JP3841576B2 - 基板固定装置及び基板の固定構造 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板を固定する基板固定装置及びその基板の固定構造に係り、特に基板に搭載されたベアチップと基板とを接続するワイヤボンディングを適用するものに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来のワイヤボンディング装置の基板の固定構造を図10を用いて説明する。
【0003】
図10は従来の基板固定装置の一部を示す概略構成側断面図である。
【0004】
90は、電子部品であるベアチップ80が搭載された基板85を吸着固定し、ベアチップ80の端子と基板85に形成された接続パターンとの間をワイヤボンディングするために基板85を吸着固定する基板吸着ステージである。基板吸着ステージ90はステージ本体91、基板位置決板95及び吸引手段(真空発生装置、図示省略)等により構成されている。ステージ本体91には基板85をステージ本体91の基板吸着面92に吸着する吸引孔93及び基板位置決板95を取り付ける取付孔等が形成されている。尚、吸引孔93は吸引手段に接続されている。
【0005】
次に、基板の吸着動作を説明する。
【0006】
ステージ本体91上に構成された基板位置決板95に基板85を位置決め載置する。次に、吸引手段を稼動させ基板85をステージ本体91の基板吸着面92に吸着固定する。そして、ワイヤボンディングが行われる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上述の基板吸着ステージ90では基板85の反りが大きい場合には、基板85をステージ本体91の基板吸着面92に吸着しきれずに、基板85が基板吸着面92から浮いた不安定な状態となり、ワイヤボンディング品質の低下につながる。また、基板85にスルーホール等の孔があいている場合にも、基板85を吸着する吸着効率が悪くなり基板吸着面92に基板85を吸着しきれずに、基板85が基板吸着面92から浮いた不安定な状態となるので、ワイヤボンディング品質の低下につながる。
【0008】
本発明は上述の問題を解決するもので、基板の反りに関係なく特に高品質のワイヤボンディングが可能な基板固定装置及び基板の固定構造を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明は上述の目的を達成するもので、電子部品が搭載された基板を固定する基板固定装置において、吸引孔が形成され前記基板をその上面に固定する吸着ステージと、前記基板より下方に位置するものであって、吸引孔を有し前記吸着ステージを貫通するように設けられた吸着筒と、前記両方の吸引孔を通して前記基板を吸引する吸引手段と、前記吸着筒を上下方向へ移動させる上下移動手段とからなり、前記上下移動手段により前記吸着筒が前記基板の下面まで上昇し該基板を直接吸着した状態で下降し該基板を前記吸着ステージの上面に吸着固定することを特徴とするものである。
【0010】
また、前記吸引筒は前記電子部品の搭載位置の下方に設けられていることを特徴とするものである。
【0011】
また、電子部品が搭載された基板を固定する基板固定装置において、吸引孔が形成され前記基板をその上面に固定する吸着ステージと、前記吸引孔を通して前記基板を吸引する吸引手段と、前記吸着ステージ及び前記基板に設けた孔を貫通するように設けられ、前記基板の上面を押さえて該基板を該吸着ステージに引着する基板引着部が形成された基板引着手段と、前記基板引着手段を上下方向へ移動させる上下移動手段とからなり、前記上下移動手段により、前記基板引着手段が上昇すると共に前記基板引着部が前記吸着ステージ及び前記基板の孔を貫通して該基板の上方に突出した後、該基板引着手段が下降すると共に該基板引着部が下降して該基板の上面を押さえて該基板を該吸着ステージの上面に引着することを特徴とするものである。
【0012】
また、前記基板引着部はT字形状をなす押さえ部を有するものであって、前記基板の上方で所定角度回動した後、下降するものであることを特徴とするものである。
【0013】
また、電子部品が搭載された基板を固定する基板固定装置において、吸引孔と前記基板に形成された孔を塞ぐ凸部とが形成され該基板をその上面に吸着固定する吸着ステージと、前記吸引孔を通して前記基板を吸引する吸引手段とからなり、前記凸部により前記基板に形成された孔を塞いだ状態で該基板を前記吸着ステージの上面に吸着固定することを特徴とするものである。
【0014】
また、電子部品が搭載された基板を固定する基板固定装置において、吸引孔が形成され前記基板をその上面に吸着固定する吸着ステージと、前記基板に形成された孔を覆うシートと、前記吸引孔を通して前記基板を吸引する吸引手段とからなり、前記基板の孔にその上面より前記シートを被せた状態で該基板を前記吸着ステージの上面に吸着固定することを特徴とするものである。
【0016】
また、電子部品が搭載された基板を固定する基板固定装置において、吸引孔が形成され前記基板をその上面に吸着固定する吸着ステージと、前記吸引孔を通して前記基板を吸引する吸引手段とからなり、前記吸着ステージの上方に設けられ前記基板の上面に対して吹圧するエアーノズルと、前記エアーノズルに高圧エアーを供給する高圧エアー供給手段とからなり、前記基板の上面に高圧エアーを吹き付け該基板を前記吸着ステージの上面に押圧した状態で該基板を該吸着ステージの上面に吸着固定することを特徴とするものである。
【0017】
また、前記高圧エアーに熱風が用いられてなることを特徴とするものである。
【0018】
また、電子部品が搭載された基板を固定する基板固定装置において、前記基板をその上面に位置決め固定するステージと、前記基板の端を前記ステージに引着する引着爪が形成された基板引着手段と、前記基板引着手段により前記ステージの上面に位置決めされた前記基板の下面と該ステージの上面との隙間に充填材を充填する充填材供給手段とからなることを特徴とするものである。
【0019】
また、前記充填材は温度変化により形態が変化する充填部材であることを特徴とするものである。
【0020】
また、前記充填材は粉体であることを特徴とするものである。
【0021】
また、前記充填材は微粒体であることを特徴とするものである。
【0022】
また、電子部品が搭載されると共にスルーホールが形成された基板を固定する基板固定装置において、吸引孔が形成され前記基板をその上面に吸着固定する吸着ステージと、前記吸引孔を通して前記基板を吸引する吸引手段とからなり、前記スルーホールの上面を充填部材で塞いだ状態で前記基板を前記吸着ステージの上面に吸着固定することを特徴とするものである。
【0023】
また、前記充填部材に塗料が用いられることを特徴とするものである。
【0024】
また、前記充填部材にレジスト部材が用いられることを特徴とするものである。
【0025】
また、吸着ステージの上面に吸着固定されるものであって、電子部品が搭載されると共にスルーホールが形成された基板の固定構造において、前記吸着ステージの上面に吸着固定される前に、予め前記スルーホールの上面が充填部材で塞がれていることを特徴とするものである。
【0026】
また、前記充填部材に塗料が用いられることを特徴とするものである。
【0027】
また、前記充填部材にレジスト部材が用いられることを特徴とするものである。
【0028】
また、前記電子部品はベアチップであって、前記固定された基板上において該ベアチップがワイヤボンディングされてなることを特徴とするものである。
【0029】
【実施例】
本発明の第1実施例を図1を用いて説明する。
【0030】
図1は本発明の第1実施例の基板固定装置の一部を示す概略構成図で、(a)は基板が吸着筒に吸着された状態を示す側断面図、(b)は基板がステージに吸着された状態を示す側断面図である。
【0031】
20は、電子部品であるベアチップ10が搭載された基板を吸着固定し、ベアチップ10の端子と基板15に形成された接続パターンとの間をワイヤボンディングするために基板15を吸着固定する基板吸着ステージである。基板吸着ステージ20はステージ本体21、吸着筒26、基板位置決板29及び吸引手段(真空発生装置、図示省略)等により構成されている。
【0032】
ステージ本体21には基板15をステージ本体21の基板吸着面22に吸着する吸引孔23と吸着筒26が上下方向へ摺動する孔24及び基板位置決板29を取り付ける取付孔等が形成されている。尚、吸引孔23は吸引手段に接続されている。
【0033】
吸着筒26は、基板15を吸着する吸引孔27が形成された筒形状をしており、吸着筒26は上下移動手段(例えばエアシリンダ、図示省略)に接続され、ステージ本体21の孔24に係合して上下方向(吸着筒26の吸着面が基板15の下面とステージ本体21の基板吸着面22との間)へ摺動する。吸着筒26は基板15の下面まで上昇して基板15を吸着した状態で基板吸着面22まで下降して基板15を吸着固定する。
【0034】
次に、基板の吸着動作を説明する。
【0035】
ステージ本体21上に構成された基板位置決板29の所に基板15を位置決め載置する。次に、吸着筒26が基板15の下面まで上昇すると同時に、吸引手段が稼動し基板15が吸着筒26に吸着される。基板15を吸着した吸着筒26がステージ本体21の上面まで下降し、ステージ本体21の吸引孔23と共に基板15を吸引してステージ本体21の基板吸着面22に吸着固定する。そして、ワイヤボンディングが行われる。
【0036】
以上説明したように本実施例によれば、吸着筒26が基板15の下面とステージ本体21の基板吸着面22との間を移動するので、浮いた基板15の部分に吸着筒26の吸着面を当接させることができ、基板15と吸着筒26の吸着面との隙間が小さくなり基板15を吸引する吸引効率が向上する。吸引効率が向上することにより、基板15が反っていても基板15をステージ本体21の基板吸着面22に密着した状態で吸着固定することができる。従って、安定したワイヤボンディングが可能となり、ワイヤボンディング品質を向上させることができる。
【0037】
次に、本発明の第2実施例を図2を用いて説明する。
【0038】
図2は本発明の第2実施例の基板固定装置の一部を示す概略構成図で、(a)は基板固定前の状態の側断面図、(b)は基板固定後の状態の側断面図である。尚、第2実施例は第1実施例と同じ構成については同じ符号を付し説明を省略する。
【0039】
30は基板吸着ステージで、ステージ本体31、基板位置決板29、基板引着部31及び吸引手段(図示省略)等により構成されている。
【0040】
ステージ本体31には基板15をステージ本体31の基板吸着面32に吸着する吸引孔33と、基板引着部35が挿通する孔34及び基板位置決板29を取り付ける取付孔等が形成されている。尚、吸引孔33は吸引手段に接続されている。
【0041】
基板引着部35は、基板押さえ部36、上下動手段(例えばエアシリンダ、図示省略)及び回転手段(例えば回転式のエアシリンダ、図示省略)等により構成されている。基板押さえ部36はT字形状をしており、軸37の先端部には基板15を挟着する基板押面38が形成されており、軸37の下端部には上下動手段(図示省略)及び回転手段(図示省略)に接続されている。尚、基板15には基板押さえ部36を通すための孔17が予め設けられている。
【0042】
次に、基板の吸着動作を説明する。
【0043】
ステージ本体31上に構成された基板位置決板29に基板15を載置し位置決めする。次に、基板引着部35の基板押さえ部36の基板押面38が基板15の表面を通過する位置まで上昇し、基板引着部35を180度回転させ、その状態で上下動手段を稼働させ、基板押さえ部36を下降させて基板15を基板吸着面32に引着すると同時に吸引手段を稼働させて基板15を吸着固定する。そして、ワイヤボンディングが行われる。
【0044】
以上説明したように本実施例においては、基板押面38により基板15をステージ本体31の基板吸着面32に挟着するので、基板15が反っていても基板15をステージ本体31の基板吸着面32に密着した状態で吸着固定することができる。従って、安定したワイヤボンディングが可能となり、ワイヤボンディング品質を向上させることができる。尚、本実施例では基板15には基板押さえ部36を通すための孔17を設けたが、その他に複数枚の基板を並べ基板押さえ部36の基板押面38で基板15の端部を圧着して固定することもできる。
【0045】
次に、本発明の第3実施例を図3を用いて説明する。
【0046】
図3は本発明の第3実施例の基板固定装置の一部を示す概略構成図で、(a)は基板固定状態の側断面図、(b)はA部拡大図である。尚、第3実施例は第1実施例の一部を変更したものであり、第1実施例と同じ構成については同じ符号を付し説明を省略する。
【0047】
40は基板15を吸着固定する基板吸着ステージで、ステージ本体41と基板位置決板29及び吸引手段(図示省略)等により構成されている。ステージ本体41には基板15をステージ本体41の基板吸着面42に吸着する吸引孔43と、基板吸着面42には基板15に形成された孔(例えば、スルーホール16等)に挿入する凸部44と、基板位置決板29を取り付ける取付孔等が形成されている。尚、凸部44はスルーホール16の全ての孔に対応した位置に形成される。また、吸引孔43は吸引手段に接続されている。
【0048】
以上説明したように本実施例においては、ステージ本体41の基板吸着面42に基板15に形成されたスルーホール16等の孔に挿入する凸部44が形成されていおり、凸部44でスルーホール16等の孔が塞がれるのでステージ本体41の吸引効率が向上する。吸引効率が向上することにより、基板15にスルーホール16等の孔が形成されていても基板15を基板吸着面42に密着した状態で吸着固定することができる。従って、安定したワイヤボンディングが可能となり、ワイヤボンディング品質を向上させることができる。尚、本実施例ではスルーホール孔について説明したが、その他の孔例えば角孔等の孔についても同じように、基板吸着面42に孔の形状に係合する凸部を形成することにより同じ効果を得ることができる。
【0049】
次に、本発明の第4実施例を図4を用いて説明する。
【0050】
図4は本発明の第4実施例の基板固定装置の一部を示す概略構成図で、(a)は基板固定状態の側断面図、(b)はB部拡大図である。尚、第4実施例は第1実施例と同じ構成については同じ符号を付し説明を省略する。
【0051】
45は基板15を吸着固定する基板吸着ステージで、ステージ本体46、基板位置決板29及び吸引手段(図示省略)等により構成されている。
【0052】
ステージ本体46には基板15をステージ本体46の基板吸着面47に吸着する吸引孔48と、基板位置決板29を取り付ける取付孔等が形成されている。尚、吸引孔48は吸引手段に接続されている。
【0053】
49はシートで、基板15をステージ本体46の基板吸着面47に吸着する際に、基板15に形成された孔(例えば、スルーホール16等)を塞ぐためのものである。シート49にはベアチップ10のワイヤボンディング部や、その他の例えば大型の電子部品等の部分だけ孔が形成されており、基板15のスルーホール16の部分はシート49で塞ぐようになっている。シート49の材料には基板15の表面に沿い易く、また、スルーホール16をはじめその他の孔を塞ぎ易いように例えば薄いビニルシート等が用いられる。
【0054】
以上説明したように本実施例においては、基板15をステージ本体46の基板吸着面47に吸着させる際に、基板15にシート49を被せることにより、基板15に形成されたスルーホール16等の孔が図4(b)に示すように塞がれるので、ステージ本体46の吸引効率が向上する。吸引効率が向上することにより、基板15にスルーホール16等の孔が形成されていても、基板15を基板吸着面47に密着した状態で吸着固定することができる。従って、安定したワイヤボンディングが可能となり、ワイヤボンディング品質を向上させることができる。
【0055】
次に、本発明の第5実施例を図5を用いて説明する。
【0056】
図5は本発明の第5実施例の基板固定装置の一部を示す概略構成側断面図である。尚、第5実施例は第1実施例と同じ構成については同じ符号を付し説明を省略する。
【0057】
50は基板15を吸着固定する基板吸着ステージで、ステージ本体51と基板位置決板29及び吸引手段(図示省略)等により構成されている。ステージ本体51の基板吸着面52は、基板15の反りの度合に合わせて略反りに近い形状(本例凸面形状)に予め形成されている。また、ステージ本体51には基板15を基板吸着面52に吸着する吸引孔53と、基板位置決板29を取り付ける取付孔等が形成されている。尚、吸引孔53は吸引手段に接続されている。
【0058】
以上説明したように本実施例においては、ステージ本体51の基板吸着面52を、基板15の反りに略近い形状に形成することにより、基板吸着面52と基板15との隙間がなくなり、ステージ本体51の吸引効率が向上するので、基板15が基板吸着面52に密着した状態で吸着固定される。従って、安定したワイヤボンディングが可能となり、ワイヤボンディング品質を向上させることができる。尚、本実施例ではステージ本体51の基板吸着面52を基板15の反りに略近い凸面形状に形成したが、基板15が本例と逆反りの場合には基板吸着面52を基板15の反りに略近い凹面形状に形成にすることにより同じような効果を得ることができる。
【0059】
次に、本発明の第6実施例を図6を用いて説明する。
【0060】
図6は本発明の第6実施例の基板固定装置の一部を示す概略構成側断面図である。尚、第6実施例は第4実施例の一部を変更したものであり、その他については第4実施例と略同じであるので同じ構成については同じ符号を付し説明を省略する。
【0061】
55は高圧エアー噴射用のエアーノズルで、 基板吸着ステージ45のステージ本体46の上方に設けられており、ステージ本体46に載置した基板15に高圧エアーを吹き付けて、基板15を基板吸着面47に密着させるためのものである。エアーノズル55は、基板15の反りの大きさ、基板15の面積、基板15の形状等により設置数量、設置位置及びエアー圧等を決める。
【0062】
次に、基板の吸着動作を説明する。
【0063】
ステージ本体45上に構成された基板位置決板29に基板15を載置し位置決めする。次に、位置決めされた基板15の上にエアーノズル55から高圧エアーを吹き付けて、基板15を基板吸着面47に密着させると同時にステージ本体45の吸引孔48より吸引し基板吸着面47に吸着固定する。そして、ワイヤボンディングが行われる。
【0064】
以上説明したように本実施例においては、ステージ本体46に載置した基板15に高圧エアーを吹き付けるので、基板吸着面47と基板15との隙間がなくなり、ステージ本体46の吸引効率が向上する。吸引効率が向上することにより、基板15が反っていても基板15を基板吸着面47に密着した状態で吸着固定することができる。従って、安定したワイヤボンディングが可能となり、ワイヤボンディング品質を向上させることができる。その他に、常温の高圧エアーの代わりに高温の高圧エアーを用いることにより、特に、金線を用いたワイヤボンディングの品質が向上する。
【0065】
次に、本発明の第7実施例を図7を用いて説明する。
【0066】
図7は本発明の第7実施例の基板固定装置の一部を示す概略構成側断面図である。尚、第7実施例は第1実施例と同じ構成については同じ符号を付し説明を省略する。
【0067】
60は基板15を吸着固定する基板吸着ステージで、ステージ本体61と基板位置決板(図示省略)、基板押さえ65及び充填材供給手段(図示省略)等により構成されている。
【0068】
ステージ本体61には基板15とステージ本体61の基板固定面62との隙間に充填材68を供給する充填材供給孔63と、基板位置決板を取り付ける取付孔等が形成されている。尚、充填材供給孔63は充填材供給手段に接続されている。
【0069】
基板押さえ65は基板位置決板により位置決めされた基板15を基板固定面62に押さえ付けるもので、基板押部66と垂直部67とからなり垂直部67の下端が上下方向へ移動する移動手段(例えばエアーシリンダ、図示省略)に接続されている。
【0070】
充填材68は、基板15の下面とステージ本体61の基板固定面62との隙間を埋める部材である。充填材68には例えば熱を加えることにより流動化し、常温で固化する充填材、例えばアピエゾンワックス(英国アピエゾン社製のワックス)68等が用いられる。
【0071】
次に、基板の固定動作を説明する。
【0072】
ステージ本体61に構成された基板位置決部に基板15を載置し、基板押さえ65を下降させ位置決めされた基板15をステージ本体61の基板固定面62に押圧固定する。次に、基板15の下面と基板固定面62との隙間(基板15の反りにより発生する隙間)に、充填材供給手段を稼働させ、加熱して流動化したアピエゾンワックス68をステージ本体61の充填材供給孔63から充填し冷却させて固定する。そして、ワイヤボンディングが行われる。尚、ワイヤボンディングが完了した基板15を取り出し、基板15に付着したアピエゾンワックスは必要により加熱して除去する。
【0073】
以上説明したように本実施例においては、基板15の下面とステージ本体61の基板固定面62との隙間を充填材68により埋めることにより隙間がなくなる。また、基板押さえ65により基板15をステージ本体61の基板固定面62に密着した状態で固定することができる。従って、基板15に反りがあっても安定したワイヤボンディングが可能となり、ワイヤボンディング品質を向上させることができる。尚、本実施例では充填材68にアピエゾンワックスを用いたが、その他に例えば蝋材等を用いることもできる。
【0074】
次に、本発明の第8実施例を図8を用いて説明する。
【0075】
図8は本発明の第8実施例の基板固定装置の一部を示す概略構成側断面図である。尚、第8実施例は充填材を除き第7実施例と略同じであるので同じ構成については同じ符号を付し説明を省略する。
【0076】
60は基板15を吸着固定する基板吸着ステージで、ステージ本体61と基板位置決板(図示省略)、基板押さえ65及び充填材供給手段(図示省略)等により構成されている。
【0077】
ステージ本体61には基板15とステージ本体61の基板固定面62との隙間に充填材70を供給する充填材供給孔63と、基板位置決板を取り付ける取付孔等が形成されている。尚、充填材供給手段は充填材70の吐出及び吸入が可能でステージ本体61の充填材供給孔63に接続されている。
【0078】
充填材70は、基板15の下面とステージ本体61の基板固定面62との隙間を埋める部材である。充填材70には例えばアルミナ等の粉末が用いられる。
【0079】
次に、基板の吸着動作を説明する。
【0080】
ステージ本体61に構成された基板位置決板に基板15を載置し、基板押さえ65を下降させ位置決めされた基板15をステージ本体61の基板固定面62に押さえ付ける。次に、基板15の下面と基板固定面62との隙間(基板15の反りにより発生する隙間)に、充填材供給手段を稼働させ、ステージ本体61の充填材供給孔63から充填材(アルミナの粉末)70を充填する。そして、ワイヤボンディングが行われる。ワイヤボンディングが完了した時点で、充填材供給手段を吸入モードに切替え、アルミナの粉末70を充填材供給手段の方へ吸入して回収する。
【0081】
以上説明したように本実施例においては、基板15の下面とステージ本体61の基板固定面62との隙間をアルミナの粉末70により埋めることにより該隙間がなくなる。また、基板押さえ65により基板15をステージ本体61の基板固定面62に密着した状態で固定することができる。従って、基板15に反りがあっても安定したワイヤボンディングが可能となり、ワイヤボンディング品質を向上させることができる。また、充填材70に粉末を用いることにより繰り返しの使用が可能で作業性もよい。尚、本実施例では充填材70にアルミナの粉末を用いたが、その他に例えば、ガラスの粉末または粉末以外に微小球等を用いることもできる。
【0082】
次に、本発明の第9実施例を図9を用いて説明する。
【0083】
図9は本発明の第9実施例の基板固定装置の一部を示す概略構成図で、(a)は側断面図、(b)はC部拡大図である。尚、第9実施例は一部を除き第4実施例と略同じであるので同じ構成については同じ符号を付し説明を省略する。
