JP3419310B2 - 内燃機関の排気浄化装置 - Google Patents
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Description
装置に関する。
ば特開平9−228828号公報に示されているよう
に、排気通路にHC(炭化水素)吸着成分と触媒成分と
を有する吸着触媒装置を配設し、排気温度がこの吸着触
媒装置で一旦吸着したHCが脱離する温度に昇温する
と、空燃比をリーン側に制御することにより排気ガスを
酸素過剰状態にして、脱離したHCの酸化除去を行わせ
るようにしたものが知られている。
媒装置で脱離したHCを良好に浄化させるためには、空
燃比を理論空燃比よりもリーン側に設定して、排気ガス
中に脱離したHCと反応するのに十分な酸素を供給する
必要があり、このため、空燃比のリーン制御の度合いが
大きくなって、NOx の排出量が増大するという相剋的
な問題を生じる。
脱離によって、排気ガスが排気ガス中の酸素量に対する
HC濃度が大きくなるリッチ雰囲気となった場合でも、
該吸着触媒装置でのHCの酸化除去を徹底させることが
できて、空燃比のリーン制御の度合いを低めることがで
き、HC脱離時におけるHC浄化とNOx 排出量の低減
化との両立を図ることができる内燃機関の排気浄化装置
を提供するものである。
は、Pt,Pd,Rhの貴金属のうち少くとも1種以上
の触媒成分を有する触媒装置と、HC吸着成分とPt,
Pd,Rhの貴金属のうち少くともRhを含む1種以上
の触媒成分とを有する吸着触媒装置とを排気通路に直列
に配置し、かつ、吸着触媒装置のRh含有率を触媒装置
のRh含有率よりも大きくした内燃機関の排気浄化装置
であって、前記吸着触媒装置が複数個直列に設けられ、
下流側の吸着触媒装置のRh含有率又はRh含有量を、
上流側の吸着触媒装置のRh含有率又はRh含有量より
も大きくしたことを特徴としている。
載の触媒装置の後流に吸着触媒装置を配置したことを特
徴としている。
載の触媒装置のPt含有率又はPt含有量を、吸着触媒
装置のPt含有率又はPt含有量よりも大きくしたこと
を特徴としている。
に記載の触媒装置の総貴金属量と、吸着触媒装置の総貴
金属量とを等しくしたことを特徴としている。
に記載の触媒装置の総貴金属量を、吸着触媒装置の総貴
金属量よりも大きくしたことを特徴としている。
に記載の吸着触媒装置の総貴金属量を、触媒装置の総貴
金属量よりも大きくしたことを特徴としている。
に記載の吸着触媒装置を、ハニカム担体の表面に設けた
下層側のHC吸着剤層と、表面側の触媒層との積層構造
に構成したことを特徴としている。
に記載の吸着触媒装置を、ハニカム担体の表面に触媒成
分とHC吸着剤とが混合されたコート層を設けて構成し
たことを特徴としている。
は、脱離したHCのために該吸着触媒装置上の雰囲気が
排気通路内の他の部分に比べてリッチ側に偏る。例え
ば、エンジンを理論空燃比に制御すれば吸着触媒装置上
の雰囲気は理論空然比相当の雰囲気よりもリッチ雰囲気
となり、吸着触媒装置上の雰囲気を理論空然比相当の雰
囲気にしようとすればエンジンをその分理論空然比より
もリーン側で運転することになる。
若干リッチ側の空然比に亘る空然比幅の雰囲気中で高い
HC転化率が得られる物性を備えており、Ptは理論空
然比から若干リーン側の空然比に亘る空然比幅の雰囲気
中で高いHC転化率が得られる物性を備え、Pdは理論
空然比の近傍の雰囲気中で特に高いHC転化率が得られ
る物性を備えている。
HC脱離時に吸着触媒装置上の雰囲気が若干リッチとな
っていても脱離HCを良好に浄化できるので、HC脱離
時にエンジンを若干のリーン空然比又は理論空然比で運
転することが可能となり、この間のNOxの排出を低く
抑制することができる。また、相対的にPt又はPdの
含有率が大となる触媒装置では、若干のリーン空然比又
は理論空然比の雰囲気中でHCを良好に浄化するという
効果が得られる。さらに、吸着触媒装置は触媒装置と同
様に触媒成分が酸素の貯蔵作用を有しているため、吸着
触媒装置を複数個直列に設けてあると、上流側の吸着触
媒装置における酸素貯蔵作用によって、下流側の吸着触
媒装置へ酸素が行き届きにくくなる傾向となるが、該下
流側の吸着触媒装置のRh含有率又はRh含有量を、上
流側の吸着触媒装置のRh含有率又はRh含有量よりも
大きくしてあるため、該下流側の吸着触媒装置でも高い
HC転化率が得られる。また、このように複数個の吸着
触媒装置を直列に設けてあるため、上流側と下流側とで
吸着触媒装置のHC脱離時期に温度差を持たせることが
できるため、HCの浄化を徹底することができる。
着触媒装置よりも上流側に配置される触媒装置は、吸着
