JP3307662B2 - 測定装置を校正するための方法 - Google Patents
測定装置を校正するための方法Info
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- JP3307662B2 JP3307662B2 JP25882291A JP25882291A JP3307662B2 JP 3307662 B2 JP3307662 B2 JP 3307662B2 JP 25882291 A JP25882291 A JP 25882291A JP 25882291 A JP25882291 A JP 25882291A JP 3307662 B2 JP3307662 B2 JP 3307662B2
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- calibrating
- measuring device
- inspection
- measuring
- dielectric constant
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R35/00—Testing or calibrating of apparatus covered by the other groups of this subclass
- G01R35/005—Calibrating; Standards or reference devices, e.g. voltage or resistance standards, "golden" references
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measurement Of Resistance Or Impedance (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、測定装置を校正するた
めの方法に関する。
めの方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の公知の方法では、金属の外部ス
リーブを使用しており、その内部には並列に配置された
個々のリングセグメントが設けられ、このリングセグメ
ントはそれぞれ外側部分でもってコンデンサを形成して
いる。噴射流の通過の際には、測定装置を通して個々の
コンデンサセグメント間での噴射流部分の分解に応じ
て、誘電率が変化する。適する測定機器においては誘電
率の変化によって噴射流状態を求めることが可能であ
る。この公知の方法は、改良の余地があることがわかっ
ている。
リーブを使用しており、その内部には並列に配置された
個々のリングセグメントが設けられ、このリングセグメ
ントはそれぞれ外側部分でもってコンデンサを形成して
いる。噴射流の通過の際には、測定装置を通して個々の
コンデンサセグメント間での噴射流部分の分解に応じ
て、誘電率が変化する。適する測定機器においては誘電
率の変化によって噴射流状態を求めることが可能であ
る。この公知の方法は、改良の余地があることがわかっ
ている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、測定
装置の測定精度を向上させるとともに測定装置の検査や
校正を簡単化することである。
装置の測定精度を向上させるとともに測定装置の検査や
校正を簡単化することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明によれば上記課題
は、誘電体の誘電率を検査するために、非金属材料から
なる検査薄板で構成される検査装置を用い、この検査薄
板は、測定盤の校正の際に薄層板間に差し込まれるもの
であり、それによって当該誘電率を流体の通過の際とほ
ぼ同じように変化させ、ここにおいて電気／電子測定装
置の測定結果を信号化して記憶させるにようにして解決
される。
は、誘電体の誘電率を検査するために、非金属材料から
なる検査薄板で構成される検査装置を用い、この検査薄
板は、測定盤の校正の際に薄層板間に差し込まれるもの
であり、それによって当該誘電率を流体の通過の際とほ
ぼ同じように変化させ、ここにおいて電気／電子測定装
置の測定結果を信号化して記憶させるにようにして解決
される。
【０００５】本発明の方法によれば、流体噴射流の測定
精度が向上され、さらに測定装置の検査や校正が簡単な
手段で可能になる。
精度が向上され、さらに測定装置の検査や校正が簡単な
手段で可能になる。
【０００６】本発明による別の有利な方法は、従属項に
特定される。
特定される。
【０００７】
【実施例】次に本発明の実施例を図面に基づき詳細に説
明する。
明する。
【０００８】図１には、測定装置の全体が示されてお
り、この測定装置は測定盤１０を有している。この測定
盤１０は８個のセグメント（０〜７）から成っており、
各セグメントは、半径方向に配置された４つの薄層板
（総括して符号１１で示されている）を有している。こ
の薄層板は、装置の中央で通過部１２を開放するように
設けられている。薄層板は、垂直に立っており、セグメ
ントのように規則的なピッチ間隔を有している。すなわ
ち各薄層板の角度距離が正確に同じである。薄層板ない
しセグメント１１は、コンデンサを形成しており、電圧
が印加された場合のこのコンデンサのキャパシタンスＣ
は、とりわけ薄層板の間の誘電体の誘電率、例えば空気
に著しくに依存している。薄層板は銅からなっている。
り、この測定装置は測定盤１０を有している。この測定
盤１０は８個のセグメント（０〜７）から成っており、
各セグメントは、半径方向に配置された４つの薄層板
（総括して符号１１で示されている）を有している。こ
の薄層板は、装置の中央で通過部１２を開放するように
