JP4034443B2 - 取付け公差点検用試験体 - Google Patents
取付け公差点検用試験体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4034443B2 JP4034443B2 JP31449898A JP31449898A JP4034443B2 JP 4034443 B2 JP4034443 B2 JP 4034443B2 JP 31449898 A JP31449898 A JP 31449898A JP 31449898 A JP31449898 A JP 31449898A JP 4034443 B2 JP4034443 B2 JP 4034443B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- housing
- test body
- body according
- substrate
- adhesive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 73
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 43
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 42
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 41
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 26
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 6
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims description 6
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000002085 persistent effect Effects 0.000 claims 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 6
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000004512 die casting Methods 0.000 description 1
- 238000005315 distribution function Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 230000009993 protective function Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000010891 toxic waste Substances 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or adjusting assemblages of electric components
- H05K13/08—Monitoring manufacture of assemblages
- H05K13/089—Calibration, teaching or correction of mechanical systems, e.g. of the mounting head
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or adjusting assemblages of electric components
- H05K13/08—Monitoring manufacture of assemblages
- H05K13/081—Integration of optical monitoring devices in assembly lines; Processes using optical monitoring devices specially adapted for controlling devices or machines in assembly lines
- H05K13/0818—Setup of monitoring devices prior to starting mounting operations; Teaching of monitoring devices for specific products; Compensation of drifts during operation, e.g. due to temperature shifts
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Operations Research (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Investigating Strength Of Materials By Application Of Mechanical Stress (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子的構造部分を回路基板上に固定する際に位置決め公差及び取付け公差を点検するための試験体に関する。
