する。ステップS6では、前記第2の補正位置指
令をレーザ光走査部2に出力し、前記第3の補正位置指
令は被加工物位置制御部5に出力される。ステップS7
では、レーザ発振指令をレーザ発振器部にレーザ発振ト
リガ信号として出力し、被加工物25の指令位置を加工
する。以上のように第1と第2の被加工物補正部13、
18とレーザ光走査補正部14があるので、被加工物に
取り付け誤差があっても良好なレーザ加工が実現でき
る。
【0019】実施の形態2. 図4は本発明の実施の形態2に係るシステム制御部のブ
ロック図である。図において、1〜18は実施の形態1
を示す図1の構成と同じである。60は本レーザ加工装
置を統括して制御するシステム制御部、61はプログラ
ムを解読し、プログラムに従って処理を行い指令値を出
力するメイン制御部、62は特徴位置計測部4から得ら
れる計測情報を補正する計測誤差補正部である。システ
ム制御部60が図1のシステム制御部10と異なるの
は、計測誤差補正部62を備える点とメイン制御部61
の処理内容が図1メイン制御部11の処理内容と一部異
なる点である。メイン制御部61が前記メイン制御部1
1と異なる点は計測誤差補正部62に入力する補正デー
タを作成する処理を行っている点が異なる。図5は本発
明の実施の形態2に係るテレビカメラに取付け誤差があ
る場合を示す図であり、詳しくは、特徴位置計測部4に
用いられる図2のテレビカメラ40に取り付け誤差があ
る場合を示している。図において、70はテレビカメラ
40が正確に取り付けられている場合の特徴位置計測部
4の計測領域、71はテレビカメラ40に取り付け誤差
がある場合の計測領域である。図6は本発明の実施の形
態2に係るシステム制御部の計測誤差補正部の計測補正
用パラメータを求める動作を示すフローチャートであ
る。
【0020】次に、動作について説明する。図5のよう
に、計測領域が70である場合が、テレビカメラ40が
正確に取り付けられている場合とすると、テレビカメラ
40に取り付け誤差があると計測領域が71となり、特
徴位置計測部4は計測誤差を発生する。この計測誤差を
補正するには、計測領域71から70への座標変換を行
えばよい。たとえば、テレビカメラ40が正確に取り付
けられている場合の特徴位置計測部4の出力がXv1、Yv1
とし、テレビカメラ40に取り付け誤差がある場合の特
徴位置計測部4の出力をXv、Yvとすると、例えば、以下
のような座標変換式で関係づけられる。 Xv1=Pv1・Xv + Pv1・Yv + Pv3 (11) Yv1=Pv4・Xv + Pv5・Yv + Pv6 (12) ここで、Pv1、Pv2、Pv3、Pv4、Pv5、Pv6は計測補正用の
パラメータである。計測誤差補正部では式11、12の
計算が行われ、特徴位置計測部4の計測情報が補正され
る。前記計測誤差補正用パラメータは特徴位置計測部4
を用いてXYテーブル座標上の既知の位置を3点以上計
測させることで求められる。本実施の形態2では、前記
既知の位置はXYテーブル上に設置されている被加工物
25上に作成する校正用レーザ加工痕を用いる。
【0021】前記計測補正用パラメータを求める動作に
ついて、図6に従って説明する。S10では、レーザ光
30がレーザ光走査領域42の中心位置に照射されるよ
うに図2のレーザ光走査部2のスキャナ12、14の位
置決めを行い、被加工物25上にレーザ光30を照射し
前記校正用加工痕を作成する。前記中心位置を用いるの
は、レンズ38のレンズ歪みの影響がもっとも小さくレ
ーザ加工痕の形状も点形状に最も近くなり特徴位置計測
部4の計測精度が高くなるからである。S11では、被
加工物位置制御部5を移動させ、前記校正用レーザ加工
痕をテレビカメラ40の視野内に移動し、前記視野内で
異なる3点の位置を特徴位置計測部4で計測する。S1
2では、特徴位置計測部4の前記視野内の3点の位置計
測情報と、テレビカメラが正しく取り付けられていた場
合の前記3点の位置情報から計測誤差補正部62で用い
る計測誤差補正用パラメータを計算し、計測誤差補正部
62の補正計算に用いる。上述のように、レーザ加工痕
を用いて特徴位置計測部の取り付け誤差の校正を行うの
で、新たに校正用のマークを作成したりする手間が省
け、高精度な計測が可能となり、ひいてはレーザ加工の
高精度化が実現できる。
【0022】なお、レーザ光走査領域42の中心位置に
複数個の校正用レーザ加工痕を作成するとさらに高速に
計測誤差補正部62の前記計測補正用のパラメータが求
められることはいうまでもない。
【0023】実施の形態3. 図7は本発明のの実施の形態3に係るレーザ光走査部の
レーザ加工装置を説明するための図である。図におい
て、1〜18は実施の形態1を示す図1の構成と同じで
