JPH11162924A - エッチング処理装置および処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は基板をエッチング処理してからリ
ンス処理する場合、エッチング液にリンス液を混入させ
ずに回収できるエッチング処理装置を提供することを目
的とする。 【解決手段】 チャンバ２１内に揺動自在に設けられ上
面に基板Ｗが保持される保持部材２４と、チャンバ内の
上部に配置され基板に向けてエッチング液を供給するエ
ッチング用ノズル３６およびリンス液を供給するリンス
用ノズル４２と、基板にエッチング液を供給してエッチ
ング処理する場合とリンス液を供給してリンス処理する
場合に保持部材を異なる方向に傾斜させる駆動源２７
と、基板をエッチング処理するときに基板の傾斜方向下
端側から滴下するエッチング液を回収する第１の樋３１
と、基板をリンス処理するときに基板の傾斜方向下端側
から滴下するリンス液を回収する第２の樋３２とを具備
したことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は被処理物をエッチ
ング処理するエッチング処理装置および被処理物に種々
の処理を行う処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば、液晶製造装置や半導体製造装
置においては、液晶用ガラス基板や半導体ウエハなどの
被処理物をエッチング処理してから洗浄処理および乾燥
処理するという工程がある。

【０００３】エッチング処理は、被処理物の表面に形成
された酸化膜を除去するために行われるもので、上記被
処理物にエッチング液を噴射し、所定量（所定時間）の
エッチングを行ったならば、それ以上、エッチングが進
行するのを止めるためにリンス液を噴射し、被処理物に
付着したエッチング液を洗い流す。それによって、被処
理物に対しエッチングを一定の状態で行なうようにして
いる。

【０００４】エッチング液は比較的高価であるから、繰
り返して使用することが望ましい。しかしながら、エッ
チング処理では、上述したように、エッチング処理につ
いでリンス処理を行わなければならない。そのため、エ
ッチング液を回収すると、そのエッチング液にリンス液
が混入し、エッチング液の性能が低下してしまうため、
繰り返して使用することができないということがある。

【０００５】エッチング液にリンス液が混入するのを防
止するために、エッチング処理とリンス処理とを別々の
チャンバで行うことが考えられる。しかしながら、これ
らの処理を別々のチャンバで行うようにすると、被処理
物がエッチング処理されてリンス処理されるまでにかな
りの時間が経過するばかりか、その時間にばらつきが生
じるから、その間に被処理物のエッチングが必要以上に
進行したり、エッチング状態にばらつきが生じるなどの
ことがある。

【０００６】一方、被処理物をエッチング処理する場
合、エッチング処理によって発生するパ−ティクルを確
実に洗浄除去しなければ、その被処理物にたとえば回路
パタ−ンの形成などのようなつぎの処理を精度よく行う
ことができない。

【０００７】そこで、通常、エッチング処理ユニットに
洗浄処理ユニットと乾燥処理ユニットとを並設し、上述
した各種の処理を順次行うことができるようにした処理
装置が知られている。

【０００８】従来のこの種の処理装置は、上記エッチン
グ処理ユニット側にロ−ダが配置され、上記乾燥処理ユ
ニット側にアンロ−ダが配置される。上記ロ−ダとエッ
チング処理ユニットとの間、乾燥処理ユニットとアンロ
−ダとの間、および各処理ユニットの間にはそれぞれ受
け渡し装置を設け、上記被処理物をロ−ダから各処理ユ
ニットを経て上記アンロ−ダへ順次受け渡すようになっ
ている。

【０００９】しかしながら、このような構成の処理装置
によると、ロ−ダ、アンロ−ダ、複数の処理ユニットお
よび受け渡し装置を一列に配置しなければならないか
ら、装置の全長が長くなり、その装置の設置場所に制限
を受けるということがある。

【００１０】しかも、被処理物をロ−ダからアンロ−ダ
へ各種処理ユニットを経て受け渡すためには複数の受け
渡し装置が必要となる。受け渡し装置としては通常、ロ
ボット装置が用いられるが、ロボット装置は高価であ
る。そのため、複数のロボット装置を用いなければなら
ない従来の装置はコストが大幅に上昇するということが
ある。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】このように、エッチン
グ処理とリンス処理とが順次行われる従来のエッチング
処理装置ではエッチング液を回収しようとすると、その
エッチング液にリンス液が混入してしまうということが
あった。

【００１２】また、被処理物に対して複数の処理を順次
行う処理装置においては、ロ−ダ、複数の処理ユニット
およびアンロ−ダを一列に配置するとともに、各処理ユ
ニット間、ロ−ダ側さらにはアンロ−ダ側に受け渡し装
置を配置しなければならないので、装置の全長が長くな
るということがあるばかりか、複数の受け渡し装置を必
要とすることで、コストの上昇を招くなどのことがあっ
た。

【００１３】この発明の目的は、リンス液を混入させる
ことなく、エッチング液だけを確実に回収できるように
したエッチング処理装置を提供することにある。この発
明の目的は、全長を長くせず、しかも１台の受け渡し装
置によって被処理物をロ−ダから複数の処理ユニットを
経てアンロ−ダへ受け渡すことができる処理装置を提供
することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、被処
理物をエッチング液でエッチング処理してからリンス液
でリンス処理するエッチング処理装置において、チャン
バと、このチャンバ内に揺動自在に設けられ上面に上記
被処理物が保持される保持部材と、上記チャンバ内の上
部に配置され上記保持部材に保持された上記被処理物に
向けてエッチング液を供給する第１の供給手段およびリ
ンス液を供給する第２の供給手段と、上記被処理物にエ
ッチング液を供給してエッチング処理するときとリンス
液を供給してリンス処理するときとで上記保持部材を異
なる方向に傾斜させる駆動手段と、上記被処理物をエッ
チング処理するときにこの被処理物の傾斜方向下端側か
ら滴下するエッチング液を回収するエッチング液回収手
段と、上記被処理物をリンス処理するときにこの被処理
物の傾斜方向下端側から滴下するリンス液を回収するリ
ンス液回収手段とを具備したことを特徴とする。

【００１５】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、上記エッチング液回収手段は、上記チャンバの内底
部に設けられエッチング処理時に被処理物の傾斜方向下
端から滴下するエッチング液を受ける第１の受け部と、
この第１の受け部に連通して設けられ上記エッチング液
を回収する回収槽と、この回収槽と上記第１の供給手段
とを接続し中途部に上記回収槽に回収されたエッチング
液を上記第１の供給手段へ循環させるポンプが設けられ
た循環配管とを具備したことを特徴とする。

【００１６】請求項３の発明は、被処理物に複数の処理
を行う処理装置において、本体と、この本体内に直線状
に設けられた走行路と、この走行路に沿って駆動される
受け渡し装置と、上記走行路の一側にこの走行路に沿っ
て並設された複数の処理ユニットと、上記走行路の他側
に設けられ上記受け渡し装置によって上記処理ユニット
に供給される未処理の被処理物を格納するロ−ダおよび
上記処理ユニットで処理された被処理物が上記受け渡し
装置によって格納されるアンロ−ダとを具備したことを
特徴とする。

【００１７】請求項４の発明は、請求項３の発明におい
て、上記走行路の一側に並設される複数の処理ユニット
は、エッチング処理ユニッットと、洗浄処理ユニット
と、乾燥処理ユニットであることを特徴とする。

【００１８】請求項１の発明によれば、被処理物が載置
される保持部材を、エッチング処理時とリンス処理時と
で異なる方向に傾斜させ、エッチング処理時に被処理物
の傾斜方向下端側から滴下するエッチング液を回収する
ため、エッチング液にリンス液を混入させることなく回
収できる。

【００１９】請求項２の発明によれば、リンス液が混入
しないエッチング液が回収されると、そのエッチング液
を循環させることができるから、エッチング液を繰り返
して使用することが可能となる。

【００２０】請求項３の発明によれば、受け渡し装置が
走行駆動される走行路の一側に複数の処理ユニットを並
設し、他側にロ−ダとアンロ−ダとを配置したので、装
置の全長を短くでき、しかも走行路に１台の受け渡し装
置を設けるだけで、被処理物をロ−ダから処理ユニット
へ供給し、処理ユニットで処理された被処理物をアンロ
−ダへ格納することができる。

【００２１】請求項４の発明によれば、処理ユニットが
エッチング処理ユニット、洗浄処理ユニットおよび乾燥
処理ユニットからなるため、エッチング処理された被処
理物を洗浄し、ついで乾燥処理してアンロ−ダへ格納で
きる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施の形態を
図面を参照して説明する。図１と図２は後述する複数の
処理ユニットを備えた処理装置１を示し、この処理装置
１は本体２を有する。この本体２は矩形箱型状をなして
いて、その内部には幅方向中央部分に位置する走行路３
が長手方向ほぼ全長にわたって直線状に形成されてい
る。

【００２３】上記走行路３には受け渡し装置としてのロ
ボット４が走行自在に設けられている。上記走行路３に
はその全長にわたってリニアモ−タ５が設けられ、上記
ロボット４はこのリニア−モ−タ５によって上記走行路
３に沿って駆動されるようになっている。

【００２４】上記走行路３の一側には上記複数の処理ユ
ニット、この実施の形態ではエッチング処理ユニット
６、洗浄処理ユニット７および乾燥処理ユニット８が順
次並設されている。

【００２５】上記走行路３の他側には、未処理の被処理
物としての液晶用ガラス基板Ｗ（以下基板とする）が格
納されたロ−ダ１１と、上記各処理ユニット６、７、８
で処理された基板Ｗが格納されるアンロ−ダ１２とが配
置されている。

【００２６】上記構成の処理装置１において、基板Ｗを
処理する場合には、まず、ロボット４がロ−ダ１１から
未処理の基板Ｗを取り出し、エッチング処理ユニット６
へ供給する。基板Ｗがエッチング処理ユニット６で処理
されたならば、その基板Ｗをエッチング処理ユニット６
から取り出して洗浄処理ユニット７へ供給する。

【００２７】上記洗浄処理ユニット７において基板Ｗの
洗浄処理が終了すると、ロボット４はその基板Ｗを取り
出して乾燥処理ユニット８へ供給する。乾燥処理ユニッ
ト８での乾燥処理が終了すると、その基板Ｗはロボット
４によって取り出されてアンロ−ダ１２へ格納されるこ
とで、上記基板Ｗに対する一連の処理が終了することに
なる。

【００２８】このように、走行路３を挟んでその一側に
３つの処理ユニット６、７、８を配置し、他側にロ−ダ
１１とアンロ−ダ１２とを配置したことで、処理装置１
の全長を短くすることができる。

【００２９】上記走行路３にロボット４を走行自在に設
けたことで、このロボット４によって走行路３の一側に
設けられた各処理ユニット６、７、８に対して基板Ｗを
供給したり、取り出すことができるばかりか、走行路３
の他側に設けられたロ−ダ１１から基板Ｗを取り出した
り、アンロ−ダ１２へ処理ずみの基板Ｗを格納すること
ができる。

【００３０】つまり、処理装置１に１台のロボット４を
設けるだけで、各処理ユニット６、７、８やロ−ダ１１
およびアンロ−ダ１２に対する基板Ｗの受け渡しを行う
ことができる。

【００３１】一方、上記エッチング処理ユニット６は、
図３と図４に示すようにチャンバ２１を有する。このチ
ャンバ２１の上記走行路３に面した前面には出入口２２
が形成され、この出入口２２は扉２３によって開閉され
るようになっている。

【００３２】上記チャンバ２１内の高さ方向中途部には
平板状の保持部材２４が配設されている。この保持部材
２４の幅方向両側下面には支持部２５が設けられ、この
支持部２５は上記チャンバ２１の前後方向に沿って回転
自在に設けられた駆動軸２６に取付けられている。

【００３３】なお、保持部材２４の平面形状は上記基板
Ｗの平面形状に比べて十分に大きなは矩形状に形成され
ている。上記駆動軸２６の上記チャンバ２１の背面から
突出した一端部は、この背面側に設けられた駆動源２７
に連結されている。この駆動源２７は上記駆動軸２６を
左右方向に所定角度づつ回動させるようになっている。

【００３４】つまり、上記駆動源２７は、上記保持部材
２４をほぼ水平な中立状態と、図３に実線で示すように
左側へ低く傾斜したエッチング処理状態と、同図に鎖線
で示すように右側へ低く傾斜したリンス処理状態とに位
置決めできるようになっている。

【００３５】上記保持部材２４の上面には複数の支持ピ
ン２８が設けられ、これら支持ピン２８によって上記基
板Ｗが支持されるようになっている。なお、上記保持部
材２４の長手方向一端側と他端側には、保持部材２４が
傾斜したときに上記支持ピン２８に支持された基板Ｗが
傾斜方向へずれ動くのを規制するそれぞれ複数の規制ピ
ン２９が設けられている。

【００３６】上記チャンバ２１内の下部の幅方向一端
側、つまり保持部材２４がエッチング状態に傾斜したと
きにその傾斜方向下端側に対応する部位には第１の樋３
１がチャンバ２１の前後方向ほぼ全長にわたって設けら
れ、他端側である、リンス処理状態における保持部材２
４の傾斜方向下端側に対応する部分には第２の樋３２が
前後方向ほぼ全長にわたって設けられている。

【００３７】上記第１の樋３１には第１の回収管３３の
一端が接続されている。この第１の回収管３３の他端は
エッチング液Ｅが収容された第１の回収槽３４に接続さ
れている。この第１の回収槽３４には第１の循環配管３
５の一端が接続されている。この循環配管３５の他端
は、図５に示すように上記チャンバ２１内の上部に前後
方向に沿って所定間隔で配置された複数のエッチング用
ノズル３６に接続されている。上記循環配管３５の中途
部には第１のポンプ３７が設けられている。

【００３８】したがって、上記保持部材２４がエッチン
グ処理状態に傾斜しているときに、上記第１のポンプ３
７が作動すると、第１の回収層３４のエッチング液Ｅが
エッチング用ノズル３６へ供給されるから、エッチング
液Ｅはこのノズル３６から保持部材２４の上面に保持さ
れた基板Ｗに向けて噴射される。

【００３９】基板Ｗに噴射されたエッチング液Ｅはこの
上面に沿って流れ、下端側に配設された第１の樋３１へ
流入し、この第１の樋３１から第１の回収管３３を通じ
て第１の回収槽３４へ回収されるようになっている。

【００４０】上記第２の樋３２には第２の回収管３８の
一端が接続されている。この第２の回収管３８の他端は
純水からなるリンス液Ｒが収容された第２の回収槽３９
に接続されている。この第２の回収槽３９には第２の循
環配管４１の一端が接続されている。この第２の循環配
管４１の他端は、上記チャンバ２１内の上部に前後方向
に沿って所定間隔で配置された複数のリンス用ノズル４
２に接続されている。

【００４１】なお、図３では分かり易く図示するために
リンス用ノズル４２とエッチング用ノズル３６とが異な
る高さに配設されているが、これらノズル３６、４２は
同じ高さに配置してもよいこと、勿論である。

【００４２】上記第２の回収管３８の中途部には三方切
換弁４３が設けられている。この三方切換弁４３の２つ
のポ−トに上記第２の回収管３８が接続され、残りの１
つのポ−トには排液管４４が接続されている。さらに、
上記第２の循環配管４１の中途部には第２のポンプ４５
および一端が図示しないリンス液Ｒの供給源に接続され
た供給管４６の他端が接続されている。この供給管４６
には開閉弁４７が設けられている。

【００４３】したがって、上記保持部材２４がリンス処
理状態に傾斜しているときに、上記第２のポンプ４５が
作動すると、第２の回収槽３９のリンス液Ｒがリンス用
ノズル４２へ供給されるから、リンス液Ｒはこのノズル
４２から保持部材２４の上面に保持された基板Ｗに向け
て噴射される。

【００４４】基板Ｗに噴射されたリンス液Ｒはこの上面
に沿って流れ、下端側に配設された第２の樋３２へ流入
し、この第２の樋３２から第２の回収管３８を通じて第
２の回収槽３９へ回収されるようになっている。

【００４５】リンス用ノズル４２からリンス液Ｒを噴射
し始めたときには、第２の樋３２に回収されるリンス液
Ｅにはエッチング液Ｅが混入する。そのため、リンス処
理の開始から所定時間の間は、第２の樋３２から第２の
回収管３８へ流れたリンス液Ｒが排液管４４から排出さ
れるように三方切換弁４３を切り換え、所定時間経過後
にリンス液Ｒを第２の回収槽３９に回収するようにす
る。それによって、第２の回収槽３９にエッチング液Ｅ
の混入したリンス液Ｒが回収されるのを防止できる。つ
まり、リンス液Ｒも、一部を回収して再使用できるよう
になっている。

【００４６】なお、第２の回収槽３９に貯蔵されるリン
ス液Ｒが減少したならば、新たなリンス液Ｒを供給管４
６を通じてリンス用ノズル４２から噴出させて上記第２
の回収槽３９に回収することで、補充することができ
る。

【００４７】上記保持部材２４の幅方向両端部は、図４
に示すように上方に向かって折曲された折曲部２４ａに
形成されている。それによって、基板Ｗ上に噴射された
エッチング液Ｅやリンス液Ｒが保持部材２４の幅方向両
側から滴下するのを防止している。

【００４８】なお、チャンバ２１の底部には、基板Ｗに
噴射されて第１、第２の樋３１、３２に回収されないエ
ッチング液Ｅやリンス液Ｒを排出するドレン管４８が接
続されている。

【００４９】上記構成のエッチング処理装置によって基
板Ｗをエッチング処理する場合について図６のフロ−チ
ャ−トを参照しながら説明する。まず、保持部材２４を
水平状態にしてチャンバ２１の出入口２２を開放する。
ついで、ロボット４によってロ−ダ１１から取り出され
た基板Ｗを、上記保持部材２４上に供給し、上記出入口
２２を閉じる。

【００５０】つぎに、図６のＳ（ステップ）1 で示すよ
うに上記保持部材２４をエッチング状態に傾斜させると
ともに、Ｓ2 で示すように第１のポンプ３７を作動させ
てエッチング液Ｅをエッチング用ノズル３６から基板Ｗ
に向けて噴射する。それによって、上記基板Ｗがエッチ
ングされることになる。

【００５１】基板Ｗの上面に噴射されたエッチング液Ｅ
は、この基板Ｗの上面から第１の樋３１へ流れ、第１の
回収槽３４に回収されるから、繰り返して使用すること
ができる。

【００５２】Ｓ3 で示すように、このようなエッチング
処理を所定時間行ったならば、Ｓ4で示すように第１の
ポンプ３７を停止すると同時に、Ｓ5 で示すように上記
保持部材２４をリンス状態に傾斜する。そして、Ｓ6 で
示すように第２のポンプ４５を作動させて第２の回収槽
３９のリンス液Ｒをリンス用ノズル４２から基板Ｗに向
けて噴射し、この基板Ｗをリンス処理することで、基板
Ｗのエッチングが所定以上に進行するのを防止する。つ
いで、Ｓ7 で示すようにリンス処理が所定時間行われた
ならば、Ｓ8 で示すように第２のポンプ４５を停止する
とともに、Ｓ9で示すように保持部材２４を水平にする
ことで、エッチング処理が終了する。

【００５３】エッチング処理が終了したならば、出入口
２２を開口してロボット４によりリンス処理された基板
Ｗを取り出し、その基板Ｗを洗浄処理ユニット７へ供給
して洗浄処理する。基板Ｗの洗浄処理が終了したなら
ば、乾燥処理ユニット８へ供給して乾燥処理すること
で、基板Ｗに対する一連の処理が終了する。そして、こ
のようにして処理された基板Ｗはロボット４によって上
記乾燥処理ユニット８から取り出され、アンロ−ダ１２
に格納されることになる。

【００５４】この発明は上記一実施の形態に限定され
ず、種々変形可能である。たとえば、走行路３の一側に
処理ユニットとしてエッチング処理ユニット６、洗浄処
理ユニット７および乾燥処理ユニット８を配置したが、
基板Ｗに回路パタ−ンを形成するために必要な他の処理
ユニット、たとえばＣＶＤやアッシングなどを行う処理
ユニットを設けるようにしてもよく、処理ユニットの種
類や数などは限定されるものでない。また、被処理物と
しては液晶用ガラス基板に限られず、半導体ウエハなど
であってもよく、その点もなんら限定されるものでな
い。

【００５５】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、被処理物が載
置される保持部材を、エッチング処理時とリンス処理時
とで異なる方向に傾斜させ、エッチング処理時に被処理
物の傾斜方向下端側から滴下するエッチング液を回収す
るようにした。

【００５６】そのため、エッチング処理時に回収される
エッチング液に、リンス処理時のリンス液が混入するの
を防止できるから、エッチング液を繰り返して使用する
ことができる。

【００５７】しかも、エッチング液とリンス液とを別々
に回収できるため、１つのチャンバ内でエッチング処理
とリンス処理とを、エッチング液の回収に支障が生じる
ことなく行うことができる。

【００５８】請求項２の発明によれば、リンス液が混入
しないエッチング液を回収して循環させることができる
から、エッチング液を繰り返して使用することができ
る。請求項３の発明によれば、受け渡し装置が走行駆動
される走行路の一側に複数の処理ユニットを並設し、他
側にロ−ダとアンロ−ダとを配置するようにした。

