JP3766193B2 - エッチング装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は被処理物をエッチング処理するエッチング処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
たとえば、液晶製造装置や半導体製造装置においては、液晶用ガラス基板や半導体ウエハなどの被処理物をエッチング処理してから洗浄処理および乾燥処理するという工程がある。
【０００３】
エッチング処理は、被処理物の表面に形成された酸化膜を除去するために行われるもので、上記被処理物にエッチング液を噴射し、所定量（所定時間）のエッチングを行ったならば、それ以上、エッチングが進行するのを止めるためにリンス液を噴射し、被処理物に付着したエッチング液を洗い流す。それによって、被処理物に対しエッチングを一定の状態で行なうようにしている。
【０００４】
エッチング液は比較的高価であるから、繰り返して使用することが望ましい。しかしながら、エッチング処理では、上述したように、エッチング処理についでリンス処理を行わなければならない。そのため、エッチング液を回収すると、そのエッチング液にリンス液が混入し、エッチング液の性能が低下してしまうため、繰り返して使用することができないということがある。
【０００５】
エッチング液にリンス液が混入するのを防止するために、エッチング処理とリンス処理とを別々のチャンバで行うことが考えられる。しかしながら、これらの処理を別々のチャンバで行うようにすると、被処理物がエッチング処理されてリンス処理されるまでにかなりの時間が経過するばかりか、その時間にばらつきが生じるから、その間に被処理物のエッチングが必要以上に進行したり、エッチング状態にばらつきが生じるなどのことがある。
【０００６】
一方、被処理物をエッチング処理する場合、エッチング処理によって発生するパ−ティクルを確実に洗浄除去しなければ、その被処理物にたとえば回路パタ−ンの形成などのようなつぎの処理を精度よく行うことができない。
【０００７】
そこで、通常、エッチング処理ユニットに洗浄処理ユニットと乾燥処理ユニットとを並設し、上述した各種の処理を順次行うことができるようにした処理装置が知られている。
【０００８】
従来のこの種の処理装置は、上記エッチング処理ユニット側にロ−ダが配置され、上記乾燥処理ユニット側にアンロ−ダが配置される。上記ロ−ダとエッチング処理ユニットとの間、乾燥処理ユニットとアンロ−ダとの間、および各処理ユニットの間にはそれぞれ受け渡し装置を設け、上記被処理物をロ−ダから各処理ユニットを経て上記アンロ−ダへ順次受け渡すようになっている。
【０００９】
しかしながら、このような構成の処理装置によると、ロ−ダ、アンロ−ダ、複数の処理ユニットおよび受け渡し装置を一列に配置しなければならないから、装置の全長が長くなり、その装置の設置場所に制限を受けるということがある。
【００１０】
しかも、被処理物をロ−ダからアンロ−ダへ各種処理ユニットを経て受け渡すためには複数の受け渡し装置が必要となる。受け渡し装置としては通常、ロボット装置が用いられるが、ロボット装置は高価である。そのため、複数のロボット装置を用いなければならない従来の装置はコストが大幅に上昇するということがある。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
このように、エッチング処理とリンス処理とが順次行われる従来のエッチング処理装置ではエッチング液を回収しようとすると、そのエッチング液にリンス液が混入してしまうということがあった。
【００１３】
この発明の目的は、リンス液を混入させることなく、エッチング液だけを確実に回収できるようにしたエッチング処理装置を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、被処理物をエッチング液でエッチング処理してからリンス液でリンス処理するエッチング処理装置において、
チャンバと、
このチャンバ内に揺動自在に設けられ上面に上記被処理物が保持される保持部材と、
上記チャンバ内の上部に配置され上記保持部材に保持された上記被処理物に向けてエッチング液を供給する第１の供給手段およびリンス液を供給する第２の供給手段と、
上記被処理物にエッチング液を供給してエッチング処理するときとリンス液を供給してリンス処理するときとで上記保持部材を異なる方向に傾斜させる駆動手段と、
上記被処理物をエッチング処理するときにこの被処理物の傾斜方向下端側から滴下するエッチング液を回収するエッチング液回収手段と、
上記被処理物をリンス処理するときにこの被処理物の傾斜方向下端側から滴下するリンス液を回収するリンス液回収手段と
を具備したことを特徴とする。
【００１５】