ある。80は本レーザ加工装置を統括して制御するシス
テム制御部、81はプログラムを解読し、プログラムに
従って処理を行い指令値を出力するメイン制御部、82
はレーザ光走査部2の移動距離と静止時間の関係が記述
されているデータ表、83はレーザ光走査部2が静止し
たかどうかを判断するレーザ光走査静止判断部、84は
レーザ光走査静止判断部83のタイマ、85はレーザ発
振部3のレーザ光の発振が終了したかどうかを判断する
レーザ発振終了判断部、86は前記レーザ発振終了判断
部85のタイマである。システム制御部80は、図1の
システム制御部10と異なるところは、前記82〜85
の処理部と、図1のメイン制御部11がメイン制御部8
1に変更されている点である。メイン制御部81は図1
のメイン制御部の処理内容に加えて、レーザ光走査静止
判断部83、レーザ発振終了判断部85の判断結果を用
いて位置指令の出力、レーザ発振指令の出力を行う。図
8は本発明の実施の形態3に係るレーザ光走査部の位置
指令に対する時間応答の様子を示す図である。図8
(a)は移動距離が短いD1の場合であり、このときの静
止時間はTs1 である。図8(b)は移動距離が長いD2の
場合であり、このときの静止時間はTs2 である。図9は
本発明の実施の形態3に係るデータを説明するための図
であり、各移動距離に対する静止時間をあらかじめ測定
しておく。なお、このデータはレーザ光走査部2の移動
速度をスキャナ34、36の最高速度で移動した場合の
静止時間で計測する。図10は本発明の実施の形態3に
係るレーザ出力の時間応答を示す図であり、レーザ発振
部3にレーザ発振指令が入力されたときを示している。
なお、レーザ光発振時間はTbである。図11は本発明の
実施の形態3に係るレーザ加工装置の動作を表すフロー
チャートである。
【0024】次に動作について説明する。プリント配線
板等の穴あけ加工を行う場合、多数のランダムに並んだ
穴位置にレーザ光走査部2を位置決めしてレーザ加工を
行う。このようなレーザ加工ではレーザ光走査部2が静
止している状態でレーザ加工を行わないとレーザ光が指
令位置に照射される加工精度が劣化するという問題が生
じる。また、レーザ発振部3がレーザ光を照射している
状態で、レーザ光走査部2を移動させると、同様にレー
ザ加工精度が悪くなる。そこで、本実施の形態3のレー
ザ加工装置では高精度な加工を実現するために、図7の
ようにレーザ光走査静止判断部83とレーザ光発振終了
判断部85を用いる構成をとる。図8のレーザ光走査部
2の静止時間はレーザ光走査部2が指令位置に達する時
間と目標位置に達してからの振動の整定時間の和とな
る。前記レーザ光走査静止判断部83は、指令位置の移
動距離により前記静止時間を推定する。前記移動距離と
静止時間の関係はあらかじめ計測して図9のごとくデー
タ表を持っているので前記推定はテーブルルックアップ
方式で簡単に求められる。また、レーザ光走査静止判断
部83はタイマ84をもっているので、前記レーザ走査
部の静止したか否かを判断することができる。判断結果
は、メイン処理部81に出力する。また、前記レーザ光
発振終了判断部85は、発振図10のレーザ発振時間も
通常レーザ加工条件で変化するので、加工条件(レーザ
ピーク出力とレーザパルス幅等)ごとに前記レーザ発振
時間も計測してデータ表として持つ。ただ、本実施の形
態3ではレーザ発振部の加工条件を変化させないので前
記レーザ発振時間はTb1つの値を持つ。
【0025】図11のフローチャートを用いて複数の穴
加工を行う場合の本レーザ加工装置の動作について説明
する。ステップS1、ステップS2は実施の形態1の図
3と同じ処理を行う。ステップS20は加工プログラム
より被加工物位置制御部17の位置指令を読み込み、被
加工物位置指令部17に格納する、ステップS21は第
2の被加工物補正部18の補正計算を行う。ステップS
22では第3の補正位置指令を被加工物位置制御部5に
出力し、被加工物位置制御部の位置決め動作を行う。ス
テップS23では加工プログラムからレーザ光走査部2
の位置指令を読みだし、レーザ光位置指令部12に格納
する。ステップS24では前記位置指令から前記時間を
求める処理を行う。レーザ光走査静止判断部では、レー
ザ光走査静止時間を求めるために以下の処理を行う。前
記位置指令をXc、Ycとし、前回にレーザ光位置指令部1
2に格納された位置指令をXcd、Ycdとすると、以下の計
算により移動距離Dcを求める。 Dx= |Xc - Xcd| (13) Dy= |Yc - Ycd| (14) 求める移動距離Dcは、前記Dx、Dyの値の大きい方を選
ぶ。
【0026】次に、前記Dc とデータ表82を用いて直
線補間式によりレーザ光走査静止時間を求める。例え
ば、前記Dc が図9のデータ表で、D1 <Dc<D2 の範
囲ならば、求めるレーザ光走査静止時間Ts は下式で求
められる。 Ts = Dc・ (Ts2 - Ts1 ) / (D2 - D1 ) (15) ステップS25ではレーザ位置指令部17の位置指令か
ら第1の被加工物補正部18の補正計算を行い、第1の
補正位置指令を求める。また、前記第1の補正位置指令
からレーザ光走査補正部14の補正計算を行い、第2の
補正位置指令を求める。ステップS26では前記第2の
補正位置指令をレーザ光走査部2に出力する。ここでレ
ーザ光走査部2は第2の補正位置指令に従って位置制御
が開始される。ステップS27では、前記レーザ光走査
静止判断部83のタイマ84が起動され時間計測が開始
される。ステップS28はレーザ光走査部2の静止判断
を行う処理で、前記タイマ84の時間計測値が前記光走
査静止時間Ts より小さければ前記レーザ光走査部は静
止していないと判断しNへ、大きければ静止が完了した
と判断しYへ分岐する。ステップS29ではレーザ発振
指令部15からレーザ発振部3にレーザ発振指令である
トリガ信号を出力する。ステップ30では前記トリガ信
号を入力してレーザ発振終了判断部85のタイマ86が
起動され時間計測が開始する。ステップS31では、レ
ーザ発振部3の発振終了判断を行う処理で、前記タイマ
86の時間計測値が前記レーザ光発振時間Tbより小さけ
れば前記レーザ発振は終了してしていないと判断しN
へ、大きければ前記レーザ発振は終了したと判断しYへ
分岐する。S32では加工終了か否かを判断する。加工
終了でない場合はYに分岐しステップS22の処理に戻
り、次の穴加工を行う。加工終了なら、処理を終わる。
上述のように動作するのでレーザ光走査部2が確実に静
止している状態でレーザ光が発振されるので、加工誤差
の少ないレーザ加工が実現できる。また、レーザ発振部
のレーザ発振が確実に停止してから、レーザ光走査部が
移動するので加工誤差の少ないレーザ加工が実現でき
る。
【0027】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、以下に示すような効果を奏する。
【0028】被加工物の位置誤差を補正する第1の被加
工物補正部と、レーザ光走査補正部を備えているので、
被加工物の取り付け誤差が大きい場合でも、高精度なレ
ーザ加工ができる。
【0029】また、被加工物の位置誤差を補正する第2
の被加工物補正部を備えているので、被加工物の取り付
け誤差が大きい場合でも、高精度なレーザ加工ができ
る。
【0030】また、第1の被加工物補正部は特徴位置計
測部で被加工物の特徴位置を計測した結果を用いて補正
を行うので、被加工物の取り付け誤差が大きい場合で
も、高精度なレーザ加工ができる。
【0031】また、第2の被加工物補正部は特徴位置計
測部で被加工物の特徴位置を計測した結果を用いて補正
を行うので、被加工物の取り付け誤差が大きい場合で
も、高精度なレーザ加工ができ
【0032】た、レーザ光走査静止判断部の出力に基
づいてレーザ発振指令を出力するので、レーザ光走査部
が移動中にレーザ加工されることがなく、高精度なレー
ザ加工ができる。
【0033】また、レーザ光走査部の移動距離情報と、
レーザ光走査部の移動距離と静止時間との関係を示した
データと、タイマを用いてレーザ光走査部の静止判断を
行った結果を用いてレーザ発振指令を出力するので、レ
ーザ光走査部が移動中にレーザ加工されることがなく高
精度なレーザ加工ができる。
【0034】また、レーザ発振部がレーザ光を照射し終
わったことを判断するレーザ光発振終了判断部を備え、
この出力に基づいてレーザ走査部の位置指令を出力する
ので、レーザ発振中にレーザ光走査が移動することがな
く、高精度なレーザ加工ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1に係るレーザ加工装置
を示すブロック図である。
【図2】 本発明の実施の形態1に係るレーザ機械制御
部を示す図である。
【図3】 本発明の実施の形態1に係るシステム制御部
の動作を示すフローチャートである。
【図4】 本発明の実施の形態2に係るシステム制御部
のブロック図である。
【図5】 本発明の実施の形態2に係るテレビカメラに
取付け誤差がある場合を示す図である。
【図6】 本発明の実施の形態2に係るシステム制御部
の計測誤差補正部の計測補正用パラメータを求める動作
を示すフローチャートである。
【図7】 本発明の実施の形態3に係るレーザ光走査部
のレーザ加工装置を説明するための図である。
【図8】 本発明の実施の形態3に係るレーザ光走査部
