JP4247703B2

JP4247703B2 - ガス冷油冷真空炉

Info

Publication number: JP4247703B2
Application number: JP2002243691A
Authority: JP
Inventors: 和彦勝俣
Original assignee: IHI Corp
Current assignee: IHI Corp
Priority date: 2002-08-23
Filing date: 2002-08-23
Publication date: 2009-04-02
Anticipated expiration: 2022-08-23
Also published as: JP2004084997A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、被処理物を光輝処理するガス冷油冷真空炉に関する。
【０００２】
【従来の技術】
金型などの被処理物を冷却する場合、光輝処理するときには、加熱後、高圧ガス冷のみを行うか、あるいは油冷却するしかなかった。また、表面に酸化膜が生成される処理方法（非光輝処理）、ソルトバス法や光輝処理炉である温度域まで冷却後に大気中で油冷却を行うか、大気中で衝風冷却を行っている。
【０００３】
また一般に、金型などの製造の際には焼入れが行われている。こういった金型は物が大きいことから、冷却する際に、冷却速度が遅いと焼入れ不適合組織（ベイナイト等）が析出し、逆に冷却速度が速すぎると焼き割れが発生することが知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記従来のガス冷油冷真空炉では、焼き割れを防止の観点から油の温度を低く設定することが許されない。すなわち、焼き割れを防止の制約から被処理物に対する冷却下限温度が規定されてしまう。したがって、被処理物をさらに低い温度まで冷却する必要がある場合には、別工程で被処理物を冷却することになる。したがって、光輝処理が可能でかつ冷却域に合わせた冷却が可能なマルチ冷却ではないので、冷却の効率が悪いという欠点を有している。
【０００５】
この発明は、このような事情を考慮してなされたもので、以下の点を目的とするものである。
（１）油冷後の被処理物をさらに低温域まで冷却する。
（２）光輝処理が可能なマルチ冷却を実現する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、この発明は以下の手段を提案している。
第１の手段として、被処理物（Ｗ）を加熱装置（２５）により加熱すると共に第１のガス冷却装置（２７）によりガス冷却する加熱空冷室（２）と、被処理物（Ｗ）を油冷却装置（５）により油冷却する油冷室（１）とを備えたガス冷油冷真空炉において、加熱空冷室（２）は、３００ｋＰａ以上２０００ｋＰａ以下の圧力に対する耐圧性能を備えるという構成を採用する。
【０００７】
また、第２の手段として、上記第１の手段において、加熱空冷室（２）は被処理物（Ｗ）を均等に冷却する機構（２１ａ）を有するという構成を採用する。
【０００８】
第３の手段として、上記第１又は第２の手段において、油冷室（１）に、油冷却後の被処理物（Ｗ）に脱油用のガスを吹き付けて脱油する脱油手段（６）を備えるという構成を採用する。
【０００９】
第４の手段として、上記第１から第３いずれかの手段において、油冷室（１）に、油冷却装置（５）による油冷却後の被処理物（Ｗ）にガスを吹き付けてガス冷却する第２のガス冷却装置（６）を備えるという構成を採用する。
【００１０】
第５の手段として、上記第３又は第４の手段において、脱油手段（６）あるいは第２のガス冷却装置（６）は、被処理物（Ｗ）の上面及び側面を覆うと共に上面にガス供給口（６１ｂ）が形成された第１のカバー（６１）と、該第１のカバー（６１）内に上方から被処理物（Ｗ）にガス（Ｚ）を吹き付けるガス供給装置（６３）とからなるという構成を採用する。
【００１１】
第６の手段として、上記第３から第４いずれかの手段において、油冷却装置（５）は油（Ｙ）を貯留する油槽（５１）を備え、脱油手段（６）あるいは第２のガス冷却装置（６）は、ガスの吹き付け時に下方に落下する油（Ｙ）が油槽（５１）内に回収されるように前記油槽（５１）の上方に配置されるという構成を採用する。