請求項２の発明は、請求項１の発明において、上記エッチング液回収手段は、上記チャンバの内底部に設けられエッチング処理時に被処理物の傾斜方向下端から滴下するエッチング液を受ける第１の受け部と、この第１の受け部に連通して設けられ上記エッチング液を回収する回収槽と、この回収槽と上記第１の供給手段とを接続し中途部に上記回収槽に回収されたエッチング液を上記第１の供給手段へ循環させるポンプが設けられた循環配管とを具備したことを特徴とする。
【００１８】
請求項１の発明によれば、被処理物が載置される保持部材を、エッチング処理時とリンス処理時とで異なる方向に傾斜させ、エッチング処理時に被処理物の傾斜方向下端側から滴下するエッチング液を回収するため、エッチング液にリンス液を混入させることなく回収できる。
【００１９】
請求項２の発明によれば、リンス液が混入しないエッチング液が回収されると、そのエッチング液を循環させることができるから、エッチング液を繰り返して使用することが可能となる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の一実施の形態を図面を参照して説明する。
図１と図２は後述する複数の処理ユニットを備えた処理装置１を示し、この処理装置１は本体２を有する。この本体２は矩形箱型状をなしていて、その内部には幅方向中央部分に位置する走行路３が長手方向ほぼ全長にわたって直線状に形成されている。
【００２３】
上記走行路３には受け渡し装置としてのロボット４が走行自在に設けられている。上記走行路３にはその全長にわたってリニアモ−タ５が設けられ、上記ロボット４はこのリニア−モ−タ５によって上記走行路３に沿って駆動されるようになっている。
【００２４】
上記走行路３の一側には上記複数の処理ユニット、この実施の形態ではエッチング処理ユニット６、洗浄処理ユニット７および乾燥処理ユニット８が順次並設されている。
【００２５】
上記走行路３の他側には、未処理の被処理物としての液晶用ガラス基板Ｗ（以下基板とする）が格納されたロ−ダ１１と、上記各処理ユニット６、７、８で処理された基板Ｗが格納されるアンロ−ダ１２とが配置されている。
【００２６】
上記構成の処理装置１において、基板Ｗを処理する場合には、まず、ロボット４がロ−ダ１１から未処理の基板Ｗを取り出し、エッチング処理ユニット６へ供給する。基板Ｗがエッチング処理ユニット６で処理されたならば、その基板Ｗをエッチング処理ユニット６から取り出して洗浄処理ユニット７へ供給する。
【００２７】
上記洗浄処理ユニット７において基板Ｗの洗浄処理が終了すると、ロボット４はその基板Ｗを取り出して乾燥処理ユニット８へ供給する。乾燥処理ユニット８での乾燥処理が終了すると、その基板Ｗはロボット４によって取り出されてアンロ−ダ１２へ格納されることで、上記基板Ｗに対する一連の処理が終了することになる。
【００２８】
このように、走行路３を挟んでその一側に３つの処理ユニット６、７、８を配置し、他側にロ−ダ１１とアンロ−ダ１２とを配置したことで、処理装置１の全長を短くすることができる。
【００２９】
上記走行路３にロボット４を走行自在に設けたことで、このロボット４によって走行路３の一側に設けられた各処理ユニット６、７、８に対して基板Ｗを供給したり、取り出すことができるばかりか、走行路３の他側に設けられたロ−ダ１１から基板Ｗを取り出したり、アンロ−ダ１２へ処理ずみの基板Ｗを格納することができる。
【００３０】
つまり、処理装置１に１台のロボット４を設けるだけで、各処理ユニット６、７、８やロ−ダ１１およびアンロ−ダ１２に対する基板Ｗの受け渡しを行うことができる。
【００３１】
一方、上記エッチング処理ユニット６は、図３と図４に示すようにチャンバ２１を有する。このチャンバ２１の上記走行路３に面した前面には出入口２２が形成され、この出入口２２は扉２３によって開閉されるようになっている。
【００３２】
上記チャンバ２１内の高さ方向中途部には平板状の保持部材２４が配設されている。この保持部材２４の幅方向両側下面には支持部２５が設けられ、この支持部２５は上記チャンバ２１の前後方向に沿って回転自在に設けられた駆動軸２６に取付けられている。
【００３３】
なお、保持部材２４の平面形状は上記基板Ｗの平面形状に比べて十分に大きなは矩形状に形成されている。
上記駆動軸２６の上記チャンバ２１の背面から突出した一端部は、この背面側に設けられた駆動源２７に連結されている。この駆動源２７は上記駆動軸２６を左右方向に所定角度づつ回動させるようになっている。
【００３４】
つまり、上記駆動源２７は、上記保持部材２４をほぼ水平な中立状態と、図３に実線で示すように左側へ低く傾斜したエッチング処理状態と、同図に鎖線で示すように右側へ低く傾斜したリンス処理状態とに位置決めできるようになっている。
【００３５】
上記保持部材２４の上面には複数の支持ピン２８が設けられ、これら支持ピン２８によって上記基板Ｗが支持されるようになっている。なお、上記保持部材２４の長手方向一端側と他端側には、保持部材２４が傾斜したときに上記支持ピン２８に支持された基板Ｗが傾斜方向へずれ動くのを規制するそれぞれ複数の規制ピン２９が設けられている。