【0084】
75は基板で、ベアチップ10をはじめ電子部品を実装するパターン(いずれも図示省略)及びスルーホール16等が形成されている。基板15はベアチップ10と基板15に形成された接続パターンとのワイヤボンディングの際に、基板15を基板吸着ステージ45のステージ本体46に吸着固定して行うが、図示するように基板15に例えばスルーホール16が開いていると、ステージ本体46の吸引効率が低下し、基板15がステージ本体46の基板吸着面47から浮いた状態となり、安定したワイヤボンディングができなくなる。この対策として基板15を加工する段階で他の印刷と同じ工程でシルクまたはレジスト印刷等により図9(b)の拡大図で示すようにスルーホール16の表面に蓋76を形成し予め塞いでいる。
【0085】
以上説明したように本実施例においては、基板15に形成されたスルーホール16が基板製作の段階で予め塞がれているので、ステージ本体46の吸引効率が向上する。吸引効率が向上することにより、基板15を基板吸着面47に密着した状態で吸着固定することができる。従って、安定したワイヤボンディングが可能となり、ワイヤボンディング品質を向上させることができる。尚、本実施例では電子部品がベアチップ10であるワイヤボンディングに適用したが、その他に表面実装部品の実装等に適用することも可能である。
【0086】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、基板の反りに関係なく基板を安定した状態で所定の位置に固定することができるので、特に高品質のワイヤボンディングが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例の基板固定装置の一部を示す概略構成図である。
【図2】本発明の第2実施例の基板固定装置の一部を示す概略構成図である。
【図3】本発明の第3実施例の基板固定装置の一部を示す概略構成図である。
【図4】本発明の第4実施例の基板固定装置の一部を示す概略構成図である。
【図5】本発明の第5実施例の基板固定装置の一部を示す概略構成側断面図である。
【図6】本発明の第6実施例の基板固定装置の一部を示す概略構成側断面図である。
【図7】本発明の第7実施例の基板固定装置の一部を示す概略構成側断面図である。
【図8】本発明の第8実施例の基板固定装置の一部を示す概略構成側断面図である。
【図9】本発明の第9実施例の基板固定装置の一部を示す概略構成図である。
【図10】従来の基板固定装置の一部を示す概略構成側断面図である。
【符号の説明】
10・・・・・・・・ベアチップ
15,75・・・・・基板
16・・・・・・・・スルーホール
17,24,34・・孔
20,30,40,45,50,60・・基板吸着ステージ
21,31,41,46,51,61・・ステージ本体
22,32,42,47,52・・・・・基板吸着面
23,27,33,43,48,53・・吸引孔
26・・・・・吸着筒
29・・・・・基板位置決板
35・・・・・基板引着部
36・・・・・基板押さえ部
37・・・・・軸
38・・・・・基板押面
44・・・・・凸部
49・・・・・シート
55・・・・・エアーノズル
62・・・・・基板固定面
63・・・・・充填材供給孔
65・・・・・基板押さえ
66・・・・・基板押部
67・・・・・垂直部
68・・・・・充填材(アピエゾンワックス)
70・・・・・充填材(アルミナの粉末)
76・・・・・蓋

Claims (9)

  1. 電子部品が搭載された基板を固定する基板固定装置において、
    吸引孔が形成され前記基板をその上面に固定する吸着ステージと、
    前記基板より下方に位置するものであって、吸引孔を有し前記吸着ステージを貫通するように設けられた吸着筒と、
    前記両方の吸引孔を通して前記基板を吸引する吸引手段と、
    前記吸着筒を上下方向へ移動させる上下移動手段とからなり、
    前記上下移動手段により前記吸着筒が前記基板の下面まで上昇し該基板を直接吸着した状態で下降し該基板を前記吸着ステージの上面に吸着固定することを特徴とする基板固定装置。
  2. 電子部品が搭載された基板を固定する基板固定装置において、
    吸引孔が形成され前記基板をその上面に固定する吸着ステージと、
    前記吸引孔を通して前記基板を吸引する吸引手段と、
    前記吸着ステージ及び前記基板に設けた孔を貫通するように設けられ、前記基板の上面を押さえて該基板を該吸着ステージに引着する基板引着部が形成された基板引着手段と、
    前記基板引着手段を上下方向へ移動させる上下移動手段とからなり、
    前記上下移動手段により、前記基板引着手段が上昇すると共に前記基板引着部が前記吸着ステージ及び前記基板の孔を貫通して該基板の上方に突出した後、該基板引着手段が下降すると共に該基板引着部が下降して前記基板の上面を押さえて該基板を該吸着ステージの上面に引着することを特徴とする基板固定装置。
  3. 電子部品が搭載された基板を固定する基板固定装置において、
    吸引孔と前記基板に形成された孔を塞ぐ凸部とが形成され該基板をその上面に吸着固定する吸着ステージと、
    前記吸引孔を通して前記基板を吸引する吸引手段とからなり、前記凸部により前記基板に形成された孔を塞いだ状態で該基板を前記吸着ステージの上面に吸着固定することを特徴とする基板固定装置。
  4. 電子部品が搭載された基板を固定する基板固定装置において、
    吸引孔が形成され前記基板をその上面に吸着固定する吸着ステージと、
    前記基板に形成された孔を覆うシートと、
    前記吸引孔を通して前記基板を吸引する吸引手段とからなり、
    前記基板の孔にその上面より前記シートを被せた状態で該基板を前記吸着ステージの上面に吸着固定することを特徴とする基板固定装置。
  5. 電子部品が搭載された基板を固定する基板固定装置において、
    吸引孔が形成され前記基板をその上面に吸着固定する吸着ステージと、
    前記吸引孔を通して前記基板を吸引する吸引手段とからなり、
    前記吸着ステージの上方に設けられ前記基板の上面に対して吹圧するエアーノズルと、
    前記エアーノズルに高圧エアーを供給する高圧エアー供給手段とからなり、
    前記基板の上面に高圧エアーを吹き付け該基板を前記吸着ステージの上面に押圧した状態で該基板を該吸着ステージの上面に吸着固定することを特徴とする基板固定装置。
  6. 電子部品が搭載された基板を固定する基板固定装置において、
    前記基板をその上面に位置決め固定するステージと、
    前記基板の端を前記ステージに引着する引着爪が形成された基板引着手段と、
    前記基板引着手段により前記ステージの上面に位置決めされた前記基板の下面と該ステージの上面との隙間に充填材を充填する充填材供給手段とからなることを特徴とする基板固定装置。
  7. 電子部品が搭載されると共にスルーホールが形成された基板を固定する基板固定装置において、
    吸引孔が形成され前記基板をその上面に吸着固定する吸着ステージと、
    前記吸引孔を通して前記基板を吸引する吸引手段とからなり、
    前記スルーホールの上面を充填部材で塞いだ状態で前記基板を前記吸着ステージの上面に吸着固定することを特徴とする基板固定装置。
  8. 吸着ステージの上面に吸着固定されるものであって、電子部品が搭載されると共にスルーホールが形成された基板の固定構造において、
    前記吸着ステージの上面に吸着固定される前に、予め前記スルーホールの上面が充填部材で塞がれていることを特徴とする基板の固定構造。
  9. 前記電子部品はベアチップであって、前記固定された基板上において該ベアチップがワイヤボンディングされてなることを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれか一に記載の基板固定装置あるいは請求項8に記載の基板の固定構造。
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