JP3244560B2 - アミノ基を有するピラゾロトリアゾール類の製造方法 - Google Patents
アミノ基を有するピラゾロトリアゾール類の製造方法Info
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Description
は医薬や農薬の合成中間体として有用なアミノ基を有す
るピラゾロトリアゾール類の製造方法に関する。
母核を有するアミノ化合物とバラスト基を有する酸ハラ
イドの反応で得られる。ピラゾロトリアゾール型のカプ
ラー製造にもこの方法は便利である。このためニトロ基
を有するピラゾロトリアゾール類をアミノ基を有するピ
ラゾロトリアゾール類へ誘導することが好ましい。従
来、このニトロピラゾロトリアゾール類をアミノピラゾ
ロトリアゾール類に還元するためには水素添加法と鉄粉
還元法が使用されてきた。しかし、水素添加法は加圧下
の反応であるため、オートクレーブのような耐圧性容器
を必要とし、製造設備が制限される。さらに触媒ニッケ
ルと原料及び生成物がその特異な構造により錯体を形成
するために収率の低下が大きい。一方、鉄粉還元法は、
水・有機溶媒混合系での反応ではあるが、大量の鉄粉を
用いるため反応混合物から生成物の分離や分離後の鉄粉
の処理が困難であるので、収率が低くかつコストアップ
は避けられない。
ノ基を有するピラゾロトリアゾール類を高収率かつ高純
度で、一般的な非耐圧の設備で製造しうる方法を提供す
ることである。本発明の他の目的は生成物を容易に分離
でき、副生成物の処理が容易であり、安価に高い生産性
でアミノ基を有するピラゾロトリアゾール類を製造する
方法を提供することである。
下に記載の製造方法により達成された。 (1)芳香族基を介して結合したニトロ基を有するピラ
ゾロトリアゾール類の該ニトロ基をアミノ基に還元する
方法であって、該還元反応が遷移金属触媒の共存下にお
いてギ酸又はその塩類により行われることを特徴とする
アミノ基を有するピラゾロトリアゾール類の製造方法、 (2)前記のニトロ基を有するピラゾロトリアゾール類
が化4に示す式(I)で表わされる、(1)項記載のア
ミノ基を有するピラゾロトリアゾール類の製造方法、
ル母核を表わし、Arは2価の芳香族基を表わし、Lは
PAとArとの連結基を表わし、nは0ないし3の整数
を表わし、又、mは1ないし5の整数を表わす。) (3)ピラゾロトリアゾール母核PAが、化5に示す式
(II)又は式(III )で表わされる(2)項記載のアミ
ノ基を有するピラゾロトリアゾール類の製造方法、及び
を表わす。Xは水素原子又はカップリング離脱基を表わ
す。) (4)ギ酸又はその塩類が化6で示される式(IV)で表
わされる(1)、(2)及び(3)項のいずれか1項に
記載のアミノ基を有するピラゾロトリアゾール類の製造
方法。
ルカリ土類金属又はNH(R2 )3 を、R2 は水素原子
又はアルキル基をそれぞれ表わす。)
発明方法において用いられるニトロ基を有するピラゾロ
トリアゾール類は式(I)で表わされ、PAは好ましく
は式(II)で表わされるピラゾロ[1,5−b][1,
2,4]トリアゾール類(米国特許第4,540,65
4号)や式(III )で表わされるピラゾロ[5,1−
c][1,2,4]トリアゾール類(米国特許第3,7
25,067号)である。前者のピラゾロトリアゾール
の対応のアミノ体は光堅牢性の優れた色素を与える写真
用カプラーの合成中間体となる。また、本発明は米国特
許第4,500,630号に記載のイミダゾ[1,2−
b]ピラゾール類の合成にも有用である。
基、−NH−、−O−、−S−、−NHCO−、−NH
COO−、−NHCONH−であり、特に好ましくは炭
素数1ないし30のアルキレン基である。nが2又は3
の場合Lは同じでも異なってもよい。好ましいnは0ま
たは1であり、特に好ましくは0である。同じくArは
フェニレン、ナフチレン、2価のピリジン環が代表的で
あり、芳香族基に置換可能な置換基を有していてもよ
い。この置換基の例は、低級(炭素数が1ないし5、以
下同じ。)アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、
アリール基が挙げられる。好ましいArはフェニレン基
である。mは好ましくは1又は2であり、特に好ましく
は1である。この場合ニトロ基はフェニレン基のm−位
またはp−位にあることが好ましい。
は好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基又はアリール基であり、特に好ましくは、直鎖又は
分岐の低級アルキル基、低級アルコキシ基、アリールオ
キシアルキレンオキシ基、フェノキシ基である。Xは好
ましくは水素原子、ピロール−1−イル基、p−アルコ
キシカルボニルフェノキシ基、塩素原子、フェノキシ
基、フェニルチオ基である。
基を有するピラゾロトリアゾール類を以下に例示する
が、これらに限定されるものではない。
0,654号、同4,705,863号、同3,72
5,067号、特開昭61−65245号、同62−2
09457号、同62−249155号及び特公昭47
−27411号に記載の方法により製造することができ
る。式(IV)で示すギ酸塩類のカチオンとしては、好ま
しくはナトリウム、カリウム、アンモニウム又はトリエ
チルアンモニウムの各イオンが挙げられる。
ム、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、コバルト等の単
体、又はその錯体、炭素担持体等の誘導体が好ましく、
パラジウム−黒、パラジウム−炭素(例えば5%,10
%)、ジクロロルテニウムトリストリフェニルホスフィ
ン錯体が有用である。
ルに対して、遷移金属錯体は通常0.00001〜2.
