JP4571990B2 - ハニカム構造体の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明のハニカム構造体の製造方法の一実施形態は、まず、コージェライト化原料、バインダ、界面活性剤、水、及び吸水性樹脂を混合、混練して坏土を形成する。コージェライト化原料とは、焼成によりコージェライトとなる原料を意味し、シリカ(SiO2)が42〜56質量%、アルミナ(Al2O3)が30〜45質量%、マグネシア(MgO)が12〜16質量%の範囲に入る化学組成となるように所定の原料が混合されたセラミックス原料である。本実施形態において、配合すべき上記「所定の原料」は、平均粒子径0.1〜40μmのタルク、平均粒子径0.1〜20μmのカオリン、及び平均粒子径0.05〜10μmのアルミナ源原料である。そして、コージェライト化原料(上記、所定の原料)として、平均粒子径0.1〜20μmのシリカを含有してもよい。シリカを含有することにより、気孔率が調整できるという利点がある。タルク、カオリン、アルミナ源原料、又はシリカ(シリカを含有した場合)の平均粒子径が、上記それぞれの範囲の下限値より小さいと、原料粒子が凝集し、それら粒子が押出金型に詰まり成形体に隔壁欠け等の欠陥を生じさせるため好ましくなく、更に、押出圧力が増大し押出金型に変形を生じるため好ましくない。タルク、カオリン、アルミナ源原料、又はシリカ(シリカを含有した場合)の平均粒子径が、上記それぞれの範囲の上限値より大きいと、得られるハニカム構造体の気孔率が40%以上となるため好ましくない。上記コージェライト化原料は、タルクについては平均粒子径1〜30μm、更には3〜15μm、更には5〜15μm、カオリンについては平均粒子径0.5〜10μm、更には1〜10μm、アルミナ源原料については平均粒子径0.1〜10μm、更には1.1〜10μm、シリカについては平均粒子径0.5〜15μm、更には1〜10μmであることが、それぞれ一層好ましい。平均粒子径5〜15μmのタルク、平均粒子径1〜10μmのカオリン、平均粒子径0.1〜10μmのアルミナ源原料、及び平均粒子径1〜10μmのシリカを混合したものであることが最も好ましい。平均粒子径は、堀場製作所製レーザー回折/散乱式粒度分布測定装置LA−910を用い、レーザー回折法により測定したメジアン径を指す。尚、アルミナ源原料とは、アルミニウム酸化物、水酸化アルミニウム等、焼成により酸化物化し、コージェライトの一部を形成する原料のことを言う。
次に、得られた坏土を、ハニカム形状に成形してハニカム成形体を作製する。ハニカム成形体は、得られた坏土を、所望のセル形状、隔壁厚さ、セル密度等を有する口金とそれに応じた目開きのスクリーンを用いて、押出成形することにより作製することが好ましい。押出圧力は、押出金型が変形するのを防ぐため、著しく上昇しないのが好ましい。ハニカム成形体は、焼成してハニカム構造体を形成したときに後述する条件のハニカム構造体が得られるように、作製することが好ましい。
次に、得られたハニカム成形体を乾燥させることが好ましい。乾燥の方法は特に制限はなく、例えば、熱風乾燥、マイクロ波乾燥、誘電乾燥、減圧乾燥、真空乾燥、凍結乾燥等の従来公知の乾燥法を用いることができる。中でも、成形体全体を迅速かつ均一に乾燥することができる点で、熱風乾燥と、マイクロ波乾燥又は誘電乾燥とを組み合わせた乾燥方法が好ましい。
次に、ハニカム成形体を焼成する前に仮焼することが好ましい。「仮焼」とは、ハニカム成形体中の有機物(バインダ、吸水性樹脂等)を燃焼させて除去する操作を意味する。一般に、バインダ(有機バインダ)の燃焼温度は100〜300℃程度、吸水性樹脂の燃焼温度は200〜800℃程度であるので、仮焼温度は200〜1000℃程度とすればよい。仮焼時間としては特に制限はないが、通常は、10〜100時間程度である。