【００１２】
第７の手段として、上記第３から第６いずれかの手段において、脱油手段（６）あるいは第２のガス冷却装置（６）は、第１のカバー（６１）を覆う第２のカバー（６２）と、該第２のカバー（６２）の上方に配置されガスを加熱あるいは冷却する熱交換器（６４）とを有し、第２のカバー（６２）の側部には、ガス（Ｚ）がガス供給口（６１ｂ）へ向けて流通する流通孔（６２ｂ）が設けられ、第２のカバー（６２）の上部には、第１のカバー（６１）と第２のカバー（６２）との間を通過したガス（Ｚ）が前記第２のカバー（６２）の外部へ向けて流通する開口部（６２ａ）とが設けられ、ガス供給装置（６３）は開口部（６２ａ）の上方に配置されるという構成を採用する。
【００１３】
第８の手段として、上記第７の手段において、ガス供給口（６１ｂ）を所定の間隔を隔てて多数設けるという構成を採用する。
【００１４】
第９の手段として、上記第１から第８いずれかの手段において、油冷室（１）は油（Ｙ）の温度をコントロールする制御装置（５２）を有するという構成を採用する。
【００１５】
第１０の手段として、上記第１から第９いずれかの手段において、油冷室（１）は油（Ｙ）の流れを均等化する整流器（５３）を有するという構成を採用する。
【００１６】
第１１の手段として、上記第１から第１０いずれかの手段において、加熱空冷室（２）と油冷室（１）との間には、加熱空冷室（２）の耐圧性能を維持しつつ密閉可能なクラッチ式密閉扉（３）又はクランプ式密閉扉が設けられるという構成を採用する。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照し、この発明の一実施形態に係るガス冷油冷真空炉について説明する。図１は本ガス冷油冷真空炉の断面図である。
この図１に示すように、本ガス冷油冷真空炉は、油冷室１、加熱空冷室２（空冷室）、クラッチ式密閉扉３及び搬送装置４から構成されている。
【００１８】
油冷室１は、油により被処理物Ｗを冷却する油冷却装置５と、不活性ガス等のガスＺにより被処理物Ｗを冷却するガス冷却装置６（脱油手段，第２のガス冷却装置）と、開閉することにより油冷室１の内部の空間を隔てる開閉板７とから構成されている。油冷却装置５は油冷室１の下部に設けられる一方、ガス冷却装置６は油冷室１の上部に設けられている。また、開閉板７は、油冷却装置５とガス冷却装置６との間に設けられている。
【００１９】
油冷却装置５は、図２に示すように、冷却用の油Ｙが貯留された油槽５１と、油Ｙの温度を制御する制御装置５２と、油槽５１の両側に設けられ、油槽５１内を循環する油Ｙの流れを均等化する整流器５３から構成されている。なお、このような油冷却装置５によって油冷却される被処理物Ｗは、図示しない昇降機構によって、トレーＴ上に載置された状態で油槽５１内に搬入されると共に油槽５１内から搬出される。
【００２０】
ガス冷却装置６は、図３に示すように、第１のカバー６１と、第２のカバー６２と、ファン６３（ガス供給装置）と、熱交換器６４と、支持板６５とから構成されている。第１のカバー６１と第２のカバー６２とは、板状の支持板６５を介して油冷室１内において上記油槽５１の上方に固定されている。ファン６３は、第１のカバー６１及び第２のカバー６２の上方に固定されている。ここで、熱交換器６４は、ファン６３の側方に設けられており、ガスＺを熱交換によって冷却する第１の熱交換器として機能する一方、ガスＺを加熱する第２の熱交換器としても機能するものである。
【００２１】
さらに、第１のカバー６１は、被処理物Ｗの上面及び側面を覆うように箱型に形成されている。この第１のカバー６１の形状及び位置は、側面を伝って落下する油Ｙが油槽５１内に回収されるように設定されている。また、このような第１のカバー６１の上部にはガス取入部材６１ａが設けられている。このガス取入部材６１ａは、紙面に直交する方向に対向する２面が開口とされた箱形部材である。ガス取入部材６１ａの下面（すなわち第１のカバー６１の上面）には、複数の貫通孔６１ｂ（ガス供給口）が所定間隔で規則的に配置された多孔板６１ｃ（均等化手段）として構成されている。