設けられている。薄層板は、垂直に立っており、セグメ
ントのように規則的なピッチ間隔を有している。すなわ
ち各薄層板の角度距離が正確に同じである。薄層板ない
しセグメント１１は、コンデンサを形成しており、電圧
が印加された場合のこのコンデンサのキャパシタンスＣ
は、とりわけ薄層板の間の誘電体の誘電率、例えば空気
に著しくに依存している。薄層板は銅からなっている。
【０００９】測定装置は、特に噴射ノズルから吐出され
る噴射流の測定のために用いられる。噴射流は、中央開
口部１２を通過して噴出される。この噴射流が正確に同
心的でなかったり、拡散していたり、或いは側方噴射流
を有していたりすると、噴射流部分は、薄層板の間に侵
入し、それによって当該コンデンサ部分の誘電率がそれ
ぞれ変化してしまう。検査及び評価装置１３では、キャ
パシタンス変動が記録され、表示される。そうして噴射
流状態に関する正確な像が得られる。この噴射流は光学
的に画像スクリーン上で監視され得るかまたは表示され
得る。装置は特に次のようなことに対して考えられてい
る。すなわち故意に側方噴射流を生じさせるためのカッ
トを有するスロットルピボットノズルを検査することで
ある。
る噴射流の測定のために用いられる。噴射流は、中央開
口部１２を通過して噴出される。この噴射流が正確に同
心的でなかったり、拡散していたり、或いは側方噴射流
を有していたりすると、噴射流部分は、薄層板の間に侵
入し、それによって当該コンデンサ部分の誘電率がそれ
ぞれ変化してしまう。検査及び評価装置１３では、キャ
パシタンス変動が記録され、表示される。そうして噴射
流状態に関する正確な像が得られる。この噴射流は光学
的に画像スクリーン上で監視され得るかまたは表示され
得る。装置は特に次のようなことに対して考えられてい
る。すなわち故意に側方噴射流を生じさせるためのカッ
トを有するスロットルピボットノズルを検査することで
ある。
【００１０】重要なのは、上記の測定装置が校正される
ことである。このためには、図２及び図３ａ〜ｃに示さ
れているようにマスクが用いられる。図２のマスクは、
プレキシグラスからなる８つのセグメント１６を有する
環状の外体１５からなっている。測定装置の誘電率は、
個々のコンデンサ間ないしはセグメント間で必ずしも一
定ではないので、測定装置を校正するためにマスク１４
が使用される。マスク１４は各薄層板１１に薄板１７が
当接するように、測定盤に差し込まれる。その後測定機
器が動作し校正が行なわれる。プレキシグラス薄板の挿
入により、その材料特性による誘電率中のキャパシタン
ス変動が生じる。このキャパシタンスの変化は、噴射流
によって起された場合とほぼ同じ大きさで変動する。偏
差は評価機器の中で図４に示されている方式によって行
なわれる。つまり差し込み動作ごとにそれぞれ１個のコ
ンデンサが校正される。これは測定装置の検査に対して
ほぼ間に合うものである。測定装置の製造の間に完全な
校正を行なうために、図２によるマスクが、所有する薄
板の数だけ（３２回）何度も回転して差し込まれ得る。
ことである。このためには、図２及び図３ａ〜ｃに示さ
れているようにマスクが用いられる。図２のマスクは、
プレキシグラスからなる８つのセグメント１６を有する
環状の外体１５からなっている。測定装置の誘電率は、
個々のコンデンサ間ないしはセグメント間で必ずしも一
定ではないので、測定装置を校正するためにマスク１４
が使用される。マスク１４は各薄層板１１に薄板１７が
当接するように、測定盤に差し込まれる。その後測定機
器が動作し校正が行なわれる。プレキシグラス薄板の挿
入により、その材料特性による誘電率中のキャパシタン
ス変動が生じる。このキャパシタンスの変化は、噴射流
によって起された場合とほぼ同じ大きさで変動する。偏
差は評価機器の中で図４に示されている方式によって行
なわれる。つまり差し込み動作ごとにそれぞれ１個のコ
ンデンサが校正される。これは測定装置の検査に対して
ほぼ間に合うものである。測定装置の製造の間に完全な
校正を行なうために、図２によるマスクが、所有する薄
板の数だけ（３２回）何度も回転して差し込まれ得る。
【００１１】図２によるマスクに対する別の構成例が、
図３ａ〜ｃに種々異なる図面で示されている。この校正
部分は検査薄板１７を有する唯一つのセグメント１６か
らなっている。ここでは一つのセグメントの薄層板全体
が同時に検査（校正）される。そのような装置を異なる
深さで順次連続して差し込めば（３ｃ）、差し込まれた
深さに依存してコンデンサの応動比の検査が付加的に行
なわれる。これは他の図２によるマスクに対しても適用
される。
図３ａ〜ｃに種々異なる図面で示されている。この校正
部分は検査薄板１７を有する唯一つのセグメント１６か
らなっている。ここでは一つのセグメントの薄層板全体
が同時に検査（校正）される。そのような装置を異なる
深さで順次連続して差し込めば（３ｃ）、差し込まれた
深さに依存してコンデンサの応動比の検査が付加的に行
なわれる。これは他の図２によるマスクに対しても適用
される。
【００１２】測定盤１０は、発振器２０に接続されてお
り、この発振器２０は、アナログ動作する評価機器２１
と、後置接続されたキャパシタンス測定機器２２に作用
接続している。この３つの機器全ては、同様に電子評価
装置２３と作用接続しており、さらにこの電子評価装置
２３は、計算器と表示装置２４に作用接続している。し
かしながらこれらの部分に関しては、本発明の要旨に係
ってないので深く立ち入っていない。
り、この発振器２０は、アナログ動作する評価機器２１
と、後置接続されたキャパシタンス測定機器２２に作用
接続している。この３つの機器全ては、同様に電子評価
装置２３と作用接続しており、さらにこの電子評価装置
２３は、計算器と表示装置２４に作用接続している。し
かしながらこれらの部分に関しては、本発明の要旨に係