【0002】
【従来の技術】
電気的及び電子的構造部分及び構造単位を装着装置によって回路基板に接着する場合、当該構造部分又は構造単位を被装着側の回路基板に載置する時に、機械的要因、光学的要因、制御技術的要因並びにユーザーの主観的な要因によって、位置決め誤差と、それに起因する位置の偏差とを生ずることがある。従って、装着に際して、位置決め及び取付け公差を確実に少なくするには、自動装着装置を一定の期間毎に測定技術的に点検することが必要となる。
【0003】
実際のプロセス条件の下に自動装着装置の作業スペースの個々の作業個所において達成可能な位置決め精度は、その分布が全ての場合に既知の分布関数によって記述されうるとは限らない確率的な変動を受ける。そのため、自動装着装置の作業領域に亘って取付け公差の分布の十分に正確な数学的な予知が得られることの保証はない。
【0004】
従って、実際に実現可能な取付け公差を点検するには、自動装着装置の作業範囲内の可及的に多くの測定点を測定技術的に把握しなければならない。次いで、補正プログラムによって、前記作業範囲の各々の検出された点の目標値と現在値との偏よりを検出し、その間の誤差を補償しなければならない。
【0005】
同様に、自動装着装置のプロセスの品質を定量的及び定性的に評価し、それから残り使用寿命ないしは入替えのための残余の使用可能期間の逆推定を導出することの可能性も存在する。
【0006】
回路基板上においてSMD構造部分を位置決めする際の、目標値−実際値の偏差を点検するために、模倣物(ダミー)が通常用いられる。これらのダミーは、シミュレートされた、工程近似の条件の下に取付けられる。
【0007】
実際の構造部分の寸法の偏値を模倣物によってシミュレートするための、SMD構造部分のための、自動装着装置の装着誤差を測定技術的に把握する手段は、DE4227667A1により公知となっている。この場合、実際の回路基板は、ガラス製のテスト回路基板に取替えられ、このテスト回路基板上に、ガラス製ダミーの形のSMD構造部分の模倣物が自動装着装置によって載置される。これらの単体の正方形のガラス製のダミーは、座標系を上面に備えていると共に、コーナー部分に、補助的なマーキングを備えている。さらに、ガラス製ダミーの上面には、複数のグラフィックラスターが取付けてあり、これらのラスターによって、実際のSMD構造部分のピンの配置がシミュレートされる。ピンラスターの対応した寸法決め(ディメンジョニング)によって、自動SMD装着装置の取付け精度のフォトオプティックな点検のための公差範囲を予設定することができる。
テストダミーをテスト回路基板に装着することによって、測定領域の全ての測定点において確率的に現出される位置決め誤差を、当該自動装着装置の実際の取付け条件の下に規定することができる。この解決策の利点は、模倣物(テスト導電板及びガラス製ダミー)を実際の回路基板及び構造部分よりも高製造精度で作成できることにある。別の利点は、製造公差が小さいことによって、テスト回路基板がガラス製ダミーとのマーキングの検出精度が実際の構造部分の場合よりも非常に高くなることである。
【0008】
テスト回路基板上のガラス製ダミーの位置の変化を防止するために、これら2つの相対取付け部分を一時的に相互に対して固定させる。そのために、スプレー可能な接着剤によって完全にか、又はマスクを用いて選択的に、テスト回路基板の表面を被覆する。別の実施形態によれば、テスト回路基板の表面に周知の両面接着膜を施す。次に正方形のガラス製ダミー(複製)をガラス製回路基板の被覆しようとする表面全体に載置する。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
この既知の方法には、接着剤が不均質であり、また流動傾向を示すことによって、接着剤をテスト回路基板の上面に施した際に一様な一定の層厚を実現できないという欠点がある。
テスト回路基板の装着時にガラス質のテストダミーの底面が完全に浸漬される接着剤層の粘性によって、接着後においても、流動プロセスが発生し、それによってテスト回路基板上のガラス製ダミーの位置が事後的に変化し、それによって測定結果が劣化する。
【0010】
別の欠点は、測定の終了後で新品との取替え前に、テストダミーの接着剤の残渣を除去する必要があることである。更に、接着剤の残渣と、テスト回路基板に付着している異物の粒子とによって、汚染物質が発生する。ダミーのガラス面の機械的な損傷をさけるためには、この汚染物質を除去するための面倒な後処理が必要とされる。
【0011】
また、比較的高価なガラス製のダミーは、衝撃負荷を受けやすいと共に、表面が摩耗しやすい。そのため、前述したガラス製ダミーの位置固定方法は、前述した技術的不備のため、自動装着装置の恒久的なプロセスの監視を可能とするものではない。
【0012】
本発明の課題は、前述した従来技術の欠点を解消することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、この課題は、請求項1の特徴部分によって解決される。即ち、本発明の試験体は、透明な基体から成り、
該基体は、その底面及び/又は上面に、機械的に検出可能なコードを担持する( aufweisen 、有する)と共に、ハウジング中に保護して収納してあり、
試験体のハウジングが接着手段によりテスト板上に固定されるようにしたことを特徴とする。
本発明のさらに好ましい構成は、請求項2〜13に示されるとおりであり、ここに引照をもって繰込むものとする。
【0014】
試験体(ダミー)は、その底面及び/又は上面に、機械的に検出(ないし走査読取り)可能なコード(複数)を担持した、透明なガラス基体から成っている。基体は(Grundkoerper)、それを機械的損傷に対して保護するハウジング中に埋込まれる。製造技術的に好ましい1つの構成によれば、ハウジングは、基体をその周側において囲む開放枠体として形成される。同様に好ましい別の構成によれば、基体は、1つの枠体と、上面を覆う覆い面とによって囲まれ、この覆い面は、透光性の開口又は切欠を備えている。
【0015】
別の好ましい構成によれば、基体は、2部分から成る枠体の形のハウジング中に収納され、2つの枠体部分は、基体に、取外し可能に結合されている。
基体は、好ましくは、ガラス、特に高純度の偏平石英ガラス製である。
基体を支持するハウジングは、好ましくは、不透光性の材料製とすることによって、基体の符号を投光又は光透過法によってフォトオプティックに検出ないし走査する際に良好なコントラストが得られる。
【0016】
【発明の実施の形態】
基体は、好ましくは、射出成形可能な合成樹脂又はアルミ加圧鋳造(ダイカスト)合金製とする。有利には、基体の表面は、ダミーのマーキングをフォトオプティックに検出ないし走査する際に光束の反射ないし回折をさけるように、吸光性の層を備えている。
【0017】
取付け状態においてテスト基板に指向するハウジングの好ましくは枠状の縁部は、ハウジング中に埋込まれた基体から上方に0.05mmないし0.25mm突出している。シミュレーション用の位置決め時にガラス製回路基板上に載置されるハウジングの縁部は、部分的に、特に点状に、又は全面に亘って、持続的な弾性を示す接着(ないし粘着)手段によって被覆されている。
有利には、高透明性のトランスファー粘着剤(担体台紙から剥離転写して貼着する粘着剤)が、接着剤として用いられる。接着剤層はハウジングの境界層のみに付与されるので、アップ/ダウン(上下)カメラの光束の通過が妨げられたり、光束が偏向されたりすることはない。その理由は、接(粘)着剤ないし接着手段が、寸法検出手段(Massverkoerperung)として用いられるダミーのコード及び隣接するテスト回路基板のマーキングの間に存在しないからである。
【0018】
テスト回路基板上において、ダミーを位置規定するために、ダミーには、機械的に検出ないし読取り走査可能なコードが位置マークとして配設してあり、このコードによって、テスト回路基板に対する載置されたダミーの位置又は形状の偏よりを検出することができる。
【0019】
本発明による試験体の1つの利点は、表面においての摩擦と、衝撃負荷に対する抵抗が大きいことである。寸法検出手段を担持する透明な基体を被覆したことによって、機械的な力及びモーメントを的確にじよう乱なしに伝達することが可能となる。
測定ダミーの下面にハウジングの縁部を上方に突出させたことによって、テスト板とダミーの(好ましくはガラス質の)基体との直接の機械的接触がさけられる。
溶剤を含まない持続的弾性の接着手段を用いたことにより、次の測定系列を実施する前に、テスト板又は使用したガラス製のダミーを事後的に清浄にすることは、基本的に不要となる。
【0020】
接着手段は、テスト板に指向したハウジングの下面に、点状又は面状に施される。例えば3M社スコッチ(登録商標)の微細孔状の接着剤4656の使用により測定ダミーを時間的にほぼ無制限にシミュレーションの対象として用いることができる。実際の長期間の試用によって、ガラス製ダミーのハウジングに接着手段を再コートすることは、最短で数百回の測定実験の後に始めて必要となることが判明した。
【0021】
一様で均質な接着手段により、テスト板の表面に対してガラス製のダミーが傾倒することによる1次の測定誤差がさけられる。ガラス製ダミーのハウジングの縁部に接着手段が局所的に付与されることによって、実際の構造部分の挙動に非常によく類似した流動特性がシミュレートされる。即ち、半田ペースト又は他の半田付け手段で濡れた回路基板の表面にSMD回路板を載置することは、テストの回路基板上のダミーの位置決め挙動と同一とみることができる。
【0022】
本発明の別の利点は、実際の製造条件の下において、カプセル封入されることにより耐破断性としたダミーの取扱い性の改善にある。ハウジングの保護機能のため、測定規準ないし位置基準として役立つガラス製の試験体は非常に薄い壁厚のものとすることができる。これによりガラス製の本体のマーキングのより高度な解像力とにより正確な測定技術的な把握(検知)とが実現される。
【0023】
有利には、ハウジングは、耐衝撃性且つ耐摩耗性の合成樹脂から作成する。
製造技術的に有利な変形例によれば、単体のハウジングは、射出成形によって製造する。これにより、製造公差を十分小さくしながら製造コストを最小化できる。合成樹脂の弾性によって基体を(摩擦)力係合的に(Kraftschluessig)ハウジングの内部に埋設することができる。別の変形例によれば、基体とハウジングとの結合は、高純度−高透明性のトランスファー接着剤によって達せられる。
【0024】
また、試験体のハウジングは、有利には、アルミダイカスト部品として作成できる。これにより、わずかな部品コストで十分に正確な製造公差が実現されるため、載置面を事後的に機械切削加工する手間が省かれる。
【0025】
更に、合金成分を変更し、また所定の物質粒子を鋳込むことによって、試験体の全質量を変更し、自動装着装置による実際の切替回路の装着に際して実際に作用する静的及び動的な力及びモーメントをより良くシミュレートすることによる、有利な可能性も存在する。
【0026】
別の有利な構成によれば、基体を収納するハウジングの内側壁は、吸光性の層によって形成される。それにより、ハウジングの内側壁上に生ずる走査光束の反射ないし回折を防止できる。
【0027】
光透過の原理に従った(光透過法)測定の実施に際しても試験体を試用しうるようにするために、ハウジングは、有利には、ダミーを上部に配したテスト板の下方に配した光源からその上方に配されたカメラまで光束が妨げられず透過しうるようにするための少なくとも1つの切欠(切込み)を備えている。
【0028】
テスト板上に試験体を固定するための接着手段は、有利には点状に、ハウジングの下面に、特に載置面の突出面に施される。接着剤を点状に付与した場合、それにより固定されたダミーは、1回の測定系列が終了した後、わずかな力を加えることによって手操作によるか又は機械的に除去できる。
接着手段を全面に亘って載置面に付与することも同様に有利であることが判明している。それにより、実際のプロセス条件の下では粘性の半田ペーストの層上に載置されるSMD面構造単位の実際の位置決め挙動をシミュレートすることができる。
接着手段としては、無担体(traegerlos 、無台紙)状態の感圧トランスファー接着条帯(Band 、バンド)が有利に使用される。これにより、テスト板から試験体を取外した後、接着剤が確実に載置面上に残留するように接着剤の、一方においてハウジングの載置面との間の接着力を、他方においてテスト板の上面との間の接着力を定めることが可能となる。
使用することが好ましいトランスファー接着剤は、遊離される溶剤を含まないので、測定を行なっている間自動装着装置の補助的な排気を必要事とするような毒性の廃棄物は生成されない。
【0029】
ハウジング2中に埋込まれた状態の基体1の下面がテスト板の上面から0.05mmないし0.25mm隔たっていると特に有利であることが判明している。機械読取り可能なコードを担持した基体1の底面1gとこれに隣接したガラス製のテスト板の上面との間の距離を最小とすることによって、測定ないし点検の際の傾倒誤差を広汎に防止できる。
【0030】
この可能な傾倒誤差は、本発明の有利な実施形態に従って、基体1の底面1dと覆い面1dとが相互に対し同位置に整列された機械的に読取り可能なコードを有することによって、完全に除くことができる。透明なテスト回路基板の上面又はその近傍に存在する第3のコードと共働して、試験体の傾倒誤差を確実に認識し局限化することができる。
【0031】
特に必要となるダミーの洗浄は、好ましい形態によれば、ハウジングの突出した縁部の間に形状係合的に挿通することの可能な、約0.1mmの薄い壁厚の板によって基体の摩耗しやすい下面を覆うことによって行なうことができる。その後、既知の機械的、生物学的及び/又は化学的な手段によって、残存する接着手段又は不純物を、ハウジングの載置面から除去する。
【0032】
【実施例】
次に本発明の好ましい実施例を図1〜3について詳細に説明する。
【0033】
図1に、2部分から成る試験体を、側断面図及び上面図によって示す。基体1は寸法が19mm×19mm、厚み0.3mmの正方形の石英ガラス板(高純度SiO2)によって形成される。
石英板ガラスは、合成樹脂製の単体のハウジング2中に摩擦係合ないし力係合(Kraftschluessig)的に埋設されている。枠状のハウジング2の下面(下側)に、全周に亘ってリブ(突部ないしフランジ部)5が形成してあり、このリブ上に基体1の底面1gが着座している。これにより、ハウジング2の全周に亘る載置部4に関しての基体1の正確な面平行の方向決めがなされる。リブ5の高さは0.1mmである。基体1の底面1gとガラス質の試験板の詳示しない隣接面との間の距離がわずかなため、基体1のマーキング3の光学的検出に際しての測定誤差が最小となる。
【0034】
(例えば表面上の不純物又は塗布される接着剤の不均一を層厚によって)ガラス試験板が試験体の載置時に傾倒することによって生じる1次の測定誤差を避けるために、好ましい実施例による試験体1の上面1dにも、マーキング3が形成されている。上面のマーキング3は、基体1の底面1g上のマーキング3の上方にこれと整列して位置される。
ハウジング2の全周に亘るカラー6は、機械的な損傷に対して基体1の上面1dを保護する。
試験体の不純物を除去して周期的に清浄にするには、わずかな圧力を加えて試験体1を弾性ハウジング2から取出す。次に超音波洗浄装置によって基体1及びハウジング2に付着した汚れ、ないし不純物を除去することができる。試験体の2つの構成部分の再組立ては、前記と逆の順序で行なう。
【0035】
図2に試験体の別の実施例を示す。試験体1は、厚みが0.1mmの正方形の光学ガラス板によって形成される。基体1の底面1gには、テスト板上の試験体の位置決めに役立つ4つのマーキング3が形成されている。底面1g上には、シミュレーション形成体8が更に配設されている。対称に配された4つのシミュレーション形成体8は、実際の回路のピン配列を指示している。これらのシミュレーション形成体8によって、その下方のテスト回路基板の開口点(貫通孔)又は半田接合点に対するピンの位置を表わすことができる。
【0036】
ガラス質の基体1は、アルミニウム−ダイカスト合金AlMgSi9製のハウジング2中に耐衝撃取付けされている。基体1とハウジング2との間の力係合的な結合は、詳示しない高透明性のトランスファー接着剤を用いて得られる。
ハウジング2の下縁部には、全周に亘って載置面4が形成してあり、この載置面4上には、微細孔状の持続弾性を示す接着手段の連続した層が形成されている。この接着剤は、接着層を更新することを必要とせずに例えば複数の測定系列を実施するために試験体を複数回位置決めすることを可能とする。接着層中に取込まれていると考えられる不純物を除くために、所定の待機時間後に、接着層を予防的に更新する。接着層を周期的に更新することによって、ハウジングの載置面上に存在する接着剤の不均一な層厚によって発生する測定誤りの原因を除去することができる。
【0037】
ハウジング2の表面は、吸光性の黒色のアルミニウム陽極酸化層を備えている。それにより、マーキング3を走査する際のハウジング2の内部の光線の偏向を避けることが可能となる。
【0038】
試験体を清浄にすることは、機械的な手段によってか、又は、生物学的もしくは化学的な洗浄剤を補助的に用いることによって行ないうる。基体1の底面1gを保護するために、この底面1gは、詳示しない保護板により覆われている。この保護板は、全周に亘って下方に膨出した載置面4によって形成されたハウジング2の内枠の内部に(ありつぎ)形状係合的にはめ込まれている。
【0039】
図2の断面表示部分には、円錐台形の切込(ないし切欠き)7が示されている。これらの切込7中には、透光法による測定に際して当該光源の走査光束を試験体及びそれに隣接したテスト板を介して受光部(撮影カメラ)まで導くことができる。基体1の底面1gと全周の突出した載置面4との間の距離は0.05mmである。
図2の下部には、試験体が、平面図により図示されている。切込7中には、基体1の底面1g上にあるマーキング3が見られる。
【0040】
図3に示した第3実施例において、基体1は、厚みが0.5mmの面平行な正方形のフロートガラス板から成っている。
機械的に作用に対する基体1の保護は、正方形の基体1の前面に形状係合的にはめ込むことのできる2つのポケット状のU字形のハウジング部分によって達せられる。テスト板に対する試験体の位置決めは、第1実施例の場合と同時に、2つのハウジング部分2の載置面4上に塗布されるトランスファー接着剤を介してなされる。
必要時の、又は定期的な、試験体に対する予防清浄化は、形状係合的に取付けられた合成樹脂のハウジング部分2を基体1から引出すことによってなされる。次に2つの構成部分を既知の手段によって清浄にする。次に2つの枠状のハウジング部分を基体1と結合した後、接着媒体としての新しい接着剤層をハウジング部分2の載置面4上に塗布する。
【0041】
【発明の効果】
本発明の基本構成(請求項1)により、テストダミーを用いたテスト回路基板の接着時における、接着層の一定の層厚を実現しテストダミーの事後的位置変化に起因する誤差を本質的に除去できると共に、試験体は衝撃負荷から有効に保護される。また、透明基体とは別体のハウジングに対して接着手段を施すことにより、ハウジング基体から取り外して基体に損傷を与えることなく容易にハウジングの清浄化を行なうことができる。
請求項2以下の従属請求項の特徴により、さらに付加的な効果が前述のとおり得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の第1実施例による試験体を示す断面図及び平面図である。
【図2】図2は第2実施例による試験体を示し、上から順次、底面図、断面図、及び平面図である。
【図3】図3は第3実施例による試験体を示す断面図及び平面図である。
【符号の説明】
1 基体
1g 基体1の底面
1d 基体1の上面(覆い面)
2 ハウジング
3 マーキング(コード)
4 載置面
5 リブ
6 カラー
7 切欠(切込み)
8 シミュレーション形成体
Claims (13)
- 電子的構造部分を回路基板上に固定する際に位置決め公差及び取付け公差を点検するための試験体であって、
透明な基体(1)から成り、
該基体(1)は、その底面及び/又は上面に、機械的に検出可能なコードを有すると共に、ハウジング(2)中に保護して収納してあり、
試験体の該ハウジング(2)が接着手段によりテスト板上に固定されるようにしたことを特徴とする試験体。 - 前記ハウジング(2)が合成樹脂から成る請求項1に記載の試験体。
- 前記ハウジング(2)をアルミニウム合金から成る請求項1に記載の試験体。
- 基体(1)を囲むか又はこれを収納する前記ハウジング(2)の壁が部分吸光性もしくは完全吸光性に形成された請求項1〜3のいずれか一に記載の試験体。
- 試験体を通る透光を可能とする切込み(7)を前記ハウジング(2)に形成した請求項1〜4のいずれか一に記載の試験体。
- 前記ハウジング(2)が少なくとも1つの載置面(4)をもち、この載置面上に接着手段が点状もしくは平面状に施されている請求項1に記載の試験体。
- 前記載置面(4)が全周の枠体として形成されたことを特徴とする請求項6に記載の試験体。
- 感圧性の無台紙の感圧接着剤から成る両面自己接着性のバンドを接着手段として施した請求項1〜6のいずれか一に記載の試験体。
- 持続可塑性微小多孔性の接着バンドもしくは点状の接着パッドを接着手段として使用した請求項1、6又は8に記載の試験体。
- 前記ハウジング(2)の前記載置面(4)が、前記ハウジング(2)中に埋込まれた基体(1)の底面(1g)から0.05mmないし0.25mm突出している請求項6又は7に記載の試験体。
- 基体(1)を偏平なシリコンガラス製とした請求項1に記載の試験体。
- 基体(1)がその底面上に機械的に検出可能なコードを有する請求項1に記載の試験体。
- 基体(1)がその底面上及び上面上に整列され機械的に検出可能なコードを有する請求項1に記載の試験体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19748844A DE19748844C1 (de) | 1997-11-05 | 1997-11-05 | Prüfkörper |
| DE19748844.7 | 1997-11-05 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11220300A JPH11220300A (ja) | 1999-08-10 |
| JP4034443B2 true JP4034443B2 (ja) | 2008-01-16 |
Family
ID=7847680
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31449898A Expired - Fee Related JP4034443B2 (ja) | 1997-11-05 | 1998-11-05 | 取付け公差点検用試験体 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6134975A (ja) |
| JP (1) | JP4034443B2 (ja) |
| DE (1) | DE19748844C1 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10151854A1 (de) * | 2001-10-24 | 2003-05-08 | Giesecke & Devrient Gmbh | Wertdokumentbearbeitungsvorrichtung, Verfahren zur Funktionsprüfung, Justierung und/oder Kalibrierung der Wertdokumentbearbeitungsvorrichtung und Testmedien zur Durchführung des Verfahrens |
| DE10158643A1 (de) | 2001-11-22 | 2003-08-28 | Siemens Ag | Verfahren zur Qualifizierung von Substrate verarbeitenden Fertigungsprozessen und zur Durchführung dieser Verfahren geeignete Vorrichtungen |
| EP1466137B1 (en) * | 2001-12-28 | 2010-04-14 | Rudolph Technologies, Inc. | Stereoscopic three-dimensional metrology system and method |
| US6954272B2 (en) * | 2002-01-16 | 2005-10-11 | Intel Corporation | Apparatus and method for die placement using transparent plate with fiducials |
| DE102004011327B3 (de) * | 2004-03-09 | 2005-11-10 | S-Y Systems Technologies Europe Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Bestimmen, ob ein Bauteil fehlt. |
| WO2019155643A1 (ja) | 2018-02-12 | 2019-08-15 | 株式会社Fuji | 装着精度測定用チップおよび装着精度測定用キット |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4557599A (en) * | 1984-03-06 | 1985-12-10 | General Signal Corporation | Calibration and alignment target plate |
| US5247844A (en) * | 1991-10-25 | 1993-09-28 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor pick-and-place machine calibration apparatus |
| DE4227667A1 (de) * | 1992-08-21 | 1994-02-24 | Dietrich Dr Ing Reuse | Mittel zur meßtechnischen Erfassung der Bestückgenauigkeit |
| US5537204A (en) * | 1994-11-07 | 1996-07-16 | Micron Electronics, Inc. | Automatic optical pick and place calibration and capability analysis system for assembly of components onto printed circuit boards |
| US5942078A (en) * | 1997-07-17 | 1999-08-24 | Mcms, Inc. | Apparatus for calibrating surface mounting processes in printed circuit board assembly manufacturing |
-
1997
- 1997-11-05 DE DE19748844A patent/DE19748844C1/de not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-11-05 US US09/187,287 patent/US6134975A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-11-05 JP JP31449898A patent/JP4034443B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11220300A (ja) | 1999-08-10 |
| US6134975A (en) | 2000-10-24 |
| DE19748844C1 (de) | 1999-08-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101515458B1 (ko) | 펠리클, 펠리클을 수납하는 펠리클 수납 용기 및 펠리클 수납 용기 내에 펠리클을 보관하는 방법 | |
| JP4034443B2 (ja) | 取付け公差点検用試験体 | |
| CN101625528B (zh) | 掩模版夹具 | |
| US6190743B1 (en) | Photomask protection system | |
| US6118419A (en) | Random electrostatic discharge event indicator | |
| JP7551910B2 (ja) | プローブカード及びプローブカード補修方法 | |
| US20020142234A1 (en) | Photomask | |
| US20070095368A1 (en) | Methods of removing a conformal coating, related processes, and articles | |
| KR101011850B1 (ko) | 대형 기판 홀더 | |
| US6377365B1 (en) | Image sensor and document reading apparatus including the same | |
| JPH11258779A (ja) | ペリクルライナー貼り合わせ装置及び方法 | |
| JPH09281050A (ja) | 欠陥検査装置 | |
| JP2000065506A (ja) | 厚さ測定用治具 | |
| CN107566683B (zh) | 光电转换芯片及图像传感器及光电转换芯片的制造方法 | |
| JPS6118956A (ja) | マスク保護装置 | |
| JPS6225244A (ja) | 付着塵挨の測定方法および装置 | |
| JP3209662B2 (ja) | 表示パネル検査用ソケット | |
| TWI921511B (zh) | 探針卡及探針卡的修補方法 | |
| ATE32382T1 (de) | Andruckeinheit fuer ein leiterplattenpruefgeraet, insbesondere fuer keramikleiterplatten. | |
| JP2000180468A (ja) | クリーニング部材とその位置調整方法 | |
| KR200205145Y1 (ko) | 정전기방지용마스크 | |
| JP2600148Y2 (ja) | フォトマスク欠陥検査装置 | |
| JPH1115142A (ja) | カバー付きマスク | |
| KR20070051965A (ko) | 기판 노광 공정에 사용되는 레티클 | |
| JP2544318Y2 (ja) | 位置決めピン装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050401 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070710 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070914 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20071016 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071025 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101102 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |