JP3965732B2

JP3965732B2 - Antireflection film

Info

Publication number: JP3965732B2
Application number: JP22865897A
Authority: JP
Inventors: 隆宏原田; 晴夫宇山; 和利清川; 満加納
Original assignee: Toppan Inc
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 1997-08-25
Filing date: 1997-08-25
Publication date: 2007-08-29
Anticipated expiration: 2017-08-25
Also published as: JPH1164602A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ディスプレイの表示画面の表面に適用される反射防止フィルムに関する。特に、可視光の広波長域で優れた反射防止性能を発揮する反射防止フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ディスプレイの多くは、室内外を問わず、外光が入射する環境下で使用されている。ディスプレイに入射した外光は、ディスプレイ内部において正反射され、光源の虚像をディスプレイの表示画面に再生する。このため、蛍光灯等が画面に映り、本来の表示画像を見えにくくなるなどの問題を生じさせる。また、ディスプレイに入射した外光は本来の表示光に混合して表示品質を低下させる。
【０００３】
そこで、このような外光のディスプレイ内への入射を防止するため、透明プラスチックフィルム基材の表面に金属酸化物などからなる高屈折率層と低屈折率層を積層した、あるいは透明プラスチックフィルム基材の表面に無機化合物や有機フッ素化合物などの低屈折率層を単層で積層した反射防止効果を有するフィルム、即ち反射防止フィルムをディスプレイ表面上に貼り合わせことなどがなされている。
【０００４】
また、これとは別に、透明プラスチックフィルム基材の表面に透明な微粒子を含むコーティング層を形成してその表面を凸凹状とし、それにより外光を乱反射させて同様の効果を得ることがなされている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、最近のオフィスのＯＡ化に伴い、コンピューターを使用する頻度が増し、ＣＲＴや液晶ディスプレイと相対していることが長時間化している。したがって、外光がディスプレイ内へ入射して反射像等が生じることによる表示品質の低下は、目の疲労など健康障害等を引き起こす要因とも考えられ、これまで以上に可視光の広範囲にわたってより高い反射防止効果を有する反射防止フィルムや、このような反射防止フィルムを備えた光学部材の要求が高まっている。
【０００６】
更には、近年ではアウトドアライフの普及に伴い、テレビや液晶ディスプレイを室外で使用する機会が益々増える傾向にあり、表示品質をより向上させて表示画像を明確に認識できるようにするため、可視光の広範囲にわたってより高い反射防止効果を有する反射防止フィルムや、このような反射防止フィルムを備えた光学部材の要求が出てきている。
【０００７】
しかしながら、無機化合物や有機化合物の低屈折率物質を単層で形成した従来の反射防止フィルムはＵ型の分光反射特性を示し、可視光の広範囲にわたり高い反射防止効果を得ることはできない。また、高屈折率層と低屈折率層を交互に積層した多層構成によるものでは、可視光の広範囲で有効な反射防止効果は得られるものの、使用材料が高価なため、コスト上昇が引き起こされるという問題がある。特に、低屈折率層を形成する材料は実用上酸化珪素のみであるため、材料選択の自由度にも制限がきたされ、低屈折率層の形成のためのコスト上昇が避けられないものとなっている。
【０００８】
一方、外光のディスプレイ内への入射を防止するため、外光を乱反射させる方法では、ディスプレイ上の画像がぼやけて見えるという問題がある。
【０００９】
本発明は、このような問題点に着目してなされたもので、その目的とするところは、より広い波長域で反射率を抑制でき、フレキシビリティーに富み、材料選択の幅が広く、実用性に優れ、安価で且つ容易に得られる反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【００１０】
本発明者は、上記の目的を達成するため、フィルム基材上に反射防止層を有する反射防止フィルムにおいて、該反射防止層が、そのフィルム基材側から、屈折率が１．８０以上の高屈折率層であって光学膜厚（ｎｄ）が５５ｎｍ〜６５ｎｍである第一層と、屈折率が１．７０以下の低屈折率層であって光学膜厚（ｎｄ）が２５ｎｍ〜４０ｎｍである第二層と、屈折率が１．８０以上の高屈折率層であって光学膜厚（ｎｄ）が１１０ｎｍ〜１５０ｎｍである第三層と、屈折率が１．７０以下の低屈折率層であって光学膜厚（ｎｄ）が１３５ｎｍ〜１４５ｎｍである第四層とが順に積層されたものであり、該第四層が有機樹脂からなることを特徴とする反射防止フィルムを提供する。
【００１１】
特に、上記反射防止フィルムにおいて、高屈折率層と低屈折率層との合計の全積層数が、２〜６であるものや、高屈折率層がセラミックス、好ましくはセラミックスが、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ハフニウム、酸化セリウム、酸化錫、酸化ニオブ、酸化イットリウム、酸化イッテリビウム、インジウム・錫酸化物及びこれら２以上の混合物質から選ばれるものを提供する。
【００１２】
また、上記反射防止フィルムにおいて、低屈折率層を形成する有機樹脂が、熱硬化性、紫外線硬化性又は電子線硬化性であり、熱可塑性を示すものを提供する。
【００１３】
上記反射防止フィルムにおいて、フィルム基材と反射防止層との間に、ハードコート層が形成されているものや、反射防止層の上に撥水・防汚層が形成されているものを提供する。
【００１４】
さらに、上記反射防止フィルムを有する光学部材を提供する。
【００１５】
このような本発明の反射防止フィルムによれば、フィルム基材上の少なくとも片面に、屈折率が１．８０以上の高屈折率層と、屈折率が１．７０以下の低屈折率層とを交互に積層した反射防止層が形成されているので、可視光の広範囲にわたる波長域において、優れた反射防止効果を得ることができる。また、この反射防止フィルムを形成する低屈折率層の少なくとも１層が有機樹脂からなるのでフレキシビリティーも高めることができる。さらに、低屈折率層を形成する有機樹脂としては、単一種の有機樹脂に限らず、屈折率が１．７０以下である限り、種々の樹脂を使用することができる。したがって、この反射防止フィルムはその材料選択の幅が広く、また、安価に製造できるものとなる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態に係る反射防止フィルムの例を図面に示し、詳細に説明する。なお、各図中、同一符号は同一又は同等の構成要素を表している。
【００１７】
図１から図４は、それぞれ本発明の反射防止フィルムの態様例の層構成を示す断面図である。
【００１８】
図１の反射防止フィルム１０Ａは、フィルム基材１に反射防止層２を形成したもので、反射防止層２は、高屈折率層２ａ(i)と低屈折率層２ｂ(i)を交互にそれぞれｎ層積層し(i=1〜n)、低屈折率層２ｂが最上層となるように構成したものであり、図２は、図１の反射防止フィルム１０Ａにおいて i＝２の態様、即ち、高屈折率層２ａと低屈折率層２ｂとをそれぞれ２層積層した態様を示したものである。
【００１９】
この反射防止フィルム１０Ａにおいて、フィルム基材１は、透明なプラスチックフィルムから形成することが好ましく、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース等を使用でき、これらは当該反射防止フィルム１０Ａの目的、用途によって適宜選択される。また、その厚さは用途に応じて選定される。
【００２０】
反射防止層２は、高屈折率層２ａと低屈折率層２ｂとを交互に所定の光学膜厚ｎｄ（屈折率ｎ×形状膜厚ｄ）となるように積層し、かつ低屈折率層２ｂが最上層となるよう構成したものである。
【００２１】
