JP3320720B2 - スプレーノズル用シールディングを有する流動床 - Google Patents

スプレーノズル用シールディングを有する流動床

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Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 発明の分野 本発明は、スプレーノズルを有する流動床システムに
関するものである。この種の一システム、ワースタ・シ
ステム型式の流動床処理装置であり、製品コンテナ内に
配置された外側円筒形の仕切りと、この仕切り内に配置
されたスプレーノズルとを有している。このスプレーノ
ズル自体は、シールドされ、有利には、円筒形仕切りに
より取囲まれている。この仕切りは、製品コンテナの底
部のオリフィスプレート又はスクリーンから延びてお
り、スプレーノズルを保護している。
関連技術の説明 これまでワースタ・システム型式を含む種々異なる形
式のスプレーコータが提案されてきた。これら種々の公
知装置の場合、スプレーノズルのすぐ上方に空気の乱流
が生じる。システム内の、コーティングされる粒子が、
スプレーパターンが完全に出来上る前に、流体の吐出ス
プレーパターン内へ入り込んでしまう。この結果、スプ
レーパターンに早く入りすぎたこれらの粒子によって、
制御されない小滴が形成され、システム効率に影響を与
え、過剰な凝集を生じ、処理時間が比較的長くなる。
G.L.ラーソンほかの米国特許第3,110,626号には、流
動床空気流内に浮遊するばらばらの固体のコーティング
が、ホッパ形状のコーティングチャンバの底部区域に取
付けられた速度集中制御素子の内部区域内で行なわれる
装置が開示されている。しかしながら、この装置は、上
方へ流れる空気柱を有するスプレーパターンの基部をシ
ールドする手段を有し、それによってスプレーパターン
が、事実上、コーティングされるばらばらの固体が入込
む前に、出来上るようにされている。
また、クリスチャン・ボデーほかによる米国特許第4,
335,676号には、噴流床式の粒状化及び又はコーティン
グ装置が開示されている。この装置の場合、流れを方向
づける構造が、装置壁近辺での粒子の接触及び凝集を防
ぐため、ガス状流を上方へ方向づけるようにされてい
る。この特許は、しかし、スプレーパターンの下方部分
が上方へ流れる空気柱により保護されて、それによりス
プレーパターンが、コーティングされる粒子がスプレー
パターンに入り込む前に、より完全に出来上るような構
成を開示しているわけではない。
更に、スタニスラウス・M.P.シューザーズほかによる
米国特許第4,710,353号には、液状スプレー材料が、垂
直方向に閉じられた円錐形フィルムである中央チャネル
から放出される。このフィルムは、ガス流のスラストを
越えるスラストにより形成され、周囲ガス流により霧化
され、極微小の滴にされている。この結果生ぜしめられ
るスプレーパターンは、その初めの基部の周囲がその周
囲に位置する上方へ可動の空気柱によって保護されるこ
とがない。
更にまた、ガスター・Ａ・マッグほかの米国特許に
は、所属流動床の各噴霧ノズルに計量ポンプ又は流量計
を備える必要をなくした構成の噴霧ノズルが開示されて
いる。このコーティング流動床では流量制御管の内孔寸
法を変化させることによって、噴霧ノズルを通る流量が
制御される。この特許には、しかしながら、コーティン
グされる粒子が、スプレーパターンの相応の形成前に、
パターン内へ直ちに入り込むことがないよう、スプレー
パターンをシールドする構成は開示されていない。
さらに、ウェルナー・グラットほかによる米国特許第
4,858,552号に開示されている装置の場合、流動流が粒
子を、まだ可塑的な間に、チャネリング装置を介して上
方へ搬送する。このチャネリング装置は有孔の基部上方
に間隔をおいて位置する凝集した材料を搬送するための
ものである。有孔の基部により、粒子は、凝集した材料
に形を与える回転可能の手段の下側に衝突するようにさ
れる。このグラットほかによる装置は、コーティングさ
れる粒子が、はじめに形成されるスプレーパターン内へ
入り込むのを防ぐような構成は有していない。
更に、D.E.ワースタほかによる米国特許第3,196,827
号は、内部にアップベッドを有する管形の仕切り壁が開
