JP3396751B2 - 薄膜コイルを用いたハイブリッド型磁気ヘッドスライダーの製造方法 - Google Patents

薄膜コイルを用いたハイブリッド型磁気ヘッドスライダーの製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はコンピューターの補
助記録装置として用いられるハードディスク装置および
フロッピーディスク装置に用いられる薄膜コイルを用い
たハイブリッド型磁気ヘッドスライダーの製造方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来、コンピューターの補助記憶装置に
用いられているコンポジット型磁気ヘッドは、図8に示
される様な構造をしており、電磁変換用のコイル38を
スライダー側面に配置された巻線窓37を通してコアの
一方または両方の脚に巻き付けた構造をとっていた。面
および単位体積あたりの記録密度の向上につれて、軽量
で小型のスライダーの製造への要求が高まってきた。し
かるに、スライダーの小型化とともに、巻線窓の寸法も
小さくなり、従来の様な手巻きによる巻き線では歩留り
および生産性の面で限界に近づいてきていた。このよう
なことから、特開平5−128426号公報、特開平5
−242447号公報、特開平7−6316号公報に示
される様に、コイル部分を半導体の製造で用いられてい
る薄膜製造技術で作成し、そのコイルチップをスライダ
ー側面に張り付けることにより、人手による巻き線作業
を削減しようとする提案がなされてきた。尚、図8にお
いて33はスライダー、34はレール、35はフェライ
トコア、36は読み書き用ギャップである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、コイル
製造工程で絶縁膜として用いられるフォトレジストは、
高温、たとえば270℃以上の温度で連続して加熱する
と変形または変質することから、従来コア接着に用いら
れてきた450℃以上のガラスボンディング工程は採用
できなかった。また、ガラスボンドの代わりにエポキシ
樹脂の様な高分子系の接着剤を用いた場合、その接着界
面は、スライダーが媒体と対向あるいは摺動する面に露
出しているため、磨耗や腐蝕を受け易く、スライダーの
信頼性に問題があった。またコアを一つ一つ位置合せを
しながらスライダー側面に接着する従来の製造方法は、
歩留りおよび生産性の面で限界があった。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の問題点を
解決するためになされたものであり、その目的は、薄膜
コイルを用いたハイブリッド型磁気ヘッドスライダーの
製法において、同一条件で多数のコアを製造して歩留り
と性能の向上及び均一性が期待できる製法を得ることに
ある。その目的を達成するために、本発明は磁気ヘッド
スライダーの一対以上の前記コイル磁芯およびコイルを
備えた、非磁性セラミックスからなる棒状の薄膜コイル
スティックを製造する第一の工程と、一対以上のフェラ
イト製のヘッドコアを備えた、棒状の非磁性セラミック
スのヘッドコア基体を製造する第二の工程と、これらの
薄膜コイルスティックの切欠き面とヘッドコア基体の切
欠き部を組合せ接合する第三の工程と、該接合したスラ
イダーボンドバーのレール面を研磨することによってト
ラック幅及びギャップ深さを調整する第四の工程と、該
スライダーボンドバーを切断することによって、個々の
スライダーを作成する第五の工程を有する薄膜コイルを
用いたハイブリッド型磁気ヘッドスライダーの製造方法
が提供され、さらにこれに加えて該スライダーのレール
面の空気流入端および空気流出端側を研磨して傾斜を設
ける工程又はスライダーレールのエッヂ部の鋭角の部分
を取り除くブレンド加工をする工程を有する薄膜コイル
を用いたハイブリッド型磁気ヘッドスライダーの製造方
法が提供される。
【0005】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図を用い
て各工程毎にその詳細を述べる。図1の(A)〜図1の
(D)は第一の実施例の第一の工程を示す。(図1の
(A))では非磁性基板1の片面に磁芯を含む多数の薄
膜コイル素子2を形成する。本実施例では非磁性基板1
としてジルコニア(ZrO2 ) を用いたが、チタン酸カ
ルシウム(CaTiO3 )やアルチック(AlTi
C)、アルミナ( Al23 )材などを用いてもよい。
基板の寸法は直径3インチ、厚さ0.8mmのものを用
いた。基板の形状は角型であってもかまわないが、その
表面積が大きいほど単位面積あたりの素子の取り数が多
くなることから、部品単価を下げることが出来る。
【0006】ちなみに、本実施例で用いた直径3インチ
の基板からは、ピコサイズのスライダーを約2500個
取ることができる。基板厚さは、薄いほど後の工程で削
り代が減り工数の削減につながるが、薄くなると素子作
成時や研磨時に基板が反り、加工精度の低下をきたすた
め、0.8mm〜1mm程度の厚さが適している。(図
1の(B)〜(C))では、グラインダーまたはダイサ
ーにより切断溝12を基板1に入れ、薄膜コイルスティ
ック4を作成する。この場合、磁芯2aが露出するよう
に切断を行うが、必要に応じて研磨によりその露出面を
平滑にする。尚、2bは薄膜コイル、2cは端子であ
る。(図1の(D))では、薄膜コイルスティック4の
薄膜素子が形成されている面の反対側にグラインダーに
より切欠き5を形成する。
【0007】図2の(E)〜図3の(M)は第二の工程
を示す。(図2の(E))では、溝6a及び6'aを設
けた2枚のフェライト製のフェライト基板6及び6'の
表面にそれぞれ鉄系の高透磁率を有する薄膜7a及び7
a'をスパッタリング法により形成する。さらにその上
にギャップ形成およびガラスボンディング用の接着剤と
なるガラス膜7及び7'を同様なスパッタリング法によ
り形成する。(図2の(F))では、フェライト基板6
及び6'を重ねて後これを500〜600℃程度でガラ
スボンドしボンドバー8を作成する。尚、9は溝6a、
6'aを埋める補強ガラスであり、10はエーペックス
を示す。また、11は接合面である。(図2の(G)〜
(H))では、ボンドバー8をグラインダーまたはダイ
サーにより切断部分12より切断し、コアスティック1
3を作成する。(図2の(I))では、別に用意した非
磁性基板14にグラインダーでスティック位置決め用の
溝15を加工した後、図には示していないが、その加工
面にスパッタリング法によりガラスボンド用のガラス薄
膜を形成する。このガラス薄膜は、厚さが2000〜3
000オングストローム程度、軟化点が400℃程度の
ものが選ばれる。またガラス中の酸化珪素の含有量を多
くすることによりガラスの信頼性を上げることが出来
る。
【0008】(図2の(J))では、溝15の表面にガ
ラス薄膜を形成した非磁性基板14の溝15にコアステ
ィック13を並べ、スティック同士のエーペックス10
の位置を揃え、瞬間接着剤等で仮固定する。その後、電
機炉中で該ガラス薄膜を溶かすことにより、コアスティ
ック13と非磁性基板14を接合しヘッドコア基体16
を作成する。ここで用いるコアスティックは同一のボン
ドバー8から切り出したものを用いることにより、後述
する切断工程でヘッドコア同士のエーペックス10が横
方向にそろったスティックを作成でき、またトラック幅
およびギャップ深さを調整する工程で、歩留りを上げる
ことができる。(図3の(K)〜(L))では、ヘッド
コア基体16の長さ方向に沿って切断部分12’を切断
する。この場合あらかじめヘッドコアのエーペックス側
に三角状の溝12”を入れてから切断することにより、
ヘッドコアのエーペックス側に約60度の角度でテーパ
ーをつけることができ、後述するトラック幅の加工が容
易となる。(図3の(M))では、ヘッドコア基体16
のコアが接着されている非磁性体の部分にグラインダー
により切欠き部19を加工する。この場合、コアスティ
ック13の側面が切欠き部19に露出するように行う。
【0009】図4の(N)は第三の工程を示す。ヘッド
コア基体16と第一の工程で作成された薄膜コイルステ
ィック4を、削り取った切欠き5の面と図3の(M)に
示す切欠き部19面を合わせエポキシ樹脂等で接合しス
ライダーボンドバー20を作成する。この場合、薄膜コ
イル部に用いられている絶縁用レジスト膜を保護するた
めに、270℃以下で行う様にする。図4の(O)は第
四の工程を示す。レール22の高さを揃え、トラック幅
23およびギャップ深さ24を調整するためスライダー
ボンドバー20のレール面側を研磨する。図5の(P)
〜図5の(Q)は第五の工程を示す。ダイサーにより2
5の位置で切断し個々のスライダー26を作成する。図
5の(R)は第六の工程を示す。レール面22の空気流
入側27−Aと空気流出側27−Bにラッピングにより
テーパー27−a、27−bを施す。図5の(S)は第
七の工程を示す。スライダーの媒体と対向するレール面
の角部を、研磨テープにより取り除きブレンド28A〜
28Bを施す。
【0010】図6は本発明の第二の実施例を示す図であ
る。本実施例では、第一の実施例のうち、薄膜コイル素
子が作成されている薄膜コイルスティック4を5の部分
で切り欠いて薄板状に加工し、(図6の(A))、フェ
ライトコアが接合されているヘッドコア基体16の非磁
性体の部分に切欠き部5”及び5””を形成し(図6の
(B’))、薄膜コイルスティック4およびヘッドコア
基体16を接合面11でエポキシ樹脂等を用い低温接着
したものである(図6の(C))。尚、図5の(P)の
25の部分と同様な位置で切断してスライダーを形成す
る。
【0011】図7は本発明の第三の実施例を示す図であ
る。本実施例では、第一の実施例のうち、薄膜コイル素
子が作成されている薄膜コイルスティック4を5の部分
で切り欠いて、その切欠き面に磁芯2aを表出させ(図
7(A))、フェライトコアが接合されているヘッドコ
ア基体16の非磁性体の部分に切欠き部5を形成し、薄
膜コイルスティック4およびヘッドコア基体16を図7
の(C)に示すように接合面11でエポキシ樹脂等を用
い低温接着したものである。
【0012】
【発明の効果】本発明によれば、従来個々に張り付けて
いた微小のフェライトコアをスティックの状態で非磁性
体の基体に張り付けることができ、コアの破損を防ぐこ
とができるため歩留りの向上が期待でき、さらに多くの
スライダーを同一条件で加工できることから、加工精度
の向上および工数の削減と性能の均一性が期待できる。
また媒体と対向するスライダー面に露出する接着層は、
ガラスのみとなり、信頼性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一の実施例の一部工程を示す工程図
である。
【図2】本発明の第一の実施例の一部工程を示す工程図
である。
【図3】本発明の第一の実施例の一部工程を示す工程図
である。
【図4】本発明の第一の実施例の一部工程を示す工程図
である。
【図5】本発明の第一の実施例の一部工程を示す工程図
である。
【図6】本発明の第二の実施例の一部を示す図である。
【図7】本発明の第三の実施例の一部を示す図である。
【図8】従来のコンポジット型磁気ヘッドスライダー斜
視図である。
【符号の説明】
1・・・・・非磁性セラミックス基板 2・・・・・薄膜コイル素子 2a・・・・磁芯 2b・・・・薄膜コイル 2c・・・・端子 3・・・・・磁芯 4・・・・・薄膜コイルスティック 5・・・・・切欠き部 6・・・・・フェライト基板 6a・・・・溝 7・・・・・ガラス膜 7a・・・・磁性膜 8・・・・・フェライトボンドバー 9・・・・・補強ガラス 10・・・・エーペックス 11・・・・接合面 12・・・・切断部分 13・・・・コアスティック 14・・・・非磁性基板 15・・・・溝 16・・・・ヘッドコア基体 20・・・・スライダーボンドバー 22・・・・レール 23・・・・トラック幅 24・・・・ギャップ深さ 25・・・・切断部 26・・・・スライダー 27A・・・空気流入端テーパー 27B・・・空気流出端テーパー 28・・・・ブレンド加工面 33・・・・従来のコンポジット型スライダー 34・・・・レール 35・・・・フェライトヘッドコア 36・・・・読み書き用ギャップ 37・・・・巻線窓 38・・・・導体コイル

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】磁気記録媒体と対向する面にレールを有す
    るスライダーの裏面に、薄膜の磁芯およびコイルを有
    し、該磁芯と該レールに平行なスライダー側面に配置さ
    れた磁気コアが、磁気的に結合し磁気回路を形成する磁
    気ヘッドスライダーにおいて、一対以上の前記磁芯およ
    びコイルを備え、非磁性セラミックスからなり切欠きを
    具備する棒状の薄膜コイルスティックを製造する第一の
    工程と、一対以上のフェライト製のヘッドコアを備え、
    切欠き部を具備する棒状の非磁性セラミックスからなる
    ヘッドコア基体を製造する第二の工程と、前記薄膜コイ
    ルスティックの切欠き面とヘッドコア基体の切欠き部
    組合せ接合する第三の工程と、該接合したスライダーボ
    ンドバーのレール面を研磨してトラック幅及びギャップ
    深さを調整する第四の工程と、該スライダーボンドバー
    を切断して、個々のスライダーを作成する第五の工程
    と、を有した薄膜コイルを用いたハイブリッド型磁気ヘ
    ッドスライダーの製造方法。
  2. 【請求項2】前記スライダーのレール面を研磨して空気
    流入端および空気流出端側に傾斜を設けることを特徴と
    する請求項1に記載の薄膜コイルを用いたハイブリッド
    型磁気ヘッドスライダーの製造方法。
  3. 【請求項3】前記スライダーのレールのエッヂ部分を研
    磨して角部を除去することを特徴とする請求項1に記載
    の薄膜コイルを用いたハイブリッド型磁気ヘッドスライ
    ダーの製造方法。
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