【００３６】
上記チャンバ２１内の下部の幅方向一端側、つまり保持部材２４がエッチング状態に傾斜したときにその傾斜方向下端側に対応する部位には第１の樋３１がチャンバ２１の前後方向ほぼ全長にわたって設けられ、他端側である、リンス処理状態における保持部材２４の傾斜方向下端側に対応する部分には第２の樋３２が前後方向ほぼ全長にわたって設けられている。
【００３７】
上記第１の樋３１には第１の回収管３３の一端が接続されている。この第１の回収管３３の他端はエッチング液Ｅが収容された第１の回収槽３４に接続されている。この第１の回収槽３４には第１の循環配管３５の一端が接続されている。この循環配管３５の他端は、図５に示すように上記チャンバ２１内の上部に前後方向に沿って所定間隔で配置された複数のエッチング用ノズル３６に接続されている。上記循環配管３５の中途部には第１のポンプ３７が設けられている。
【００３８】
したがって、上記保持部材２４がエッチング処理状態に傾斜しているときに、上記第１のポンプ３７が作動すると、第１の回収層３４のエッチング液Ｅがエッチング用ノズル３６へ供給されるから、エッチング液Ｅはこのノズル３６から保持部材２４の上面に保持された基板Ｗに向けて噴射される。
【００３９】
基板Ｗに噴射されたエッチング液Ｅはこの上面に沿って流れ、下端側に配設された第１の樋３１へ流入し、この第１の樋３１から第１の回収管３３を通じて第１の回収槽３４へ回収されるようになっている。
【００４０】
上記第２の樋３２には第２の回収管３８の一端が接続されている。この第２の回収管３８の他端は純水からなるリンス液Ｒが収容された第２の回収槽３９に接続されている。この第２の回収槽３９には第２の循環配管４１の一端が接続されている。この第２の循環配管４１の他端は、上記チャンバ２１内の上部に前後方向に沿って所定間隔で配置された複数のリンス用ノズル４２に接続されている。
【００４１】
なお、図３では分かり易く図示するためにリンス用ノズル４２とエッチング用ノズル３６とが異なる高さに配設されているが、これらノズル３６、４２は同じ高さに配置してもよいこと、勿論である。
【００４２】
上記第２の回収管３８の中途部には三方切換弁４３が設けられている。この三方切換弁４３の２つのポ−トに上記第２の回収管３８が接続され、残りの１つのポ−トには排液管４４が接続されている。さらに、上記第２の循環配管４１の中途部には第２のポンプ４５および一端が図示しないリンス液Ｒの供給源に接続された供給管４６の他端が接続されている。この供給管４６には開閉弁４７が設けられている。
【００４３】
したがって、上記保持部材２４がリンス処理状態に傾斜しているときに、上記第２のポンプ４５が作動すると、第２の回収槽３９のリンス液Ｒがリンス用ノズル４２へ供給されるから、リンス液Ｒはこのノズル４２から保持部材２４の上面に保持された基板Ｗに向けて噴射される。
【００４４】
基板Ｗに噴射されたリンス液Ｒはこの上面に沿って流れ、下端側に配設された第２の樋３２へ流入し、この第２の樋３２から第２の回収管３８を通じて第２の回収槽３９へ回収されるようになっている。
【００４５】
リンス用ノズル４２からリンス液Ｒを噴射し始めたときには、第２の樋３２に回収されるリンス液Ｅにはエッチング液Ｅが混入する。そのため、リンス処理の開始から所定時間の間は、第２の樋３２から第２の回収管３８へ流れたリンス液Ｒが排液管４４から排出されるように三方切換弁４３を切り換え、所定時間経過後にリンス液Ｒを第２の回収槽３９に回収するようにする。それによって、第２の回収槽３９にエッチング液Ｅの混入したリンス液Ｒが回収されるのを防止できる。つまり、リンス液Ｒも、一部を回収して再使用できるようになっている。
【００４６】
なお、第２の回収槽３９に貯蔵されるリンス液Ｒが減少したならば、新たなリンス液Ｒを供給管４６を通じてリンス用ノズル４２から噴出させて上記第２の回収槽３９に回収することで、補充することができる。
【００４７】
上記保持部材２４の幅方向両端部は、図４に示すように上方に向かって折曲された折曲部２４ａに形成されている。それによって、基板Ｗ上に噴射されたエッチング液Ｅやリンス液Ｒが保持部材２４の幅方向両側から滴下するのを防止している。
【００４８】
なお、チャンバ２１の底部には、基板Ｗに噴射されて第１、第２の樋３１、３２に回収されないエッチング液Ｅやリンス液Ｒを排出するドレン管４８が接続されている。
【００４９】
上記構成のエッチング処理装置によって基板Ｗをエッチング処理する場合について図６のフロ−チャ−トを参照しながら説明する。まず、保持部材２４を水平状態にしてチャンバ２１の出入口２２を開放する。ついで、ロボット４によってロ−ダ１１から取り出された基板Ｗを、上記保持部材２４上に供給し、上記出入口２２を閉じる。