示されている。アップベッド内へは空気及びスプレーパ
ターンが向けられ、ほとんど無重力的に浮遊する粒子の
ダウンベッドが管形仕切り壁の外側に配置されている。
スプレーノズルは、仕切り壁底部下と所属の空気分配プ
レート又はスクリーン上方に配置されている。この装置
の場合、コーティングされる粒子は、スプレーパターン
の下方の始めの部分に直ちに自由に入ることができる。
発明の要約 ノズル及びスプレーの雲霧（コーティング・ゾーンと
呼ばれることも多い）の周囲の区域の動力学が、全体の
コーティング速度も決定すれば、流動床コーティング過
程中の凝集総量をも決定する。一般に用いられている型
式のノズルは、空気式の噴霧ノズルである。言いかえる
と、高速の空気ジェットを用いて液体ジェットを分散さ
せて微細な滴にし、これらの微細な滴を円錐形の雲霧又
はスプレーパターンで噴霧する。
実験室での数回のワースタ・コーティング実験の過程
で観察された点は、サブストレートを含む材料が、流動
化又は処理空気流から、スプレーパターンが完全に形成
される前に、スプレーノズルの液体／空気ジェット内へ
引込まれるという点であった。コーティングされる材料
が接着性を有する場合には、材料が十分な力で運動せし
められて、ノズル先端に腐食を生じさせることが判明し
た。
したがって、本発明は、アップベッド内にノズル下方
部分を取囲むシールド又はバリヤを設けて、ノズルを保
護し、ノズル周囲のシールド手段内での上向き空気流が
可能にされる。これにより、バリヤの外側の製品コンテ
ナ内に配置された粒子が、スプレーパターンが十分に形
成される前にスプレーパターンに入り込むことが確実に
防止される。これによってまた、流動床の粒子と接触す
る前に小滴密度を低減させることができ、したがって、
粒子表面が、より一様に湿潤にされ、過剰な凝集が防止
される。また、流体と粒子との接触が、より精密に制御
され、より高いスプレー量が、より少ない凝集度で達成
できる。
本発明の主要目的は、ワースタ型の流動床処理装置の
スプレーノズルを遮蔽保護することである。この遮蔽保
護により、スプレーパターンが形成される前に粒子がス
プレーパターン内へ入り込むのが防止される。
本発明の別の目的は、コーティングされる微粒子を、
スプレーパターンの小滴密度が実質的に低くされるとき
まで、スプレーパターンに入り込むのを阻止することで
ある。
更に、本発明の別の目的は、ワースタ型の処理装置の
スプレーノズルにより形成されるスプレーパターンの下
方部分の周囲に、上昇空気の円柱状シールドを設けるこ
とである。その場合、このシールドは、放出されるスプ
レーパターンを処理空気の空気流速度に応じて垂直方向
に調節されるようにする。
本発明の更に別の目的は、前述のようなシールドを設
けることによって、シールドの垂直方向位置決めが、関
連スプレーパターンを変化させることに利用できるよう
にすることである。
本発明の更に別の目的は、ワースタ型スプレーコータ
のアップベッド内にコーティング区域を設け、このコー
ティング区域が上昇空気の円柱により保護され、それに
よってコーティング区域がより完全に形成され、粒子が
コーティング区域に入る前に、その液滴密度が実質的に
低減されるようにすることである。
以上の目的は、順次明らかにされるその他の目的及び
利点と一緒に、以下で添付図面を参照してより完全に説
明され請求される構成及び操作の詳細から明らかにな
る。各図面において、等しい部品には等しい符号が付さ
れている。
図面の簡単な説明 図１はワースタ型底部スプレーコータの略示部分縦断
面図で、スプレーノズル周囲に設けられ、ノズル上端よ
り僅かに上方へ突出している管状の内側仕切り壁が示さ
れている。
図２は、内側仕切り壁が空気分配プレートに対して垂
直方向に調節される形式を示した略示拡大部分縦断面図
である。
有利な実施態様の説明 図面には、本発明により変更された典型的なワースタ
型コータが、全体を符号10で示されている。このコータ
10は、製品コンテナ区画12と、この区画12の上端が開い
ている膨張室14と、製品コンテナ区画12の下方に設けら
れ、空気分配プレート又はスクリーン18により区画12か
ら分離された下方高圧室16とを有している。膨張室14の
上端は、その上方に設けられたフィルタハウジング（図