【００２２】
第２のカバー６２は、第１のカバー６１の上面及び側面を覆うように箱型に形成されたものであり、その側部の最下端は、上記第１のカバー６１の最下端よりも下方に位置するよう形成されている。この第２のカバー６２の上部には開口部６２ａが設けられる一方、側部（左側と右側）には流通孔６２ｂが設けられている。また、支持板６５における第１のカバー６１と第２のカバー６２との間の部分にも流通孔６５ａが設けられている。
【００２３】
ファン６３は、第２のカバー６２の開口部６２ａの上方に位置している。このファン６３は、遠心ファンであって、開口部６２ａ介して下方から吸い込んだガスＺを側方の熱交換器６４に向けて吐き出す。熱交換器６４は、第２のカバー６２ａの上方かつファン６３の側方に配置されており、ガスＺを冷却あるいは加熱するものである。この熱交換器６４は、ガス冷却装置６を第２のガス冷却装置として機能させる場合はガスＺを冷却し、一方、ガス冷却装置６を脱油手段として機能させる場合には、被処理物Ｗに付着した油Ｙの粘性を低下させるためにガスＺを加熱する。
【００２４】
加熱空冷室２は、図１に示したように、油冷室１に連接されて設けられており、加熱空冷室２を構成する油冷室１側の壁体は、加熱空冷室２と油冷室１との空間を隔てると共に加熱空冷室２内を気密に保つクラッチ式密閉扉３として構成されている。なお、このクラッチ式密閉扉３は、クランプ式密閉扉として構成してよい。この加熱空冷室２は、３００ｋＰａから２０００ｋＰａの耐圧性能を備える。加熱空冷室２内には、図４に示すように、断熱室２２と、ヒータ２５（加熱装置）と、第１のガス冷却装置２７とが設けられている。
【００２５】
断熱室２２は、被処理物Ｗを収容すると共に断熱構造を有する部屋であり、箱型に形成されている。この断熱室２２を構成する壁体のうち、クラッチ式密閉扉３側の壁体２２ｃには、循環ファン２１の軸２１ｃが取り付けられており、循環ファン２１の本体２１ｂは、クラッチ式密閉扉３に取り付けられている。つまり、クラッチ式密閉扉３が開閉することで、壁体２２ｃが断熱室２２を開閉するようになっている。なお、この循環ファン２１は、クラッチ式密閉扉３（クラッチ式密閉扉３をクランプ式密閉扉とした場合には、クランプ式密閉扉）に取り付ける他、加熱空冷室２の側面に取り付けてもよい。
【００２６】
そして、壁体２２ｃが開閉することで断熱室２２内部に被処理物Ｗが出し入れできるようになっている。循環ファン２１は、ファン２１ａが回転することでガスＸを断熱室２２内で循環させるものである。ヒータ２５は、断熱室２２内部の被処理物Ｗを均一に加熱するものであり、断熱室２２の内部に所定の間隙を隔てて配置されている。また、断熱室２２の上側壁には上部格子箱２２ａが、下側壁には下部格子箱２２ｂがそれぞれ設けられている。
【００２７】
第１のガス冷却装置２７は、不活性ガス等のガスＸによって被処理物Ｗをガス冷却するものであり、上部格子箱２２ａ、下部格子箱２２ｂ、ガス流案内板２６、熱交換器２３及び冷却ファン２４とから構成されている。上部格子箱２２ａと下部格子箱２２ｂとは厚板の格子状に形成されており、断熱室２２内に冷却用のガスＸを循環させるための開口として機能すると共に、このガスＸを均等流とする機能とを併せ持つものである。
【００２８】
ガス流案内板２６は、後述する冷却ファン２４から送られたガスＸが断熱室２２内に向かうようガスＸの流れを案内するものである。熱交換器２３は、冷却フィンチューブ２３ｄから構成されており、冷却フィンチューブ２３ｄは、本体２３ａに格納されている。
【００２９】
本体２３ａには、開口部２３ｅが形成されており、開口部２３ｅは、冷却ファン２４の先端と連続して形成されている。つまり、本体２３ａ内を通過したガスＸが冷却ファン２４の先端を通り、冷却ファン２４の側方へ送り込まれるようになっている。本体２３ａは、ガス方向切替板２３ｂに囲われている。ガス方向切替板２３ｂは、上部に取り付けられた操作棒２３ｃを上下動させることにより、ガスＸの循環方向を切り替えるものである。図示する状態（ガス方向切替板２３ｂが押し下げられた状態）では、ガスＸは矢印で示すように加熱空冷室２を反時計方向に循環し、これに対してガス方向切替板２３ｂが押し上げられた状態では、ガスＸは時計方向に循環する。