0モル、好ましくは0.01〜0.5モル使用する。ギ
酸又はその塩類は通常1.0〜20.0モル、好ましく
は3.0〜10.0モル、さらに好ましくは3.5〜
5.0モル使用する。ジニトロ体に対しては、ギ酸塩及
び遷移金属錯体の使用量を倍増する。この還元反応はニ
トロ体を溶解する溶媒中で行うのが一般的であり、アル
コール類(メタノール、エタノール、イソプロピルアル
コールが代表的)、芳香族系溶媒(トルエン、キシレン
が代表的)、エステル系溶媒(例えば酢酸エチル)、ハ
ロゲン系溶媒(四塩化炭素、塩化メチレンが代表的)の
他に、例えばジオキサン、アセトニトリル、THF、メ
チルセロソルブ、DMF、ジメチルアセトアミド(DM
AC)の極性溶媒が単独に又は混合して使用できる。好
ましい溶媒としては、トルエン、酢酸エチル、酢酸エチ
ル/DMAC混合溶媒が挙げられる。
好ましくは、0〜80℃である。反応は加圧を必要とせ
ず、常圧で行う。反応時間は反応進行をモニターして決
めれば足り、通常0.5〜20時間、好ましくは1〜5
時間である。
説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例1 例示化合物(1)の還元 前記例示化合物(1)14.3g、5%パラジウム−炭
素1.5gと酢酸エチル70ml及び水5mlを反応容
器中で混合した後、常圧室温にて撹拌した。撹拌を続け
ながらギ酸アンモニウム15.1gを添加した後、内温
を50℃に昇温し2時間反応させた。反応混合物をゼオ
ライト層を通してろ過することにより触媒を除去し、ろ
剤を酢酸エチル30mlで洗浄した。ろ液に水50ml
を添加し、有機層を分液し、水洗した。酢酸エチルを減
圧留去して得られる乾固物をメタノール20mlに加熱
溶解した後20℃において水30mlを滴下し、さらに
5℃に冷却した。化合物(1)に対応するアミノ化合物
が淡黄色結晶として得られた。収量11.26g、収率
88%、融点266−268℃、元素分析値は計算値と
よく一致した。実測値:H 6.68%;C 65.8
6%;N 27.40%、計算値:H 6.71%;C
65.85%;N 27.44%
素1.5g及びメタノール80mlを反応容器中で混合
した。実施例1と同様にして、ギ酸アンモニウム15.
1gを添加して還元した。反応混合物をゼオライトろ過
し、このろ剤はメタノール10mlで洗浄した。メタノ
ール反応液に水50mlを滴下した後50℃で1時間冷
却すると、例示化合物(9)に対応するアミノ体が淡黄
色結晶として得られた。収量12.66g、収率85%
であり、元素分析値は理論値とよい一致を示した。
するため、通常の反応容器を用い、また水素添加法のよ
うに発火・爆発の危険がない。また、原料のニトロ体又
は生成物のアミノ体と触媒が錯体を形成することなく、
反応を進めることができるため、目的物を高収率で、か
つ、高純度で得ることができる。このため必要により、
アミノ体を再結晶することなく、そのままアミド化等に
供することもできる。このため生産性を向上することが
でき、安価に高純度で写真カプラー等の最終目的物を製
造することができる。
Claims (4)
- 【請求項1】 芳香族基を介して結合したニトロ基を有
するピラゾロトリアゾール類の該ニトロ基をアミノ基に
還元する方法であって、該還元反応が遷移金属触媒の共
存下においてギ酸又はその塩類により行われることを特
徴とするアミノ基を有するピラゾロトリアゾール類の製
造方法。 - 【請求項2】 前記のニトロ基を有するピラゾロトリア
ゾール類が化1に示す式(I)で表わされる、請求項1
記載のアミノ基を有するピラゾロトリアゾール類の製造
方法。 【化1】 (式(I)中、PAはピラゾロトリアゾール母核を表わ
し、Arは2価の芳香族基を表わし、LはPAとArと
の連結基を表わし、nは0ないし3の整数を表わし、
又、mは1ないし5の整数を表わす。) - 【請求項3】 ピラゾロトリアゾール母核PAが、化2
に示す式(II)又は式(III)で表わされる請求項2記
載のアミノ基を有するピラゾロトリアゾール類の製造方
法。 【化2】 (式中、R1は水素原子又は1価の置換基を表わす。X
は水素原子又はカップリング離脱基を表わす。) - 【請求項4】 ギ酸又はその塩類が化3で示される式
(IV)で表わされる請求項1、2及び3のいずれか1項
に記載のアミノ基を有するピラゾロトリアゾール類の製
造方法。 【化3】 (式中、Mは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金
属又はNH(R2)3を、R2は水素原子又はアルキル
基をそれぞれ表わす。)
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04578093A JP3244560B2 (ja) | 1993-02-10 | 1993-02-10 | アミノ基を有するピラゾロトリアゾール類の製造方法 |
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JPH06234767A JPH06234767A (ja) | 1994-08-23 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3244560B2 (ja) |
-
1993
- 1993-02-10 JP JP04578093A patent/JP3244560B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JPH06234767A (ja) | 1994-08-23 |
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