触媒装置よりも早期に昇温するので、吸着触媒装置が脱
離温度に達した時点である程度活性が進んでいることに
なる。ここで、HC脱離時にエンジンを若干のリーン空
然比又は理論空然比で運転する場合、このリーン空然比
又は理論空然比の排気ガスは、Pt又はPdの含有率が
大とされ、かつ、ある程度活性の進んだ触媒装置に流入
するので、排気ガス中のHCが良好に浄化される。つま
り、HC脱離時に、吸着触媒装置で脱離HCの浄化を良
好に行うだけでなく、触媒装置でエンジンから排出され
るHCの浄化を良好に行うことができる。
触媒装置は若干のリーン空然比の雰囲気中でHCを良好
に浄化できる。吸着触媒装置に吸着されるHC量が多い
場合、HC脱離時に吸着触媒装置上の雰囲気が大幅にリ
ッチ側に偏る場合があり、このような場合はエンジンを
若干のリーン空然比で運転し、吸着触媒装置上の雰囲気
をRhが良好にHCを浄化できる程度のリッチ雰囲気に
する必要がある。このような場合でも、エンジンから排
出されたHCは、触媒装置で良好に浄化することができ
る。
〜3の発明の効果に加えて、触媒装置の総貴金属量と、
吸着触媒装置の総貴金属量とを等しくしてあるため、該
吸着触媒装置でも触媒装置と同等の排気浄化性能を得る
ことができる。
〜3の発明の効果に加えて、触媒装置の総貴金属量を、
吸着触媒装置の総貴金属量よりも大きくしてあるため、
触媒装置の低温活性を速めることができて該触媒装置の
排気浄化性能を高めることができる。
〜3の発明の効果に加えて、吸着触媒装置の総貴金属量
を、触媒装置の総貴金属量よりも大きくしてあるため、
該吸着触媒装置の低温活性を速めて活性温度をHC脱離
温度に近づけることができて、HCの燃焼浄化性能を高
めることができる。
項1〜6の発明の効果に加えて、吸着触媒装置のHC吸
着剤から脱離したHCを、周囲の触媒成分によって燃焼
浄化することができてHCの燃焼浄化をより一層徹底す
ることができる。
共に詳述する。
気通路3の基部となる排気マニホルドを示し、この排気
通路3には排気マニホルド2に近接して触媒装置として
の3元触媒装置4を配設してあると共に、その下流にH
C吸着成分と3元触媒成分とを有する吸着触媒装置5を
配設してある。
何れも触媒貴金属としてPt,Rhの組合わせ、又はP
d,Rhの組合わせ、あるいはPt,Pd,Rhを組合
わせたものが用いられる。
は、3元触媒装置4の総貴金属量と吸着触媒装置5の総
貴金属量とを等しくした態様と、3元触媒装置4の総貴
金属量を吸着触媒装置5の総貴金属量よりも大きくした
態様、又は、吸着触媒装置5の総貴金属量を3元触媒装
置4の総貴金属量よりも大きくした態様とすることがで
きるが、何れの場合でも吸着触媒装置5のRh含有率を
3元触媒装置4のRh含有率よりも大きくしてある。
体の前半部にHC吸着剤コート層を、および後半部に3
元触媒コート層を設けた構造のものが用いられる他、ハ
ニカム担体の表面に下層側のHC吸着剤層と、表面側の
3元触媒層とを設けて積層構造としたものや、ハニカム
担体の表面に3元触媒成分とHC吸着剤とが混合された
コート層を設けて構成したものを用いることができる。
なお、HC吸着剤としては公知のゼオライト等を用いる
ことができる。
ば、エンジン本体1に理論空燃比の燃料を供給していて
も、排気ガスの温度が吸着触媒装置5で一旦吸着したH
Cが脱離する温度にまで上昇すると、該吸着触媒装置5
では脱離したHCによって排気ガスはリッチ雰囲気とな
る。
気ガスがリッチ側となっても高いHC転化率が得られる
物性を備えていて、吸着触媒装置5のRh含有率を3元
触媒装置4のRh含有率よりも大きくしてあるから、該
吸着触媒装置5からHCが脱離して排気ガスがリッチ雰
囲気となっても、該吸着触媒装置5でHCを効率よく燃
焼浄化させることができる。
ーン制御の度合いを低めることができて、HCの浄化と
NOx 排出量の低減化との両立を実現することができ
る。
浄化を良好に行えるため、場合によっては3元触媒装置
4はRh成分を除くこともできる。
高温保持される排気マニホルド2に近接配置してあるた
め、3元触媒装置4の低温活性を速めることができて、
3元触媒装置4の排気浄化性能を高めることができる。
カム担体の表面に設けた下層側のHC吸着剤層と、表面
側の3元触媒層との積層構造としたもの、あるいは、ハ
ニカム担体の表面に3元触媒成分とHC吸着剤とが混合
されたコート層を設けて構成したものを用いれば、前述
のように吸着触媒装置5のHC吸着剤からHCが脱離す
ると、その周囲の3元触媒成分によって速かにHCを燃
焼浄化することができて、HCの浄化性能を高めること
ができる。
触媒装置5の総貴金属量とを等しくすれば、吸着触媒装
置5でも3元触媒装置4と同等の排気浄化性能を得るこ
とができる。
触媒装置5の総貴金属量よりも大きくすれば、3元触媒
装置4の低温活性をより速めることができて、該3元触
媒装置4の排気浄化性能を更に高めることができる。
量を3元触媒装置4の総貴金属量よりも大きくすれば、
3元触媒装置4の下流で昇温特性が厳しくなる傾向にあ
る吸着触媒装置5の低温活性を速めて、活性温度をHC
脱離温度に近づけることができてHCの燃焼浄化性能を
高めることができる。
触媒装置4の総貴金属量と吸着触媒装置5の総貴金属量
とを任意に選択して、最適な排気浄化性能を発揮させる
ことができる。
で、この第2実施形態にあっては、前記第1実施形態に
おける吸着触媒装置5の下流に第2の3元触媒装置41
を設けると共に、その下流に第2の吸着触媒装置51を
設けてある。
1,吸着触媒装置5、および第2の吸着触媒装置51の
Rh含有率又はRh含有量は、51>5>41≧4の関
係となるように設定してある。
1のPt含有率又はPt含有量は、4>5≧51≧41
の関係となるように設定してある。
前記第1実施形態と同様の効果が得られる他、次に述べ
る効果を得ることができる。
同様に3元触媒成分が酸素の貯蔵作用を有しているた
め、吸着触媒装置5,51を直列に設けてあると上流側
の吸着触媒装置5における酸素貯蔵作用によって、下流
側の吸着触媒装置51へ酸素が行き届きにくくなる傾向
となるが、該下流側の吸着触媒装置51のRh含有率又
はRh含有量を、上流側の吸着触媒装置5のRh含有率
又はRh含有量よりも大きく設定してあるため、該下流
側の吸着触媒装置51でも高いHC転化率を得ることが
できる。
5,51を直列に設けてあるため、上流側と下流側とで
吸着触媒装置5,51のHC脱離時期に温度差を持たせ
ることができ、例えば、3元触媒装置4が活性化するま
では吸着触媒装置5がHC吸着可能限界を維持し、第2
の3元触媒装置41が活性化するまでは第2の吸着触媒
装置51がHC吸着可能限界を維持するように、これら
吸着触媒装置5,51のHC脱離時期をずらすことがで
きて、HCの浄化を徹底することができる。
スがリーン雰囲気側となっても高い転化率が得られる物
性を有しており、上流側の3元触媒装置4のPt含有率
又はPt含有量を、下流側の吸着触媒装置5,51のP
t含有率又はPt含有量よりも大きく設定してあるた
め、排気ガスのリーン雰囲気からリッチ雰囲気に亘る広
い範囲でHCの燃焼浄化を良好に行わせることができ
る。
Claims (8)
- 【請求項1】 Pt,Pd,Rhの貴金属のうち少くと
も1種以上の触媒成分を有する触媒装置と、HC吸着成
分とPt,Pd,Rhの貴金属のうち少くともRhを含
む1種以上の触媒成分とを有する吸着触媒装置とを排気
通路に直列に配置し、かつ、吸着触媒装置のRh含有率
を触媒装置のRh含有率よりも大きくした内燃機関の排
気浄化装置であって、 前記吸着触媒装置が複数個直列に設けられ、下流側の吸
着触媒装置のRh含有率又はRh含有量を、上流側の吸
着触媒装置のRh含有率又はRh含有量よりも大きくし
たことを特徴とする内燃機関の排気浄化装置。 - 【請求項2】 触媒装置の後流に吸着触媒装置を配置し
たことを特徴とする請求項1に記載の内燃機関の排気浄
化装置。 - 【請求項3】 触媒装置のPt含有率又はPt含有量
を、吸着触媒装置のPt含有率又はPt含有量よりも大
きくしたことを特徴とする請求項2に記載の内燃機関の
排気浄化装置。 - 【請求項4】 触媒装置の総貴金属量と、吸着触媒装置
の総貴金属量とを等しくしたことを特徴とする請求項1
〜3の何れかに記載の内燃機関の排気浄化装置。 - 【請求項5】 触媒装置の総貴金属量を、吸着触媒装置
の総貴金属量よりも大きくしたことを特徴とする請求項
1〜3の何れかに記載の内燃機関の排気浄化装置。 - 【請求項6】 吸着触媒装置の総貴金属量を、触媒装置
の総貴金属量よりも大きくしたことを特徴とする請求項
1〜3の何れかに記載の内燃機関の排気浄化装置。 - 【請求項7】 吸着触媒装置を、ハニカム担体の表面に
設けた下層側のHC吸着剤層と、表面側の触媒層との積
層構造に構成したことを特徴とする請求項1〜6の何れ
かに記載の内燃機関の排気浄化装置。 - 【請求項8】 吸着触媒装置を、ハニカム担体の表面に
触媒成分とHC吸着剤とが混合されたコート層を設けて
構成したことを特徴とする請求項1〜6の何れかに記載
の内燃機関の排気浄化装置。
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2001
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