【００５０】
つぎに、図６のＳ（ステップ）1 で示すように上記保持部材２４をエッチング状態に傾斜させるとともに、Ｓ2 で示すように第１のポンプ３７を作動させてエッチング液Ｅをエッチング用ノズル３６から基板Ｗに向けて噴射する。それによって、上記基板Ｗがエッチングされることになる。
【００５１】
基板Ｗの上面に噴射されたエッチング液Ｅは、この基板Ｗの上面から第１の樋３１へ流れ、第１の回収槽３４に回収されるから、繰り返して使用することができる。
【００５２】
Ｓ3 で示すように、このようなエッチング処理を所定時間行ったならば、Ｓ4 で示すように第１のポンプ３７を停止すると同時に、Ｓ5 で示すように上記保持部材２４をリンス状態に傾斜する。そして、Ｓ6 で示すように第２のポンプ４５を作動させて第２の回収槽３９のリンス液Ｒをリンス用ノズル４２から基板Ｗに向けて噴射し、この基板Ｗをリンス処理することで、基板Ｗのエッチングが所定以上に進行するのを防止する。ついで、Ｓ7 で示すようにリンス処理が所定時間行われたならば、Ｓ8 で示すように第２のポンプ４５を停止するとともに、Ｓ9 で示すように保持部材２４を水平にすることで、エッチング処理が終了する。
【００５３】
エッチング処理が終了したならば、出入口２２を開口してロボット４によりリンス処理された基板Ｗを取り出し、その基板Ｗを洗浄処理ユニット７へ供給して洗浄処理する。基板Ｗの洗浄処理が終了したならば、乾燥処理ユニット８へ供給して乾燥処理することで、基板Ｗに対する一連の処理が終了する。そして、このようにして処理された基板Ｗはロボット４によって上記乾燥処理ユニット８から取り出され、アンロ−ダ１２に格納されることになる。
【００５４】
この発明は上記一実施の形態に限定されず、種々変形可能である。たとえば、走行路３の一側に処理ユニットとしてエッチング処理ユニット６、洗浄処理ユニット７および乾燥処理ユニット８を配置したが、基板Ｗに回路パタ−ンを形成するために必要な他の処理ユニット、たとえばＣＶＤやアッシングなどを行う処理ユニットを設けるようにしてもよく、処理ユニットの種類や数などは限定されるものでない。
また、被処理物としては液晶用ガラス基板に限られず、半導体ウエハなどであってもよく、その点もなんら限定されるものでない。
【００５５】
【発明の効果】
請求項１の発明によれば、被処理物が載置される保持部材を、エッチング処理時とリンス処理時とで異なる方向に傾斜させ、エッチング処理時に被処理物の傾斜方向下端側から滴下するエッチング液を回収するようにした。
【００５６】
そのため、エッチング処理時に回収されるエッチング液に、リンス処理時のリンス液が混入するのを防止できるから、エッチング液を繰り返して使用することができる。
【００５７】
しかも、エッチング液とリンス液とを別々に回収できるため、１つのチャンバ内でエッチング処理とリンス処理とを、エッチング液の回収に支障が生じることなく行うことができる。
【００５８】
請求項２の発明によれば、リンス液が混入しないエッチング液を回収して循環させることができるから、エッチング液を繰り返して使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施の形態を示す処理装置の概略的構成の平面図。
【図２】同じく処理装置の側面図。
【図３】同じくエッチング装置の縦断面図。
【図４】同じくエッチング装置の横断面図。
【図５】同じくエッチング用ノズルとリンス用ノズルとの配置状態の平面図。
【図６】同じく基板をエッチング処理するときのフロ−チャ−ト。
【符号の説明】
２…装置本体
３…走行路
４…ロボット（受け渡し装置）
６…エッチング処理ユニット
７…洗浄処理ユニット
８…乾燥処理ユニット
１１…ロ−ダ
１２…アンロ−ダ
２１…チャンバ
２４…保持部材
２７…駆動源（駆動手段）
３１…第１の樋（エッチング液回収手段）
３２…第２の樋（リンス液回収手段）
３４…第１の回収槽（エッチング液回収手段）
３６…エッチング用ノズル
３７…第１のポンプ（エッチング液回収手段）
３９…第２の回収槽（リンス液回収手段）
４２…リンス用ノズル
４５…第２のポンプ（リンス液回収手段）
【発明の属する技術分野】
この発明は被処理物をエッチング処理するエッチング処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
たとえば、液晶製造装置や半導体製造装置においては、液晶用ガラス基板や半導体ウエハなどの被処理物をエッチング処理してから洗浄処理および乾燥処理するという工程がある。
【０００３】
エッチング処理は、被処理物の表面に形成された酸化膜を除去するために行われるもので、上記被処理物にエッチング液を噴射し、所定量（所定時間）のエッチングを行ったならば、それ以上、エッチングが進行するのを止めるためにリンス液を噴射し、被処理物に付着したエッチング液を洗い流す。それによって、被処理物に対しエッチングを一定の状態で行なうようにしている。