の位置指令に対する時間応答の様子を示す図である。
【図9】 本発明の実施の形態3に係るデータを説明す
るための図である。
【図10】 本発明の実施の形態3に係るレーザ出力の
時間応答を示す図である。
【図11】 本発明の実施の形態3に係るレーザ加工装
置の動作を表すフローチャートである。
【符号の説明】
2 レーザ光走査部、3 レーザ発振部、4 特徴位置
計測部、5 被加工物位置制御部、12 レーザ光位置
指令部、13 第1の被加工物補正部、14レーザ光走
査補正部、 17 被加工物位置指令部、18 第2の
被加工物補正部、 27レーザ加工痕、62 計測誤差
補正部、 83 レーザ光走査静止判断部、 82 テ
ータ表、84 タイマ、85 レーザ光発振終了判断
部、86タイマ。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−79479(JP,A) 特開 平3−35892(JP,A) 特開 昭60−82288(JP,A) 特開 平5−309482(JP,A) 特開 平7−112288(JP,A) 特開 平7−236989(JP,A) 実開 平4−43486(JP,U) 実開 昭63−180961(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B23K 26/08 B23K 26/00 B23K 26/04

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザ光を用いて被加工物を加工するレ
    ーザ加工装置において、レーザ光を前記被加工物に照射
    するレーザ発振部と、前記レーザ発振部で照射されるレ
    ーザ光の軌道を変化させてレーザ光の照射位置を走査す
    るレーザ光走査部と、前記レーザ光走査部の位置指令を
    生成するレーザ光位置指令部と、前記位置指令を入力
    し、被加工物の位置誤差を補正する第1の補正位置指令
    を出力する第1の被加工物補正部と、前記第1の補正位
    置指令を入力し、この第1の補正位置指令に基づき、
    ーザ光走査部の位置誤差を補正する第2の補正位置指令
    を出力するレーザ光走査補正部と、前記第2の補正位置
    指令を前記レーザ光走査部に入力してレーザ光の照射位
    置を走査することを特徴とするレーザ加工装置。
  2. 【請求項2】 レーザ発振部から照射されるレーザ光の
    被加工物への照射位置を被加工物の位置を変化させて制
    御する被加工物位置制御部と、前記被加工物位置制御部
    の位置指令を生成する被加工物位置指令部と、前記被加
    工物位置指令部からの位置指令を入力し、前記被加工物
    の位置誤差を補正する第3の補正位置指令を出力する第
    2の被加工物補正部と、前記第3の補正位置指令を前記
    被加工物位置制御部に入力して被加工物への照射位置を
    制御することを特徴とする請求項1記載のレーザ加工装
    置。
  3. 【請求項3】 被加工物の特徴位置を計測して出力する
    特徴位置計測部を備え、前記特徴位置計測部の出力を前
    記第1の被加工物補正部に入力して前記第1の補正位置
    指令を出力することを特徴とする請求項1記載のレーザ
    加工装置。
  4. 【請求項4】 被加工物の特徴位置を計測して出力する
    特徴位置計測部を備え、前記特徴位置計測部の出力を前
    記第2の被加工物補正部に入力して前記第3の補正位置
    指令を出力することを特徴とする請求項2記載のレーザ
    加工装置。
  5. 【請求項5】 レーザ光走査部の走査が静止したことを
    判断するレーザ光走査静止判断部を備え、前記レーザ光
    走査静止判断部の出力に基づいて前記レーザ発振部にレ
    ーザ発振指令を制御することを特徴とする請求項1記載
    のレーザ加工装置。
  6. 【請求項6】 レーザ光走査静止判断部は、前記レーザ
    光走査部の移動距離情報と、前記レーザ光走査部の移動
    距離と静止時間との関係を示したデータと、前記静止時
    間を計測するタイマを用いて判断結果を出力することを
    特徴とする請求項5記載のレーザ加工装置
  7. 【請求項7】 レーザ発振部がレーザ光を照射し終わっ
    たことを判断するレーザ光発振終了判断部を備え、前記
    レーザ光発振終了判断部の出力に基づいて前記レーザ光
    位置指令部の位置指令を制御することを特徴とする請求
    項1記載のレーザ加工装置。
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