ここで、高屈折率層２ａとしては、屈折率ｎ_Hが１．８０以上のものを使用する。高屈折率層２ａの屈折率ｎ_Hが１．８０未満であると、反射防止フィルム１０Ａの反射率を十分に抑制することができない。
【００２２】
高屈折率層２ａは、屈折率ｎ_Hが１．８０以上である限りその形成材料に特に制限はないが、実用的には、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ハフニウム、酸化セリウム、酸化錫、酸化ニオブ、酸化イットリウム、酸化イッテリビウム、インジウム・錫酸化物等の金属酸化物のいずれか、あるいはこれらを主材料とする混合物質を用いることが好ましい。中でも、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、インジウム・錫及びこれらの混合物質は導電性を有するため、これらから高屈折率層２ａを形成すると、反射防止フィルム１０Ａに反射防止機能に加えて電磁波シールド機能を付与することができるので好ましい。
【００２３】
高屈折率層２ａは、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法などの真空成膜プロセスによって形成することができるが、これに限らずいかなる成膜方法で形成してもよい。
【００２４】
一方、低屈折率層２ｂは、屈折率ｎ_Lが１．７０以下の材料から形成する。低屈折率層２ｂの屈折率ｎ_Lが１．７０を超えると、反射防止フィルム１０Ａの反射率を十分に抑制することができない。
【００２５】
また、低屈折率層２ｂ(i=1〜n)のうち少なくとも１層、好ましくは全層数の１／２を最多として１〜３層を有機樹脂から形成する。この場合、反射防止層２の最上層（２ｂ(n)）に有機樹脂からなる低屈折率層を形成すると、本発明の効果を高く発揮させることができるので好ましい。
【００２６】
このような有機樹脂としては、種々の熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等を使用することができ、より具体的には、例えば、有機珪素系、多官能を含むアクリル系、ウレタン系、ポリエステル系、メラミン系等の熱可塑性樹脂をあげることができる。
【００２７】
本発明において、低屈折率層２ｂは、その少なくとも１層を上述のように有機樹脂から形成するが、残りの低屈折率層２ｂは、金属酸化物から形成してもよく、上述のような有機樹脂から形成してもよい。
【００２８】
低屈折率層２ｂの形成方法には特に制限はなく、例えば、高屈折率層２ａと同様に真空成膜プロセスによって成膜することができ、この他、グラビアやスクリーンなどのウエットコートと熱乾燥法、熱硬化法、紫外線照射硬化法、電子線照射硬化法等の成膜プロセスによっても形成することができる。これらは、低屈折率層２ｂの形成に使用する当該有機樹脂に応じて適宣選択される。また、紫外線硬化法、電子線照射硬化法等を行う場合に、真空中に有機樹脂を加熱気化、或いは超音波によりミスト化して基材に導入し、基材近傍で紫外線、電子線等を照射することにより低屈折率層２ｂを形成することも可能である。
【００２９】
以上のような高屈折率層２ａと低屈折率層２ｂとの合計の全積層数は、生産性、コスト等を考慮すると少ない方がよいが、通常２〜６層とすることが好ましい。これにより本発明の反射防止フィルムの反射特性を、一般的に可視光とされる４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲中、人間の目の感度の比較的高い４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲において平均反射率を３％以下、さらには１％以下とすることができる。
【００３０】
本発明において、上述の反射防止層２以外の構成は、公知の反射防止フィルムと同様に構成することができるが、好ましくは、図３に示す反射防止フィルム１０Ｂ又は図４に示す反射防止フィルム１０Ｃのように、撥水・防汚層３やハードコート層４を設ける。
【００３１】
この撥水・防汚層３は、反射防止層２の表面を保護し、更に防汚性を高めるために反射防止層２上に形成されるものであり、その形成材料としては、透明性を有し、要求性能が満たされる限り、いかなる材料でも制限なく使用することができる。例えば、疎水基を有する化合物、より具体的には、フルオロカーボンやパーフルオロシラン等、またこれらの高分子化合物等を好ましく使用することができる。また、指紋拭き取り汚性向上のためには、メチル基の様な撥油性を有する高分子化合物が好適である。
【００３２】
撥水・防汚層３の形成方法としては、当該形成材料に応じて真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法、プラズマ重合法などの真空成膜プロセスや、マイクログラビア、スクリーン、ディップ等のウェットプロセスの各種コーティング方法を用いることができる。
【００３３】
撥水・防汚層３の厚さは反射防止層２の機能を損なわないよう設定することが必要であり、通常、形状膜厚を５０ｎｍ以下とすることが好ましい。
【００３４】
ハードコート層４は、反射防止フィルムに所望の硬さを付与するため、必要に応じて設けられる。したがってこのハードコート層４としては、透明性を有し、適度な硬度を有する層を形成することが好ましく、その形成材料には特に限定はない。例えば、電離放射線や紫外線照射による硬化樹脂や熱硬化性樹脂を使用できる。特に、紫外線照射硬化型のアクリル系や有機珪素系の樹脂や、熱硬化型のポリシロキサン樹脂が好適である。これらの樹脂は、フィルム基材１と屈折率が同等もしくは近似していることがより好ましいが、膜厚が３μｍ以上の場合には特にこの点も必要ない。
【００３５】
また、ハードコート層４を形成するにあたり、塗布方法に制限はないが、表面平滑に且つ均一に形成することが好ましい。
【００３６】
ハードコート層４には平均粒子径０．０１〜３μｍの透明な無機あるいは有機の超微粒子を混合分散させてもよい。これによりアンチグレアと呼ばれる光拡散性の処理を施すことができる。そしてこの光拡散性の処理を施したハードコート層４上に反射防止層２を形成することにより、画像のぼやけが小さくなり、単なる光拡散性の処理を施した場合よりも画像が明瞭になる。これらの超微粒子は、透明であれば特に限定されるものではないが、屈折率１．６以下の低屈折率材料からなる粒子が好ましく、例えば、酸化珪素粒子、弗化マグネシウム粒子等が安定性、耐熱性等の点から好適である。
【００３７】
本発明の反射防止フィルムは、従来の反射防止フィルムと同様に使用することができ、例えば、粘着剤、接着剤等を用いてガラス板、プラスチック板、偏向板等と貼り合わせることにより反射防止性を有する光学部材を得ることができる。そこで、本発明は、このような光学部材も包含する。
【００３８】
【実施例】
以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。
【００３９】
実施例１
図２に示した層構成の反射防止フィルムを次のように作製した。
【００４０】
透明なフィルム基材１として、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚さ１００μｍ）上に、以下に示す表１の層構成の反射防止層２を形成し、反射防止フィルムとした。この場合、まず、プラズマアシスト蒸着法により、フィルム基材１上に酸化チタンからなる高屈折率層２ａと酸化珪素からなる低屈折率層２ｂとを積層し、更に最上層（第４層）の低屈折率層２ｂをなす有機樹脂層として、シリコーン系樹脂を熱硬化法により形成した。
【００４１】
反射防止層２を構成する各層の屈折率及び光学膜厚ｎｄを表１に示す。なお、各層の光学膜厚は、光学式の膜厚モニターにより監視し、目的光量値に達した時に成膜を止めることにより所定の値に制御した。
【００４２】
得られた反射防止フィルムの絶対反射測定による分光反射特性を図５に示す。同図から、この反射防止フィルムは光の波長の４５０ｎｍ〜６５０ｎｍ以上にわたって反射率が０．５％以下であり、高い反射防止性を広波長域で有することが確認できた。
【００４３】
【表１】
反射防止フィルムの層構成
基材フィルム：ＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ）