【０００４】
エッチング液は比較的高価であるから、繰り返して使用することが望ましい。しかしながら、エッチング処理では、上述したように、エッチング処理についでリンス処理を行わなければならない。そのため、エッチング液を回収すると、そのエッチング液にリンス液が混入し、エッチング液の性能が低下してしまうため、繰り返して使用することができないということがある。
【０００５】
エッチング液にリンス液が混入するのを防止するために、エッチング処理とリンス処理とを別々のチャンバで行うことが考えられる。しかしながら、これらの処理を別々のチャンバで行うようにすると、被処理物がエッチング処理されてリンス処理されるまでにかなりの時間が経過するばかりか、その時間にばらつきが生じるから、その間に被処理物のエッチングが必要以上に進行したり、エッチング状態にばらつきが生じるなどのことがある。
【０００６】
一方、被処理物をエッチング処理する場合、エッチング処理によって発生するパ−ティクルを確実に洗浄除去しなければ、その被処理物にたとえば回路パタ−ンの形成などのようなつぎの処理を精度よく行うことができない。
【０００７】
そこで、通常、エッチング処理ユニットに洗浄処理ユニットと乾燥処理ユニットとを並設し、上述した各種の処理を順次行うことができるようにした処理装置が知られている。
【０００８】
従来のこの種の処理装置は、上記エッチング処理ユニット側にロ−ダが配置され、上記乾燥処理ユニット側にアンロ−ダが配置される。上記ロ−ダとエッチング処理ユニットとの間、乾燥処理ユニットとアンロ−ダとの間、および各処理ユニットの間にはそれぞれ受け渡し装置を設け、上記被処理物をロ−ダから各処理ユニットを経て上記アンロ−ダへ順次受け渡すようになっている。
【０００９】
しかしながら、このような構成の処理装置によると、ロ−ダ、アンロ−ダ、複数の処理ユニットおよび受け渡し装置を一列に配置しなければならないから、装置の全長が長くなり、その装置の設置場所に制限を受けるということがある。
【００１０】
しかも、被処理物をロ−ダからアンロ−ダへ各種処理ユニットを経て受け渡すためには複数の受け渡し装置が必要となる。受け渡し装置としては通常、ロボット装置が用いられるが、ロボット装置は高価である。そのため、複数のロボット装置を用いなければならない従来の装置はコストが大幅に上昇するということがある。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
このように、エッチング処理とリンス処理とが順次行われる従来のエッチング処理装置ではエッチング液を回収しようとすると、そのエッチング液にリンス液が混入してしまうということがあった。
【００１３】
この発明の目的は、リンス液を混入させることなく、エッチング液だけを確実に回収できるようにしたエッチング処理装置を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、被処理物をエッチング液でエッチング処理してからリンス液でリンス処理するエッチング処理装置において、
チャンバと、
このチャンバ内に揺動自在に設けられ上面に上記被処理物が保持される保持部材と、
上記チャンバ内の上部に配置され上記保持部材に保持された上記被処理物に向けてエッチング液を供給する第１の供給手段およびリンス液を供給する第２の供給手段と、
上記被処理物にエッチング液を供給してエッチング処理するときとリンス液を供給してリンス処理するときとで上記保持部材を異なる方向に傾斜させる駆動手段と、
上記被処理物をエッチング処理するときにこの被処理物の傾斜方向下端側から滴下するエッチング液を回収するエッチング液回収手段と、
上記被処理物をリンス処理するときにこの被処理物の傾斜方向下端側から滴下するリンス液を回収するリンス液回収手段と
を具備したことを特徴とする。
【００１５】
請求項２の発明は、請求項１の発明において、上記エッチング液回収手段は、上記チャンバの内底部に設けられエッチング処理時に被処理物の傾斜方向下端から滴下するエッチング液を受ける第１の受け部と、この第１の受け部に連通して設けられ上記エッチング液を回収する回収槽と、この回収槽と上記第１の供給手段とを接続し中途部に上記回収槽に回収されたエッチング液を上記第１の供給手段へ循環させるポンプが設けられた循環配管とを具備したことを特徴とする。
【００１８】
請求項１の発明によれば、被処理物が載置される保持部材を、エッチング処理時とリンス処理時とで異なる方向に傾斜させ、エッチング処理時に被処理物の傾斜方向下端側から滴下するエッチング液を回収するため、エッチング液にリンス液を混入させることなく回収できる。
【００１９】
請求項２の発明によれば、リンス液が混入しないエッチング液が回収されると、そのエッチング液を循環させることができるから、エッチング液を繰り返して使用することが可能となる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の一実施の形態を図面を参照して説明する。
図１と図２は後述する複数の処理ユニットを備えた処理装置１を示し、この処理装置１は本体２を有する。この本体２は矩形箱型状をなしていて、その内部には幅方向中央部分に位置する走行路３が長手方向ほぼ全長にわたって直線状に形成されている。
【００２３】
上記走行路３には受け渡し装置としてのロボット４が走行自在に設けられている。上記走行路３にはその全長にわたってリニアモ−タ５が設けられ、上記ロボット４はこのリニア−モ−タ５によって上記走行路３に沿って駆動されるようになっている。
【００２４】
上記走行路３の一側には上記複数の処理ユニット、この実施の形態ではエッチング処理ユニット６、洗浄処理ユニット７および乾燥処理ユニット８が順次並設されている。
【００２５】
上記走行路３の他側には、未処理の被処理物としての液晶用ガラス基板Ｗ（以下基板とする）が格納されたロ−ダ１１と、上記各処理ユニット６、７、８で処理された基板Ｗが格納されるアンロ−ダ１２とが配置されている。
【００２６】
上記構成の処理装置１において、基板Ｗを処理する場合には、まず、ロボット４がロ−ダ１１から未処理の基板Ｗを取り出し、エッチング処理ユニット６へ供給する。基板Ｗがエッチング処理ユニット６で処理されたならば、その基板Ｗをエッチング処理ユニット６から取り出して洗浄処理ユニット７へ供給する。
【００２７】
上記洗浄処理ユニット７において基板Ｗの洗浄処理が終了すると、ロボット４はその基板Ｗを取り出して乾燥処理ユニット８へ供給する。乾燥処理ユニット８での乾燥処理が終了すると、その基板Ｗはロボット４によって取り出されてアンロ−ダ１２へ格納されることで、上記基板Ｗに対する一連の処理が終了することになる。
【００２８】
このように、走行路３を挟んでその一側に３つの処理ユニット６、７、８を配置し、他側にロ−ダ１１とアンロ−ダ１２とを配置したことで、処理装置１の全長を短くすることができる。
【００２９】
上記走行路３にロボット４を走行自在に設けたことで、このロボット４によって走行路３の一側に設けられた各処理ユニット６、７、８に対して基板Ｗを供給したり、取り出すことができるばかりか、走行路３の他側に設けられたロ−ダ１１から基板Ｗを取り出したり、アンロ−ダ１２へ処理ずみの基板Ｗを格納することができる。
【００３０】
つまり、処理装置１に１台のロボット４を設けるだけで、各処理ユニット６、７、８やロ−ダ１１およびアンロ−ダ１２に対する基板Ｗの受け渡しを行うことができる。
【００３１】
一方、上記エッチング処理ユニット６は、図３と図４に示すようにチャンバ２１を有する。このチャンバ２１の上記走行路３に面した前面には出入口２２が形成され、この出入口２２は扉２３によって開閉されるようになっている。
【００３２】
上記チャンバ２１内の高さ方向中途部には平板状の保持部材２４が配設されている。この保持部材２４の幅方向両側下面には支持部２５が設けられ、この支持部２５は上記チャンバ２１の前後方向に沿って回転自在に設けられた駆動軸２６に取付けられている。
【００３３】
なお、保持部材２４の平面形状は上記基板Ｗの平面形状に比べて十分に大きなは矩形状に形成されている。
上記駆動軸２６の上記チャンバ２１の背面から突出した一端部は、この背面側に設けられた駆動源２７に連結されている。この駆動源２７は上記駆動軸２６を左右方向に所定角度づつ回動させるようになっている。
【００３４】
つまり、上記駆動源２７は、上記保持部材２４をほぼ水平な中立状態と、図３に実線で示すように左側へ低く傾斜したエッチング処理状態と、同図に鎖線で示すように右側へ低く傾斜したリンス処理状態とに位置決めできるようになっている。
【００３５】
上記保持部材２４の上面には複数の支持ピン２８が設けられ、これら支持ピン２８によって上記基板Ｗが支持されるようになっている。なお、上記保持部材２４の長手方向一端側と他端側には、保持部材２４が傾斜したときに上記支持ピン２８に支持された基板Ｗが傾斜方向へずれ動くのを規制するそれぞれ複数の規制ピン２９が設けられている。
【００３６】
上記チャンバ２１内の下部の幅方向一端側、つまり保持部材２４がエッチング状態に傾斜したときにその傾斜方向下端側に対応する部位には第１の樋３１がチャンバ２１の前後方向ほぼ全長にわたって設けられ、他端側である、リンス処理状態における保持部材２４の傾斜方向下端側に対応する部分には第２の樋３２が前後方向ほぼ全長にわたって設けられている。
【００３７】
上記第１の樋３１には第１の回収管３３の一端が接続されている。この第１の回収管３３の他端はエッチング液Ｅが収容された第１の回収槽３４に接続されている。この第１の回収槽３４には第１の循環配管３５の一端が接続されている。この循環配管３５の他端は、図５に示すように上記チャンバ２１内の上部に前後方向に沿って所定間隔で配置された複数のエッチング用ノズル３６に接続されている。上記循環配管３５の中途部には第１のポンプ３７が設けられている。