【００３０】
次に、このように構成された本ガス冷油冷真空炉の動作、つまり被処理物Ｗの焼き入れ処理について詳しく説明する。
まず、搬送装置４上に被処理物Ｗを載置すると、被処理物Ｗは油冷室１内を通過して加熱空冷室２の断熱室２２内に搬送される。そして、クラッチ式密閉扉３が閉じられて、加熱空冷室２内が密閉状態とされる。この状態において、加熱空冷室２内は所定真空度の真空状態とされた後、ヒータ２５が通電されることによって被処理物Ｗが、例えば１０００℃程度の温度まで加熱される。又は、加熱空冷室２内が真空状態とされた後、不活性ガスが充満され、ヒータ２５が通電され、循環ファン２１が回転し、被処理物Ｗが例えば８５０℃程度の温度まで加熱された後に、再度真空引きが行われ、例えば１０００℃程度の温度まで加熱される。
【００３１】
このような加熱処理の後、被処理物Ｗは第１のガス冷却装置２７によってガス冷却される。すなわち、加熱空冷室２内にガスＸが導かれ、さらに冷却ファン２４が作動してガスＸが加熱空冷室２内を循環することにより、被処理物Ｗは例えば５００℃までガス冷却される。ここで、最初から油冷却を行わないのは、油冷は焼き割れの危険があるからである。そして、ひずみが大きいため焼き入れに関する組織に問題のない高温域では、高圧ガス冷却が行われる。ガスＸは、循環過程において熱交換器２３を通過することにより冷却されて断熱室２２内に戻される。また、このガスＸは、循環過程において、ガス流制御板２６によって流れ方向が設定されると共に、上部格子箱２２ａ及び下部格子箱２２ｂによって均等流化されて被処理物Ｗに吹き付けられる。このようなガスＸの循環によって、被処理物Ｗは高速に均等に冷却される。
【００３２】
このような第１のガス冷却装置２７によるガス冷却が終了すると、被処理物Ｗは油冷却装置５によって油冷却される。すなわち、被処理物Ｗは、加熱空冷室２から油冷室１内に移送され、油槽５１内の油Ｙに浸漬される。ここで、油Ｙの温度は、被処理物Ｗが焼き割れを起こさないように制御装置５２によって予め設定されている。油槽５１内の被処理物Ｗは、油Ｙとの熱交換によって、例えば２５０℃まで冷却される。
【００３３】
このような油冷却において、油Ｙは、矢印で示すように右側から左側に流れ、左側の整流器５３を経由して外部に取り出され、油槽５１外に設けられた熱交換器によって冷却されて右側の整流器５３を介して油槽５１内に戻される。被処理物Ｗは、このような油Ｙの循環によって急速冷却される。また、油Ｙは整流器５３によって被処理物Ｗの各部位に均等に当たるので、被処理物Ｗは、各部位が均等に冷却される。
【００３４】
続いて、上述した油冷却装置５による油冷却が終了すると、被処理物Ｗは上方に移送されて、ガス冷却装置６によって例えば１５０℃まで冷却される。ガス冷却される。すなわち、被処理物Ｗは、図３に示すように第１のカバー６１内に収容され、この状態においてファン６３が回転することにより、油冷室１内に注入されたガスＺが矢印で示すように循環する。この際、ガスＺは、ファン６３が回転することにより側方に吐き出され、熱交換器５４を通過することにより冷却される。そして、上部空間１ａ内で支持板６５によって方向が制御され、第２のカバー６２の流通孔６２ｂを通過する。そして、ガス取入部材６１ａの開口端を介して多孔板６１ｃへと至る。
【００３５】
多孔板６１ｃへ至ったガスＺは、そこで各貫通孔に振り分けられることにより被処理物Ｗに均等に吹き付けられる。そして、被処理物Ｗを回り込んで第１のカバー６１の最下端に至った後、第１のカバー６１の側部を回り込み、第１のカバー６１と第２のカバー６２との間を通って流通孔６５ａ及び開口部６２ａを介してファン６３へと戻る。
【００３６】
ここで、ガスＺが被処理物Ｗに上方から吹き付けられることによって、被処理物Ｗの表面に付着していた油Ｙは、飛散して第１のカバー６１の内面に付着する。第１のカバー６１の内面に付着した油Ｙは、重力とガスＺの風圧とによって第１のカバー６１の側部を伝って落下し、油槽５１内に回収される。つまり、被処理物ＷをガスＺによって冷却する際の油Ｙの飛散は、第１のカバー６１内に限定されて、飛散する部分の面積が最小限に抑えられると共に、第１のカバー６１内に飛散した油Ｙは、油槽６１内に容易に回収される。特に、熱交換器６４は第１のカバー６１の外部に配置されているので、熱交換器６４への油Ｙの飛散は起こらない。
【００３７】
上記の構成によれば、加熱空冷室２は３００ｋＰａ〜２０００ｋＰａの耐圧性能を有するので、第１のガス冷却装置２７による被処理物Ｗの冷却の際、ガスＸの圧力を高くすることができる。したがって、被処理物Ｗを高速に冷却することができ、その結果、被処理物Ｗの不適合組織の発生を抑えることができる。
【００３８】
また、油冷却後のガス冷却を行うガス冷却装置６は油冷却を行う油冷室１内に設けられているので、油冷却後における被処理物Ｗの冷却を加熱空冷室２内で行う必要がない。つまり、油冷却後のガス冷却を加熱空冷室２内のガス冷却装置によって行った場合には、ガスを被処理物Ｗに吹き付けることにより飛散した油が加熱空冷室２内に付着し、次の被処理物Ｗを真空加熱する際に所定の真空度が得られないといった事態が生じてしまうが、このようなことが起こらない。
【００３９】
また、油冷室１内は加熱空冷室２と比べて高い真空度を必要としないので、ガス冷却によって第１のカバー６１内に油Ｙが飛び散った場合でも、その飛散量は油冷室１内を所定の真空度にするための妨げとならない。また、ガス冷却装置６が油冷室１内に設けられていることで、油冷却によって所定の温度まで冷却された後、さらに被処理物Ｗを冷却するのが容易となる。これは、一般に油の温度を調整するのは時間がかかるからである。
【００４０】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、以下のような変形例が考えられる。
（１）上記実施形態において、熱交換器６４はガスを冷却するために用いられていたが、この熱交換器６４はガスを加熱するために用いてもよい。この際、油冷却が終了した後、被処理物に付着している油Ｙを落とす目的で用いるとよい。なぜならば、油Ｙは加熱されることで粘性が低くなり、容易に被処理物から取り除かれて油槽６１内に落下するからである。このようにすることで、後に熱交換器６４をガス冷却用に用いた場合、油の飛散がさらに抑えられ、被処理物を炉外に抽出した際の油ダレが抑えられる。
【００４１】
（２）上記実施形態において、加熱空冷室２は内部にヒータ２５を備えていたが、このヒータ２５を設けずに、ガス冷却のみを行う空冷室単体として構成してよい。
【００４２】
（３）上記実施形態において、ガス冷油冷真空炉は、被処理物Ｗを搬送装置４から搬入して所定の処理をした後、搬送装置４に搬出するリバース方式として構成されていたが、このガス冷油冷真空炉は、図５に示すように、加熱空冷室２から搬入して所定の処理をした後、搬送装置４に搬出するストレートスルー方式として構成してよい。この場合、図５に示すように、図１の冷却ファン２４の位置する箇所にクラッチ式密閉扉３がもう一つ設けられる装置構成となる。このような構成とすることで、クラッチ式密閉扉３を開閉することにより被処理物Ｗを図５の右側から左側へ向けて順次処理することが可能となる。
【００４３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、被処理物を加熱装置により加熱すると共に第１のガス冷却装置によりガス冷却する加熱空冷室と、被処理物を油冷却装置により油冷却する油冷室とを備えたガス冷油冷真空炉において、加熱空冷室は、３００ｋＰａ以上２０００ｋＰａ以下の圧力に対する耐圧性能を備え、油冷室に、油冷却装置による油冷却後の被処理物にガスを吹き付けてガス冷却する第２のガス冷却装置を備えるので、被処理物が大物である場合の冷却は、高温域を高圧ガス冷、中温域を油冷、低温域をガス冷とすることができる。被処理物が小物である場合の冷却は、加熱空冷室による高圧ガス冷のみとすることができる。つまり、マルチ冷却が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施形態に係るガス冷油冷真空炉を示す概略断面図である。
【図２】この発明の一実施形態に係るガス冷油冷真空炉における油冷室の油冷却装置を示す概略断面図である。
【図３】この発明の一実施形態に係るガス冷油冷真空炉における油冷室のガス冷却装置を示す概略断面図である。
【図４】この発明の一実施形態に係るガス冷油冷真空炉における加熱空冷室を示す概略断面図であって、（ａ）が正面断面図、（ｂ）が側面断面図である。
【図５】この発明の他の実施形態に係るガス冷油冷真空炉を示す概略断面図である。
【符号の説明】
１油冷室
２加熱空冷室
３クラッチ式密閉扉
６ガス冷却装置（脱油手段，第２のガス冷却装置）
２５加熱装置
２７第１のガス冷却装置
５１油槽
５２制御装置
５３整流器
６１第１のカバー
６１ａガス取入部材
６１ｂ貫通孔（ガス供給口）
６１ｃ多孔板（均等化手段）
６２第２のカバー
６２ａ開口部
６３ファン（ガス供給装置）
６４熱交換器（第１の熱交換器、第２の熱交換器）
Ｗ被処理物
Ｙ油
Ｚガス

Claims

被処理物（Ｗ）を加熱装置（２５）により加熱すると共に第１のガス冷却装置（２７）によりガス冷却する加熱空冷室（２）と、前記被処理物（Ｗ）を油冷却装置（５）により油冷却する油冷室（１）とを備えたガス冷油冷真空炉において、
前記油冷室（１）に、油冷却後の前記被処理物（Ｗ）に脱油用のガス（Ｚ）を吹き付けて脱油する脱油手段（６）あるいは前記油冷却装置（５）による油冷却後の前記被処理物（Ｗ）に前記ガス（Ｚ）を吹き付けてガス冷却する第２のガス冷却装置（６）とを備え、
前記脱油手段（６）あるいは前記第２のガス冷却装置（６）は、前記被処理物（Ｗ）の上面及び側面を覆うと共に上面にガス供給口（６１ｂ）が形成された第１のカバー（６１）と、前記第１のカバー（６１）を覆うと共に上部に開口部（６２ａ）が設けられた第２のカバー（６２）と、前記開口部（６２ａ）の上方に位置し、当該開口部（６２ａ）を介して下方から吸い込んだガス（Ｚ）を側方の熱交換器（６４）に向けて吐き出す遠心ファン（６３）と、前記該第２のカバー（６２）の上方に配置され前記ガス（Ｚ）を加熱あるいは冷却する熱交換器（６４）と、該熱交換器（６４）を通過した前記ガス（Ｚ）が前記第２のカバー（６２）の流通孔（６２ｂ）を通過するように前記ガス（Ｚ）の流れを制御する支持板（６５）とを有し、
前記第２のカバー（６２）の側部には、前記ガス（Ｚ）が前記ガス供給口（６１ｂ）へ向けて流通する流通孔（６２ｂ）が設けられ、
前記第２のカバー（６２）の上部には、前記第１のカバー（６１）と前記第２のカバー（６２）との間を通過した前記ガス（Ｚ）が前記第２のカバー（６２）の外部へ向けて流通する開口部（６２ａ）とが設けられ、
前記ガス供給装置（６３）は、前記熱交換器（６４）の側方かつ前記開口部（６２ａ）の上方に配置される
ことを特徴とするガス冷油冷真空炉。
請求項１記載のガス冷油冷真空炉において、
前記加熱空冷室（２）は、回転することでガス（Ｘ）を循環させるファン（２１ａ）を有することを特徴とするガス冷油冷真空炉。
請求項１又は２記載のガス冷油冷真空炉において、
前記油冷却装置（５）は油（Ｙ）を貯留する油槽（５１）を備え、前記脱油手段（６）あるいは前記第２のガス冷却装置（６）は、前記ガス（Ｚ）の吹き付け時に下方に落下する前記油（Ｙ）が前記油槽（５１）内に回収されるように前記油槽（５１）の上方に配置されることを特徴とするガス冷油冷真空炉。
請求項１から３いずれかに記載のガス冷油冷真空炉において、
前記ガス供給口（６１ｂ）を所定の間隔を隔てて多数設けることを特徴とするガス冷油冷真空炉。
請求項１から４のいずれかに記載のガス冷油冷真空炉において、
前記油冷室（１）は、前記油（Ｙ）の温度をコントロールする制御装置（５２）を有することを特徴とするガス冷油冷真空炉。
請求項１から５のいずれかに記載のガス冷油冷真空炉において、
前記油冷室（１）は、前記油（Ｙ）の流れを均等化する整流器（５３）を有することを特徴とするガス冷油冷真空炉。
請求項１から６のいずれかに記載のガス冷油冷真空炉において、
前記加熱空冷室（２）と前記油冷室（１）との間には、前記加熱空冷室（２）の耐圧性能を維持しつつ密閉可能なクラッチ式密閉扉（３）又はクランプ式密閉扉が設けられることを特徴とするガス冷油冷真空炉。