反射防止層：
第１層高屈折率層：ＴｉＯ₂ (ｎ_H1＝２．３０，ｎｄ＝６５nm)
第２層低屈折率層：ＳｉＯ₂ (ｎ_L1＝１．４６，ｎｄ＝３５nm)
第３層高屈折率層：ＴｉＯ₂ (ｎ_H2＝２．３０，ｎｄ＝１１０nm)
第４層低屈折率層：シリコーン系樹脂 (ｎ_L2＝１．５０，ｎｄ＝１４５nm)

【００４４】
実施例２
透明なフィルム基材１としてトリアセチルセルロースフィルム（厚さ８０μｍ）を使用し、その上に、まず透明なハードコート層４として単官能性アクリル樹脂を紫外線照射硬化法により形成し、次に表２に示す層構成の反射防止層２を形成した。この場合、まず、酸化チタンからなる高屈折率層２ａと、酸化珪素からなる低屈折率層２ｂとを実施例１と同様にしてプラズマアシスト蒸着法により形成し、更に最上層（第４層）の低屈折率層２ｂをなす有機樹脂層としてアクリル系樹脂を紫外線照射法により形成した。
【００４５】
反射防止層２を構成する各層の屈折率及び光学膜厚ｎｄを表２に示す。また、得られた反射防止フィルムの絶対反射測定による分光反射特性を図６に示す。同図から、この反射防止フィルムは光の波長の４５０ｎｍ〜６５０ｎｍ以上にわたって反射率が０．５％以下であり、高い反射防止性を広波長域で有することが確認できた。
【００４６】
【表２】
反射防止フィルムの層構成
基材フィルム：トリアセチルセルロースフィルム（厚さ８０μｍ）
ハードコート層：アクリル系樹脂（ｎ_H1＝１．５０，厚さ５μｍ）

反射防止層：
第１層高屈折率層：ＴｉＯ₂ (ｎ_H1＝２．３０，ｎｄ＝６０nm)
第２層低屈折率層：ＳｉＯ₂ (ｎ_L1＝１．４６，ｎｄ＝４０nm)
第３層高屈折率層：ＴｉＯ₂ (ｎ_H2＝２．３０，ｎｄ＝１２０nm)
第４層低屈折率層：アクリル系樹脂 (ｎ_L2＝１．５０，ｎｄ＝１４０nm)

【００４７】
実施例３
透明なフィルム基材１としてＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ）を使用し、その上に、表３に示す層構成の反射防止層２を形成した。この場合、まず酸化チタンからなる高屈折率層２ａと、酸化珪素からなる低屈折率層２ｂとを実施例１と同様にしてプラズマアシスト蒸着法により形成し、更に最上層（第４層）の低屈折率層２ｂをなす有機樹脂層としてシリコーン系樹脂を紫外線照射硬化法により形成した。
【００４８】
更にこの上に撥水・防汚層３としてパーフルオロシランをプラズマＣＶＤ法により成膜し、反射防止フィルムとした。
【００４９】
得られた反射防止フィルムの反射防止層２を構成する各層の屈折率及び光学膜厚ｎｄを表３に示す。また、得られた反射防止フィルムの絶対反射測定による分光反射特性を測定したところ、前述の実施例１の図５とほとんど変わらず、光の波長の４５０ｎｍ〜６５０ｎｍ以上にわたって反射率が０．５％以下であり、高い反射防止性を広波長域で有することが確認できた。
【００５０】
【表３】
反射防止フィルムの層構成
基材フィルム：ＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ）

反射防止層：
第１層高屈折率層：ＴｉＯ₂ (ｎ_H1＝２．３０，ｎｄ＝６５nm)
第２層低屈折率層：ＳｉＯ₂ (ｎ_L1＝１．４６，ｎｄ＝３５nm)
第３層高屈折率層：ＴｉＯ₂ (ｎ_H2＝２．３０，ｎｄ＝１１０nm)
第４層低屈折率層：シリコーン系樹脂 (ｎ_L2＝１．５０，ｎｄ＝１４５nm)

撥水・防汚層：パーフルオロシラン（厚さ０．０１μｍ）

【００５１】
実施例４
透明なフィルム基材１としてトリアセチルセルロースフィルム（厚さ８０μｍ）を使用し、その上に、まず透明なハードコート層４として有機ケイ素系樹脂を紫外線照射硬化法により形成し、次に表４に示す層構成の反射防止層２を形成した。この場合、まず、酸化チタンからなる高屈折率層２ａと、酸化珪素からなる低屈折率層２ｂとを実施例１と同様にしてプラズマアシスト蒸着法により形成し、更に最上層（第４層）の低屈折率層２ｂをなす有機樹脂層としてアクリル系樹脂を電子線照射硬化法により形成した。
【００５２】
反射防止層２を構成する各層の屈折率及び光学膜厚ｎｄを表４に示す。また、得られた反射防止フィルムの絶対反射測定による分光反射特性を測定したところ、前述の実施例２の図６とほとんど変わらず、光の波長の４５０ｎｍ〜６５０ｎｍ以上にわたって反射率が０．５％以下であり、高い反射防止性を広波長域で有することが確認できた。
【００５３】
【表４】
反射防止フィルムの層構成
基材フィルム：トリアセチルセルロースフィルム（厚さ８０μｍ）
ハードコート層：有機ケイ素系樹脂（ｎ_H1＝１．４９，厚さ５μｍ）

反射防止層：
第１層高屈折率層：ＴｉＯ₂ (ｎ_H1＝２．３０，ｎｄ＝６０nm)
第２層低屈折率層：ＳｉＯ₂ (ｎ_L1＝１．４６，ｎｄ＝４０nm)
第３層高屈折率層：ＴｉＯ₂ (ｎ_H2＝２．３０，ｎｄ＝１２０nm)
第４層低屈折率層：アクリル系樹脂 (ｎ_L2＝１．５０，ｎｄ＝１４０nm)

【００５４】
実施例５
透明なフィルム基材１としてＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ）を使用し、その上に、表５に示す層構成の反射防止層２を形成した。この場合、まず酸化インジウム酸化錫混合物（ＩＴＯ）からなる高屈折率層２ａと、酸化珪素からなる低屈折率層２ｂとを実施例１と同様にしてプラズマアシスト蒸着法により形成し、更に最上層（第４層）の低屈折率層２ｂをなす有機樹脂層として熱可塑性アクリル樹脂を塗布形成した。
【００５５】
更にこの上に撥水・防汚層３としてパーフルオロシランをプラズマＣＶＤ法により成膜し、反射防止フィルムとした。
【００５６】
得られた反射防止フィルムの反射防止層２を構成する各層の屈折率及び光学膜厚ｎｄを表５に示す。また、得られた反射防止フィルムの絶対反射測定による分光反射特性を測定したところ、前述の実施例１の図５とほとんど変わらず、光の波長の４５０ｎｍ〜６５０ｎｍ以上にわたって反射率が０．５％以下であり、高い反射防止性を広波長域で有することが確認できた。
【００５７】
また、電磁波シールド性は、周波数１００ＭＨｚで３０ｄＢの減衰があり、良好なシールド性を示すことが確認できた。
【００５８】
【表５】
反射防止フィルムの層構成
基材フィルム：ＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ）

反射防止層：
第１層高屈折率層：ＩＴＯ (ｎ_H1＝２．１０，ｎｄ＝５５nm)
第２層低屈折率層：ＳｉＯ₂ (ｎ_L1＝１．４６，ｎｄ＝２５nm)
第３層高屈折率層：ＩＴＯ (ｎ_H2＝２．１０，ｎｄ＝１５０nm)
第４層低屈折率層：熱可塑性アクリル系樹脂
(ｎ_L2＝１．５０，ｎｄ＝１３５nm)

撥水・防汚層：パーフルオロシラン（厚さ０．０１μｍ）

【００５９】
比較例１
透明なフィルム基材１としてＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ）を使用し、その上に反射防止層２として、低屈折率層２ｂに相当する多官能基アクリル樹脂の単層を紫外線照射硬化法により形成し、比較例の反射防止フィルムとした。
【００６０】
この多官能基アクリル樹脂層の屈折率及び光学膜圧ｎｄは表６に示す通りであった。また、得られた反射防止フィルムの絶対反射測定による分光反射特性を図７に示す。同図から、この比較例の反射防止フィルムは、実施例１〜５の反射防止フィルムと比較して、反射率が明らかに大きく、また、反射防止性を示す波長域が実施例に比して狭かった。
【００６１】
【表６】
反射防止フィルムの層構成
基材フィルム：ＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ）

反射防止層：
低屈折率層：多官能基アクリル樹脂 (ｎ_L1＝１．５０，ｎｄ＝１３８nm)

【００６２】
【発明の効果】
本発明によれば、フィルム基材上の少なくとも片面に、屈折率が１．８０以上の高屈折率層と、屈折率が１．７０以下の低屈折率層とを交互に積層して反射防止層を形成し、この反射防止層の低屈折率層のうち少なくとも１層を有機樹脂から形成するので、広い波長域で低い反射率を有し、フレキシビリティー、材料の選択性に優れた、反射防止フィルムを得ることができ、またこのような反射防止フィルムを安価に提供することができる。
【００６３】
更に、反射防止層の形成に導電性を有する金属酸化物を用いることにより、本発明の反射防止フィルムに、反射防止効果に加えて導電性や帯電防止性を付加することができ、また最表面に撥水・防汚層を形成することにより、防汚性も付与でき、より高機能化し、実用性に富む反射防止フィルムを得ることができる。
【００６４】
また、本発明の反射防止フィルムをガラス板などと貼り合わせるなどにより光学部材を形成することができるが、かかる光学部材をディスプレイに用いることによって、表示品質が向上し、表示画像がより明確に認識できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射防止フィルムの層構成図である。
【図２】本発明の反射防止フィルムの層構成図である。
【図３】本発明の反射防止フィルムの他の態様の層構成図である。
【図４】実施例の反射防止フィルムの他の態様の層構成図である。
【図５】実施例１の反射防止フィルムの絶対反射測定による分光反射スペクトルである。
【図６】実施例２の反射防止フィルムの絶対反射測定による分光反射スペクトルである。
【図７】比較例１の反射防止フィルムの絶対反射測定による分光反射スペクトルである。
【符号の説明】
１フィルム基材
２反射防止層
２ａ高屈折率層
２ｂ低屈折率層
３撥水・防汚層
４ハードコート層
１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ反射防止フィルム[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an antireflection film applied to the surface of a display screen of a display. In particular, the present invention relates to an antireflection film that exhibits excellent antireflection performance in a wide wavelength range of visible light.
[0002]
[Prior art]
Many displays are used in an environment where external light is incident, whether indoors or outdoors. External light incident on the display is regularly reflected inside the display, and a virtual image of the light source is reproduced on the display screen of the display. For this reason, fluorescent lamps and the like are reflected on the screen, which causes problems such as making it difficult to see the original display image. Also, the external light incident on the display is mixed with the original display light to deteriorate the display quality.
[0003]
Therefore, in order to prevent such external light from entering the display, a transparent plastic film substrate is formed by laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer made of a metal oxide or the like on the surface of a transparent plastic film substrate. A film having an antireflection effect obtained by laminating a single layer of a low refractive index layer such as an inorganic compound or an organic fluorine compound on the surface of a material, that is, an antireflection film is bonded to the display surface.
[0004]
Separately from this, a coating layer containing transparent fine particles is formed on the surface of the transparent plastic film substrate to make the surface uneven, thereby causing the same effect by irregularly reflecting external light. Yes.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, with the recent office automation of office automation, the frequency of using a computer has increased, and it has become a long time to be opposed to a CRT or a liquid crystal display. Therefore, the deterioration of display quality due to the incident of external light into the display and the generation of reflected images, etc. is also considered to be a cause of health problems such as eye fatigue, and higher reflection over a wider range of visible light than ever before. There is an increasing demand for an antireflection film having a prevention effect and an optical member provided with such an antireflection film.
[0006]
Furthermore, in recent years, with the spread of outdoor life, there has been an increasing tendency to use TVs and liquid crystal displays outdoors. In order to improve display quality and make it possible to clearly recognize display images, visible light Therefore, there is a demand for an antireflection film having a higher antireflection effect over a wide range of the above and an optical member provided with such an antireflection film.
[0007]
However, a conventional antireflection film in which a low refractive index material such as an inorganic compound or an organic compound is formed as a single layer exhibits U-shaped spectral reflection characteristics, and a high antireflection effect cannot be obtained over a wide range of visible light. In addition, with a multilayer structure in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately stacked, an effective antireflection effect can be obtained over a wide range of visible light, but the cost is increased because the materials used are expensive. There's a problem. In particular, since the material for forming the low refractive index layer is practically only silicon oxide, the degree of freedom in selecting the material has been limited, and an increase in cost for forming the low refractive index layer is inevitable. ing.
[0008]
On the other hand, there is a problem that the image on the display looks blurred in the method of irregularly reflecting the external light in order to prevent the external light from entering the display.
[0009]
The present invention has been made paying attention to such problems, and the object of the present invention is to be able to suppress the reflectance in a wider wavelength range, to be highly flexible, to have a wide range of material selection, and to be practically used. An object of the present invention is to provide an antireflection film which is excellent in properties, inexpensive and easily obtained.
[0010]
In order to achieve the above object, the inventor of the present invention provides an antireflection film having an antireflection layer on a film substrate , wherein the antireflection layer has a refractive index of 1.80 or more from the film substrate side. A first refractive index layer having an optical film thickness (nd) of 55 nm to 65 nm and a low refractive index layer having a refractive index of 1.70 or less and an optical film thickness (nd) of 25 nm to 40 nm. A second layer , a high refractive index layer having a refractive index of 1.80 or more and a third layer having an optical film thickness (nd) of 110 nm to 150 nm, and a low refractive index layer having a refractive index of 1.70 or less. A fourth layer having an optical film thickness (nd) of 135 nm to 145 nm is sequentially laminated , and the fourth layer is made of an organic resin.
[0011]
In particular, in the antireflection film, the total number of layers of the high refractive index layer and the low refractive index layer is 2 to 6, or the high refractive index layer is ceramic, preferably ceramic is titanium oxide, oxidation Provided is one selected from zirconium, tantalum oxide, zinc oxide, indium oxide, hafnium oxide, cerium oxide, tin oxide, niobium oxide, yttrium oxide, ytterbium oxide, indium / tin oxide, and a mixture of two or more thereof.
[0012]
In the antireflection film, the organic resin forming the low refractive index layer is thermosetting, ultraviolet curable, or electron beam curable, and exhibits thermoplasticity.
[0013]
In the antireflection film, a film having a hard coat layer formed between the film base and the antireflection layer, or a film having a water-repellent / antifouling layer formed on the antireflection layer is provided. .
[0014]
Furthermore, the optical member which has the said antireflection film is provided.
[0015]
According to such an antireflection film of the present invention, a high refractive index layer having a refractive index of 1.80 or more and a low refractive index layer having a refractive index of 1.70 or less are formed on at least one surface of the film substrate. Since the antireflection layers laminated alternately are formed, an excellent antireflection effect can be obtained in a wide wavelength range of visible light. In addition, since at least one of the low refractive index layers forming the antireflection film is made of an organic resin, flexibility can be improved. Furthermore, the organic resin forming the low refractive index layer is not limited to a single type of organic resin, and various resins can be used as long as the refractive index is 1.70 or less. Therefore, this antireflection film has a wide range of material selection and can be manufactured at low cost.
[0016]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an example of an antireflection film according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In each figure, the same numerals indicate the same or equivalent components.
[0017]
FIG. 1 to FIG. 4 are cross-sectional views showing the layer structure of an embodiment of the antireflection film of the present invention.
[0018]
An antireflection film 10A shown in FIG. 1 is obtained by forming an antireflection layer 2 on a film substrate 1, and the antireflection layer 2 includes a high refractive index layer 2a (i) and a low refractive index layer 2b (i) alternately. Each of the n layers is laminated (i = 1 to n), and the low refractive index layer 2b is the uppermost layer. FIG. 2 shows an aspect of i = 2 in the antireflection film 10A of FIG. 1 shows an embodiment in which two layers of a high refractive index layer 2a and a low refractive index layer 2b are laminated.
[0019]
In this antireflection film 10A, the film substrate 1 is preferably formed from a transparent plastic film, and is composed of polymethyl methacrylate, polycarbonate, polystyrene, polyethylene sulfide, polyethersulfone, polyolefin, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, triacetyl. Cellulose or the like can be used, and these are appropriately selected depending on the purpose and application of the antireflection film 10A. Moreover, the thickness is selected according to a use.
[0020]
The antireflection layer 2 is formed by alternately stacking a high refractive index layer 2a and a low refractive index layer 2b so as to have a predetermined optical film thickness nd (refractive index n × shape film thickness d), and the low refractive index layer 2b. Is the top layer.
[0021]
Here, the high-refractive index layer 2a, the refractive index n _H is to use a 1.80 or more. When the refractive index n _H of the high refractive index layer 2a is less than 1.80, the reflectance of the antireflection film 10A cannot be sufficiently suppressed.
[0022]
The material of the high refractive index layer 2a is not particularly limited as long as the refractive index n _H is 1.80 or more, but practically, titanium oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, zinc oxide, indium oxide, oxide It is preferable to use one of metal oxides such as hafnium, cerium oxide, tin oxide, niobium oxide, yttrium oxide, ytterbium oxide, indium / tin oxide, or a mixed material containing these as main materials. Among these, since zinc oxide, indium oxide, tin oxide, indium / tin, and mixed materials thereof have conductivity, when the high refractive index layer 2a is formed therefrom, the antireflection film 10A has an antireflection function in addition to the antireflection function. Since a function can be provided, it is preferable.
[0023]
The high refractive index layer 2a can be formed by a vacuum film formation process such as a vacuum deposition method, a reactive deposition method, an ion beam assisted deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a plasma CVD method, but is not limited thereto. The film may be formed by any film forming method.
[0024]
On the other hand, the low refractive index layer 2b is formed of a material having a refractive index n _L of 1.70 or less. When the refractive index n _L of the low refractive index layer 2b exceeds 1.70, the reflectance of the antireflection film 10A cannot be sufficiently suppressed.
[0025]
In addition, at least one of the low refractive index layers 2b (i = 1 to n), preferably 1 to 3 layers is formed from an organic resin, with ½ of the total number being the largest. In this case, it is preferable to form a low refractive index layer made of an organic resin in the uppermost layer (2b (n)) of the antireflection layer 2 because the effect of the present invention can be exhibited to a high degree.
[0026]
As such an organic resin, various thermosetting resins, ultraviolet curable resins, electron beam curable resins, and the like can be used. More specifically, for example, organic silicon-based and polyfunctional acrylics are used. Examples thereof include thermoplastic resins such as those based on urethane, urethane, polyester, and melamine.
[0027]
In the present invention, at least one layer of the low refractive index layer 2b is formed from an organic resin as described above, but the remaining low refractive index layer 2b may be formed from a metal oxide, as described above. You may form from organic resin.
[0028]
The method for forming the low refractive index layer 2b is not particularly limited. For example, the low refractive index layer 2b can be formed by a vacuum film formation process in the same manner as the high refractive index layer 2a. It can also be formed by a film forming process such as a method, a heat curing method, an ultraviolet irradiation curing method, an electron beam irradiation curing method. These are appropriately selected according to the organic resin used for forming the low refractive index layer 2b. In addition, when performing ultraviolet curing method, electron beam irradiation curing method, etc., organic resin is vaporized by heating or misted by ultrasonic waves and introduced into the substrate, and irradiated with ultraviolet rays, electron beam, etc. near the substrate. By doing so, it is also possible to form the low refractive index layer 2b.
[0029]
The total number of stacked layers of the high refractive index layer 2a and the low refractive index layer 2b as described above is preferably small in consideration of productivity, cost, and the like, but usually 2 to 6 layers are preferable. As a result, the reflection characteristics of the antireflection film of the present invention are such that the average reflectance is 3% or less in the range of 450 nm to 650 nm, which is relatively high in human eye sensitivity, in the range of 400 nm to 700 nm, which is generally regarded as visible light. Further, it can be made 1% or less.
[0030]
In the present invention, configurations other than the above-described antireflection layer 2 can be configured in the same manner as known antireflection films, but preferably, the antireflection film 10B shown in FIG. 3 or the antireflection film 10C shown in FIG. As described above, the water repellent / antifouling layer 3 and the hard coat layer 4 are provided.
[0031]
The water repellent / antifouling layer 3 is formed on the antireflection layer 2 in order to protect the surface of the antireflection layer 2 and further improve the antifouling property. As long as the required performance is satisfied, any material can be used without limitation. For example, a compound having a hydrophobic group, more specifically, a fluorocarbon or perfluorosilane, or a polymer compound thereof can be preferably used. In order to improve fingerprint wiping dirtiness, a polymer compound having oil repellency such as a methyl group is suitable.
[0032]
As a method for forming the water repellent / antifouling layer 3, a vacuum film forming process such as a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a plasma CVD method, a plasma polymerization method, a micro gravure, a screen, etc. Various coating methods such as dip and wet process can be used.
[0033]
The thickness of the water repellent / antifouling layer 3 needs to be set so as not to impair the function of the antireflection layer 2, and it is usually preferable that the shape film thickness be 50 nm or less.
[0034]
The hard coat layer 4 is provided as necessary to impart desired hardness to the antireflection film. Therefore, it is preferable to form a layer having transparency and appropriate hardness as the hard coat layer 4, and the forming material is not particularly limited. For example, a curable resin or a thermosetting resin by ionizing radiation or ultraviolet irradiation can be used. In particular, an ultraviolet irradiation curable acrylic or organosilicon resin or a thermosetting polysiloxane resin is suitable. It is more preferable that these resins have the same or similar refractive index as the film substrate 1, but this point is not particularly necessary when the film thickness is 3 μm or more.
[0035]
In forming the hard coat layer 4, the coating method is not limited, but it is preferable to form the hard coat layer 4 with a smooth surface.
[0036]
In the hard coat layer 4, transparent inorganic or organic ultrafine particles having an average particle diameter of 0.01 to 3 μm may be mixed and dispersed. Thus, a light diffusing process called anti-glare can be performed. Then, by forming the antireflection layer 2 on the hard coat layer 4 subjected to the light diffusing treatment, the blur of the image is reduced, and the image becomes clearer than when the light diffusing treatment is performed. . These ultrafine particles are not particularly limited as long as they are transparent, but particles made of a low refractive index material having a refractive index of 1.6 or less are preferable. For example, silicon oxide particles, magnesium fluoride particles and the like are stable. From the viewpoint of heat resistance and the like.
[0037]
The antireflection film of the present invention can be used in the same manner as a conventional antireflection film. For example, the antireflection film is bonded to a glass plate, a plastic plate, a deflection plate, or the like using an adhesive, an adhesive, or the like. An optical member having the following can be obtained. Therefore, the present invention includes such an optical member.
[0038]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples.
[0039]
Example 1
The antireflection film having the layer structure shown in FIG. 2 was produced as follows.
[0040]
As a transparent film substrate 1, an antireflection layer 2 having the layer constitution shown in Table 1 shown below was formed on a polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 100 μm) to obtain an antireflection film. In this case, first, a high-refractive index layer 2a made of titanium oxide and a low-refractive index layer 2b made of silicon oxide are laminated on the film substrate 1 by a plasma-assisted vapor deposition method, and further the uppermost layer (fourth layer). As an organic resin layer forming the low refractive index layer 2b, a silicone resin was formed by a thermosetting method.
[0041]
Table 1 shows the refractive index and optical film thickness nd of each layer constituting the antireflection layer 2. The optical film thickness of each layer was monitored by an optical film thickness monitor and controlled to a predetermined value by stopping the film formation when the target light amount value was reached.
[0042]
Spectral reflection characteristics of the obtained antireflection film by absolute reflection measurement are shown in FIG. From this figure, it was confirmed that this antireflection film has a reflectance of 0.5% or less over a wavelength range of 450 nm to 650 nm and has high antireflection properties in a wide wavelength region.
[0043]
[Table 1]
Layer structure of antireflection film
Base film: PET film (100 μm thick)