【００３８】
したがって、上記保持部材２４がエッチング処理状態に傾斜しているときに、上記第１のポンプ３７が作動すると、第１の回収層３４のエッチング液Ｅがエッチング用ノズル３６へ供給されるから、エッチング液Ｅはこのノズル３６から保持部材２４の上面に保持された基板Ｗに向けて噴射される。
【００３９】
基板Ｗに噴射されたエッチング液Ｅはこの上面に沿って流れ、下端側に配設された第１の樋３１へ流入し、この第１の樋３１から第１の回収管３３を通じて第１の回収槽３４へ回収されるようになっている。
【００４０】
上記第２の樋３２には第２の回収管３８の一端が接続されている。この第２の回収管３８の他端は純水からなるリンス液Ｒが収容された第２の回収槽３９に接続されている。この第２の回収槽３９には第２の循環配管４１の一端が接続されている。この第２の循環配管４１の他端は、上記チャンバ２１内の上部に前後方向に沿って所定間隔で配置された複数のリンス用ノズル４２に接続されている。
【００４１】
なお、図３では分かり易く図示するためにリンス用ノズル４２とエッチング用ノズル３６とが異なる高さに配設されているが、これらノズル３６、４２は同じ高さに配置してもよいこと、勿論である。
【００４２】
上記第２の回収管３８の中途部には三方切換弁４３が設けられている。この三方切換弁４３の２つのポ−トに上記第２の回収管３８が接続され、残りの１つのポ−トには排液管４４が接続されている。さらに、上記第２の循環配管４１の中途部には第２のポンプ４５および一端が図示しないリンス液Ｒの供給源に接続された供給管４６の他端が接続されている。この供給管４６には開閉弁４７が設けられている。
【００４３】
したがって、上記保持部材２４がリンス処理状態に傾斜しているときに、上記第２のポンプ４５が作動すると、第２の回収槽３９のリンス液Ｒがリンス用ノズル４２へ供給されるから、リンス液Ｒはこのノズル４２から保持部材２４の上面に保持された基板Ｗに向けて噴射される。
【００４４】
基板Ｗに噴射されたリンス液Ｒはこの上面に沿って流れ、下端側に配設された第２の樋３２へ流入し、この第２の樋３２から第２の回収管３８を通じて第２の回収槽３９へ回収されるようになっている。
【００４５】
リンス用ノズル４２からリンス液Ｒを噴射し始めたときには、第２の樋３２に回収されるリンス液Ｅにはエッチング液Ｅが混入する。そのため、リンス処理の開始から所定時間の間は、第２の樋３２から第２の回収管３８へ流れたリンス液Ｒが排液管４４から排出されるように三方切換弁４３を切り換え、所定時間経過後にリンス液Ｒを第２の回収槽３９に回収するようにする。それによって、第２の回収槽３９にエッチング液Ｅの混入したリンス液Ｒが回収されるのを防止できる。つまり、リンス液Ｒも、一部を回収して再使用できるようになっている。
【００４６】
なお、第２の回収槽３９に貯蔵されるリンス液Ｒが減少したならば、新たなリンス液Ｒを供給管４６を通じてリンス用ノズル４２から噴出させて上記第２の回収槽３９に回収することで、補充することができる。
【００４７】
上記保持部材２４の幅方向両端部は、図４に示すように上方に向かって折曲された折曲部２４ａに形成されている。それによって、基板Ｗ上に噴射されたエッチング液Ｅやリンス液Ｒが保持部材２４の幅方向両側から滴下するのを防止している。
【００４８】
なお、チャンバ２１の底部には、基板Ｗに噴射されて第１、第２の樋３１、３２に回収されないエッチング液Ｅやリンス液Ｒを排出するドレン管４８が接続されている。
【００４９】
上記構成のエッチング処理装置によって基板Ｗをエッチング処理する場合について図６のフロ−チャ−トを参照しながら説明する。まず、保持部材２４を水平状態にしてチャンバ２１の出入口２２を開放する。ついで、ロボット４によってロ−ダ１１から取り出された基板Ｗを、上記保持部材２４上に供給し、上記出入口２２を閉じる。
【００５０】
つぎに、図６のＳ（ステップ）1 で示すように上記保持部材２４をエッチング状態に傾斜させるとともに、Ｓ2 で示すように第１のポンプ３７を作動させてエッチング液Ｅをエッチング用ノズル３６から基板Ｗに向けて噴射する。それによって、上記基板Ｗがエッチングされることになる。
【００５１】
基板Ｗの上面に噴射されたエッチング液Ｅは、この基板Ｗの上面から第１の樋３１へ流れ、第１の回収槽３４に回収されるから、繰り返して使用することができる。
【００５２】