次に、ハニカム成形体を焼成してハニカム構造体を作製する。焼成により、ハニカム成形体のセラミック原料を焼結させて緻密化し、所定の強度を確保することができる。コージェライト化原料の焼成条件(温度、時間)としては、1350〜1440℃で、3〜10時間程度焼成することが好ましい。前述の仮焼と焼成は、連続した工程とすることも、時間的効率、エネルギー効率の面で好ましい。
コージェライト化原料として、平均粒子径10μmのタルク、平均粒子径6μmのカオリン、平均粒子径2μmのアルミニウム酸化物(Al2O3)(アルミナ源原料)、及び平均粒子径4μmのシリカを、タルク40質量%、カオリン40質量%、アルミニウム酸化物19質量%、及びシリカ1質量%となるように混合したものを使用した。コージェライト化原料100質量部に、分散媒として水33質量部、乾燥状態の吸水性樹脂0.01質量部、バインダとしてメチルセルロース5質量部、及び界面活性剤であるラウリン酸カリ石鹸を0.5質量部、それぞれ添加し、混合、混練して坏土を調製した。吸水性樹脂としては、吸水倍率が2倍で、吸水後の平均粒子径が2μmのものを用いた。混合、混練はシグマニーダで行い、さらに真空土練機による混練を行って円筒状(70mmφ)に押し出された坏土を得た。
成形時の隔壁欠けは、ハニカム成形体について目視で確認し、隔壁の欠陥が無い場合を隔壁欠け「無」、隔壁の欠陥が有る場合を隔壁欠け「有」とする。
押出圧力上昇は、押出成形時の押出圧力について、通常の押出圧力に対する圧力上昇の有無を確認した。通常の押出圧力に対して、1割以上の圧力上昇がある場合を押出圧力上昇「有(大)」、5分以上1割未満の圧力上昇がある場合を押出圧力上昇「有(小)」とし、圧力上昇が無いか、又は5分未満の圧力上昇がある場合を押出圧力上昇「無」とする。「通常の押出圧力」とは、中実あるいは中空粒子、吸水性樹脂等の造孔材を用いない場合の押出圧力をいう。
焼成切れは、ハニカム構造体について目視で確認し、亀裂が無い場合を焼成切れ「無」、亀裂が有る場合を焼成切れ「有」とする。
寸法バラツキは、ハニカム構造体(N=100)についてノギスで確認し、平均値からのバラツキが±4σの範囲内の場合を寸法バラツキ「小」、±4σの範囲を超える場合を寸法バラツキ「大」とする。σは「標準偏差」のことである。
気孔率は、マイクロメリティックス社製、水銀圧入式ポロシメータ「Autopore 9500」により測定した全細孔容積から算出した。このとき、コージェライトの真比重を2.52とした。
気孔率バラツキは、ハニカム構造体(N=100)について測定した気孔率について、仕様を十分に満足するバラツキとして、平均値に対して±1%の範囲内を合格とした。
圧縮強度は、ハニカム構造体から、直径1インチ(2.54cm)、長さ1インチの円筒形の試料を切り出して、オートグラフにより流路方向(セルの延びる方向)の圧縮強度を測定する。試料は、隔壁欠け、焼成切れ、等の欠陥が存在しない部分から切り出し採取した。ロードセルは25kN、加重速度は0.5mm/分とする。圧縮強度は、隔壁の厚さ150μm(6ミリインチ)、セル密度930キロセル/平方メートル(600セル/平方インチ)であれば10MPa以上を合格、隔壁の厚さ90μm(3.5ミリインチ)、セル密度1395キロセル/平方メートル(900セル/平方インチ)であれば5MPa以上を合格とした。
フレキシブルチューブ内にハニカム構造体を挿入し、水圧による均等圧を掛け、部分破壊を生じた圧力を測定した。測定結果は、実施例1で得られたハニカム構造体についての測定値を100として、相対表示した。尚、アイソスタティック強度の測定は、ハニカム構造体全体を用いて行うため、ハニカム構造体内の欠陥の有無及びその頻度・程度も、測定結果に影響する。
コージェライト化原料のなかの平均粒子径が10μmを超えるものについての平均粒子径(B)に対する、吸水性樹脂の吸水後の平均粒子径(A)の比(A/B)を平均粒径比として算出する。尚、表2のB(μm)の欄においては、平均粒子径が10μmを超える成分について、その平均粒子径を表している。例えば、「14(シリカ)」の表示は、平均粒子径が10μmを超える成分がシリカであり、その平均粒子径が14μmであることを示す。また、平均粒子径が10μmを超える成分が複数存在する場合は、複数の成分について表示している。
吸水性樹脂として表1に示す吸水倍率及び吸水後平均粒径のものを用い、吸水性樹脂配合量及び水配合量を表1に示す量とし、コージェライト化原料として、表1に示す平均粒径のタルク、カオリン、アルミニウム酸化物及びシリカを用い、表1に示すセル構造とした以外は、実施例1と同様にしてハニカム構造体を作製した。尚、実施例2及び7については、コージェライト化原料中にはシリカを配合していない。また、表1の「セル構造」の欄は、[隔壁の厚さ(mm)]/[セル密度(kセル/m2)]を示している。ここで、「kセル」は「キロセル」を意味する。
吸水性樹脂として表1に示す吸水倍率及び吸水後平均粒径のものを用い、吸水性樹脂配合量及び水配合量を表1に示す量とし、コージェライト化原料として、表1に示す平均粒径のタルク、カオリン、アルミニウム酸化物及びシリカを用い、表1に示すセル構造とした以外は、実施例1と同様にしてハニカム構造体を作製した。尚、比較例6及び7については、コージェライト化原料中にはシリカを配合していない。
吸水性樹脂の代わりに中実粒子を用い、中実粒子配合量及び水配合量を表1に示す量とし、コージェライト化原料として、表1に示す平均粒径のタルク、カオリン、アルミニウム酸化物及びシリカを用いた以外は、実施例1と同様にしてハニカム構造体を作製した。中実粒子としては、平均粒子径30μmのPMMA(メタクリル酸メチル樹脂)を用いた。
吸水性樹脂の代わりに中空粒子を用い、中空粒子配合量及び水配合量を表1に示す量とし、コージェライト化原料として、表1に示す平均粒径のタルク、カオリン、アルミニウム酸化物及びシリカを用いた以外は、実施例1と同様にしてハニカム構造体を作製した。中空粒子としては、平均粒子径50μmの発泡樹脂を用いた。
Claims (5)
- 平均粒子径0.1〜40μmのタルク、平均粒子径0.1〜20μmのカオリン、平均粒子径0.05〜10μmのアルミナ源原料、及び平均粒子径0.1〜20μmのシリカを含有するコージェライト化原料、バインダ、界面活性剤、水、並びに吸水後の平均粒子径が2〜200μm、且つ吸水倍率が2〜100倍の吸水性樹脂を含有し、前記吸水性樹脂の含有量が前記コージェライト化原料100質量部に対して0.01〜20質量部である坏土を、ハニカム形状に成形してハニカム成形体を作製し、前記ハニカム成形体を焼成して気孔率40%未満、隔壁の厚さ35〜260μmのハニカム構造体を得るハニカム構造体の製造方法。
- 前記吸水性樹脂の吸水後の平均粒子径が、前記ハニカム構造体の隔壁の厚さの90%以下である請求項1に記載のハニカム構造体の製造方法。
- 平均粒子径が10μmを超える前記コージェライト化原料のなかの少なくとも1種についての平均粒子径に対して、前記吸水性樹脂の吸水後の平均粒子径が、0.1〜20倍である請求項1又は2に記載のハニカム構造体の製造方法。
- 前記ハニカム構造体は、目封止が設けられておらずセルの端部が開口している請求項1〜3のいずれかに記載のハニカム構造体の製造方法。
- 前記坏土に含有される吸水性樹脂は造孔材であり、前記坏土は造孔材として吸水性樹脂のみを含有している請求項1〜4のいずれかに記載のハニカム構造体の製造方法。
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