JP3376511B2 - 脱硝装置におけるアンモニアガス注入装置 - Google Patents

脱硝装置におけるアンモニアガス注入装置

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Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】この発明は、ガスタービンや
ボイラの排ガス中の窒素酸化物(NOx)を選択的接触
還元によって除去する脱硝装置における還元剤アンモニ
アガスの注入装置に関するものである。 【0002】 【従来の技術】脱硝装置は、図2に示すように、脱硝反
応器(21)とその上流のアンモニア注入グリッド(22)とか
らなり、ガスタービンあるいはボイラの排ガス出口ダク
ト(23)内に設けられ、通常は、排熱回収ボイラ(24)内に
配置されている。アンモニア注入グリッド(22)は、図3
および図4に示すように、フレーム(27)と、フレーム(2
7)の対向部に渡された複数のアンモニア注入パイプ(25)
と、同パイプ(25)をフレーム(27)に支持する複数のサポ
ート(28)とからなり、各アンモニア注入パイプ(25)のガ
ス流れ方向両側部には多数の注入ノズル(26)が等間隔で
開口されている。そして、アンモニア注入グリッド(22)
から気化アンモニアガスを排ガス中のNOxと等しい量
だけ排ガスに注入し、これを排ガス中に均一に拡散する
だけの距離分下流に置かれた脱硝反応器(21)内の脱硝触
媒で反応させ、NOxをN2 とH2Oに無害化する。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】上記脱硝システムにお
いて、脱硝率を向上させるには、(a) アンモニア注入グ
リッド(22)から出たアンモニアガスが排ガス中に均一に
拡散していること、および、(b) アンモニアガスを含む
排ガスが脱硝反応器(21)の触媒充填層を一様に通過する
ことが肝要であり、いずれの場所でも反応が均等に生じ
るようになされている。このうち(a) については、図3
および図4に示すように、アンモニア注入グリッド(22)
を、複数のグリッドパイプ(25)がダクト断面において均
等に配置されるように構成し、これらのグリッドパイプ
(25)の多数の注入ノズル(26)からアンモニアガスを排ガ
ス中に均等に噴出させている。さらにアンモニア注入グ
リッド(22)と脱硝反応器(21)の触媒充填層との距離をあ
る程度大きくとって、拡散の促進を図っている。 【0004】しかし、上記のような構成では、複数のグ
リッドパイプをある程度密に配置し、各ノズルからのア
ンモニアガス噴出量も均等にする必要がある上に、注入
グリッド(22)と触媒充填層の間に所定距離を確保するた
めの寸法上の制約があるなどの問題があった。 【0005】この発明の目的は、上記の点から、アンモ
ニア注入グリッドと脱硝触媒の距離を短くでき、複数の
注入グリッドパイプの間隔を広くとれ、グリッド構成を
簡素化でき、さらにアンモニア拡散の均一化を促進し
て、脱硝率を向上させることができるアンモニア注入装
置を提供することにある。 【0006】 【課題を解決するための手段】この発明によるアンモニ
ア注入装置は、これを構成するアンモニア注入パイプ
ガス流れ方向両側部に、多数の注入ノズルが等間隔で開
口されているとともに、上記パイプにおける各ノズルの
間に、ガス流れ方向に対し所定角度の傾きをなしかつ方
形の輪郭を有するフランジ状のフィンが設けられている
ものである。 【0007】上記構成のアンモニアガス注入装置では、
アンモニア注入パイプの複数のフランジ状の傾斜フィン
設置によって、規則正しく制御された渦を排ガス中に
発生することができ、これによってガスの拡散速度を早
めることができる。 【0008】上記渦は規則正しく発生するため、全体の
ガス流れに偏りを生じない。 【0009】このように拡散速度を速めることによっ
て、アンモニア注入グリッドと脱硝触媒の距離を短くで
き、複数の注入グリッドパイプの間隔を広くとれ、グリ
ッド構成を簡略化でき、さらに、アンモニア拡散の均一
化を促進して、脱硝率を向上させることができる。 【0010】 【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
示の実施例によって具体的に説明する。 【0011】アンモニア注入グリッド(1) は、フレーム
と、フレームの対向部に渡された複数のアンモニア注入
パイプ(2) と、同パイプ(2) をフレームに支持する複数
のサポートとからなり、各アンモニア注入パイプ(2) の
ガス流れ方向両側部には多数の注入ノズル(4) が等間隔
で開口されている。 【0012】アンモニア注入パイプ(2)には、図1に示
すように、複数のフィン(3)が設けられている。上記フ
ィン(3)は、方形の輪郭を有するフランジ状のものであ
って、各ノズル(4)の間にそれぞれ配置され、ガス流れ
方向に対し所定角度(θ)で傾いている。 【0013】上記構成のアンモニア注入グリッド(1)
は、図2に示すように、排ガス出口ダクト(23)における
排熱回収ボイラ(24)内に配置されている。 【0014】そして、排ガスはアンモニア注入グリッド
(1) を通過した後、図1(b)(c)に示すように、各
フィン(3) の端部から後流方向に縦渦(5) を形成する。
アンモニア注入ノズル(4) から出た気化アンモニアガス
は排ガスに混合し、形成された縦渦(5) に導入される。
これらの渦(5) は、いずれも各フィン(3) の先端から後
流方向に規則的に延び、同じ回転方向をもっている。こ
のため、全体の排ガスの流れが一方向に偏ったり注入さ
れたアンモニアの拡散が不均一になったりすることはな
い。そして、渦の形成によってアンモニアガスは通常の
一様流中を拡散する場合に比べ、はるかに速い速度、例
えば5〜10倍の速さで排ガス中に均一に拡散する。 【0015】 【発明の効果】この発明によれば、上記のように、渦の
発生は排ガスの流れに乱れを与え、ことによって排ガス
中のアンモニアガスの拡散を促進させる。この結果、ア
ンモニア注入グリッドと脱硝装置の触媒充填層との距離
を短縮することが可能となる。また、この効果は各アン
モニア注入パイプの間隔を広げ、すなわち同パイプの本
数を減らし、注入グリッドの構成を簡略化することもで
き、さらに、アンモニア拡散の均一化を促進して、脱硝
率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】 【図1】図1(a)はこの発明によるアンモニア注入グ
リッドを示す斜視図である。図1(b)は同アンモニア
注入グリッドの側面図である。図1(c)は同アンモニ
ア注入グリッドの正面図である。 【図2】脱脱硝装置を示す垂直断面図である。 【図3】従来のアンモニア注入グリッドを示す正面図で
ある。 【図4】従来のアンモニア注入パイプを示す斜視図であ
る。 【符号の説明】 1:アンモニア注入グリッド 2:アンモニア注入パイプ 3:フィン 4:ノズル 5:縦渦
フロントページの続き (72)発明者 東 恵美子 大阪市此花区西九条5丁目3番28号 日 立造船株式会社内 (72)発明者 中村 育雄 愛知県愛知郡長久手町大字長湫字丁子田 6番地の31 (56)参考文献 実開 昭59−176635(JP,U) 実開 平7−9428(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B01D 53/56,53/86

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 アンモニア注入グリッドを構成するアン
    モニア注入パイプのガス流れ方向両側部に、多数の注入
    ノズルが等間隔で開口されているとともに、上記パイプ
    における各ノズルの間に、ガス流れ方向に対し所定角度
    の傾きをなしかつ方形の輪郭を有するフランジ状のフィ
    ンが設けられている脱硝装置におけるアンモニアガス注
    入装置。
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