Antireflection layer:
First layer High refractive index layer: TiO ₂ (n _H1 = 2.30, nd = 65 nm)
Second layer Low refractive index layer: SiO ₂ (n _L1 = 1.46, nd = 35 nm)
Third layer High refractive index layer: TiO ₂ (n _H2 = 2.30, nd = 110 nm)
Fourth layer Low refractive index layer: Silicone resin (n _L2 = 1.50, nd = 145 nm)

[0044]
Example 2
A triacetyl cellulose film (thickness: 80 μm) is used as the transparent film substrate 1, and a monofunctional acrylic resin is first formed thereon as the transparent hard coat layer 4 by an ultraviolet irradiation curing method. The antireflection layer 2 having the layer structure shown in FIG. In this case, first, a high refractive index layer 2a made of titanium oxide and a low refractive index layer 2b made of silicon oxide are formed by plasma-assisted vapor deposition in the same manner as in Example 1, and further the uppermost layer (fourth layer). As an organic resin layer forming the low refractive index layer 2b, an acrylic resin was formed by an ultraviolet irradiation method.
[0045]
Table 2 shows the refractive index and optical film thickness nd of each layer constituting the antireflection layer 2. Moreover, the spectral reflection characteristic by the absolute reflection measurement of the obtained antireflection film is shown in FIG. From this figure, it was confirmed that this antireflection film has a reflectance of 0.5% or less over a wavelength range of 450 nm to 650 nm and has high antireflection properties in a wide wavelength region.
[0046]
[Table 2]
Layer structure of antireflection film
Base film: Triacetyl cellulose film (thickness 80 μm)
Hard coat layer: acrylic resin (n _H1 = 1.50, thickness 5 μm)

Antireflection layer:
First layer High refractive index layer: TiO ₂ (n _H1 = 2.30, nd = 60 nm)
Second layer Low refractive index layer: SiO ₂ (n _L1 = 1.46, nd = 40 nm)
Third layer High refractive index layer: TiO ₂ (n _H2 = 2.30, nd = 120 nm)
Fourth layer Low refractive index layer: Acrylic resin (n _L2 = 1.50, nd = 140 nm)

[0047]
Example 3
A PET film (thickness: 100 μm) was used as the transparent film substrate 1, and an antireflection layer 2 having a layer structure shown in Table 3 was formed thereon. In this case, first, a high refractive index layer 2a made of titanium oxide and a low refractive index layer 2b made of silicon oxide are formed by plasma-assisted vapor deposition in the same manner as in Example 1, and the uppermost layer (fourth layer) is further formed. A silicone resin was formed by an ultraviolet irradiation curing method as an organic resin layer forming the low refractive index layer 2b.
[0048]
Further, perfluorosilane was deposited thereon as a water repellent / antifouling layer 3 by a plasma CVD method to obtain an antireflection film.
[0049]
Table 3 shows the refractive index and optical film thickness nd of each layer constituting the antireflection layer 2 of the obtained antireflection film. Moreover, when the spectral reflection characteristic by the absolute reflection measurement of the obtained antireflection film was measured, the reflectance was 0.5% over 450 nm to 650 nm or more of the wavelength of light, which was almost the same as FIG. 5 of Example 1 described above. It was as follows, and it was confirmed that it had high antireflection properties in a wide wavelength region.
[0050]
[Table 3]
Layer structure of antireflection film
Base film: PET film (100 μm thick)

Antireflection layer:
First layer High refractive index layer: TiO ₂ (n _H1 = 2.30, nd = 65 nm)
Second layer Low refractive index layer: SiO ₂ (n _L1 = 1.46, nd = 35 nm)
Third layer High refractive index layer: TiO ₂ (n _H2 = 2.30, nd = 110 nm)
Fourth layer Low refractive index layer: Silicone resin (n _L2 = 1.50, nd = 145 nm)

Water repellent / antifouling layer: Perfluorosilane (thickness 0.01 μm)

[0051]
Example 4
A triacetyl cellulose film (thickness: 80 μm) is used as the transparent film substrate 1, and an organic silicon-based resin is first formed thereon as a transparent hard coat layer 4 by an ultraviolet irradiation curing method. The antireflection layer 2 having the layer structure shown was formed. In this case, first, a high refractive index layer 2a made of titanium oxide and a low refractive index layer 2b made of silicon oxide are formed by plasma-assisted vapor deposition in the same manner as in Example 1, and further the uppermost layer (fourth layer). As an organic resin layer forming the low refractive index layer 2b, an acrylic resin was formed by an electron beam irradiation curing method.
[0052]
Table 4 shows the refractive index and the optical film thickness nd of each layer constituting the antireflection layer 2. Moreover, when the spectral reflection characteristic by the absolute reflection measurement of the obtained antireflection film was measured, the reflectance was 0.5% over 450 nm to 650 nm or more of the wavelength of light, which was almost the same as FIG. 6 of Example 2 described above. It was as follows, and it was confirmed that it had high antireflection properties in a wide wavelength region.
[0053]
[Table 4]
Layer structure of antireflection film
Base film: Triacetyl cellulose film (thickness 80 μm)
Hard coat layer: organosilicon resin (n _H1 = 1.49, thickness 5 μm)

Antireflection layer:
First layer High refractive index layer: TiO ₂ (n _H1 = 2.30, nd = 60 nm)
Second layer Low refractive index layer: SiO ₂ (n _L1 = 1.46, nd = 40 nm)
Third layer High refractive index layer: TiO ₂ (n _H2 = 2.30, nd = 120 nm)
Fourth layer Low refractive index layer: Acrylic resin (n _L2 = 1.50, nd = 140 nm)

[0054]
Example 5
A PET film (thickness: 100 μm) was used as the transparent film substrate 1, and an antireflection layer 2 having a layer structure shown in Table 5 was formed thereon. In this case, first, a high refractive index layer 2a made of an indium tin oxide mixture (ITO) and a low refractive index layer 2b made of silicon oxide are formed by plasma assisted vapor deposition in the same manner as in Example 1, and further the uppermost layer. A thermoplastic acrylic resin was applied and formed as an organic resin layer constituting the low refractive index layer 2b of the (fourth layer).
[0055]
Further, perfluorosilane was deposited thereon as a water repellent / antifouling layer 3 by a plasma CVD method to obtain an antireflection film.
[0056]
Table 5 shows the refractive index and optical film thickness nd of each layer constituting the antireflection layer 2 of the obtained antireflection film. Moreover, when the spectral reflection characteristic by the absolute reflection measurement of the obtained antireflection film was measured, the reflectance was 0.5% over 450 nm to 650 nm or more of the wavelength of light, which was almost the same as FIG. 5 of Example 1 described above. It was as follows, and it was confirmed that it had high antireflection properties in a wide wavelength region.
[0057]
In addition, the electromagnetic wave shielding property was confirmed to be good shielding property with an attenuation of 30 dB at a frequency of 100 MHz.
[0058]
[Table 5]
Layer structure of antireflection film
Base film: PET film (100 μm thick)

Antireflection layer:
First layer High refractive index layer: ITO (n _H1 = 2.10, nd = 55 nm)
Second layer Low refractive index layer: SiO ₂ (n _L1 = 1.46, nd = 25 nm)
Third layer High refractive index layer: ITO (n _H2 = 2.10, nd = 150 nm)
Fourth layer Low refractive index layer: Thermoplastic acrylic resin
(n _L2 = 1.50, nd = 135 nm)

Water repellent / antifouling layer: Perfluorosilane (thickness 0.01 μm)

[0059]
Comparative Example 1
A PET film (thickness: 100 μm) is used as the transparent film substrate 1, and a single layer of polyfunctional acrylic resin corresponding to the low refractive index layer 2b is formed thereon as the antireflection layer 2 by an ultraviolet irradiation curing method. And it was set as the antireflection film of a comparative example.
[0060]
The refractive index and optical film pressure nd of this polyfunctional acrylic resin layer were as shown in Table 6. Moreover, the spectral reflection characteristic by the absolute reflection measurement of the obtained antireflection film is shown in FIG. From the same figure, the antireflection film of this comparative example is clearly larger in reflectance than the antireflection films of Examples 1 to 5, and the wavelength range showing antireflection properties is compared to that of the examples. It was narrow.
[0061]
[Table 6]
Layer structure of antireflection film
Base film: PET film (100 μm thick)

Antireflection layer:
Low refractive index layer: polyfunctional acrylic resin (n _L1 = 1.50, nd = 138 nm)

[0062]
【The invention's effect】
According to the present invention, on at least one surface of the film substrate, an antireflective film is formed by alternately laminating a high refractive index layer having a refractive index of 1.80 or more and a low refractive index layer having a refractive index of 1.70 or less. Since the layer is formed and at least one of the low refractive index layers of the antireflection layer is formed from an organic resin, it has a low reflectance in a wide wavelength range, and has excellent flexibility and material selectivity. An antireflection film can be obtained, and such an antireflection film can be provided at low cost.
[0063]
Furthermore, by using a conductive metal oxide for forming the antireflection layer, the antireflection film of the present invention can be added with conductivity and antistatic properties in addition to the antireflection effect, and the outermost surface. By forming a water-repellent / anti-fouling layer on the anti-fouling layer, it is possible to impart anti-fouling properties, and to obtain an anti-reflection film that is more functional and practical.
[0064]
In addition, an optical member can be formed by bonding the antireflection film of the present invention to a glass plate or the like, but by using such an optical member for a display, display quality is improved and a display image is recognized more clearly. become able to.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a layer configuration diagram of an antireflection film of the present invention.
FIG. 2 is a layer configuration diagram of an antireflection film of the present invention.
FIG. 3 is a layer configuration diagram of another embodiment of the antireflection film of the present invention.
FIG. 4 is a layer configuration diagram of another aspect of the antireflection film of the example.
5 is a spectral reflection spectrum obtained by measuring absolute reflection of the antireflection film of Example 1. FIG.
6 is a spectral reflection spectrum obtained by measuring absolute reflection of the antireflection film of Example 2. FIG.
7 is a spectral reflection spectrum obtained by absolute reflection measurement of the antireflection film of Comparative Example 1. FIG.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Film base material 2 Antireflection layer 2a High refractive index layer 2b Low refractive index layer 3 Water repellent / antifouling layer 4 Hard-coat layer 10A, 10B, 10C Antireflection film

Claims

In the antireflection film having an antireflection layer on the film substrate, the antireflection layer is a high refractive index layer having a refractive index of 1.80 or more from the film substrate side, and has an optical film thickness (nd). A first layer having a refractive index of 1.70 or less, a second layer having a refractive index of 1.70 or less and an optical film thickness (nd) of 25 nm to 40 nm, and a refractive index of 1.80 or more. A third layer having a high refractive index and an optical film thickness (nd) of 110 nm to 150 nm, and a low refractive index layer having a refractive index of 1.70 or less and an optical film thickness (nd) of 135 nm to 145 nm. An antireflection film , wherein a fourth layer is laminated in order , and the fourth layer is made of an organic resin.

The antireflection film according to claim 1, wherein the first layer and the third layer are made of a metal oxide such as titanium oxide, indium oxide, tin oxide, or indium / tin oxide .

The antireflection film according to claim 1 or 2, wherein the fourth layer is thermosetting.

The antireflection film according to claim 1 or 2, wherein the fourth layer is ultraviolet curable.

The antireflection film according to claim 1, wherein the fourth layer is electron beam curable.

The antireflection film according to claim 1 or 2, wherein the fourth layer is thermoplastic.

Between the film substrate and the antireflection layer, the antireflection film according to any one of claims 1 to 6, the hard coat layer is formed.

The antireflection film according to claim 7 , wherein the hard coat layer contains transparent fine particles having an average particle diameter of 0.01 to 3 μm.

The antireflection film according to any one of claims 1 to 8 , wherein a water repellent / antifouling layer is formed on the antireflection layer.

An optical member having an antireflection film according to any of claims 1-9.