示せず）に開いている。フィルタハウジングには、必要
なエアフィルタ構造体と空気出口とが備えられている。
代表的なワースタ型コータは『製薬技術百科事典』第１
巻、p.192〜p.195（1988）に記載されている。
空気分配プレート又はスクリーン18は複数の空気通過
穴20を有している。この通過穴20を通って、空気又はガ
スが下方高圧室16から製品コンテナ区域12へ入る。ワー
スタ型流動床システムの場合には、通例、円筒形仕切り
壁22の外側の区域に設けられた、プレート18の穴の直径
は、仕切り壁22の下方に設けられた穴の直径よりも小さ
くされている。この結果、空気の量及び速度は、ダウン
ベッド区域でより中央区域でのほうが高い値となる。図
面にはプレート18は、１個しか示されていないが、通
例、プレート18は２個のプレート、すなわち外側環状プ
レートと内側の取外し可能のプレートとから構成されて
いる。これによって、アップベッドとダウンベッドとの
間の空気流量は、内側プレートを、異なる空気通過穴形
状を有するプレートに代えることで、変化させることが
できる。更に、内側プレート自体は、同一の空気通過穴
形状を有する２個の重ねプレートにより形成することが
できる。これらのプレートを互いに回転可能にすること
によって、有効穴面積を変化させることができる。
製品コンテナ12は、その内部に適宜な形式で支持され
た円筒形仕切り壁22を有している。この仕切り壁は上端
24と下端26とを有している。下端26は、空気分配プレー
ト又はスクリーン18の上方に、間隔をおいて位置してい
る。仕切り壁22は、コンテナ区画12の内部を、外側環状
ダウンベッド区域28と内側アップベッド30とに分割して
いる。全体を符号32で示されたスプレーノズルが、空気
分配プレート18のところに、もしくはプレート18を貫通
して配置され、有利には、円筒形仕切り壁22及びその内
部に設けられているアップベッド30の内へ上向きに突入
している。スプレーノズル32は、空気供給管34を介して
圧縮空気を供給され、かつ流体供給管36を介して圧縮コ
ーティング流体を供給される。この点はこの技術分野で
周知のことである。
本発明は、上方へ突出しているスプレーノズル・アセ
ンブリ32の周囲にシールド、たとえば内側円筒形仕切り
壁40を用いている。この仕切り壁40はその下端が管状の
カラー42内に、ぴったりとテレスコープ状に受容されて
いる。管状カラー42は開口44の周囲の空気分配プレート
又はスクリーン18に固定されている。スプレーノズル・
アセンブリ32は、この開口44を貫通し固定されている。
管状カラー42は、適当な固定具46により空気分配プレー
ト又はスクリーン18に固定されている。カラー42は、周
方向に間隔をおいて軸方向スロット48を有している。こ
れらスロット内には、仕切り壁40の半径方向外方へ突出
する取付け用スタッド50がスライド可能に受容されてい
る。このスタッド50は、これとねじ螺合するねじ山付ボ
ルト52を有し、それにより管状カラー42に対する仕切り
壁42の垂直方向調節が可能になる。
スプレーノズル・アセンブリ32は、空気及びコーティ
ング用流体のスプレーパターン56を放出する。下方プレ
ナムチャンバ16内に導入される空気のいくらかは、仕切
り壁40下方の空気配分プレート又はスクリーン18に形成
された穴20を介して上方へ送られる。仕切り壁40とスプ
レーノズル・アセンブリ32周囲の上昇空気柱とが、スプ
レーパターン56の下方開始部分を遮蔽保護している。ア
ップベッド30を通って上昇する粒子60は、このスプレー
パターン内へ引込まれない。このため、環状の空気柱に
よって、スプレーパターン56が十分に形成でき、スプレ
ーパターンの液滴密度は、粒子60がスプレーパターン56
内へ入る前には十分に低減される。管状カラー42に対し
て仕切り壁40の高さを調節することにより、スプレーノ
ズル・アセンブリ32の上端に対する仕切り壁40の上端の
高さを調節できる。
図には、外側仕切り壁22、内側仕切り壁40、スプレー
ノズル32は１つだけ示されているが、複数の外側仕切り
壁を設け、その数に相応する複数のスプレーノズル及び
内側仕切り壁を設けることもできる。
前述の有利な実施態様に対して種々の変更態様が可能
である。たとえば、スプレーノズルは、シールディング
を設けるのが望ましいワースタ型コータ・システムとは