Ｓ3 で示すように、このようなエッチング処理を所定時間行ったならば、Ｓ4 で示すように第１のポンプ３７を停止すると同時に、Ｓ5 で示すように上記保持部材２４をリンス状態に傾斜する。そして、Ｓ6 で示すように第２のポンプ４５を作動させて第２の回収槽３９のリンス液Ｒをリンス用ノズル４２から基板Ｗに向けて噴射し、この基板Ｗをリンス処理することで、基板Ｗのエッチングが所定以上に進行するのを防止する。ついで、Ｓ7 で示すようにリンス処理が所定時間行われたならば、Ｓ8 で示すように第２のポンプ４５を停止するとともに、Ｓ9 で示すように保持部材２４を水平にすることで、エッチング処理が終了する。
【００５３】
エッチング処理が終了したならば、出入口２２を開口してロボット４によりリンス処理された基板Ｗを取り出し、その基板Ｗを洗浄処理ユニット７へ供給して洗浄処理する。基板Ｗの洗浄処理が終了したならば、乾燥処理ユニット８へ供給して乾燥処理することで、基板Ｗに対する一連の処理が終了する。そして、このようにして処理された基板Ｗはロボット４によって上記乾燥処理ユニット８から取り出され、アンロ−ダ１２に格納されることになる。
【００５４】
この発明は上記一実施の形態に限定されず、種々変形可能である。たとえば、走行路３の一側に処理ユニットとしてエッチング処理ユニット６、洗浄処理ユニット７および乾燥処理ユニット８を配置したが、基板Ｗに回路パタ−ンを形成するために必要な他の処理ユニット、たとえばＣＶＤやアッシングなどを行う処理ユニットを設けるようにしてもよく、処理ユニットの種類や数などは限定されるものでない。
また、被処理物としては液晶用ガラス基板に限られず、半導体ウエハなどであってもよく、その点もなんら限定されるものでない。
【００５５】
【発明の効果】
請求項１の発明によれば、被処理物が載置される保持部材を、エッチング処理時とリンス処理時とで異なる方向に傾斜させ、エッチング処理時に被処理物の傾斜方向下端側から滴下するエッチング液を回収するようにした。
【００５６】
そのため、エッチング処理時に回収されるエッチング液に、リンス処理時のリンス液が混入するのを防止できるから、エッチング液を繰り返して使用することができる。
【００５７】
しかも、エッチング液とリンス液とを別々に回収できるため、１つのチャンバ内でエッチング処理とリンス処理とを、エッチング液の回収に支障が生じることなく行うことができる。
【００５８】
請求項２の発明によれば、リンス液が混入しないエッチング液を回収して循環させることができるから、エッチング液を繰り返して使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施の形態を示す処理装置の概略的構成の平面図。
【図２】同じく処理装置の側面図。
【図３】同じくエッチング装置の縦断面図。
【図４】同じくエッチング装置の横断面図。
【図５】同じくエッチング用ノズルとリンス用ノズルとの配置状態の平面図。
【図６】同じく基板をエッチング処理するときのフロ−チャ−ト。
【符号の説明】
２…装置本体
３…走行路
４…ロボット（受け渡し装置）
６…エッチング処理ユニット
７…洗浄処理ユニット
８…乾燥処理ユニット
１１…ロ−ダ
１２…アンロ−ダ
２１…チャンバ
２４…保持部材
２７…駆動源（駆動手段）
３１…第１の樋（エッチング液回収手段）
３２…第２の樋（リンス液回収手段）
３４…第１の回収槽（エッチング液回収手段）
３６…エッチング用ノズル
３７…第１のポンプ（エッチング液回収手段）
３９…第２の回収槽（リンス液回収手段）
４２…リンス用ノズル
４５…第２のポンプ（リンス液回収手段）
Claims (2)
- 被処理物をエッチング液でエッチング処理してからリンス液でリンス処理するエッチング処理装置において、
チャンバと、
このチャンバ内に揺動自在に設けられ上面に上記被処理物が保持される保持部材と、
上記チャンバ内の上部に配置され上記保持部材に保持された上記被処理物に向けてエッチング液を供給する第１の供給手段およびリンス液を供給する第２の供給手段と、
上記被処理物にエッチング液を供給してエッチング処理するときとリンス液を供給してリンス処理するときとで上記保持部材を異なる方向に傾斜させる駆動手段と、
上記被処理物をエッチング処理するときにこの被処理物の傾斜方向下端側から滴下するエッチング液を回収するエッチング液回収手段と、
上記被処理物をリンス処理するときにこの被処理物の傾斜方向下端側から滴下するリンス液を回収するリンス液回収手段と
を具備したことを特徴とするエッチング処理装置。 - 上記エッチング液回収手段は、上記チャンバの内底部に設けられエッチング処理時に被処理物の傾斜方向下端から滴下するエッチング液を受ける第１の受け部と、この第１の受け部に連通して設けられ上記エッチング液を回収する回収槽と、この回収槽と上記第１の供給手段とを接続し中途部に上記回収槽に回収されたエッチング液を上記第１の供給手段へ循環させるポンプが設けられた循環配管とを具備したことを特徴とする請求項１記載のエッチング処理装置。
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