JP3528941B2 - 電子写真画像形成装置 - Google Patents
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- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 34
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 16
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 claims description 8
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000006163 transport media Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 47
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 29
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 29
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 16
- 238000011161 development Methods 0.000 description 14
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 14
- -1 for example Substances 0.000 description 12
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 9
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N ferrosoferric oxide Chemical compound O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N ferric oxide Chemical compound O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 239000012992 electron transfer agent Substances 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 3
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 3
- 229920001909 styrene-acrylic polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910026551 ZrC Inorganic materials 0.000 description 2
- OTCHGXYCWNXDOA-UHFFFAOYSA-N [C].[Zr] Chemical compound [C].[Zr] OTCHGXYCWNXDOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 2
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000005513 bias potential Methods 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N furosemide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(C(O)=O)=C1NCC1=CC=CO1 ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N pyrazoline Chemical compound C1CN=NC1 DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004057 1,4-benzoquinones Chemical class 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 1,4a-dimethyl-7-propan-2-yl-2,3,4,4b,5,6,10,10a-octahydrophenanthrene-1-carboxylic acid Chemical compound C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFKNYYQRWMMFSM-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-9h-carbazole;formaldehyde Chemical compound O=C.N1C2=CC=CC=C2C2=C1C(CC)=CC=C2 LFKNYYQRWMMFSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOERSAVCLPYNIZ-UHFFFAOYSA-N 2,4,5,7-tetranitrofluoren-9-one Chemical compound O=C1C2=CC([N+]([O-])=O)=CC([N+]([O-])=O)=C2C2=C1C=C([N+](=O)[O-])C=C2[N+]([O-])=O JOERSAVCLPYNIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVNMKGQIOLSWHJ-UHFFFAOYSA-N 2,4,5,7-tetranitroxanthen-9-one Chemical compound C1=C([N+]([O-])=O)C=C2C(=O)C3=CC([N+](=O)[O-])=CC([N+]([O-])=O)=C3OC2=C1[N+]([O-])=O FVNMKGQIOLSWHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHQGURIJMFPBKS-UHFFFAOYSA-N 2,4,7-trinitrofluoren-9-one Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=C2C3=CC=C([N+](=O)[O-])C=C3C(=O)C2=C1 VHQGURIJMFPBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCQLACGUXBFKGM-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,7-trinitro-1-oxo-2h-fluoren-9-ylidene)propanedinitrile Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2C(C(=CC(C3=O)[N+](=O)[O-])[N+]([O-])=O)=C3C(=C(C#N)C#N)C2=C1 WCQLACGUXBFKGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WIUZWXLGLWVIBK-UHFFFAOYSA-N 2-butan-2-yl-n-[4-[4-(n-(2-butan-2-ylphenyl)anilino)phenyl]phenyl]-n-phenylaniline Chemical compound CCC(C)C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C(=CC=CC=1)C(C)CC)C1=CC=CC=C1 WIUZWXLGLWVIBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTSOUQHNEQWVBM-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-n-[4-[4-(n-(2-butylphenyl)anilino)phenyl]phenyl]-n-phenylaniline Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C(=CC=CC=1)CCCC)C1=CC=CC=C1 XTSOUQHNEQWVBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGXPSFCDNMDGCI-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-n-[4-[4-(n-(2-chlorophenyl)anilino)phenyl]phenyl]-n-phenylaniline Chemical compound ClC1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C(=CC=CC=1)Cl)C1=CC=CC=C1 NGXPSFCDNMDGCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QACPCJGYSAXOKW-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-n-[4-[4-(n-(2-ethylphenyl)anilino)phenyl]phenyl]-n-phenylaniline Chemical compound CCC1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C(=CC=CC=1)CC)C1=CC=CC=C1 QACPCJGYSAXOKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZFWUYVLUXMWPM-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yl-n-[4-[4-(2-propan-2-ylanilino)phenyl]phenyl]aniline Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1NC1=CC=C(C=2C=CC(NC=3C(=CC=CC=3)C(C)C)=CC=2)C=C1 FZFWUYVLUXMWPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWQHGWADSJKKEZ-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-n-[4-[4-(n-(2-tert-butylphenyl)anilino)phenyl]phenyl]-n-phenylaniline Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C(=CC=CC=1)C(C)(C)C)C1=CC=CC=C1 AWQHGWADSJKKEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNNQYHFROJDYHQ-UHFFFAOYSA-N 3-(4-ethylcyclohexyl)propanoic acid 3-(3-ethylcyclopentyl)propanoic acid Chemical compound CCC1CCC(CCC(O)=O)C1.CCC1CCC(CCC(O)=O)CC1 HNNQYHFROJDYHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDRNXKXKFNHNCA-UHFFFAOYSA-N 4-(4-anilinophenyl)-n-phenylaniline Chemical class C=1C=C(C=2C=CC(NC=3C=CC=CC=3)=CC=2)C=CC=1NC1=CC=CC=C1 FDRNXKXKFNHNCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 4-(4-oxocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)cyclohexa-2,5-dien-1-one Chemical class C1=CC(=O)C=CC1=C1C=CC(=O)C=C1 DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGBCLRRWZQSURU-UHFFFAOYSA-N 4-[(diphenylhydrazinylidene)methyl]-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=NN(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YGBCLRRWZQSURU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCKUSNNVDLVJQJ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[3-[4-(diethylamino)phenyl]-4-methyl-2-phenyl-1,3-dihydropyrazol-5-yl]ethenyl]-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=CC1=C(C)C(C=2C=CC(=CC=2)N(CC)CC)N(C=2C=CC=CC=2)N1 XCKUSNNVDLVJQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDQMFBXOQYLWQE-UHFFFAOYSA-N 4-[5-(2-chlorophenyl)-2-[4-(diethylamino)phenyl]-1,3-oxazol-4-yl]-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC(=CC=2)N(C)C)=C(C=2C(=CC=CC=2)Cl)O1 BDQMFBXOQYLWQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLAZXGNBGZYJSA-UHFFFAOYSA-N 9-ethylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(CC)C3=CC=CC=C3C2=C1 PLAZXGNBGZYJSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSZJZNNASZFXKN-UHFFFAOYSA-N 9-propan-2-ylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C(C)C)C3=CC=CC=C3C2=C1 LSZJZNNASZFXKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002771 BaFe12O19 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002321 LaFeO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Chemical class 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004419 Panlite Substances 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004902 Softening Agent Substances 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHNCXGXWSIOXSX-UHFFFAOYSA-N [Nd+3].[O-2].[Fe+2] Chemical compound [Nd+3].[O-2].[Fe+2] JHNCXGXWSIOXSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEKNPTMOEUCRLW-UHFFFAOYSA-N [O-2].[Fe+2].[Gd+3] Chemical compound [O-2].[Fe+2].[Gd+3] NEKNPTMOEUCRLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZHZIMFFZGAOGY-UHFFFAOYSA-N [O-2].[Fe+2].[La+3] Chemical compound [O-2].[Fe+2].[La+3] GZHZIMFFZGAOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQHONKDTTOGZPR-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[Mn+2].[Fe+2] Chemical compound [O-2].[O-2].[Mn+2].[Fe+2] WQHONKDTTOGZPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUNAPVYQLLNFOI-UHFFFAOYSA-L [Pb++].[Pb++].[Pb++].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-][Cr]([O-])(=O)=O.[O-][Mo]([O-])(=O)=O Chemical compound [Pb++].[Pb++].[Pb++].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-][Cr]([O-])(=O)=O.[O-][Mo]([O-])(=O)=O AUNAPVYQLLNFOI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- CECABOMBVQNBEC-UHFFFAOYSA-K aluminium iodide Chemical compound I[Al](I)I CECABOMBVQNBEC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- PGEHNUUBUQTUJB-UHFFFAOYSA-N anthanthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=C4C=CC=C5C(=O)C6=CC=C1C2=C6C3=C54 PGEHNUUBUQTUJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- YXTPWUNVHCYOSP-UHFFFAOYSA-N bis($l^{2}-silanylidene)molybdenum Chemical compound [Si]=[Mo]=[Si] YXTPWUNVHCYOSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000012661 block copolymerization Methods 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJOBVZJTOIVNNF-UHFFFAOYSA-N cadmium sulfide Chemical compound [Cd]=S CJOBVZJTOIVNNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAXLMRUQFAMMQC-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+) iron(2+) oxygen(2-) Chemical compound [Cd+2].[O-2].[Fe+2].[O-2] BAXLMRUQFAMMQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003739 carbamimidoyl group Chemical group C(N)(=N)* 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006231 channel black Substances 0.000 description 1
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQZMNHRQCCAJE-UHFFFAOYSA-N copper;iron(2+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Fe+2].[Cu+2] CTQZMNHRQCCAJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000012674 dispersion polymerization Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- PLYDMIIYRWUYBP-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-[[2-chloro-4-[3-chloro-4-[(3-ethoxycarbonyl-5-oxo-1-phenyl-4h-pyrazol-4-yl)diazenyl]phenyl]phenyl]diazenyl]-5-oxo-1-phenyl-4h-pyrazole-3-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1=NN(C=2C=CC=CC=2)C(=O)C1N=NC(C(=C1)Cl)=CC=C1C(C=C1Cl)=CC=C1N=NC(C(=N1)C(=O)OCC)C(=O)N1C1=CC=CC=C1 PLYDMIIYRWUYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013213 extrapolation Methods 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 229940056319 ferrosoferric oxide Drugs 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006232 furnace black Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 125000002795 guanidino group Chemical group C(N)(=N)N* 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 125000000717 hydrazino group Chemical group [H]N([*])N([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)iron;iron Chemical compound [Fe].O[Fe]=O.O[Fe]=O UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NNGHIEIYUJKFQS-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)iron;zinc Chemical compound [Zn].O[Fe]=O.O[Fe]=O NNGHIEIYUJKFQS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- QWKOQIMXHAINRB-UHFFFAOYSA-N iron(2+) lead(2+) oxygen(2-) Chemical compound [Pb+2].[O-2].[Fe+2].[O-2] QWKOQIMXHAINRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMTIXTXDJGWVCO-UHFFFAOYSA-N iron(2+) nickel(2+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[O--].[Fe++].[Ni++] DMTIXTXDJGWVCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADCBYGNHJOLWLB-UHFFFAOYSA-N iron(2+) oxygen(2-) yttrium(3+) Chemical compound [Y+3].[O-2].[Fe+2] ADCBYGNHJOLWLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- ZTERWYZERRBKHF-UHFFFAOYSA-N magnesium iron(2+) oxygen(2-) Chemical compound [Mg+2].[O-2].[Fe+2].[O-2] ZTERWYZERRBKHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOFDVIIRCRBXCB-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-1,3-benzothiazol-2-amine Chemical compound C1=CC=C2SC(N(CC)CC)=NC2=C1 ZOFDVIIRCRBXCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQGJLZVVRFSUBM-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-1,3-benzoxazol-2-amine Chemical compound C1=CC=C2OC(N(CC)CC)=NC2=C1 LQGJLZVVRFSUBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VENDXQNWODZJGB-UHFFFAOYSA-N n-(4-amino-5-methoxy-2-methylphenyl)benzamide Chemical compound C1=C(N)C(OC)=CC(NC(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1C VENDXQNWODZJGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUJMFQYAKKPLSH-UHFFFAOYSA-N n-[[4-(diethylamino)phenyl]methylideneamino]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=NN(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=CC=C1 SUJMFQYAKKPLSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSAIMWRAOAAKKF-UHFFFAOYSA-N n-phenyl-2-propyl-n-[4-[4-(n-(2-propylphenyl)anilino)phenyl]phenyl]aniline Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C(=CC=CC=1)CCC)C1=CC=CC=C1 GSAIMWRAOAAKKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRWSIBVXSYPWLH-UHFFFAOYSA-N n-phenyl-n-[(4-pyrrolidin-1-ylphenyl)methylideneamino]aniline Chemical compound C1CCCN1C(C=C1)=CC=C1C=NN(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 XRWSIBVXSYPWLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005653 propylene-ethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- LLBIOIRWAYBCKK-UHFFFAOYSA-N pyranthrene-8,16-dione Chemical compound C12=CC=CC=C2C(=O)C2=CC=C3C=C4C5=CC=CC=C5C(=O)C5=C4C4=C3C2=C1C=C4C=C5 LLBIOIRWAYBCKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCYFOPUXRMOLQM-UHFFFAOYSA-N pyrene-1-carbaldehyde Chemical compound C1=C2C(C=O)=CC=C(C=C3)C2=C2C3=CC=CC2=C1 RCYFOPUXRMOLQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004151 quinonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- LXMSZDCAJNLERA-ZHYRCANASA-N spironolactone Chemical compound C([C@@H]1[C@]2(C)CC[C@@H]3[C@@]4(C)CCC(=O)C=C4C[C@H]([C@@H]13)SC(=O)C)C[C@@]21CCC(=O)O1 LXMSZDCAJNLERA-ZHYRCANASA-N 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010558 suspension polymerization method Methods 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoethylene Chemical group N#CC(C#N)=C(C#N)C#N NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoquinodimethane Chemical compound N#CC(C#N)=C1C=CC(=C(C#N)C#N)C=C1 PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 150000004992 toluidines Chemical class 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQJQOUPTWCFRMM-UHFFFAOYSA-N tungsten disilicide Chemical compound [Si]#[W]#[Si] WQJQOUPTWCFRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021342 tungsten silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
に関するもので、より詳細には、反復使用時に生じる正
帯電型感光層の表面電位低下や画像濃度低下が抑制され
た電子写真画像形成装置に関するものである。
では、感光体表面を帯電させた後、画像露光により静電
潜像を形成させ、この静電潜像をトナーで現像し、トナ
ー像を転写材に転写させることにより、画像形成を行っ
ている。
a−Si感光体の他に、有機感光体(OPC)も広く使
用されるに至っており、有機感光体は、製造コストも比
較的低く、機能設計の自由度も広く、特にファックス、
プリンター等の単色光源の光に対する適用性の点で独自
の有用性を有している。
び電荷輸送剤(CTM)を単一感光層中に含有させた感
光体や、電荷発生層(CGL)及び電荷輸送層(CT
L)を積層した感光体等が使用されている。
電性のものと、正帯電性のものとがあるが、負帯電性感
光体では負極性コロナによりオゾンが多量に発生し、環
境汚染の問題や、オゾンによる感光体劣化の問題があ
り、またこれを防止するために格別の排気手段やオゾン
分解手段を設ける必要があるので、正帯電性感光体が小
型の複写機、ファックス、プリンター等には優れている
といえる。
生剤及び電荷輸送剤を単一層中に含有せしめた感光体を
コロトロンやスコロトロンを用いて正帯電し、一連のカ
ールソンプロセスを行うことにより画像形成を行うこと
は広く知られている。
帯電時にオゾンの発生量が少ないという利点を与えるも
のではあるが、繰返し使用或いは長期使用に伴ない、感
光体の表面電位が徐々に低下し、画像濃度も低下すると
いう傾向がある。この表面電位の低下(ΔV)は、10
万回繰返し後には、例えば100V程度にも達するとい
う著しく大きなものである。
やはりNOx等の放電生成物が生成し、この放電生成物
による感光体劣化が進行し、この劣化により表面電位が
低下すること、及び感光体内で発生する電荷(キャリ
ア)が感光層中に次第に捕捉され、この捕捉キャリアに
より表面電位が次第に低下することが挙げられる。
を備えた電子写真画像形成装置において、主帯電器とし
てスコロトロン帯電器を使用すると共に、該帯電器への
流れ込み電流を一定の範囲に調節することにより、上記
問題点が解消されることを見出した。
長期使用中にも感光体表面電位の低下が抑制され、長期
にわたって高濃度の画像を安定に形成できる電子写真画
像形成装置を提供するにある。
とも感光体ドラム、主帯電器、画像露光部、現像器及び
トナー転写部を備えた電子写真画像形成装置において、
感光体ドラムとして正帯電型有機感光体ドラム及び主帯
電器としてスコロトロン帯電器を使用すると共に、該帯
電器の流れ込み電流(Icc)が、初期感光体についての
帯電器への流れ込み電流と感光体現像位置電位との特性
曲線における立上り部直線と飽和部曲線の近似直線との
交点電流(Io)の1.5乃至4倍となる条件下で、主
帯電が常に行われるように設定されていることを特徴と
する装置が提供される。
感光体ドラム、主帯電器、画像露光部、現像器及びトナ
ー転写部を備えているが、感光体ドラムとして正帯電型
有機感光体ドラム、特に単層型のもの及び主帯電器とし
てスコロトロン帯電器を使用すると共に、該帯電器への
流れ込み電流を以下に述べる特定の値に設定したことが
顕著な特徴である。
放電を使用するため、装置内でのオゾンの発生が少な
く、オゾン対策等が不要であるという利点を与えるもの
ではあるが、その代りにNOX 等の放電生成物の発生が
あり、繰返し使用により感光体の表面電位(Sp)が低
下し、画像濃度が次第に低下するという問題がある。
は、大別してコロトロン帯電器とスコロトロン帯電器の
2種類があり、前者のコロトロン帯電器は後者のスコロ
トロン帯電器に比して帯電器への流れ込み電流(ICC)
が少ないという利点を有するが、コロトロン帯電器を使
用したのでは、繰返し使用後の感光体の表面電位の低下
(ΔSp)を抑制するには不十分であることがわかっ
た。
御用スクリーン電極を有し、このスクリーン電極への印
加電圧を制御することにより、感光体の表面電位を比較
的一定に制御しようとするものであるが、正帯電型有機
感光体にスコロトロン帯電器を単に組合せただけでは、
やはり繰返し使用後の感光体の表面電位の低下(ΔS
p)を抑制するには未だ不十分であった。
流れ込み電流(ICC)を、初期感光体についての帯電器
への流れ込み電流と感光体現像位置電位との特性曲線に
おける立上り部直線と飽和部曲線の近似直線との交点電
流(IO )の1.5乃至4倍、特に2乃至3倍に設定す
ることにより、繰返し使用後の感光体の表面電位の低下
(ΔSp)を画像濃度に影響しないレベルに抑制するこ
とができる。
期感光体についてのスコロトロン帯電器への流れ込み電
流(ICC)と感光体現像位置電位(Sp)との特性曲線
A及び100K枚(但しIK=1000)繰返し操作後
の感光体(以下耐刷感光体と呼ぶ)についての前記と同
様な特性曲線Bをプロットしたものである。
線Cと飽和部近似曲線の近似直線Dとの交点電流
(IO )の求め方が示されている。尚直線Cは曲線Aの
立上り部が直線となっているので容易に線を引くことが
できるし、近似直線Dは、帯電特性曲線の高出力電流に
おける疑似直線部分を低電力電流に直線外挿することで
線を引くことができ、両者の交点(X)を作図により容
易に求めることができる。
線Bでは、電位の立上りが鈍く(直線部の傾斜が小さ
く)、ICCの増大に伴ってSpは勿論次第に増大する
が、この曲線Bの初期感光体の特性曲線Aからの乖離は
前述した交点電流(IO )乃至その近傍で最も大きく、
この交点電流(IO )よりも大きくなるに従って乖離の
程度は小さくなっていくことがわかる。
み電流Iccを、Ioの1.5乃至4倍に設定すること
により、耐刷感光体の表面電位低下(ΔSp)を画像濃
度に影響ないレベルに抑制できるものであり、これを後
述する例に従って具体的に示せば下記表1のとおりであ
る。
画像濃度低下を有効に防止できることが明らかである。
CC)は、原理上いくらでも大きくできるのであるが、I
CCをあまりにも大きくすると、NOX の生成量が多くな
ることによる感光体劣化の影響が大きくなるので、上限
を4Io以下、特に3Io以下とするのがよい。
子写真装置の一例(複写機)を示す図3において、駆動
回転される金属ドラム1の表面には、感光層2が設けら
れている。このドラムの周囲には、主帯電用コロナチャ
ージャ3;ランプ4、原稿支持透明板5及び光学系6か
ら成る画像露光機構15;現像剤7を有する現像機構
8;トナー転写用コロナチャージャ9;紙分離用コロナ
チャージャ10;除電ランプ11;及びクリーニング機
構12がこの順序に設けられている。
単に示すと次の通りである。先ず、感光層2をコロナチ
ャージャ3で一定極性の電荷で帯電させる。次いで、ラ
ンプ4で複写すべき原稿13を照明し、光学系6を経て
原稿の光線像で光導電体層2を露光し、原稿画像に対応
する静電潜像を形成させる。この静電潜像を、現像機構
8により顕像化し、トナー像を形成する。転写紙14
を、トナー転写用チャージャ9の位置でドラム表面と接
触するように供給し、転写紙14の背面から静電像と同
極性のコロナチャージを行って、トナー像を転写紙14
に転写させる。トナー像が転写された転写紙14は、分
離用コロナチャージャ10の除電によってドラムから静
電的に剥離され、定着域(図示せず)等の処理域に送ら
れる。トナー転写後の光導電体層2はクリーニング機構
12によって残留トナーの除去が行われ、次いで除電ラ
ンプ11による全面露光で残留電荷が消去される。
型有機感光層、特に単層型有機感光層及び主帯電器3と
してスコロトロン帯電器を使用すると共に、該帯電器へ
の流れ込み電流(ICC)を、初期感光体についての帯電
器への流れ込み電流と感光体現像位置電位との特性曲線
における立上り部直線と飽和部曲線の近似直線との交点
電流(IO )の1.5乃至4倍、特に2乃至3倍に設定
することにより、図1に示した原理により、耐刷感光体
における初期電位(ΔSp)の低下を画像濃度に実質上
影響のないレベルに抑制することができる。
な構造を示す図4及び図5において、このスコロトロン
帯電器3は、タングステン線等から成るコロナワイヤー
(放電極)20と、感光体に面する側を残してこれを覆
うシールド21と、シールド21の開口部に設けられた
制御グリッド22とから成っている。制御グリッド22
と感光体層2との間には小間隔dが設けられている。
ー)20への流れ込み電流(ICC)は、感光層への放電
電流(Id )、制御グリッド22への放電電流(Ig )
及びシールド21への放電電流(IS )の合計、即ち下
記式 ICC=Id +Ig +Is …(2) の電流となる。一方、通常のコロトロン帯電器における
流れ込み電流は、上記式(2)において、制御グリッド
22への放電電流(Ig )がゼロとしたものである。
と、感光層の表面電位がほぼ一定になるという理由は、
感光層への放電電流の増大に伴って感光層の電位は増大
するが、制御グリッドを一定の電位に維持すると、感光
層の電位がこれに近づくと感光層への放電電流(Id )
が小さくなり、これにより感光層の表面電位が一定にな
るというものである。実際の感光層では、暗電流の影響
があると共に、感光層と制御グリッドとでは電極として
の形状因子も相違するため、感光層の表面電位と制御グ
リッドの電位とは相違しており、帯電器への流れ込み電
流(ICC)が増大するにつれて感光層電位も増大し、感
光層の表面電位が一定となるということはない(前記図
1参照)。
流れ込み電流(ICC)を一定の範囲に設定するが、この
基準となる電流値として、初期感光体についての帯電器
への流れ込み電流と感光体現像位置電位との特性曲線に
おける立上り部直線と飽和部曲線の近似直線との交点電
流(Io )を採用しているのは、図1に関して説明した
とおり、初期感光体の特性曲線Aからの耐刷感光体の特
性曲線Bの乖離が上記交点電流(IO )乃至その近傍で
最も大きくなるという発見に基づくものである。
込み電流(ICC)を交点電流 (I O )の1.5乃至4
倍、特に2乃至3倍に設定するが、この帯電器への流れ
込み電流の設定は、一定の感光体ドラムと一定のスコロ
トロン帯電器との組み合わせについて、放電極への印加
電圧(VCC)と流れ込み電流(ICC)との関係を求め、
所定の流れ込み電流(ICC)が得られるように放電極へ
の印加電圧を決定するのがよい。図6は、スコロトロン
帯電器の一例について、放電極への印加電圧(VCC)と
流れ込み電流(ICC)との関係をプロットしたものであ
る。
CC)の絶対値を低くしてNOX 等の放電生成物の発生量
を低くすると共に、感光層の表面電位を比較的一定に保
つには、スコロトロン帯電器の制御グリッド22の電位
をゼロよりも高く且つ感光体現像位置電位プラス250
ボルト以下の電位、一層好適には感光体現像位置電位0
ボルト以上で且つ感光体現像位置電位プラス100ボル
ト以下の電位に設定するのがよい。この電位は、別に設
けた電源から供給することもできるし、またツエナダイ
オード(定電圧ダイオード)乃至バリスターを介して接
地することにより自動的に供給することもできる。
ド22とシールド21との両方が機枠から電気的に絶縁
されて設けられており、図5に示されている具体例にお
いては、制御グリッド22が機枠から電気的に絶縁され
て設けられているが、シールド21は接地されている。
図5に示す態様が好適である。
御グリッド22とアースとの間及びシールド21とアー
スとの間にツエナダイオード(定電圧ダイオード)乃至
バリスター23が接続されており、一方図5に示すスコ
ロトロン帯電器3では、制御グリッド22とアースとの
間にツエナダイオード乃至バリスター23が接続されて
いて、制御グリッド22或いは更にシールド21を一定
の電位に維持できるようになっている。図5に示すスコ
ロトロン帯電器の場合、制御グリッド22とシールド2
1とを接続し、単一のツエナダイオード乃至バリスター
23を接続してもよいことが理解されるべきである。
ける電圧と電流との関係を説明する図7において、これ
らの素子ではある一定の電圧までは電流が殆ど流れず、
この一定の電圧を越えると急激に電流が流れ始め、これ
により帯電器の制御グリッド22或いは更にシールド2
1を一定の設定電圧に保持する作用があると共に、制御
グリッド22への放電電流(Ig )或いは更にシールド
21への放電電流(I s )を減少させることができる。
その開口部が、下記式(1) 式中、Rは感光体の外径(mm)、θ1 は感光体中心か
らみた帯電器の開口角度(ラジアン)、Vは感光体の周
速(mm/sec)である、を満足するように設定した
もので、帯電の均一性の点で優れている。
は、ランプ4、原稿支持透明板5及び光学系6から成る
画像露光機構を介して行われるが、それ自体公知のレー
ザ光或いは発光ダイオード(LED)アレイによる露光
装置を介して行うことができる。
電型有機感光体、就中電荷発生剤を樹脂媒質中に分散さ
せた形の有機感光体である場合効果が大きく、電荷輸送
剤、特に正孔輸送剤及び電荷発生剤を樹脂媒質中に含有
する単一分散層型感光体である場合に、特に効果が大き
い。
剤を含有する電荷輸送層及び電荷発生剤を含有する電荷
発生層の積層型感光体であってもよく、この場合、電荷
発生層(CGL)と電荷輸送層(CTL)とを、この順
序、或いは逆の順序に積層した感光体であってよい。
レン−テルル、アモルファスシリコン、ピリリウム塩、
アゾ系顔料、ジスアゾ系顔料、トリスアゾ顔料、アンサ
ンスロン系顔料、フタロシアニン系顔料、インジコ系顔
料、スレン系顔料、トルイジン系顔料、ピラゾリン系顔
料、ピラントロン系顔料、ペリレン系顔料、キナクリド
ン系顔料等が例示され、所望の領域に吸収波長域を有す
るよう、一種または二種以上混合して用いられる。
ペリレン系顔料、ジスアゾ系顔料等が好適なものであ
る。
しては、種々の樹脂が使用でき、例えば、スチレン系重
合体、アクリル系重合体、スチレン−アクリル系重合
体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレン、
アイオノマー等のオレフィン系重合体、ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、
アルキッド樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ
樹脂、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホ
ン、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、ケトン
樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエーテル樹脂、
フェノール樹脂や、エポキシアクリレート等の光硬化型
樹脂等、各種の重合体が例示できる。これらの結着樹脂
は、一種または二種以上混合して用いることもできる。
好適な樹脂は、スチレン系重合体、アクリル系重合体、
スチレン−アクリル系重合体、ポリエステル、アルキッ
ド樹脂、ポリカーボネート、ポリアリレート等である。
人化成社製パンライト、三菱瓦斯化学社製PCZ等であ
り、下記一般式(3)、
アルキル基であって、R1 及びR2 は連結して、結合炭
素原子と共に、シクロヘキサン環のごときシクロ環を形
成していてもよい、で表されるビスフェノール類とホス
ゲンとから誘導されるポリカーボネートである。
のものも、正孔輸送性のものも使用でき、これらは組み
合わせでも使用できる。その適当な例は、次の通りであ
る。
誘導体、ナフトキノン誘導体、テトラシアノエチレン、
テトラシアノキノジメタン、クロルアニル、ブロモアニ
ル、2,4,7−トリニトロ−9−フルオレノン、2,
4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン、2,
4,7−トリニトロ−9−ジシアノメチレンフルオレノ
ン、2,4,5,7−テトラニトロキサントン、2,
4,8−トリニトロチオキサントンなどの電子吸引性物
質や、これら電子吸引性物質を高分子化したもの。
体、特に非対称型のパラジフェノキノン誘導体が、溶解
性にも優れており、電子輸送性にも優れているので好ま
しい。
一般式(4)、
水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、アラルキル基、アルコキシ基等である、で表される
ものが使用される。R3 、R4 、R5 及びR6 は非対称
構造の置換基であることが好ましく、R3 、R4 、R5
及びR6 の内、2個が低級アルキル基であり、他の2個
が分岐鎖アルキル基、シクロアルキル基、アリール基ま
たはアラールキル基であることが好ましい。
3,5−ジメチル−3’,5’−ジt−ブチルジフェノ
キノン、3,5−ジメトキシ−3’,5’−ジt−ブチ
ルジフェノキノン、3,3’−ジメチル−5,5’−ジ
t−ブチルジフェノキノン、3,5’−ジメチル−
3’,5−ジt−ブチルジフェノキノン、3,5,
3’,5’−テトラメチルジフェノキノン、2,6,
2’, 6’−テトラt−ブチルジフェノキノン、3,
5,3’,5’−テトラフェニルジフェノキノン、3,
5,3’,5’−テトラシクロヘキシルジフェノキノ
ン、等を挙げることができるが、これらのジフェノキノ
ン誘導体は、分子の対称性が低いために分子間の相互作
用が小さく、溶解性に優れているために好ましい。
のものが知られており、これらの内から、溶解性や、正
孔輸送性に優れているものが使用される。ピレンン、N
−エチルカルバゾール、N−イソプロピルカルバゾー
ル、N−メチル−N−フエニルヒドラジノ−3−メチリ
デン−9−カルバゾール、N,N−ジフエニルヒドラジ
ノ−3−メチリデン−9−エチルカルバゾール、N,N
−ジフエニルヒドラジノ−3−メチリデン−10−エチ
ルフエノチアジン、N,N−ジフエニルヒドラジノ−3
−メチリデン−10−エチルフエノキサジン、p−ジエ
チルアミノベンズアルデヒド−N,N−ジフエニルヒド
ラゾン、p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−α−ナ
フチル−N−フエニルヒドラゾン、p−ピロリジノベン
ズアルデヒド−N,N−ジフエニルヒドラゾン、1,
3,3−トリメチルインドレニン−ω−アルデヒド−
N,N−ジフエニルヒドラゾン、p−ジエチルベンズア
ルデヒド−3−メチルベンズチアゾリノン−2−ヒドラ
ゾンなどのヒドラゾン塩、
ル)−1,3,4−オキサジゾール、1−フエニル−3
−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチ
ルアミノフエニル)ピラゾリン、1−[キノニル
(2)]−3−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−
(p−ジエチルアミノフエニル)ピラゾリン、1−[ピ
リジル(2)]−3−(p−ジエチルアミノスチリル)
−5−(p−ジエチルアミノフエニル)ピラゾリン、1
−[6−メトキシ−ピリジル(2)]−3−(p−ジエ
チルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフエ
ニル)ピラゾリン、1−[ピリジル(3)]−3−(p
−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミ
ノフエニル)ピラゾリン、1−[レピジル(3)]−3
−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチ
ルアミノフエニル)ピラゾリン、1−[ピリジル
(2)]−3−(p−ジエチルアミノスチリル)−4−
メチル−5−(p−ジエチルアミノフエニル)ピラゾリ
ン、1−[ピリジル(2)]−3−(α−メチル−p−
ジエチルアミノスチリル)−3−(p−ジエチルアミノ
フエニル)ピラゾリン、1−フエニル−3−(p−ジエ
チルアミノスチリル)−4−メチル−5−(p−ジエチ
ルアミノフエニル)ピラゾリン、スピロピラゾリンなど
のピラゾリン類、
−ジエチルアミノベンズオキサゾール、2−(p−ジエ
チルアミノフエニル)−4−(p−ジメチルアミノフエ
ニル)−5−(2−クロロフエニル)オキサゾールなど
のオキサゾール系化合物、2−(p−ジエチルアミノス
チリル)−6−ジエチルアミノベンゾチアゾールなどの
チアゾール系化合物、ビス(4−ジエチルアミノ−2−
メチルフエニル)フエニルメタンなどのトリアリ−ルメ
タン系化合物、1,1−ビス(4−N,N−ジエチルア
ミノ−2−メチルフエニル)ヘプタン、1,1,2,2
−テトラキス(4−N,N−ジメチルアミノ−2−メチ
ルフエニル)エタンなどのポリアリールアルカン類、
(メチルフエニル)ベンジベン、N,N´−ジフエニル
−N,N´−ビス(エチルフエニル)ベンジジン、N,
N´−ジフエニル−N,N´−ビス(プロピルフエニ
ル)ベンジジン、N,N´−ジフエニル−N,N´−ビ
ス(ブチルフエニル)ベンジジン、N,N´−ビス(イ
ソプロピルフエニル)ベンジジン、N,N´−ジフエニ
ル−N,N´−ビス(第2級ブチルフエニル)ベンジジ
ン、N,N´−ジフエニル−N,N´−ビス(第3級ブ
チルフエニル)ベンジジン、N,N´−ジフエニル−
N,N´−ビス(2,4−ジメチルフエニル)ベンジベ
ン、N,N´−ジフエニル−N,N´−ビス(クロロフ
エニル)ベンジジンなどのベンジジン系化合物、トリフ
エニルアミン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビ
ニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリビニルアリ
クジン、ポリ−9−ビニルフエニルアントラセン、ピレ
ン−ホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホルム
アルデヒド樹脂。
剤、特に一般式(5)、
リール基、アルカリール基、またはアラールキル基であ
り、nはゼロまたは1である。で表される輸送剤や、カ
ルバゾールヒドラゾン系の輸送剤、特に一般式(6)
アルカリール基、またはアラールキル基である。で表さ
れる輸送剤は、溶解性も、正孔輸送性もよいので好適で
ある。
て、電荷発生剤(CGM)は固形分当たり1乃至7重量
%、特に2乃至5重量%の量で感光層中に含有されるの
がよく、また電荷輸送剤(CTM)は固形分当たり20
乃至70重量%、特に25乃至60重量%の量で感光層
中に含有されるのがよい。
という用途の広さからは、電子輸送剤(ET)と、正孔
輸送剤(HT)とを組み合わせで使用するのがよく、こ
の場合、ET:HTの重量比は10:1乃至1:10、
特に1:5乃至1:1の範囲にあるのが最もよい。
電子写真学的特性に悪影響を及ぼさない範囲で、それ自
体公知の種々の配合剤例えば、酸化防止剤、ラジカル捕
捉剤、一重項クエンチャー、UV吸収剤、軟化剤、表面
改質剤、消泡剤、増量剤、増粘剤、分散安定剤、ワック
ス、アクセプター、ドナー等を配合させることができ
る。
%の立体障害性フェノール系酸化防止剤を配合すると、
電子写真学的特性に悪影響を与えることなく、感光層の
耐久性を顕著に向上させることができる。
性を有する種々の材料が使用でき、例えば、アルミニウ
ム、銅、錫、白金、金、銀、バナジウム、モリブデン、
クロム、カドミウム、チタン、ニッケル、インジウム、
ステンレス鋼、真鍮等の金属単体や、上記金属が蒸着ま
たはラミネートされたプラスック材料、ヨウ化アルミニ
ウム、酸化錫、酸化インジウム等で被覆されたガラス等
が例示される。本発明に用いる単層分散型の感光体で
は、干渉稿等の発生がないことから、通常のアルミニウ
ム素管、特に膜厚が1乃至50μmとなるようにアルマ
イト処理を施した素管を用い得る。
荷発生材料、電荷輸送剤等と結着樹脂等を、従来公知の
方法、例えば、ロールミル、ボールミル、アトライタ、
ペイントシェイカーあるいは超音波分散器等を用いて調
製し、従来公知の塗布手段により塗布、乾燥すればよ
い。感光層の厚みは、特に制限されないが、一般に10
乃至40μm、特に20乃至35μmの範囲とすること
が望ましい。
は、種々の有機溶剤が使用でき、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール類、
n−ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族系
炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭
素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、ジメチル
エーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エ
チレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸
エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド等、種々の溶剤が例示さ
れ、一種または二種以上混合して用いられる。塗布液の
固形分濃度は一般に5乃至50%とするのがよい。
(CGM)は電荷発生層(CGL)の固形分当たり30
乃至90重量%、特に40乃至80重量%の量で含有さ
れるのがよく、また電荷輸送剤(CTM)は電荷輸送層
(CTL)の固形分当たり20乃至70重量%、特に3
0乃至60重量%の量で含有されるのがよい。各塗布層
の成分は、単一分散層型の成分に準ずる。
Lは、一般に0.1乃至0.5μmの範囲にあるのがよ
く、CTLは5乃至40μm、特に10乃至25μmの
範囲にあるのがよい。
Lは5乃至40μm、特に10乃至25μmの厚みを有
し、一方CGLは0.1乃至0.5μmの厚みを有する
のがよい。また、CGL上に、それ自体公知の保護層を
設けることができる。
として図8に示す特性を有するものであり、この特性は
2個の指数関数の和として表されるが、本発明で用いる
正帯電型有機感光体は、下記式(7) V=VO {A・exp(−B・I)+C・exp(−D・I)} …(7) 式中、Iは露光量(lux・sec )であり、Vは露光量Iに
おける感光体表面電位の絶対値(V)であり、VO は感
光体表面初期電位の絶対値(V)であり、A及びCは、
その和が1であるという条件下に夫々0.7乃至1及び
0乃至0.3の数であり、Bは0.1乃至1.5lux-1
・sec-1 の係数であり、Dは0.01乃至0.2lux-1
・sec-1 の係数である。で表わされる光減衰特性を有す
る有機感光体である場合に、特に著しい効果がある。
スコロトロン帯電器を使用して前述した条件で行うが、
一般に、飽和帯電電位(VS )が プラス400乃至1
500V、特に600乃至1200Vの範囲となるよう
に主帯電を行うのが好ましく、このために、スコロトロ
ン帯電器にプラス4乃至10KVの電圧を印加するのが
よい。
を行い、静電潜像を形成させる。露光用光源としては、
ハロゲンランプ、蛍光灯ランプ、冷陰極管、赤、緑等の
ネオンランプ等の可視光光源が何れも使用されるが、
赤、黄、緑等のLED等の淡色光光源を使用することも
できる。また、半導体レーザ光等のレーザ光源を用いる
こともできる。
の残留電位(ER )がバイアス電位(EB )よりも低い
電位となるような光量であり、一層好適には、明部での
残留電位(ER )が式(8) ER = EB − nEDO ‥‥(8) 式中、EB は現像バイアス電位であり、EDOは感光体と
現像剤との組み合わせの現像感度特性に関して、カブリ
濃度が実質上ゼロとなる電位であり、nは0.4乃至
2.5の数である、を満足するように露光量を設定する
するのがよい。
しく、この目的に一成分系或いは二成分系磁性現像剤が
使用される。というのは、本発明では、従来の方法に比
して、むしろ電位コントラストの低い状態で現像を行う
ものであり、この点で現像閾い値のカブリのない設定に
トナーの磁気的性質が重要な影響をもたらすからであ
る。本発明に用いる一成分磁性現像剤は、トナー中に磁
性粉を含有するものであり、一方二成分系磁性現像剤
は、トナーと磁性キャリアーとの混合物から成るもので
ある。
生がなくしかも濃度の高い現像を行うためには、トナー
の有する電荷量を比較的低いレベルに維持するのがよ
く、一般にトナーの帯電量は、10乃至30μC/g、
特に15乃至25μC/gの範囲に維持するのがよい。
ては、熱可塑性樹脂や、未硬化乃至は初期縮合物の熱硬
化性樹脂が使用される。その適当な例は、重要なものの
順序に、ポリスチレン等のビニル芳香族樹脂、スチレン
−アクリル共重合樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルア
セタール樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェ
ノール樹脂、石油樹脂、オレフィン樹脂等である。
に、荷電制御剤、例えばニグロシンベース(CI 50415)、
オイルブラック(CI 26150)、スピロンブラック等の油溶
性染料や、金属錯塩染料、ナフテン酸金属塩、脂肪酸金
属石鹸、樹脂酸石鹸等が必要により使用される。
像に必要な最低限度の電荷制御作用を与えるようにする
こともできる。即ち、使用するトナー中の定着用樹脂媒
質の少なくとも一部として、アニオン性またはカチオン
性の極性基を有する共重合樹脂乃至樹脂組成物を用いる
ことができ、カチオン性極性基としては、第1級、第2
級或いは第3級アミノ基、第4級アンモニウム基、アミ
ド基、イミノ基、イミド基、ヒドラジノ基、グアニジノ
基、アミジノ基等の塩基性窒素含有基が、またアニオン
性基としてはカルボキシル基、スルホン基、ホスホン基
等が挙げられる。上記樹脂として、カチオン性またはア
ニオン性極性基含有単量体を、他の単量体乃至樹脂とラ
ンダム共重合、ブロック共重合、グラフト共重合等の手
段で重合させた樹脂が挙げられる。
ば次に示す無機または有機の顔料や染料等が単独または
2種以上の組合せで使用されるが、勿論これに限定され
ない。ファーネスブラック、チャンネルブラック等のカ
ーボンブラック;四三酸化鉄等の鉄黒;ルチル型または
アナターゼ型等の二酸化チタン;フタロシアニンブル
ー;フタロシアニングリーン;カドミウムイエロー;モ
リブレンオレンジ;ピラゾロンレッド;ファストバイオ
レットB等。上記着色剤は、定着用樹脂媒質100重量
部当り5乃至20重量部、特に10乃至15重量部の量
で使用する。
種ワックス類や低分子量オレフィン系樹脂等を含有させ
ることができ、オレフィン系樹脂は、数平均分子量(M
n)が1000乃至10000、特に2000乃至60
00の範囲にあるものがよい。オレフィン系樹脂として
は、ポリプロピレン、ポリエチレン、プロピレン−エチ
レン共重合体が使用されるが、ポリプロピレンが特に好
適である。
して使用する磁性材料としては、それ自体公知の磁性材
料、例えば、四三酸化鉄(Fe3 O4 )、三二酸化鉄
(γ−Fe2 O3 )、酸化鉄亜鉛(ZnFe2 O4 )、
酸化鉄イットリウム(Y3 Fe 5 O12)、酸化鉄カドミ
ウム(CdFe2 O4 )、酸化鉄ガドリウム(Gd3 F
e5 O12)、酸化鉄銅(CuFe2 O4 )、酸化鉄鉛
(PbFe12O19)、酸化鉄ニッケル(NiFe
2 O4 )、酸化鉄ネオジウム(NdFeO3 )、酸化鉄
バリウム(BaFe12O19)、酸化鉄マグネシウム(M
gFe2 O4 )、酸化鉄マンガン(MnFe2 O4 )、
酸化鉄ランタン(LaFeO3 )、鉄粉(Fe)、コバ
ルト粉(Co)、ニッケル粉(Ni)等を用いることが
できる。 これらの磁性材料は、一般に30乃至70e
mu/gの飽和磁化を有するものが好ましい。
20乃至50重量%の磁性材微粉末をを含有させること
が好ましい。
鉄、フェライト、鉄粉等のそれ自体公知のものが使用さ
れる。特にフェライト系の磁性キャリヤが好適である。
平均粒子径が60乃至150μmで、粒径44μm以下
のものが全体の3乃至15重量%を占めるような粒度分
布を有するものを使用するのが好ましい。磁性キャリヤ
の密度は、キャリヤ濃度C/Dにも依存するが、一般に
密度ρc が3.50乃至6.50g/cm3 、特に4.
00乃至5.50g/cm3 のものが好ましい。
/g、特に53乃至65emu/gの範囲にあるのが望
ましい。磁性キャリヤは、上記条件を満足するフェライ
トキャリヤ、特に球状のフェライトキャリヤが好適なも
のである。その粒度分布は、前述した条件を満足するも
のであるが、正規分布或いはこれに近い分布を有するも
のが好ましい。用いるキャリヤは、無コートキャリヤで
もよく、また、それ自体公知の樹脂、例えば、シリコー
ン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂等で
コートされた樹脂コートキャリヤであってもよい。
学的組成によって変動するのは勿論であるが、その粒子
構造や製造方法或いはコーティングの種類や厚みによっ
ても変動する。一般に、その体積固有抵抗は、5×10
8 乃至5×1011 Ω・cm、特に1×109 乃至1×
1011 Ω・cmの範囲にあるのがよい。
3乃至8%、特に3.5乃至7.5%の範囲内とするの
がよい。また、現像剤全体としての電気抵抗は、1×1
09乃至1×1011 Ω・cm、特に5×109 乃至5×
1011 Ω・cmの範囲にあるのがよい。
5μm、特に8乃至12μmのトナーを使用するのがよ
い。粒子形状は溶融混練・粉砕法で製造された不定形の
ものでも、また分散乃至懸濁重合法で製造された球状の
ものでもよい。
レー造粒法、重合法等のそれ自体公知の方法で製造し得
るが、粉砕分級法が一般的である。これらの各トナー成
分は、ヘンシェルミキサー等の混合機で前混合したの
ち、二軸押出機等の混練装置を用いて混練し、この混練
組成物を冷却した後、粉砕し、分級してトナーとする。
粒子と疎水性シリカとの組み合わせを使用することが、
白紙露光部に対するカブリを防止しつつ画像濃度を向上
させる見地から好ましい。。
料の微粒子が使用され、粒子径が0.1乃至0.5μm
のものが有利に使用される。この目的に特に好適な磁性
粉は微粒子状四三酸化鉄(マグネタイト)である。好適
なマグネタイトは正8面体状である。このマグネタイト
粒子は、シランカップリング剤、チタン系カップリング
剤等で表面処理されていてもよい。チタン系カップリン
グ剤等で表面処理されたものが、耐環境性の点で好まし
い。
リカ、即ち塩化ケイ素の高温(火焔)加水分解法により
得られる微細シリカを、ジメチルジクロシラン、トリメ
チルクロールシランのようなシラン類等の有機珪素化合
物で処理し、表面のシラノールをオルガノシランで封鎖
することにより得られたものである。
に、何れのタイプの現像剤においても、トナーとして、
研磨剤或いは琢磨剤を外添したトナーを使用することが
できる。
知の研磨剤或いは琢磨剤の内、平均粒径が0.1乃至5
μm、特に0.15乃至1μmの範囲にあるものが好適
に使用される。これらの研磨剤或いは琢磨剤は、一般に
5乃至10のモース硬度を有していることが好ましい。
制限されないが、アルミナ(Al2O3)、ジルコニア(Z
rO2)、ムライト(3Al2O3・2SiO2)、コーデ
ィライト(2MgO/2Al2O3/5SiO2)、チタ
ニア(TiO2)、ステアタイト(MgO2・Si
O2)、シリカ、シリカアルミナ等の酸化物セラミッ
ク;炭化ケイ素(SiO2)、炭化タングステン(W
C)、炭化ジルコニウム(ZrC)等の炭化物セラミッ
ク;窒化ホウ素(BN)、窒化チタン(TiN)、窒化
ケイ素(Si3B4)等の窒化物セラミック;ホウ化ジル
コニウム(ZrB2)、ホウ化チタン(TiB2)等のホ
ウ化物セラミック;ケイ化タングステン(WSi2)、
ケイ化モリブデン(MoSi2)等のケイ化セラミッ
ク、ダイアモンド、綱玉、酸化クロム、酸化セリウム等
である。
量は、研磨剤或いは琢磨剤の種類によっても相違し一概
に規定できないが、一般にトナー当たり、0.1乃至1
0重量%、特に0.5乃至5重量%の範囲から、実験的
に最適な削り量が得られるように、外添量を定めるのが
よい。即ち、図3に示したような個々の研磨剤或いは琢
磨剤について、トナー添加量と削り量との関係が求めら
れるので、これから最適な削り量(感光体表面の酸化
度)が得られる研磨剤或いは琢磨剤の配合量を定めるの
がよい。
ー像の転写、紙分離、及びクリーニング等はそれ自体公
知の手段を用いてそれ自体公知の条件で行うことができ
る。
用する感光体は下記の組成から成る感光層用組成物をボ
ールミルにて50時間混合分散して、単層感光層用の塗
工液を作製し、この塗工液を導電基材である外径78m
mのアルミニウムシリンダーの表面に浸漬塗布し、10
0℃で60分間熱風乾燥し、膜厚25μmの単層感光層
を形成し、正帯電型単層感光体を得た。
工業(株)製の電子写真複写機(DC−4555)改造
機に取付け、更にその感光体の現像部位置にモンロー社
製モデル244の表面電位計を取付けることにより測定
を行った。なお、現像剤には、三田工業(株)製の二成
分系磁性現像剤を用いた。Vg を表1中の様に調整する
ことにより、交点電流IO (μA)を変化させることが
できる。決定したIoを所定範囲倍数した値を流れ込み
電流ICCとして設定する。初期状態と、10万枚のコピ
ーを行った状態との測定電位値(V)の差をΔSPとし
た。また、初期画像濃度と10万枚目の画像濃度の測定
は、東京電色社製の反射濃度計を用いて測定した。
施例1〜4と同様に行った。
2に示す。
ム、主帯電器、画像露光部、現像器及びトナー転写部を
備えた電子写真画像形成装置において、感光体ドラムと
して正帯電型有機感光体及びドラム主帯電器としてスコ
ロトロン帯電器を使用すると共に、該帯電器への流れ込
み電流(ICC)を、初期感光体についての帯電器への流
れ込み電流と感光体現像位置電位との特性曲線における
立上り部直線と飽和部曲線の近似直線との交点電流(I
O )の1.5乃至4倍、特に2乃至3倍に設定したこと
により、繰返し使用中乃至長期使用中にも感光体表面電
位の低下が抑制され、長期にわたって高濃度の画像を安
定に形成できる。
流れ込み電流(ICC)と感光体現像位置電位(SP)と
の特性曲線A及び100K枚繰返し操作後の感光体(以
下耐刷感光体と呼ぶ)についての前記と同様な特性曲線
Bをプロットしたグラフである。
の近似直線Dとの交点電流(I O )の求め方を示す説明
図である。
配置図である。
細な構造を示す断面図である。
詳細な構造を示す断面図である。
の印加電圧(VCC)と流れ込み電流(ICC)との関係を
プロットしたグラフである。
と電流との関係を説明するグラフである。
グラフである。
スター
Claims (5)
- 【請求項1】 少なくとも感光体ドラム、主帯電器、画
像露光部、現像器及びトナー転写部を備えた電子写真画
像形成装置において、感光体ドラムとして正帯電型有機
感光体ドラム及び主帯電器としてスコロトロン帯電器を
使用すると共に、該帯電器の流れ込み電流(Icc)が、
初期感光体についての帯電器への流れ込み電流と感光体
現像位置電位との特性曲線における立上り部直線と飽和
部曲線の近似直線との交点電流(Io)の1.5乃至4
倍となる条件下で、主帯電が常に行われるように設定さ
れていることを特徴とする装置。 - 【請求項2】 正帯電型有機感光体が電荷輸送媒質中に
電荷発生剤を分散させた感光体である請求項1記載の装
置。 - 【請求項3】 スコロトロン帯電器の制御グリッドの電
位がゼロよりも高く且つ感光体現像位置電位プラス25
0V以下の電位に設定されている請求項1または2記載
の装置。 - 【請求項4】 スコロトロン帯電器の感光体に向かった
開口部が、下記式(1) Rθ1/2V≧0.05 …(1) 式中、Rは感光体の外径(mm)、θ1は感光体中心か
らみた帯電器の開口角度(ラジアン)、Vは感光体の周
速(mm/sec)である、を満足するように設定され
ている請求項1乃至3の何れかに記載の装置。 - 【請求項5】 スコロトロン帯電器の流れ込み電流(I
cc)が、前記交点電流(Io)の2乃至3倍となる条件
下で、主帯電が常に行われるように設定されている請求
項1に記載の装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08053695A JP3528941B2 (ja) | 1995-04-05 | 1995-04-05 | 電子写真画像形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08053695A JP3528941B2 (ja) | 1995-04-05 | 1995-04-05 | 電子写真画像形成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08278685A JPH08278685A (ja) | 1996-10-22 |
| JP3528941B2 true JP3528941B2 (ja) | 2004-05-24 |
Family
ID=13721082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08053695A Expired - Fee Related JP3528941B2 (ja) | 1995-04-05 | 1995-04-05 | 電子写真画像形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3528941B2 (ja) |
-
1995
- 1995-04-05 JP JP08053695A patent/JP3528941B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08278685A (ja) | 1996-10-22 |
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