異なるシステムに利用することもできる。そのようなシ
ステムの場合には、スプレーノズルは上向きに配置する
必要はなく、コンテナ主軸線に対し角度を有するように
することができる。シールドを設けたスプレーノズル
も、ワースタ型の円筒形仕切り壁22なしで用いることが
できる。シールド付きスプレーノズルは、また製品コン
テナの代りに膨張室内に配置してもよい。更に、図には
空気分配プレート又はスクリーンが示されているが、ガ
ス流は、他の構造ユニットを介して処理装置内へ供給し
てもよい。加えて、スプレーノズルのシールディング
は、有利には内側円筒形仕切り壁40により構成されてい
るが、他のシールディング・ユニットを用いてもよい。
たとえば、ノズルを取囲む空気壁又は空気流により構成
して、スプレーパターンへの粒子の早過ぎる進入を防止
するようにしてもよい。あるいは又、そらせ部材又はシ
ールドは、スプレーノズルと一体に構成して、粒子がス
プレーパターンの形成を妨害することがないようにして
もよい。
以上説明した本発明のコンセプトを利用して、以下で
は本発明に従ったテスト手順と、得られた成績を明らか
にする： 材 料 ほとんどの試験にモデル・コーティングのサブストレ
ートとして、20〜25メッシュの寸法範囲の砂糖／コーン
スターチ・ビーズ（ニュー・パリエルズ、クロンプトン
＆ノウルズ、材料技術部）である。この種のビーズがモ
デルとして適当と思われるのは、多くの活物質がコーテ
ィングのためにペレット形状に変えられるか、又はこれ
らの種類のビーズにかぶせられるからである。テオフィ
リン（＜325メッシュ、ニュージャージ州ノウル・ウィ
ッパニ社製）や塩化カリウム（20〜60メッシュ、ミズー
リ州セントルイスのマリンクロッド社製）が、粉末サブ
ストレートのモデルとして用いられた。
すべての試験を通じて代表的なHPMC基のコーティング
水溶液（カラーコン・ウェストポイントのオパドリ社
製。水道水中PAが10重量パーセント）を用いた。また緑
色の処方（YS1−3303N）を、ほとんどの実験に用いた
が、コーティング性能に対する粘性や組成の違いの影響
を調べるため、くり色（Ｙ−１−3910）に変更した。
装 置 すべてのコーティング試験は、81.28cm（32″）又は4
5.72cm（18″）のワースタ・プロセスインサートを用い
たGPCG60/100流動床造粒器／コータ（ニュージャージ州
ラムゼーのグラット空気技術社）によって行なった。4
5.72cmのワースタの試験では、標準的な22.86cm
（９″）直径、長さ55.88cm（22″）の仕切りインサー
トを利用した。81.28cmのワースタの試験は、直径30.48
cm（12″）、長さ69.85cm（27.5″）の単一の仕切りイ
ンサートで行なわれた。
仕切り壁の高さは、コーティング区域を流過するサブ
ストレートの流れが濃厚になるように調節される。２つ
の異なる寸法のワースタ・インサートでは空気流パター
ンが異なるため、仕切り壁を各インサートでとに異なる
高さに設定する必要がある。底板から1.90cm（0.75イン
チ）の間隔で、45.72cmワースタの場合には十分であ
る。81.28cmワースタの場合は、仕切り壁は底板から3.2
cm（1.2インチ）上方に位置するようにして、高密度の
粒子流が維持されるようにする。
底部スクリーンは、10メッシュでステンレス鋼製オラ
ンダ編形式のもので、どの試験の間も空気分配プレート
上方に配置した。排気フィルタは“PACF"型で、処理工
程中に生じるすべての微細粉を保留するために、３〜10
ミクロンの定格のものを使用した。フィルタの揺振サイ
クルは、GPCGモードで30秒ごとに３秒間揺振するように
設定した。このことは、各フィルタが、各63秒の処理時
間後に３秒間揺振されることを意味する。
ノズルは２つの型式のものを用いた。各ノズルは特徴
的な異なるスプレーパターンを形成する。モデル＃940/
7−１−S25（Ｓ−25と呼ばれ、グスターフ・シュリック
社製。所在地はドイツのコーブルク）は、これらの寸法
のワースタ・インサートの標準的なものである。モデル
＃0/4−７−１−S48（Ｓ−48と呼ばれる）は、空気消費
量がより高い値であり、より短距離で円錐形のパターン
（スプレーパターンを形成する）で小滴を供給する流体
流を完全に噴霧する。流体は、ぜん動ポンプによりノズ
ルへ送られる。噴霧空気圧は、どのノズルが用いられて
も、小滴寸法分布が変らないように調節した。1.2mmの
開口を有するノズル口は、ノズル口端部と整列するよう
に調節された空気キャップと一緒に用いられる。
コーティング区域で流体流を変化させたこれらの実験
では、流動化された粒子の、噴霧流との接触が、7.62cm
は（３″）直径の円筒形仕切り壁により遅らせられた。
この仕切り壁は底板上に取付けられ、ノズル口高さの上
方1.27cm（0.5″）まで延びている。
試験手順 空気量の設定は準備手続段階で流動化テストを行なっ
て決定した。空気量は、各試験を通じて各ユニットでコ
ンスタントに維持され、改めて最適化は行なわなかっ
た。45.72cm（18″）ワースタの場合、空気量は225m3/m
in（±30±3/min）であり、81.28cm（32″）ワースタの
場合は、510m3/min（±30m3/min）であった。両インサ
ートでの実験の場合、製品温度は38℃〜42℃に維持さ
れ、流入空気の露点は８℃（±１℃）に保たれた。
各回の稼働は、所望の試験条件となるように考慮さ
れ、そうした状態でスプレーが低速でスタートされた。
スタート開始15分後に採取したサンプルが、テスト用の
特別のシーブに１％以下しか残されていなければ、受入
れ可能の性能とされ、、スプレー速度を上昇させた。ス
プレーの増量は、１％のサンプルがテストシーブに残さ
れていた時点を評価することによって決定した。
砂糖のビーズの場合、20メッシュのシーブを、前述の
テストシーブとした。各試験後、装入物は20メッシュの
シーブを通過させて凝集物を除去する。20メッシュのシ
ーブを通過したビーズは、次の試験に使用した。81.28c
mワースタでの砂糖ビーズについての試験では、18メッ
シュのシーブを用いて、反復コーティングのためビーズ
が大きくなることが計算に入れられている。45.72cmワ
ースタでは、45kgのスタート時の装入物を81.28cmワー
スタでの200kgと比較した。
テオフィリンをサブストレートとした実験では、45.7
2cmワースタに26kgの原材料を用いた。テオフィリンの
テストシーブは100メッシュのものを用いた。塩化カリ
ウムの場合は、製品コンテナに50kgが装入された。塩化
カリウムの場合、稼働の終りに、処理パラメータを変更
し、18メッシュで１％以上残らない場合の最大可能スプ
レー量を見出すようにした。空気量は225m3/minのプロ
トコル値から最大可能な値360m3/minまで増大させた。
噴霧空気圧も2.5バールから4.0バールへ増大させた。
実験プログラム 実験のマトリックスは、ノズル型式、バリヤの設置、
装置寸法を可変なものとして、コーティング性能をテス
トするために設定された。45.72cm（18″）ワースタで
は４回実験を行なった。砂糖ビーズ及びグリーンのコー
ティングに、バリヤ付きとバリヤ無しのノズルＳ−25と
同じくノズルＳ−48を用いた。Ｓ−25ノズルを用いた一
組の実験は成績を確認するために反復された。粉末サブ
ストレートとしてテオフィリンと塩化カリウムが、45.7
2cmワースタでの最後の２回の実験にバリヤ付のＳ−48
ノズルと一緒に用いられた。
81.28cmワースタでは、Ｓ−48ノズルを用い、砂糖ビ
ーズへのスプレーを２回の実験で行なった。１回のバリ
ヤ付き、他の１回はバリヤ無しで行なった。これらの試
験では、コーティング用の溶液をくり色に変更して、コ
ーティング効率が、より粘度の高い溶液のほうが高いか
どうかを観察した。
成績及び検討 １％の凝集体発生時のスプレー量は、稼働中にバッチ
・シートに報告されるデータから評価された。45.72cm
ワースタによる実験マトリックスのデータは表１に示し
てある。Ｓ−48ノズルでの実験データは２回の稼働の平
均値である。
表１ 45.72cmワースタ 凝集体発生率１％時のスプレー量 （ｍ/min） ノズル型式 バリヤ付 バリヤ無し Ｓ−25 290 90 Ｓ−48 410 270 この表から、凝集体レベルが等しい場合に、バリヤを
用いない標準的なケースと比較して、バリヤを用いた場
合、スプレー量が劇的に改善されることが分かる。ま
た、スプレーパターンの形成がより迅速なノズルに変え
ることにより改善される効率が、標準型ノズル周囲にバ
リヤを用いた場合とほぼ等しいことも興味ある事実であ
る。この観察は、凝集体とスプレー量限界とが、形成中
のスプレーパターンとサブストレートとの接触が早過ぎ
ることに原因があるという仮説を立証するものである。
同様のデータ解釈により、81.28cmワースタは、１％
の凝集体を、バリヤ無しでは550g/minのスプレー量で、
またバリヤ付きの場合は780g/minのスプレー量で生じさ
せている。今回は、Ｓ−48ノズルでのみ、くり色のコー
ティングで試験を行なった。効率は、45.72cmワースタ
での実験時同様の割合で増大する。但し、装置寸法及び
コーティング特性は変更した。
Ｓ−48ノズルによりバリヤを用いてコーティングされ
たテオフィリン及び塩化カリウムは、稼働中、従来型式
の装置の構成の場合に類似の挙動を示した。塩化カリウ
ムの場合のスプレー量は、最初の凝集発生時点で1050g/
minであった。凝集体は1250g/minで徐々に形成され始め
た。しかしながら、この高いスプレー量では、装置の乾
燥能力が過剰となり、所望製品温度が維持されない。そ
の結果、過剰の表面湿分が、おそらく粒子間に流体ブリ
ッジが形成され、最終的に凝集状態が生じることにな
る。テオフィリンの場合、許容できるスプレー量は劇的
に低減されたとはいえ、スプレーされた230g/minの量は
予想よりは高い値であった。しかし、砂糖ビードの実験
の場合のように、許容レベルを越えることはなかった。
これらの実験の驚くべき成績は、サブストレートの粒
状化処理を伴わない小粒子サイズの材料をコートする能
力を示すものであった。等しい倍率の走査電子顕微鏡に
よる比較では、粒子寸法分布のごく僅かな部分が、大部
分の寸法分布の粒子コーティングに含まれていることを
示している。しかしまた一方では、材料の凝集は止み、
10％のコーティングの場合、粒子寸法は４％のサンプル
ときわめて類似している。最終コーティングされた粒子
の平均寸法は、一般に受入れられている微粒子のディス
クリート・コーティングの下限である100ミクロンより
有意に低い値である。この観察から要請される点は、デ
ィスクリート・コーティングの場合の最小粒子寸法は、
サブストレートとスプレーパターンの接触に影響され、
スプレーパターン形成中の接触を制限することにより、
有意に小さくすることができるという点である。
結 論 以上説明したすべての実験を通じて明らかになった点
は、サブストレートと形成途中のスプレーパターンとの
接触を制限して、粒子表面がスプレーパターンの液滴密
度の低い区域でのみスプレーに露出されるようにするこ
とによって、サブストレート表面全体の湿潤化が低減さ
れ、製品の凝集率が低減されるという点である。スプレ
ーパターンに固体が入り込むのを防止するためのバリヤ
を採用し、かつまたノズル設計を変更することによっ
て、より小さなスペースでスプレーパターンが形成され
るようにすることで、ほぼ同等の効果が得られる。バリ
ヤを変更ノズルと一緒に用いた場合にも、かなり効率が
改善されることが明らかとなった。改良された固体・流
体接触のこの技術は、異なる３種のサブストレートにつ
いて、異なる２つの寸法の装置を用い、異なる２つのコ
ーティング処方を通じて観察された。
改善されたコーティング効率の予想された成績に加え
て、最小の粒子寸法のサンプルであるテオフィリンの場
合には、コーティングされた材料の粒子寸法が、通例、
許容される最小寸法以下に維持できることも、観察され
た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−153169（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−210795（ＪＰ，Ａ) 米国特許3110626（ＵＳ，Ａ) 西独国特許出願公開3323418（ＤＥ, Ａ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B05B 7/00 - 9/08

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】流動床コータであって、製品コンテナと上
    方へ噴射するスプレーノズルとを有し、前記製品コンテ
    ナが、上方へは膨張室へ開口し、下方へは空気分配プレ
    ート／スクリーンを介して下方プレナムチャンバへ開い
    ており、前記プレート／スクリーンが、前記下方プレナ
    ムチャンバから上向き空気流を前記製品コンテナ内へ送
    るために設けられた穴を有しており、前記製品コンテナ
    が、前記空気分配プレート／スクリーン上方に間隔をお
    いて配置された実質的に円筒形の仕切り壁を有し、この
    仕切り壁により前記製品コンテナが内側アップベッド区
    域と外側ダウンベッド区域とに分割されており、更に前
    記スプレーノズルが前記円筒形仕切り壁内の実質的に中
    央に取り付けられている形式のものにおいて、 その改良型が、前記分配プレート／スクリーンに隣接し
    て取り付けられた直立する円筒形内側仕切り壁を有し、
    この内側仕切り壁の上端が、前記スプレーノズルの上端
    と少なくとも等しい高さに位置し開口しており、他方、
    前記内側仕切り壁の下端は、前記空気分配プレート／ス
    クリーンを通過して下方プレナムチャンバからの空気を
    受け入れるように開口されており、このように構成する
    ことにより、スプレーノズルが形成する少なくとも初期
    のスプレーパターン内への、前記アップベッドから上方
    へ移動する粒子の進入が防止されることを特徴とする流
    動床コータ。
  2. 【請求項２】前記円筒形内側仕切り壁を、前記空気分配
    プレート／スクリーンに対して取付け、かつ軸方向に調
    節するための支持手段により、前記内側仕切り壁が前記
    空気分配プレート／スクリーンと結合されていることを
    特徴とする、請求項１記載のコータ。
  3. 【請求項３】前記支持手段が、前記内側仕切り壁を前記
    空気分配プレート／スクリーンに対して軸方向に調節す
    ることにより、前記空気分配プレート／スクリーンに対
    して前記内側仕切り壁の下端を全体として密封維持する
    手段を有することを特徴とする、請求項２記載のコー
    タ。
  4. 【請求項４】前記支持手段が、前記空気分配プレート／
    スクリーンから上方へ突出する円筒形カラーを有してお
    り、前記内側仕切り壁が前記カラー内へ調節可能にテレ
    スコープ式に挿入されていることを特徴とする、請求項
    ２記載のコータ。
  5. 【請求項５】流動床処理装置であって、開口を有するプ
    レート又はスクリーンを介してプレナムチャンバへ下方
    に開いた製品コンテナ区分を含むコンテナと、前記製品
    コンテナ区分に配置された噴射スプレーノズルと、前記
    プレート又はスクリーンを介して上方へ流動化ガスを通
    過させるための流動化ガス源とが設けられている形式の
    ものにおいて、 改良型が、前記スプレーノズルに隣接した位置に、流動
    床を通って移動する粒子の、前記ノズルにより形成され
    る初期スプレーパターン内への進入を阻止するシールド
    手段を有しており、前記シールド手段が、前記スプレー
    ノズルを取り囲む円筒形仕切り壁を含み、この仕切り壁
    の一端が前記スプレーノズルの上端に近いレベルに位置
    することを特徴とする、流動床処理装置。
  6. 【請求項６】前記製品コンテナ区分内に実質的に円筒状
    の外側仕切り壁が配置されいていて、該外側仕切り壁
    が、内側アップベッド領域と外側ダウンベッド領域とを
    形成するように前記プレート又はスクリーンの上方に間
    隔を置いて配置されており、前記内側の円筒形仕切り壁
    が円筒状の外側仕切り壁内へ上方に突入しており、スプ
    レーノズルが上方へ噴射するようになっており、最初に
    言及した、円筒状の内側仕切り壁の下端部が、プレート
    又はスクリーンを介してプレナムチャンバから通過させ
    られたガスを受け取るために開放していることを特徴と
    する、請求項５記載の流動床処理装置。
  7. 【請求項７】前記円筒形仕切り壁の反対側の端部が、前
    記流動床ガス源から流動化ガスを受け取るように配置さ
    れていることを特徴とする、請求項５又は６記載の流動
    床処理装置。
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