ってないので深く立ち入っていない。
【００１３】
【発明の効果】本発明の方法によれば、流体噴射流の測
定精度が向上され、さらに測定装置の検査及び校正が簡
単な手段で可能になる。
定精度が向上され、さらに測定装置の検査及び校正が簡
単な手段で可能になる。
【図１】測定装置の斜視図である。
【図２】校正器を概略的に示した斜視図である。
【図３】ａ〜ｃは別の構成方法による一つの校正器のセ
グメントを概略的に示した図である。
グメントを概略的に示した図である。
【図４】噴射流測定装置の全体を表わした概略図であ
る。
る。
１０ 測定盤 １１ 薄層板 １２ 通路 １３ 電気／電子測定装置 １４ マスク １５ 外体 １６ セグメント １７ 検査薄板 ２０ 発振器 ２１ 評価装置 ２２ キャパシタンス測定装置 ２３ 電子評価装置 ２４ 計算器および表示装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−55486（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−130260（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 27/22 G01R 27/26 G01R 35/00 G01M 13/00
Claims (3)
- 【請求項１】 流体噴射流に対する測定装置の校正方法
であって、前記測定装置は、種々異なるセグメントから
なる測定盤（１０）を有しており、ここにおいて各セグ
メントは、規則的なピッチ間隔で放射状に延在する金属
材料からなる多数の薄層板（１１）を有しており、この
薄層板によって、その内側で、流体噴射流に対する円形
通路（１２）が形成されている、測定装置を校正するた
めの方法において、 誘電体の誘電率を検査するために、非金属材料からなる
検査薄板（１７）で構成される検査装置を用い、この検
査薄板（１７）は、測定盤の校正の際に薄層板（１１）
間に差し込まれるものであり、それによって当該誘電率
を流体の通過の際とほぼ同じように変化させ、ここにお
いて電気／電子測定装置（１３）の測定結果を信号化し
て記憶させることを特徴とする測定装置を校正するため
の方法。 - 【請求項２】 請求項１記載の方法を実施するための検
査装置であって、測定装置の薄層板間に差し込まれるよ
うに非金属材料からなる検査薄板が配置されているポッ
ト型のマスクからなる検査装置。 - 【請求項３】 前記検査薄板は、個々のセグメントの中
に配置されている請求項２記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4031754.4 | 1990-10-06 | ||
| DE4031754A DE4031754A1 (de) | 1990-10-06 | 1990-10-06 | Verfahren zum kalibrieren einer messeinrichtung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04307361A JPH04307361A (ja) | 1992-10-29 |
| JP3307662B2 true JP3307662B2 (ja) | 2002-07-24 |
Family
ID=6415778
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25882291A Expired - Fee Related JP3307662B2 (ja) | 1990-10-06 | 1991-10-07 | 測定装置を校正するための方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0480161B1 (ja) |
| JP (1) | JP3307662B2 (ja) |
| DE (2) | DE4031754A1 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3225554A1 (de) * | 1982-07-08 | 1984-01-12 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart | Messeinrichtung fuer fluidstrahlen |
-
1990
- 1990-10-06 DE DE4031754A patent/DE4031754A1/de not_active Withdrawn
-
1991
- 1991-08-29 DE DE59106819T patent/DE59106819D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-08-29 EP EP91114509A patent/EP0480161B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-10-07 JP JP25882291A patent/JP3307662B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE59106819D1 (de) | 1995-12-07 |
| EP0480161A3 (ja) | 1994-02-23 |
| JPH04307361A (ja) | 1992-10-29 |
| EP0480161B1 (de) | 1995-11-02 |
| EP0480161A2 (de) | 1992-04-15 |
| DE4031754A1 (de) | 1992-04-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |