JP3761693B2 - 基準平面設定装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、測量作業に用いられる測量機器にかかり、特に、2本の平行光線束で基準平面を設定する基準平面設定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来は、水準儀とポールとを用いていた水準測量も、近年は基準平面設定装置が使用されるようになってきた。
【0003】
基準平面設定装置はレーザープレーナとも呼ばれるが、一般的には、測定範囲内の基準となる場所に基準平面設定装置本体を置き、鉛直に整準された回転軸線を中心としてレーザー光を回転させ、墨付け作業を行いたい壁や柱等の近くに立った作業者が、壁やポール等にできるレーザスポットを観察したり、受光器の測定値を読みとって、水準面の設定を行なうために使用される装置であり、水準儀とポールを使用する場合に比べると、測量作業従事者が一人で足りる点で優れている。
【0004】
また、基準平面設定装置は、主に建築構造物内等で壁、柱等に水準面を設定することに用いられているが、近年では、前記水準面に垂直な上下の2方向に2本の垂直レーザー光を射出して、床から天井までに亘って鉛直線を設定できる基準平面設定装置も用いられるようになってきた。
【0005】
このような従来技術の基準平面設定装置の構造を、図3を用いて簡単に説明すると、従来技術の基準平面設定装置200は、ケーシング201を備えている。該ケーシング201は、円筒203を備えており、該円筒203は、レーザダイオード205と、第1ハーフプリズム206と、第2ハーフプリズム207と、第1ミラー208と、ハーフミラー209と、第2ミラー210とを備えている。
【0006】
前記レーザダイオード205は、前記第1ハーフプリズムにレーザ光221を照射するように配置され、前記第1ハーフプリズム206と前記第2ハーフプリズム207と前記ハーフミラー209とは回転軸線202上に配置され、前記円筒203がモータ204によって回転軸線202の回りに回転すると、一緒に回転するように構成されている。
【0007】
前記レーザ光221が前記第1ハーフプリズム206に照射されると、半分は反射され、レーザ光222となって、前記ハーフミラー209に照射される。
【0008】
残りの半分は前記第1ハーフプリズム206を透過し、更に前記第2ハーフプリズム207を透過し、レーザ光223となって前記第1ミラー208に照射され、前記第1ミラー208で反射され、前記第2ハーフプリズム207に戻されて、該第2ハーフプリズム207と前記第1ハーフプリズム206との境界で、光量の1/2が前記回転軸線202の鉛直下方方向に反射され、垂直下方レーザー光227として前記ケーシング201の窓213から装置の外部に射出される。
【0009】
一方、前記レーザ光222が前記ハーフミラー209に照射されると、更にその半分(レーザ光221の1/4光量)は透過して、垂直上方レーザー光225として前記ケーシング201の窓221から前記回転軸線202に沿って垂直上方方向に照射される。
【0010】
残りの半分(同1/4光量)は前記ハーフミラー209で反射され、更に第2ミラー210で反射され、水平レーザー光226として、前記回転軸線202に垂直に窓211から照射される。
【0011】
前記円筒203にはモーター204が取付けられているので、整準装置(図示せず)により前記回転軸線202を鉛直に整準し、前記回転軸線202を中心として前記円筒203を回転させると、前記ハーフプリズム209と前記第2ミラー210も前記回転軸線202を中心として回転し、従って、前記水平レーザー光226は一の水準面内で回転するので、これにより水準面を設定できる。
【0012】
このとき、前記垂直上方レーザー光225が天井に当たってできるスポットと、前記垂直下方レーザー光227が床に当たってできるスポットとは、前記回転軸線202上に位置しており、前記円筒203が回転しても移動しないので、前記2つのスポットを結ぶと鉛直線を設定することができる。
【0013】
しかしながら従来技術の基準平面設定装置200では、前記レーザダイオード205が射出したレーザー光を2本に分割し、そのうちの一本を更に2本に分割して水平レーザー光と垂直上方レーザー光としている。従って、水平レーザー光は1本だけであり、以下のような種々の問題があった。
【0014】
即ち、レーザー光の回転する角速度が一定であれば、測定対象物との距離に比例して、測定対象物上のレーザースポットの移動速度が速くなるので、遠距離になるにつれ、受光器の受光光量が減少し、視認性が悪化してしまう。
【0015】
視認性については、観測者の資質による個人差や熟練度等の違いによる相違はあるが、7mmφの径のレーザー光を1mWの出力強度で照射した場合には、レーザスポットの移動速度は30m/秒が観察可能な限界速度であり、それ以上の速度になると測量作業を行うことは困難である、といわれている。
【0016】
この移動速度を距離に換算してみると、例えばレーザー光が回転する角速度を360度/秒であるとすると、測定対象物と基準平面設定装置の距離が4.8mである場合に相当する。
【0017】
従って、この距離以上の測定対象物については、レーザー光の出力強度、角速度、ビーム径のいずれかを調節して、視認性を確保する必要がある。
【0018】
レーザー光の出力強度を調節して視認性を確保しようとする場合には、距離の大きさに応じて出力強度を上げなけらばならない。しかしながら安全基準上、レーザー光の単位面積あたりの出力強度には限界値が設定されており、視認性の向上にも一定の限界がある。特に、上述したような従来技術の基準平面設定装置では、前記レーザダイオード105から射出される水平レーザー光の光強度を1とした場合、垂直下方レーザー光の光強度が1/2であるのに、垂直上方レーザー光と水平レーザー光とは各々1/4となってしまい、遠方まで到達しなければならない水平レーザー光の光強度が弱く、また、水平レーザー光の光強度だけを強くすることは不可能である。
【0019】
レーザー光の回転する角速度を調節してレーザスポットの移動速度を一定に保って視認性を向上させる場合には、距離の長さに比例して角速度を小さくしなければならない。しかしながら角速度を小さくすると、レーザスポットが観察できる周期が長くなってしまう。
【0020】
一般には、測定精度や作業上の必要から、観測者は測定対象物上のレーザスポットを複数回観察確認して基準平面設定作業を行うため、周期が長くなると測定に要する時間が長くなり、基準平面設定作業の作業性が著しく低下してしまう。
【0021】
レーザー光の径を大きくした場合には見やすくはなるが、観測者がレーザスポット中のいずれの箇所をもって基準平面と定めるかに誤差を生じ易く、また、受光器を使用した場合でも、受光面が大きくなるため、基準面の設定精度が低下する虞がある。従って、レーザー光等の照射光の径を大きくするだけでは実用的な解決手段にならない。
【0022】
そこで、出願人は特願平5−104510号に記載するような基準平面設定装置を提案した。
【0023】
図4(a)は、この基準平面設定装置の光学系の側面図であり、図4(b)は上面図である。図4(a)、(b)を参照し、基準平面設定装置101は、発光手段109とディスク102とを備えており、前記ディスク102は、図示しないモータを備えた回転手段によって回転軸線108を中心に回転させられる。前記発光手段109は前記回転軸線108上に配置されており、該発光手段109の射出するレーザー光131の光軸は前記回転軸線108と一致するようにされている。
【0024】
前記ディスク102に前記回転軸線108と交差する穴103が開けられており、該穴103上に第1ビームスプリッタ141が配置され、その側方には第2ビームスプリッタ142が配置されている。
【0025】
前記第1ビームスプリッタ141はハーフプリズムから構成されており、前記第2ビームスプリッタ142は3つの三角プリズムから構成されている。
【0026】
前記レーザ光131が前記穴103を介して前記第1ビームスプリッタ141に照射されると、レーザ光131の1/2光量は反射され、レーザ光1340となって前記第2ビームスプリッタに照射され、残りの半分(同1/2光量)は透過して、垂直レーザ光132となって前記回転軸線108に沿って上方に照射される。
【0027】
前記レーザ光1340が前記第2ビームスプリッタ142に照射されると、その半分(同1/4光量)は、該第2ビームスプリッタ142を透過して第1水平レーザ光1341となって、窓1121から射出される。残りの半分は前記第2ビームスプリッタ142で反射されて第2水平レーザ光1342となって、窓1122から前記第1レーザ光1341とは逆方向に射出される。
【0028】
そして、前記ディスク102が前記回転軸線108の回りに回転すると、該ディスク102上に配置された前記第1ビームスプリッタ141と前記第2ビームスプリッタ142も回転し、前記第1水平レーザ光1341と前記第2水平レーザ光1342も、前記回転軸線108の回りに回転するので、前記回転軸線108を鉛直に整準しておけば、前記2本のレーザ光1341、1342とで、一つの水準面を設定することができる。
【0029】
図示のように、前記2本のレーザ光1341、1342を使用すれば、同一測定点に入射する照射光の単位時間当りの光量を増大させることができる。
【0030】
しかしながら、上記したような基準平面設定装置101では、逆方向に向かう2本のレーザ光を形成するために、第1ビームスプリッタ141と第2ビームスプリッタ142との2つのビームスプリッタを必要とする。
【0031】
しかも、前記第2ビームスプリッタ142は、前記回転軸線108上に配置できないため、重心が回転軸線上に位置せず、重量バランスが悪いためにスムーズな回転が得られないという不都合があった。このため、該ディスク102上に重量バランサーを固定して、重量バランスを調整していたが、この調整作業は煩雑である。
【0032】
また、前記ディスク102は、少なくとも2つのビームスプリッタを配置できる大きさを必要とするので、装置の小型化にも一定の限界があった。
【0033】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記従来技術の不利不便に鑑みて創作されたもので、2本の平行光線束を射出できる小型の基準平面設定装置を提供することを課題とする。
【0034】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は、一の直線と直角な平面に平行な第1平行光線束と第2平行光線束とを射出し、前記第1平行光線束と前記第2平行光線束とを前記一の直線を回転軸線として回転させて基準平面を設定する基準平面設定装置であって、一次平行光線束を発生する発光手段と、前記一次平行光線束を前記第1平行光線束と前記第2平行光線束に分割するビーム分割手段と、前記発光手段と前記ビーム分割手段とを前記回転軸線を中心に同期回転させる回転手段とを備えたものにおいて、前記発光手段と前記ビーム分割手段とを前記回転軸線上に配置すると共に、前記一次平行光線束は直線偏光光であり、前記ビーム分割手段は、偏光ビームスプリット面と、1/4波長板と、反射ミラーとを有しており、前記ビームスプリット面の主軸は前記一次平行光線束の偏光面に対して45°を成し、前記ビームスプリット面に前記一次平行光線束が45°の角度で入射するように配置され、前記1/4波長板の主軸は、前記ビームスプリット面を透過した直線偏光光の偏光面に対して45°を成すように配置され、前記反射ミラーは、前記1/4波長板を透過した光を反射して該1/4波長板に戻すように配置されたことを特徴とする。
【0035】
同じ光軸を有する2本の平行光線束を回転軸線と直角な平面に平行に射出し、前記回転軸線が鉛直になるように整準し、前記回転軸線を中心として前記2本の平行光線束を回転させれば、前記2本の平行光線束で一つの基準平面を張ることができる。
【0036】
前記発光手段と前記ビーム分割手段とを前記回転軸線上に配置しておけば、重心が前記回転軸線上に位置するので、前記回転を円滑に行なうことができる。
【0037】
更に、前記一次平行光線束に直線偏光光を使用し、前記ビーム分割手段に、偏光ビームスプリット面と、1/4波長板と、反射ミラーとを設け、該ビームスプリット面の主軸が前記一次平行光線束の偏光面に対して45°を成し、且つ、前記一次平行光線束が前記ビームスプリット面に45°の角度で入射するように配置し、前記1/4波長板を、該1/4波長板の主軸が前記ビームスプリット面を透過した直線偏光光の偏光面に対して45°を成すように配置し、前記反射ミラーを、前記1/4波長板を透過した光を反射して該1/4波長板に戻すように配置すれば、少ない光学部品点数で前記2本の平行光線束を作ることができる。
【0038】
【発明の実施の形態】
本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
【0039】
図1を参照し、2は基準平面設定装置であり、有底円筒6内に発光手段5が設けられており、該有底円筒6の開口部10にはビームスプリット手段16が設けられている。前記有底円筒6は、筺体8にベアリング7を介して回転可能に保持されており、図示しないモーターによって該有底円筒6の中心軸線を回転軸線9として回転し得るように構成されている。
【0040】
前記発光手段5は、レーザ発光ダイオード3とコリメーションレンズ4とから成っており、前記レーザ発光ダイオード3は、前記有底円筒6の底部の前記回転軸線9と交差する位置に固定され、前記コリメーションレンズ4は、前記有底円筒6内の、前記レーザ発光ダイオード3と前記ビームスプリット手段16との間に配置されている。
【0041】
前記ビームスプリット手段16は、偏光ビームスプリッター12と、1/4波長板13と、反射ミラー14とから成っており、前記コリメーションレンズ4は、前記レーザダイオード3の射出するレーザ光L'を平行光とし、一次平行光線束L0として前記偏光ビームスプリッター12に照射するように構成されている。
【0042】
前記コリメーションレンズ4の中心と前記レーザ発光ダイオード3の発光面の中心とは、前記回転軸線9上に位置するように配置されているので、前記一次平行光線束L0の光軸11は前記回転軸線9と一致する。また、前記レーザ光L'は直線偏光光であるので、前記一次平行光線束L0も直線偏光光となり、一定の偏光面を有している。
【0043】
前記ビームスプリッター12は、ビームスプリット面15を有しており、該ビームスプリット面15は、図2(a)に示すように、前記一次平行光線束L0が45°の角度で入射するように配置されている。該ビームスプリット面15の主軸は、前記一次平行光線束L0の偏光面と45°の角度を成すように配置されおり、前記一次平行光線束L0が前記ビームスプリット面15に照射されると、半分は反射されて第1平行光線束L1となり、残りの半分は透過されてビームスプリット面透過光M1となる。
【0044】
前記ビームスプリット面15で前記一次平行光線束L0が反射される際、偏光面は45°傾けられるので、前記第1平行光線束L1の偏光面は前記ビームスプリット面15の主軸と直角になる。また、前記一次平行光線束L0が透過される際、偏光面は前記第1平行光線束とは逆向きに45°傾けられるので、前記ビームスプリット面透過光M1の偏光面は、前記ビームスプリット面15の主軸と平行になる。従って、偏光面を光の進行方向を基準として見た場合、前記第1平行光線束L1の偏光面と前記ビームスプリット面透過光M1の偏光面とは互いに90°の角度を成すことになる。
【0045】
また、前記ビームスプリット面透過光M1の光路上には、前記1/4波長板13と前記反射ミラー14が順に配置されているので、前記ビームスプリット面透過光M1は前記1/4波長板13に照射され、該1/4波長板13を透過して1/4波長板透過光M2となって前記反射ミラー14に照射され、反射光M3となる。前記ビームスプリット面透過光M1は直線偏光光であるから、前記1/4波長板透過光M2と、前記反射光M3とは円偏光光となる。
【0046】
なお、前記反射ミラー14に替え、図2(b)のように、三角プリズム18を使用することも可能である。
【0047】
前記反射光M3が前記1/4波長板13の裏面に照射されると、前記1/4波長板13を透過して1/4波長板再透過光M4となる。前記反射光M3は円偏光光であるので、前記1/4波長板再透過光M4は直線偏光光となる。また、前記1/4波長板13の主軸は、前記ビームスプリット面透過光M1の偏光面に対して45°を成すように配置されており、前記ビームスプリット面透過光M1が前記1/4波長板13に照射され、該1/4波長板13を表と裏から2回透過して前記1/4波長板再透過光M4となっているので、前記1/4波長板再透過光M4の偏光面は前記ビームスプリット面透過光M1の偏光面から90°傾けられている。その場合、前記ビームスプリット面透過光M1の偏光面は前記ビームスプリット面の主軸と平行になっているので、前記1/4波長板再透過光M4の偏光面は前記ビームスプリット面15の主軸と直角になり、前記1/4波長板再透過光M4は前記ビームスプリット面15で全反射され、第2平行光線束L2となる。従って、前記第1平行光線束L1と前記第2平行光線束L2の光量は略等しくなる。なお、前記第2平行光線束L2の偏光面は、前記第1平行光線束L1の偏光面と平行になる。
【0048】
また、前記1/4波長板13と前記反射ミラー14とは、前記一次平行光線束L0の光軸11と垂直になるように配置されているので、前記ビームスプリット面透過光M1と前記1/4波長板透過光M2と前記反射光M3と前記1/4波長板再透過光M4との光軸とは、前記一次平行光線束L0の光軸11と一致する。
【0049】
更に、前記ビームスプリット面15は、前記一次平行光線束L0が45°の角度で入射するように配置されているので、前記1/4波長板再透過光M4は、前記ビームスプリット面15の裏面に45°の角度で入射する。従って、前記第1平行光線束L1と前記第2平行光線束L2の光軸同一であり、共に前記一次平行光線束L0の光軸11(回転軸線9)と垂直に交差する。
【0050】
従って、前記基準平面設定装置2を整準して前記回転軸線9を鉛直にし、前記回転軸線9を中心に前記有底円筒6を回転させれば、前記第1平行光線束L1と前記第2平行光線束L2とで、一つの水準面を張ることができる。
【0051】
その際、前記第1平行光線束L1と前記第2平行光線束L2との光軸17は前記回転軸線9と直角に交差しているので、前記有底円筒6を一定速度で回転させれば、測定点には一定周期でレーザスポットが作られる。
【0052】
また、前記発光手段5と前記ビーム分割手段16とは前記回転軸線9上に位置しているので、該回転軸線9上に重心が存し、前記有底円筒6の回転が円滑である。
【0053】
但し、測定点に一定周期で平行光線束を入射させるためには、前記発光手段5と前記ビーム分割手段16とは、必ずしも前記回転軸線9上に配置されている必要はなく、前記第1平行光線束L1と前記第2平行光線束L2との光軸が、前記回転軸線と交差していればよい。
【0054】
【発明の効果】
平行光線束を一本だけしか使用しない基準平面設定装置に比べ、単位時間あたりに測定対象物に平行光線束が照射される回数が2倍になり、測量作業の能率が向上する。
【0055】
また、重心を回転軸線上に位置させることができるので、回転運動が円滑になり、少ない光学部品で構成できるため、装置を小型にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明装置の一例
【図2】 その光学原理を説明するための図
【図3】 従来の基準平面設定装置の断面図
【図4】 従来の他の基準平面設定装置の光学系を示す図
【符号の説明】
2……基準平面設定装置 5……発光手段 9……回転軸線
13……1/4波長板 14……反射ミラー
15……偏光ビームスプリット面 16……ビーム分割手段
0……一次平行光線束 L1……第1平行光線束
2……第2平行光線束

Claims (1)

  1. 一の直線と直角な平面に平行な第1平行光線束と第2平行光線束とを射出し、
    前記第1平行光線束と前記第2平行光線束とを前記一の直線を回転軸線として回転させて基準平面を設定する基準平面設定装置であって、
    一次平行光線束を発生する発光手段と、
    前記一次平行光線束を前記第1平行光線束と前記第2平行光線束に分割するビーム分割手段と、
    前記発光手段と前記ビーム分割手段とを前記回転軸線を中心に同期回転させる回転手段とを備えたものにおいて、
    前記発光手段と前記ビーム分割手段とを前記回転軸線上に配置すると共に、
    前記一次平行光線束は直線偏光光であり、
    前記ビーム分割手段は、偏光ビームスプリット面と、1/4波長板と、反射ミラーとを有しており、
    前記ビームスプリット面の主軸は前記一次平行光線束の偏光面に対して45°を成し、前記ビームスプリット面に前記一次平行光線束が45°の角度で入射するように配置され、
    前記1/4波長板の主軸は、前記ビームスプリット面を透過した直線偏光光の偏光面に対して45°を成すように配置され、
    前記反射ミラーは、前記1/4波長板を透過した光を反射して該1/4波長板に戻すように配置されたことを特徴とする基準平面設定装置。
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