【００５９】そのため、処理装置の全長を短くできるば
かりか、走行路に１台の受け渡し装置を設けるだけで、
被処理物をロ−ダから処理ユニットへ供給し、処理ユニ
ットで処理された被処理物を他の処理ユニットやアンロ
−ダへ搬送することができるから、複数の受け渡し装置
を用いていた従来の処理装置に比べてコストの低減を計
ることができる。

【００６０】請求項４の発明によれば、処理ユニットが
エッチング処理ユニット、洗浄処理ユニットおよび乾燥
処理ユニットからなるため、エッチング処理された被処
理物を洗浄し、ついで乾燥処理してアンロ−ダへ格納で
きる。つまり、エッチング処理を行った場合に必要な他
の処理を１つの処理装置で行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施の形態を示す処理装置の概略
的構成の平面図。

【図２】同じく処理装置の側面図。

【図３】同じくエッチング装置の縦断面図。

【図４】同じくエッチング装置の横断面図。

【図５】同じくエッチング用ノズルとリンス用ノズルと
の配置状態の平面図。

【図６】同じく基板をエッチング処理するときのフロ−
チャ−ト。

【符号の説明】

２…装置本体 ３…走行路 ４…ロボット（受け渡し装置） ６…エッチング処理ユニット ７…洗浄処理ユニット ８…乾燥処理ユニット １１…ロ−ダ １２…アンロ−ダ ２１…チャンバ ２４…保持部材 ２７…駆動源（駆動手段） ３１…第１の樋（エッチング液回収手段） ３２…第２の樋（リンス液回収手段） ３４…第１の回収槽（エッチング液回収手段） ３６…エッチング用ノズル ３７…第１のポンプ（エッチング液回収手段） ３９…第２の回収槽（リンス液回収手段） ４２…リンス用ノズル ４５…第２のポンプ（リンス液回収手段）

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理物をエッチング液でエッチング処
   理してからリンス液でリンス処理するエッチング処理装
   置において、 チャンバと、 このチャンバ内に揺動自在に設けられ上面に上記被処理
   物が保持される保持部材と、 上記チャンバ内の上部に配置され上記保持部材に保持さ
   れた上記被処理物に向けてエッチング液を供給する第１
   の供給手段およびリンス液を供給する第２の供給手段
   と、 上記被処理物にエッチング液を供給してエッチング処理
   するときとリンス液を供給してリンス処理するときとで
   上記保持部材を異なる方向に傾斜させる駆動手段と、 上記被処理物をエッチング処理するときにこの被処理物
   の傾斜方向下端側から滴下するエッチング液を回収する
   エッチング液回収手段と、 上記被処理物をリンス処理するときにこの被処理物の傾
   斜方向下端側から滴下するリンス液を回収するリンス液
   回収手段とを具備したことを特徴とするエッチング処理
   装置。
2. 【請求項２】 上記エッチング液回収手段は、上記チャ
   ンバの内底部に設けられエッチング処理時に被処理物の
   傾斜方向下端から滴下するエッチング液を受ける第１の
   受け部と、この第１の受け部に連通して設けられ上記エ
   ッチング液を回収する回収槽と、この回収槽と上記第１
   の供給手段とを接続し中途部に上記回収槽に回収された
   エッチング液を上記第１の供給手段へ循環させるポンプ
   が設けられた循環配管とを具備したことを特徴とする請
   求項１記載のエッチング処理装置。
3. 【請求項３】 被処理物に複数の処理を行う処理装置に
   おいて、 本体と、 この本体内に直線状に設けられた走行路と、 この走行路に沿って駆動される受け渡し装置と、 上記走行路の一側にこの走行路に沿って並設された複数
   の処理ユニットと、 上記走行路の他側に設けられ上記受け渡し装置によって
   上記処理ユニットに供給される未処理の被処理物を格納
   するロ−ダおよび上記処理ユニットで処理された被処理
   物が上記受け渡し装置によって格納されるアンロ−ダと
   を具備したことを特徴とする処理装置。
4. 【請求項４】 上記走行路の一側に並設される複数の処
   理ユニットは、エッチング処理ユニッットと、洗浄処理
   ユニットと、乾燥処理ユニットであることを特徴とする
   請求項３記載の処理装置。